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sobre objetivo de sputtering cerámico
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objetivo de sputtering cerámico90+ fábricas verificadas

SUZHOU TECHNO-TEC PHOTOELECTRIC MATERIALS CO., LTD

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Objetivo cerámico de Poli-silicio para esputo Blanco/Solar Fotovoltaica

Objetivo cerámico de Poli-silicio para esputo Blanco/Solar Fotovoltaica

US$ 35,00-50,00
1 Kg(MOQ)
Objetivo de Silicio Monocristalino Mono-Si para Objetivo de Sputtering en Fotovoltaica Solar para Teléfonos Móviles

Objetivo de Silicio Monocristalino Mono-Si para Objetivo de Sputtering en Fotovoltaica Solar para Teléfonos Móviles

US$ 35,00-75,00
1 Kg(MOQ)
In2O3+Cu Objetivo cerámico de óxido de indio + objetivo cerámico de cobre para LCD/panel táctil

In2O3+Cu Objetivo cerámico de óxido de indio + objetivo cerámico de cobre para LCD/panel táctil

US$ 40,00
1 Kg(MOQ)
SrRuO3 objetivo de estroncio Rutenato Cerámica esputante objetivo de delgado óptico Revestimiento de película

SrRuO3 objetivo de estroncio Rutenato Cerámica esputante objetivo de delgado óptico Revestimiento de película

US$ 40,00
1 Kg(MOQ)
1/4

Changsha Xinkang Advanced Materials Co., Ltd.

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99.99% Blanco de Sputtering de Cerámica de Zns Blanco de Sputtering de Sulfuro de Zinc

99.99% Blanco de Sputtering de Cerámica de Zns Blanco de Sputtering de Sulfuro de Zinc

US$ 50,00-200,00
1 Kg(MOQ)
Objetivo de cerámica de dióxido de silicio de alta pureza para procesos de pulverización

Objetivo de cerámica de dióxido de silicio de alta pureza para procesos de pulverización

US$ 55,00-85,00
1 Pieza(MOQ)
In2o3 Objetivo de Sputtering de Óxido de Indio Cerámico para LCD/Pantalla Táctil

In2o3 Objetivo de Sputtering de Óxido de Indio Cerámico para LCD/Pantalla Táctil

US$ 35,00-150,00
1 Pieza(MOQ)
Xinkang 99.99% Objetivo de ITO para Sputtering In2o3/Sno2 90/10wt% Objetivo Cerámico para Sputtering

Xinkang 99.99% Objetivo de ITO para Sputtering In2o3/Sno2 90/10wt% Objetivo Cerámico para Sputtering

US$ 35,00-150,00
1 Pieza(MOQ)
1/4

Lonwin Industry Group Limited

5.0
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Objetivos de sputtering de óxido de zinc dopado con galio de cerámica Gzo

Objetivos de sputtering de óxido de zinc dopado con galio de cerámica Gzo

US$ 17,00-55,00
1 Kg(MOQ)
99.95% Lac2 Objetivo de Cerámica de Carburo de Lantano para Sputtering

99.95% Lac2 Objetivo de Cerámica de Carburo de Lantano para Sputtering

US$ 17,00-55,00
1 Kg(MOQ)
99.99% Objetivos de Cerámica Tac Objetivos de Sputtering de Carburo de Tantalio

99.99% Objetivos de Cerámica Tac Objetivos de Sputtering de Carburo de Tantalio

US$ 17,00-55,00
1 Kg(MOQ)
Nbc Apunta a Objetivos de Sputtering de Cerámica de Carburo de Niobio

Nbc Apunta a Objetivos de Sputtering de Cerámica de Carburo de Niobio

US$ 17,00-55,00
1 Kg(MOQ)
1/4

Rheniumet Ltd.

