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sobre Objetivo de Sputtering de Azo
  • Innovación tecnológica
  • Cadenas de suministro confiables
  • Capacidades de fabricación sustanciales

Objetivo de Sputtering de Azo20+ fábricas verificadas

Changsha Xinkang Advanced Materials Co., Ltd.

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99.5% Azo ZnO/Al2O3 98/2wt% Objetivo de Sputtering para Recubrimiento de Película Delgada

99.5% Azo ZnO/Al2O3 98/2wt% Objetivo de Sputtering para Recubrimiento de Película Delgada

US$ 50,00-300,00
1 pieces(MOQ)
Objetivo de Sputtering ZnO/Al de Alta Calidad Azo ZnO/Al2O3 a Precios Competitivos

Objetivo de Sputtering ZnO/Al de Alta Calidad Azo ZnO/Al2O3 a Precios Competitivos

US$ 50,00-299,00
1 Pieza(MOQ)
99.95% Objetivo de Sputtering de Óxido de Zinc de Aluminio Azo para Recubrimiento PVD

99.95% Objetivo de Sputtering de Óxido de Zinc de Aluminio Azo para Recubrimiento PVD

US$ 200,00-400,00
1 Pieza(MOQ)
99.99% Objetivos de Cerámica Azo ZnO/Al2O3 Objetivos de Sputtering de Óxido de Zinc y Óxido de Aluminio para Recubrimiento

99.99% Objetivos de Cerámica Azo ZnO/Al2O3 Objetivos de Sputtering de Óxido de Zinc y Óxido de Aluminio para Recubrimiento

US$ 110,00-120,00
1 Pieza(MOQ)
1/4

Lonwin Industry Group Limited

5.0
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99.95% Objetivos de cerámica Azo dopados con aluminio óxido de zinc para recubrimiento PVD

99.95% Objetivos de cerámica Azo dopados con aluminio óxido de zinc para recubrimiento PVD

US$ 17,00-55,00
1 Kg(MOQ)
99.99% Tasi2 Objetivo de Sputtering de Silicuro de Tantalio Cerámico

99.99% Tasi2 Objetivo de Sputtering de Silicuro de Tantalio Cerámico

US$ 17,00-55,00
1 Kg(MOQ)
99.9% Objetivos de aleación de Cuco, objetivos de pulverización de aleación de cobre y cobalto

99.9% Objetivos de aleación de Cuco, objetivos de pulverización de aleación de cobre y cobalto

US$ 17,00-55,00
1 Kg(MOQ)
Objetivo de Sputtering de Aleación de Titanio Silicio Ti-Si de Alta Pureza 3n para Recubrimiento PVD

Objetivo de Sputtering de Aleación de Titanio Silicio Ti-Si de Alta Pureza 3n para Recubrimiento PVD

US$ 17,00-55,00
1 Kg(MOQ)
1/4

Uv Tech Material Ltd

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Objetivo de pulverización Nbox Nb2O5 Destino Sputter girar la pureza del 99,95% de la cadera pic@Uvtm Vicky-Chan destino de exportación. COM Sial Znal Znsn Nicr Azo ITO

Objetivo de pulverización Nbox Nb2O5 Destino Sputter girar la pureza del 99,95% de la cadera pic@Uvtm Vicky-Chan destino de exportación. COM Sial Znal Znsn Nicr Azo ITO

Negociable
1 Pieza(MOQ)
Fábrica Uvtm Sputtering Meta fabricante en China de 18 años para Msvd Experiece y PVD continua vacío recubrimiento sputter Vicky 13249153016 la línea de producción

Fábrica Uvtm Sputtering Meta fabricante en China de 18 años para Msvd Experiece y PVD continua vacío recubrimiento sputter Vicky 13249153016 la línea de producción

Negociable
1 Pieza(MOQ)
Azo Sputering Objetivo Material de recubrimiento cerámico blanco para la industria del vidrio de recubrimiento de película fina

Azo Sputering Objetivo Material de recubrimiento cerámico blanco para la industria del vidrio de recubrimiento de película fina

Negociable
1 Pieza(MOQ)
Rotary indio Blanco en blanco de sputtering

Rotary indio Blanco en blanco de sputtering

Negociable
1 Pieza(MOQ)

Shenzhen Canyuan Metal Material Co., Ltd.