17 años
·Empresa Comercial
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Objetivo de Carburo de Silicio Sic 99.9% Recubrimiento por Sputtering Objetivo Cerámico

Objetivo de Carburo de Silicio Sic 99.9% Recubrimiento por Sputtering Objetivo Cerámico

Negociable
1 Pieza(MOQ)
Objetivo cerámico recubierto de carburo de silicio de alta pureza para procesamiento por sputtering magnetrón personalizable

Objetivo cerámico recubierto de carburo de silicio de alta pureza para procesamiento por sputtering magnetrón personalizable

Negociable
1 Pieza(MOQ)
Alta Pureza 99.9%- 99.99% Ruo2 Objetivo, 1-10inch Dióxido de Rutenio Objetivo de Sputtering

Alta Pureza 99.9%- 99.99% Ruo2 Objetivo, 1-10inch Dióxido de Rutenio Objetivo de Sputtering

US$ 2.000,00-4.000,00
1 Pieza(MOQ)
Objetivo de sputtering de metal de tantalio de alta pureza para recubrimiento de película delgada, objetivo de sputtering de titanio, rodio / rutenio

Objetivo de sputtering de metal de tantalio de alta pureza para recubrimiento de película delgada, objetivo de sputtering de titanio, rodio / rutenio

US$ 700,00-1.000,00
1 Pieza(MOQ)
1/4

Xiamen Wintrustek Advanced Materials Co., Ltd.

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Disco de Cerámica de Hexaburó de Lantano Lab6 para Sputtering

Disco de Cerámica de Hexaburó de Lantano Lab6 para Sputtering

US$ 50,00-200,00
1 Pieza(MOQ)
Objetivo de Sputtering de Cerámica de Hexaburó de Lantano Lab6 para Recubrimiento de Película Delgada PVD

Objetivo de Sputtering de Cerámica de Hexaburó de Lantano Lab6 para Recubrimiento de Película Delgada PVD

US$ 50,00-200,00
1 Pieza(MOQ)
Objetivos de cerámica de hexaboruro de lantano de alta emisividad electrónica Lab6

Objetivos de cerámica de hexaboruro de lantano de alta emisividad electrónica Lab6

US$ 50,00-200,00
1 Pieza(MOQ)
Disco Cerámico de Boruro de Lantano para Objetivo de Sputtering Lab6

Disco Cerámico de Boruro de Lantano para Objetivo de Sputtering Lab6

US$ 50,00-200,00
1 Pieza(MOQ)
1/4

Xiamen Tmax Battery Equipments Limited

5.0
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Marca TMAXCN 99.5% Objetivo de cerámica de carburo de silicio para pulverización para recubrimiento

Marca TMAXCN 99.5% Objetivo de cerámica de carburo de silicio para pulverización para recubrimiento

US$ 78,00-90,00
1 Pieza(MOQ)
Marca TMAXCN Alta Pureza 99.5% Carburo de Boro B4c Objetivo Cerámico de Sputtering

Marca TMAXCN Alta Pureza 99.5% Carburo de Boro B4c Objetivo Cerámico de Sputtering

US$ 78,00-90,00
1 Pieza(MOQ)
Material de recubrimiento cerámico de blanco de pulverización de estaño de zinc de alta densidad de la marca TMAXCN Zn2sno4

Material de recubrimiento cerámico de blanco de pulverización de estaño de zinc de alta densidad de la marca TMAXCN Zn2sno4

US$ 78,00-90,00
1 Pieza(MOQ)
Coater de Sputtering Magnetrón DC/RF de banco para metales, óxidos, cerámicas y semiconductores

Coater de Sputtering Magnetrón DC/RF de banco para metales, óxidos, cerámicas y semiconductores

US$ 15.000,00
1 Pieza(MOQ)
1/4

Ningbo Danko Vacuum Technology Co., Ltd.

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Metalización al vacío de aleación de titanio y aluminio

Metalización al vacío de aleación de titanio y aluminio

US$ 30,00-100,00
1 Pieza(MOQ)
Máquina de recubrimiento PVD para todos los materiales: metal, vidrio, cerámica

Máquina de recubrimiento PVD para todos los materiales: metal, vidrio, cerámica

Negociable
1 Set(MOQ)
Máquina de recubrimiento por sputtering de magnetrón

Máquina de recubrimiento por sputtering de magnetrón

US$ 55.000,00-150.000,00
1 Pieza(MOQ)
Máquina de recubrimiento al vacío por pulverización catódica de magnetrón de frecuencia media totalmente automática

Máquina de recubrimiento al vacío por pulverización catódica de magnetrón de frecuencia media totalmente automática

US$ 15.000,00-150.000,00
1 Pieza(MOQ)
1/4

Shandong Pengcheng Advanced Ceramics Co., Ltd.