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4n Azo Objetivo ZnO: Al2O3 Objetivos de Sputtering Rotatorio

4n Azo Objetivo ZnO: Al2O3 Objetivos de Sputtering Rotatorio

US$ 200,00-10.000,00
1 Pieza(MOQ)
Diseño y Fabricación de Objetivos de Sputtering Azo Personalizados 4n

Diseño y Fabricación de Objetivos de Sputtering Azo Personalizados 4n

US$ 200,00-10.000,00
1 Pieza(MOQ)
Suministro de Azo Target para satisfacer todas las necesidades de recubrimiento conductor transparente

Suministro de Azo Target para satisfacer todas las necesidades de recubrimiento conductor transparente

US$ 200,00-10.000,00
1 Pieza(MOQ)
Objetivos de Azo para la Fabricación Eficiente de Películas Conductoras Transparentes

Objetivos de Azo para la Fabricación Eficiente de Películas Conductoras Transparentes

US$ 200,00-10.000,00
1 Pieza(MOQ)

ATM Material Co., Ltd.

4.0
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Objetivo de Cr con alta calidad

Objetivo de Cr con alta calidad

US$ 0,10-100,00
1.000 Piezas(MOQ)
W Objetivo

W Objetivo

US$ 100,00
1 Pieza(MOQ)
1/4

Able Target Limited

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Los objetivos de sputtering

Los objetivos de sputtering

Negociable
1 Pieza(MOQ)
Sputtering Meta, Al2O3/Óxido de aluminio, Al2O3/ZnO/Azo de óxido de zinc aluminio

Sputtering Meta, Al2O3/Óxido de aluminio, Al2O3/ZnO/Azo de óxido de zinc aluminio

Negociable
1 Pieza(MOQ)

Beijing Loyaltarget Technology Co, Limited

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Azo de aluminio blanco de Sputtering meta de óxido de zinc

Azo de aluminio blanco de Sputtering meta de óxido de zinc

Negociable
1 Pieza(MOQ)
Objetivos cilíndrico azo

Objetivos cilíndrico azo

Negociable
1 Pieza(MOQ)

Fuzhou Nuoxin Advanced Material Co. Ltd.

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Azoespumante objetivo de óxido de zinc de aluminio para evaporación película fina óptica Revestimiento

Azoespumante objetivo de óxido de zinc de aluminio para evaporación película fina óptica Revestimiento

Negociable
1 Pieza(MOQ)

China Leadmat Advanced Materials Co., Ltd.

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sputtering

sputtering

US$ 18,00-20,00
1 Pieza(MOQ)

Yochane Vacuum Technology Limited

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Blanco Azo de la capa de la farfulla

Blanco Azo de la capa de la farfulla

US$ 30,00
1 Pieza(MOQ)

China Material Technology Co., Ltd

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La pureza del blanco de Sputtering ---- Objetivo Azo

La pureza del blanco de Sputtering ---- Objetivo Azo

US$ 50,00
1 Pieza(MOQ)

Ningbo Sunlit Electronic Material Co. Ltd

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Dopada de alúmina el óxido de Zinc blanco

Dopada de alúmina el óxido de Zinc blanco

US$ 200,00-300,00
2 Piezas(MOQ)

Shanghai Zenkaah New Materials Technology Co., Ltd.

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Material objetivo de aluminio óxido de zinc de alta pureza (AZO), óxido de zinc (ZnO) dopado con óxido de aluminio (Al2O3), objetivo de óxido de esputo de magnetrón, unión de placa trasera.

Material objetivo de aluminio óxido de zinc de alta pureza (AZO), óxido de zinc (ZnO) dopado con óxido de aluminio (Al2O3), objetivo de óxido de esputo de magnetrón, unión de placa trasera.

Negociable
1 Pieza(MOQ)

Guangdong Huicheng Vacuum Technology Co., Ltd.