12 años·5.0
·Fabricante/Fábrica & Empresa Comercial
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Objetivo de sputtering de nitruro de boro, barcos de evaporación de nitruro de boro, crisol eléctrico de cerámica de nitruro de boro

Objetivo de sputtering de nitruro de boro, barcos de evaporación de nitruro de boro, crisol eléctrico de cerámica de nitruro de boro

US$ 150,00-160,00
100 Kg(MOQ)
Placas de Cerámica de Discos de Sputtering de Diboruro de Titanio (TiB2)

Placas de Cerámica de Discos de Sputtering de Diboruro de Titanio (TiB2)

US$ 30,00
50 Kg(MOQ)
Tib2 Objetivo de Sputtering de Cerámica de Disulfuro de Titanio

Tib2 Objetivo de Sputtering de Cerámica de Disulfuro de Titanio

US$ 30,00
50 Kg(MOQ)
1/4

Hebei Zhongyi Import and Export Co., Ltd.

3 años
·Empresa Comercial
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Recubrimiento cerámico de disulfuro de tungsteno puro Ws2 para un recubrimiento de alta calidad mediante pulverización

Recubrimiento cerámico de disulfuro de tungsteno puro Ws2 para un recubrimiento de alta calidad mediante pulverización

US$ 9,00-12,00
10 Kg(MOQ)
Objetivo de Sputtering de Disulfuro de Tungsteno de Alta Pureza Ws2 para Aplicaciones de Recubrimiento

Objetivo de Sputtering de Disulfuro de Tungsteno de Alta Pureza Ws2 para Aplicaciones de Recubrimiento

US$ 9,00-12,00
10 Kg(MOQ)
1/4

BIOTIO SHANGHAI CORP CO., LTD.

5.0
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Pellets de Aluminio API-625 Objetivo de Sputtering de Alta Pureza 99.999% en Stock

Pellets de Aluminio API-625 Objetivo de Sputtering de Alta Pureza 99.999% en Stock

US$ 3.180,00-8.500,00
1 Tonelada(MOQ)
Pellets de Aluminio APP-512 Objetivo de Sputtering de Alta Pureza 99.999% en Stock

Pellets de Aluminio APP-512 Objetivo de Sputtering de Alta Pureza 99.999% en Stock

US$ 3.180,00-8.500,00
1 Tonelada(MOQ)
1/4

Dongguan Gravel Industries and Enterprise Company Limited

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Objetivo de rutenio por sputtering magnetrón de alta pureza

Objetivo de rutenio por sputtering magnetrón de alta pureza

US$ 32.000,00
1 Pieza(MOQ)
4n Objetivo de Sputtering de Tungsteno de Alta Precisión

4n Objetivo de Sputtering de Tungsteno de Alta Precisión

US$ 3.500,00
1 Pieza(MOQ)
Objetivo de rutenio de alta pureza para pulverización en forma de disco

Objetivo de rutenio de alta pureza para pulverización en forma de disco

US$ 75.000,00
1 Pieza(MOQ)
Objetivo de Cobre de Alta Pureza para Sputtering al Vacío

Objetivo de Cobre de Alta Pureza para Sputtering al Vacío

US$ 2.200,00
1 Pieza(MOQ)
1/4

Ningbo Galaxy International Trading Co., Ltd.

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Superficie pulida de alta dureza y objetivo de tubo de níquel de mayor pureza

Superficie pulida de alta dureza y objetivo de tubo de níquel de mayor pureza

US$ 30,00
10 Piezas(MOQ)
Objetivo de Sputtering Redondo de Zirconio de Alta Fusión Zr702

Objetivo de Sputtering Redondo de Zirconio de Alta Fusión Zr702

US$ 15,00
1 pcs(MOQ)
Objetivo redondo de níquel de alta calidad para pulverización

Objetivo redondo de níquel de alta calidad para pulverización

US$ 10,00
1 pcs(MOQ)
Buena conductividad térmica y eléctrica varilla redonda de zirconio puro

Buena conductividad térmica y eléctrica varilla redonda de zirconio puro

US$ 15,00
10 kg(MOQ)
1/4

Jiangsu Cicel Vacuum Technology Co., Ltd.

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Precio de objetivos de titanio de alta pureza para recubrimiento PVD/objetivo de titanio por pulverización, objetivo redondo de titanio en venta

Precio de objetivos de titanio de alta pureza para recubrimiento PVD/objetivo de titanio por pulverización, objetivo redondo de titanio en venta

US$ 80,00-300,00
1 Pieza(MOQ)
Máquina de recubrimiento de vidrio por magnetrón de sputtering multicolor

Máquina de recubrimiento de vidrio por magnetrón de sputtering multicolor

US$ 45.000,00-150.000,00
1 Set(MOQ)
Máquina de Sputtering Magnetrón Cicel Línea de Producción de Vidrio Bajo E

Máquina de Sputtering Magnetrón Cicel Línea de Producción de Vidrio Bajo E

US$ 45.000,00-150.000,00
1 Set(MOQ)
Máquina de recubrimiento por sputtering de magnetrón al vacío para piezas de automóviles en oferta con precio competitivo

Máquina de recubrimiento por sputtering de magnetrón al vacío para piezas de automóviles en oferta con precio competitivo

US$ 45.000,00-150.000,00
1 Set(MOQ)
1/4

Ganzhou Zhanhai New Material Technology Co., Ltd.

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Objetivo de Sputtering de Óxido de Ytrio Premium 4n-5n para Catalizadores

Objetivo de Sputtering de Óxido de Ytrio Premium 4n-5n para Catalizadores

US$ 50,00-70,00
1 Kg(MOQ)
Óxido de Ytrio de Alta Pureza Y2o3 en Polvo para Aplicaciones Cerámicas

Óxido de Ytrio de Alta Pureza Y2o3 en Polvo para Aplicaciones Cerámicas

US$ 50,00-70,00
1 Kg(MOQ)
Polvo de Tierras Raras de Alta Pureza 99.995% Y2o3 Gránulo para Objetivo de Sputtering Cerámico

Polvo de Tierras Raras de Alta Pureza 99.995% Y2o3 Gránulo para Objetivo de Sputtering Cerámico

US$ 50,00-65,00
25 Kg(MOQ)
99.999% Óxido de Yttrio de Tierra Rara Y2o3 CAS 1314-36-9, Material de Producto de Circonia Premium

99.999% Óxido de Yttrio de Tierra Rara Y2o3 CAS 1314-36-9, Material de Producto de Circonia Premium

US$ 50,00-65,00
25 Kg(MOQ)
1/4

Suzhou Zhongzhina Semiconductor Technology Co., Ltd.

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Nitruro de boro (BN) Ceramic nitruro PVD esputtering Target, Titanium Diboride, Titanium Boride, Customized Size, Afizing Plate

Nitruro de boro (BN) Ceramic nitruro PVD esputtering Target, Titanium Diboride, Titanium Boride, Customized Size, Afizing Plate

Negociable
1 Pieza(MOQ)
Titanato de bario BaTiO3 Target, Titanato de estroncio de bario Target Basrtio3, PVD Magnetron sputtering Target, Laboratory Consumibles

Titanato de bario BaTiO3 Target, Titanato de estroncio de bario Target Basrtio3, PVD Magnetron sputtering Target, Laboratory Consumibles

Negociable
1 Pieza(MOQ)
Material objetivo DE ITO (óxido de estaño de Indium), película conductiva transparente de Indium Tin Oxide Semiconductor, objetivo de espumación de Magnetron

Material objetivo DE ITO (óxido de estaño de Indium), película conductiva transparente de Indium Tin Oxide Semiconductor, objetivo de espumación de Magnetron

Negociable
1 Pieza(MOQ)
Óxido de zinc de alta pureza aluminio (AZO) material objetivo, óxido de zinc (ZnO) dopado con óxido de aluminio (Al2O3), óxido de esputo Magnetron objetivo, Unión de placa trasera

Óxido de zinc de alta pureza aluminio (AZO) material objetivo, óxido de zinc (ZnO) dopado con óxido de aluminio (Al2O3), óxido de esputo Magnetron objetivo, Unión de placa trasera

Negociable
1 Pieza(MOQ)

Zhengzhou Tainuo Film Materials Co., Ltd.