20 años
·Fabricante/Fábrica & Empresa Comercial
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Línea de máquina de recubrimiento PVD por sputtering magnetrón Hcvac para celdas de película delgada CIGS/ITO, Azo, vidrio de baja emisividad

Línea de máquina de recubrimiento PVD por sputtering magnetrón Hcvac para celdas de película delgada CIGS/ITO, Azo, vidrio de baja emisividad

US$ 150.000,00
1 Set(MOQ)
Línea de máquina de recubrimiento al vacío por sputtering de magnetrón de vidrio Hcvac ITO, Azo, vidrio de baja emisividad / sistema de recubrimiento en línea para vidrio

Línea de máquina de recubrimiento al vacío por sputtering de magnetrón de vidrio Hcvac ITO, Azo, vidrio de baja emisividad / sistema de recubrimiento en línea para vidrio

US$ 150.000,00
1 Set(MOQ)
Sistema de Máquina de Recubrimiento por Sputtering en Línea para Película Conductora de ITO Azo ZnO

Sistema de Máquina de Recubrimiento por Sputtering en Línea para Película Conductora de ITO Azo ZnO

US$ 150.000,00
1 Set(MOQ)
Línea de máquina de recubrimiento PVD por sputtering de magnetrón Hcvac para células solares, vidrio Azo/ITO

Línea de máquina de recubrimiento PVD por sputtering de magnetrón Hcvac para células solares, vidrio Azo/ITO

US$ 150.000,00
1 Set(MOQ)
1/4

Xiamen Tmax Battery Equipments Limited

5.0
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Sistema de máquina de recubrimiento por magnetrón de escritorio para la fabricación de películas delgadas

Sistema de máquina de recubrimiento por magnetrón de escritorio para la fabricación de películas delgadas

US$ 40.000,00
1 Pieza(MOQ)
1/4

Suzhou Zhongzhina Semiconductor Technology Co., Ltd.

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Óxido de zinc de alta pureza aluminio (AZO) material objetivo, óxido de zinc (ZnO) dopado con óxido de aluminio (Al2O3), óxido de esputo Magnetron objetivo, Unión de placa trasera

Óxido de zinc de alta pureza aluminio (AZO) material objetivo, óxido de zinc (ZnO) dopado con óxido de aluminio (Al2O3), óxido de esputo Magnetron objetivo, Unión de placa trasera

Negociable
1 Pieza(MOQ)

UV Tech Material Co., Ltd.

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Pegado de buena calidad Azo Sputtering Meta ZnO: Al2O3 = 98: 2wt%/99: 1wt%

Pegado de buena calidad Azo Sputtering Meta ZnO: Al2O3 = 98: 2wt%/99: 1wt%

Negociable
2 Piezas(MOQ)
Girar el objetivo, Azo magnetrón Sputtering Meta, ZnO. Al2O3 objetivo, el zinc de óxido de aluminio blanco

Girar el objetivo, Azo magnetrón Sputtering Meta, ZnO. Al2O3 objetivo, el zinc de óxido de aluminio blanco

Negociable
1 Pieza(MOQ)
Rotary Azo Target Al2O3: ZnO blanco

Rotary Azo Target Al2O3: ZnO blanco

US$ 0,01-0,09
1 Pieza(MOQ)
Azoico giratorio de alta calidad de destino de Sputtering meta

Azoico giratorio de alta calidad de destino de Sputtering meta

Negociable
1 Pieza(MOQ)

Beenine Shanke Technology Co., Ltd.

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4n% 99,99 objetivo giratorio de alta pureza de azo para recubrimiento de vacío Revestimiento PVD

4n% 99,99 objetivo giratorio de alta pureza de azo para recubrimiento de vacío Revestimiento PVD

US$ 300,00
1 Pieza(MOQ)
4N objetivo de espumación giratoria de alta pureza de azo para Magnetron PVD Revestimiento

4N objetivo de espumación giratoria de alta pureza de azo para Magnetron PVD Revestimiento

US$ 300,00
1 Pieza(MOQ)
4N objetivo de tubería de alta pureza de Azo para revestimiento de vacío Magnetron Revestimiento PVD

4N objetivo de tubería de alta pureza de Azo para revestimiento de vacío Magnetron Revestimiento PVD

US$ 300,00
1 Pieza(MOQ)
Azoojal objetivo de la fábrica de recubrimiento de vacío Magnetron China

Azoojal objetivo de la fábrica de recubrimiento de vacío Magnetron China

US$ 300,00
1 Pieza(MOQ)

FUJIAN ACETRON NEW MATERIALS CO., LTD.