9 años
·Fabricante/Fábrica
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Recubridor de magnetrón de sputtering de doble objetivo RF de cerámica, dieléctrico, óptico, óxido, película dura, película de PTFE

Recubridor de magnetrón de sputtering de doble objetivo RF de cerámica, dieléctrico, óptico, óxido, película dura, película de PTFE

US$ 26.500,00
1 Pieza(MOQ)
Recubrimiento por sputtering de magnetrón de un solo, doble y triple objetivo con monitor de grosor de película

Recubrimiento por sputtering de magnetrón de un solo, doble y triple objetivo con monitor de grosor de película

US$ 60.000,00-61.200,00
1 set(MOQ)
Recubrimiento por sputtering magnetrón de un solo objetivo con monitor de grosor de película

Recubrimiento por sputtering magnetrón de un solo objetivo con monitor de grosor de película

US$ 18.000,00-19.200,00
1 set(MOQ)
Sputtering magnetrón de un solo objetivo con función de bobinado de fibra óptica

Sputtering magnetrón de un solo objetivo con función de bobinado de fibra óptica

US$ 28.000,00-29.500,00
1 set(MOQ)
1/4

Zhengzhou CY Scientific Instrument Co., Ltd.

13 años
·Fabricante/Fábrica & Empresa Comercial
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Cuatro recubridores de magnetrón por sputtering de Target con cámara de carga y descarga para película delgada de cerámica

Cuatro recubridores de magnetrón por sputtering de Target con cámara de carga y descarga para película delgada de cerámica

US$ 28.500,00-40.100,00
1 Pieza(MOQ)
Aparato de recubrimiento por sputtering de magnetrón de un solo objetivo de acero inoxidable de escritorio

Aparato de recubrimiento por sputtering de magnetrón de un solo objetivo de acero inoxidable de escritorio

US$ 8.730,00-8.900,00
1 Pieza(MOQ)
Depósito por Sputtering de Magnetrón de Doble Objetivo de CC y RF para Películas Delgadas de Metal y Óxido

Depósito por Sputtering de Magnetrón de Doble Objetivo de CC y RF para Películas Delgadas de Metal y Óxido

US$ 21.000,00-26.000,00
1 Pieza(MOQ)
Revestidor de Sputtering Magnetrón Personalizado con 3 Objetivos para la Preparación de Metal

Revestidor de Sputtering Magnetrón Personalizado con 3 Objetivos para la Preparación de Metal

US$ 28.500,00-40.100,00
1 Pieza(MOQ)
1/4

Shanghai Zenkaah New Materials Technology Co., Ltd.

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Nitruro de boro (BN) Ceramic nitruro PVD esputtering Target, Titanium Diboride, Titanium Boride, Customized Size, Afizing Plate

Nitruro de boro (BN) Ceramic nitruro PVD esputtering Target, Titanium Diboride, Titanium Boride, Customized Size, Afizing Plate

Negociable
1 Pieza(MOQ)
Material objetivo DE ITO (óxido de estaño de Indium), película conductiva transparente de Indium Tin Oxide Semiconductor, objetivo de espumación de Magnetron, Especificaciones personalizadas

Material objetivo DE ITO (óxido de estaño de Indium), película conductiva transparente de Indium Tin Oxide Semiconductor, objetivo de espumación de Magnetron, Especificaciones personalizadas

Negociable
1 Pieza(MOQ)
Titanato de bario BaTiO3 Target, Titanato de estroncio de bario Target Basrtio3, PVD Magnetron sputtering Target, Consumibles de laboratorio, partículas, Unión de la lámina de refuerzo

Titanato de bario BaTiO3 Target, Titanato de estroncio de bario Target Basrtio3, PVD Magnetron sputtering Target, Consumibles de laboratorio, partículas, Unión de la lámina de refuerzo

Negociable
1 Pieza(MOQ)
Material objetivo de IGZO (óxido de zinc galio-indico) de alta pureza para espumación de magnetrón PVD, recubrimiento de vacío, investigación y material experimental

Material objetivo de IGZO (óxido de zinc galio-indico) de alta pureza para espumación de magnetrón PVD, recubrimiento de vacío, investigación y material experimental

Negociable
1 Pieza(MOQ)

Huita Opto-Electronic Materials Co., Ltd

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ITO (tabletas) Sputtering meta

ITO (tabletas) Sputtering meta

Negociable
5 Piezas(MOQ)
El circonio Sputtering meta

El circonio Sputtering meta

Negociable
5 Piezas(MOQ)
Objetivo Tiox

Objetivo Tiox

Negociable
5 Piezas(MOQ)
Destino DE ITO

Destino DE ITO

Negociable
5 Piezas(MOQ)

Jiangyin Maideli Advanced Materials Co., Ltd.

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Ybco Yba2Cu3O7 itrio de óxido de cobre de bario de Sputtering meta

Ybco Yba2Cu3O7 itrio de óxido de cobre de bario de Sputtering meta

US$ 250,00-500,00
1 Pieza(MOQ)

China Rare Metal Material Co., Ltd.

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Los objetivos de Sputtering cerámica

Los objetivos de Sputtering cerámica

US$ 100,00
1 Pieza(MOQ)

Deyang Aijialun Vacuum Technology Co., Ltd.

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ITO Sputtering meta

ITO Sputtering meta

US$ 20,00-1.000,00
1 Set(MOQ)

Hunan Ultra Minor Metals Ltd

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La pureza del osmio blanco de Sputtering meta para la industria de película fina

La pureza del osmio blanco de Sputtering meta para la industria de película fina

Negociable
1 Pieza(MOQ)

Zhengzhou Shibo Nonferrous Metals Products Co., Ltd.

21 años·5.0
·Fabricante/Fábrica & Empresa Comercial
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Placa de molibdeno de alta calidad

Placa de molibdeno de alta calidad

US$ 40,00-88,00
1 kg(MOQ)
Mo1 Precio del objetivo de molibdeno para sputtering

Mo1 Precio del objetivo de molibdeno para sputtering

US$ 40,00-88,00
1 kg(MOQ)
Suministro principal de molibdeno

Suministro principal de molibdeno

US$ 31,00-54,00
1 kg(MOQ)
Barco de molibdeno puro magnífico (& Mola & TZM)

Barco de molibdeno puro magnífico (& Mola & TZM)

US$ 31,00-54,00
1 kg(MOQ)
1/2

Fuzhou Nuoxin Advanced Material Co. Ltd.

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Esputo Target ITO Indium Tin Oxide 4n 99,99% para Optico Revestimiento

Esputo Target ITO Indium Tin Oxide 4n 99,99% para Optico Revestimiento

Negociable
1 Pieza(MOQ)
Sio2 de dióxido de gránulo blanco de Sputtering de cerámica de recubrimiento de evaporación

Sio2 de dióxido de gránulo blanco de Sputtering de cerámica de recubrimiento de evaporación

Negociable
1 Kg(MOQ)
Itrio Óxido de Zirconio Ysz(ZRO2/S2o3 99,99% de Sputtering Meta Objetivo de cerámica

Itrio Óxido de Zirconio Ysz(ZRO2/S2o3 99,99% de Sputtering Meta Objetivo de cerámica

Negociable
1 Pieza(MOQ)
Dióxido de cerio de tierras raras CeO2 99,95% Cerámica esputtering objetivo PVD Revestimiento

Dióxido de cerio de tierras raras CeO2 99,95% Cerámica esputtering objetivo PVD Revestimiento

Negociable
1 Pieza(MOQ)

Xiangtan Hondson Coating Technology Co., Ltd.

6 años
·Fabricante/Fábrica & Empresa Comercial
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Cátodo giratorio, objetivo de tubo cilíndrico para máquina de revestimiento

Cátodo giratorio, objetivo de tubo cilíndrico para máquina de revestimiento

US$ 6.700,00-6.800,00
2 sets(MOQ)
5-200kw Fuente de Sputtering Típica para la Industria de Recubrimiento de Películas Delgadas Cátodo de Sputter Magnetrón Rotatorio Objetivo de Sputtering Rotatorio

5-200kw Fuente de Sputtering Típica para la Industria de Recubrimiento de Películas Delgadas Cátodo de Sputter Magnetrón Rotatorio Objetivo de Sputtering Rotatorio

US$ 6.900,00-7.000,00
2 sets(MOQ)
Máquina de Sputtering Magnetrón PVD para Tratamiento de Superficies Cerámicas