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ACETRON 4N Blanco rotatable de ITO de alta pureza para recubrimiento al vacío/recubrimiento PVD

ACETRON 4N Blanco rotatable de ITO de alta pureza para recubrimiento al vacío/recubrimiento PVD

Negociable
1 Pieza(MOQ)
ACETRON 4N 99.99% Objetivo redondo de alta pureza AZO para recubrimiento por vacío/PVD

ACETRON 4N 99.99% Objetivo redondo de alta pureza AZO para recubrimiento por vacío/PVD

US$ 99,00-99.999,00
1 Pieza(MOQ)
ACETRON 4N Blanco de tubo AZO de alta pureza para recubrimiento al vacío/recubrimiento PVD

ACETRON 4N Blanco de tubo AZO de alta pureza para recubrimiento al vacío/recubrimiento PVD

US$ 99,00-99.999,00
1 Pieza(MOQ)
ACETRON 4N Blanco Rotatorio de Alta Pureza AZO para Recubrimiento al Vacío/Recubrimiento PVD

ACETRON 4N Blanco Rotatorio de Alta Pureza AZO para Recubrimiento al Vacío/Recubrimiento PVD

US$ 99,00-99.999,00
1 Pieza(MOQ)

Jiangyin Entret Coating Technology Co., Ltd.

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Azo (ZnO/Al2O3 98: 2wt%) Objetivo de sputtering

Azo (ZnO/Al2O3 98: 2wt%) Objetivo de sputtering

US$ 10,00
1 Pieza(MOQ)
Silicon blanco de sputtering

Silicon blanco de sputtering

US$ 10,00
1 Pieza(MOQ)
78 pulgadas de alta pureza el cromo de Sputtering meta

78 pulgadas de alta pureza el cromo de Sputtering meta

Negociable
1 Pieza(MOQ)
Azo Planar Sputtering Meta (dopado con la alúmina el óxido de zinc)

Azo Planar Sputtering Meta (dopado con la alúmina el óxido de zinc)

US$ 146,00-250,00
1 Pieza(MOQ)

Zhongzheng Yejin Technology Co., Ltd.

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Objetivo de cerámica de alta pureza ITO, AZO, TZO, Tiox, Nbox, Gzo, Sic, ZRO2, Al2O3 de Sputtering meta

Objetivo de cerámica de alta pureza ITO, AZO, TZO, Tiox, Nbox, Gzo, Sic, ZRO2, Al2O3 de Sputtering meta

Negociable
1 Pieza(MOQ)
Tamaño grande 99,99% de ito de óxido de estaño indio Objetivo Objetivo giratorio y el pegado

Tamaño grande 99,99% de ito de óxido de estaño indio Objetivo Objetivo giratorio y el pegado

Negociable
1 Pieza(MOQ)
La pureza del Indio, óxido de estaño de Sputtering meta el 99,99% de cerámica de 4n objetivo ITO

La pureza del Indio, óxido de estaño de Sputtering meta el 99,99% de cerámica de 4n objetivo ITO

Negociable
1 Pieza(MOQ)
1/2
Productos Populares
Aleación De China
Silicio De China
Titanio De China
Tungsteno De China
Tierra Rara
Metal Raro
Objetivo De Pulverización
Objetivo Azo
Fabricantes relacionados & Proveedor
Fábrica De Cr Objetivo
Fábrica De Objetivo De Sputtering De Metal
Fábrica De Objetivo De Sputtering Cerámico
Fábrica De Objetivo De Sputtering De Oro
Fabricantes De Objetivo De Sputtering De Circonio
Fabricantes De Objetivo De Sputtering De Titanio
Fabricantes De Objetivo De Circonio
Fabricantes De Indio
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