Máquina de Sputtering Magnetrón PVD para Tratamiento de Superficies Cerámicas

US$ 80.000,00-180.000,00
1 Set(MOQ)
Máquina de recubrimiento por sputtering de magnetrón de alta precisión para sustratos de metal, vidrio y cerámica

Máquina de recubrimiento por sputtering de magnetrón de alta precisión para sustratos de metal, vidrio y cerámica

US$ 80.000,00-180.000,00
1 Set(MOQ)
1/4

CHANGSHA EASCHEM CO., LIMITED

5 años
·Empresa Comercial
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Precio de fábrica Vender alta calidad objetivo de sputtering ITO 4n In2o3 y Sno2

Precio de fábrica Vender alta calidad objetivo de sputtering ITO 4n In2o3 y Sno2

Negociable
1 Piece(MOQ)
Precio de fábrica Vender alta pureza objetivo ITO para Rpd 4n

Precio de fábrica Vender alta pureza objetivo ITO para Rpd 4n

Negociable
1 Piece(MOQ)
Precio de fábrica Vender bajo densidad 4n objetivo redondo pequeño ITO

Precio de fábrica Vender bajo densidad 4n objetivo redondo pequeño ITO

Negociable
1 Piece(MOQ)
Precio de fábrica Vender alta calidad objetivo de metal Igzo 4n In2o3 Ga2o3 ZnO Indio Zinc Galio

Precio de fábrica Vender alta calidad objetivo de metal Igzo 4n In2o3 Ga2o3 ZnO Indio Zinc Galio

Negociable
1 Piece(MOQ)
1/4

Shenzhen Canyuan Metal Material Co., Ltd.

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99.999% Placa de objetivo de pulverización de silicio monocristalino de alta pureza / Objetivo de cerámica de silicio

99.999% Placa de objetivo de pulverización de silicio monocristalino de alta pureza / Objetivo de cerámica de silicio

US$ 200,00-10.000,00
1 Pieza(MOQ)
4n Azo Objetivo ZnO: Al2O3 Objetivos de Sputtering Rotatorio

4n Azo Objetivo ZnO: Al2O3 Objetivos de Sputtering Rotatorio

US$ 200,00-10.000,00
1 Pieza(MOQ)
Objetivos de Sputtering de Grafito de Carbono de Alta Pureza de Tamaño Personalizado 99.99% Objetivo de Cobre de Unión

Objetivos de Sputtering de Grafito de Carbono de Alta Pureza de Tamaño Personalizado 99.99% Objetivo de Cobre de Unión

US$ 200,00-10.000,00
1 Pieza(MOQ)
4n TiO2 Objetivos de Óxido de Titanio Objetivos Rotativos Objetivos Planos

4n TiO2 Objetivos de Óxido de Titanio Objetivos Rotativos Objetivos Planos

US$ 200,00-10.000,00
1 Pieza(MOQ)

UV Tech Material Co., Ltd.

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Heterojunction destino ITO, Ito de Alta Pureza Sputtering meta para Heterojunction, 97: 3 Hjt ITO blanco

Heterojunction destino ITO, Ito de Alta Pureza Sputtering meta para Heterojunction, 97: 3 Hjt ITO blanco

Negociable
1 Pieza(MOQ)
Rotary Tiox destino, principalmente para la aplicación de recubrimiento de vidrio Low-E, el magnetrón Sputtering Meta, meta de óxido de titanio

Rotary Tiox destino, principalmente para la aplicación de recubrimiento de vidrio Low-E, el magnetrón Sputtering Meta, meta de óxido de titanio

Negociable
1 Pieza(MOQ)
Rotary el objetivo, ITO Planar magnetrón Sputtering meta, en2o3: Destino Sno2, 90:10 ITO, Ito, 5 de 95: 97: 3 ITO

Rotary el objetivo, ITO Planar magnetrón Sputtering meta, en2o3: Destino Sno2, 90:10 ITO, Ito, 5 de 95: 97: 3 ITO

Negociable
10 Kg(MOQ)
Objetivo Nbox giratorio 99,95% de Sputtering meta de alta calidad

Objetivo Nbox giratorio 99,95% de Sputtering meta de alta calidad

Negociable
2 Piezas(MOQ)

Beijing Loyaltarget Technology Co, Limited

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