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ISO9001:2015
ISO 9001
ISO45001:2018
OHSAS/ OHSMS 18002
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Capacidad de R&D
OEM
ODM
Marca Propia
Otros
Ingresos Anuales
Por debajo de US $ 1 Millón
5 ~ 10 millones de dólares
10 ~ 50 millones de dólares
50 ~ 100 millones de dólares
Encima de US $ 100 Millones
Número de empleados
Menos de 5 Personas
5-50 Personas
51-200 Personas
201-500 Personas
Más de 1000 Personas
Provincia & Región
Beijing
Chongqing
Fujian
Gansu
Guangdong
Más
sobre objetivo de sputtering cerámico
Innovación tecnológica
Cadenas de suministro confiables
Capacidades de fabricación sustanciales
objetivo de sputtering cerámico
90+ fábricas verificadas
SUZHOU TECHNO-TEC PHOTOELECTRIC MATERIALS CO., LTD
Enviar Consulta
Objetivo cerámico de Poli-silicio para esputo Blanco/Solar Fotovoltaica
US$
35,00
-
50,00
1 Kg
(MOQ)
Objetivo de Silicio Monocristalino Mono-Si para Objetivo de Sputtering en Fotovoltaica Solar para Teléfonos Móviles
US$
35,00
-
75,00
1 Kg
(MOQ)
In2O3+Cu Objetivo cerámico de óxido de indio + objetivo cerámico de cobre para LCD/panel táctil
US$
40,00
1 Kg
(MOQ)
SrRuO3 objetivo de estroncio Rutenato Cerámica esputante objetivo de delgado óptico Revestimiento de película
US$
40,00
1 Kg
(MOQ)
1/4
Changsha Xinkang Advanced Materials Co., Ltd.
Enviar Consulta
Objetivo de Sputtering de Cerámica de Tróxido de Tungsteno de Alta Pureza 99.99% para Recubrimiento PVD
US$
110,00
-
120,00
1 Pieza
(MOQ)
Objetivo de Sputtering Cerámico de Alta Pureza MOS2
US$
100,00
-
200,00
1 Pieza
(MOQ)
Hfo2 Materiales cerámicos de óxido de hafnio para sputtering magnetrón, opciones de tamaño disponibles
US$
55,00
-
85,00
1 Pieza
(MOQ)
Objetivo de Sputtering de Cerámica Óxido de Manganeso Mno2 Objetivo de Sputtering
US$
25,00
-
30,00
10 Piezas
(MOQ)
1/4
Lonwin Industry Group Limited
5.0
Enviar Consulta
Cuo-In2o3 Objetivos Cerámicos Óxido de Cobre - Objetivo de Sputtering Óxido de Indio
US$
17,00
-
55,00
1 Kg
(MOQ)
99.99% Tasi2 Objetivo de Sputtering de Silicuro de Tantalio Cerámico
US$
17,00
-
55,00
1 Kg
(MOQ)
99.95% Cosi2 Objetivos de Sputtering Silicuro de Cobalto Objetivos Cerámicos de Sputtering
US$
17,00
-
55,00
1 Kg
(MOQ)
99.99% VSI2 Objetivos de Cerámica Disiliciuro de Vanadio Objetivos de Sputtering
US$
17,00
-
55,00
1 Kg
(MOQ)
1/4
Rheniumet Ltd.
17 años
·
Empresa Comercial
Enviar Consulta
Objetivo de Carburo de Silicio Sic 99.9% Recubrimiento por Sputtering Objetivo Cerámico
Negociable
1 Pieza
(MOQ)
Objetivo cerámico recubierto de carburo de silicio de alta pureza para procesamiento por sputtering magnetrón personalizable
Negociable
1 Pieza
(MOQ)
Alta Pureza 99.9%- 99.99% Ruo2 Objetivo, 1-10inch Dióxido de Rutenio Objetivo de Sputtering
US$
2.000,00
-
4.000,00
1 Pieza
(MOQ)
Objetivo de sputtering de metal de tantalio de alta pureza para recubrimiento de película delgada, objetivo de sputtering de titanio, rodio / rutenio
US$
700,00
-
1.000,00
1 Pieza
(MOQ)
1/4
Xiamen Wintrustek Advanced Materials Co., Ltd.
Enviar Consulta
Disco de Cerámica de Hexaburó de Lantano Lab6 para Sputtering
US$
50,00
-
200,00
1 Pieza
(MOQ)
Objetivo de Sputtering de Cerámica de Hexaburó de Lantano Lab6 para Recubrimiento de Película Delgada PVD
US$
50,00
-
200,00
1 Pieza
(MOQ)
Objetivos de cerámica de hexaboruro de lantano de alta emisividad electrónica Lab6
US$
50,00
-
200,00
1 Pieza
(MOQ)
Disco Cerámico de Boruro de Lantano para Objetivo de Sputtering Lab6
US$
50,00
-
200,00
1 Pieza
(MOQ)
1/4
Xiamen Tmax Battery Equipments Limited
5.0
Enviar Consulta
Marca TMAXCN 99.5% Objetivo de cerámica de carburo de silicio para pulverización para recubrimiento
US$
78,00
-
90,00
1 Pieza
(MOQ)
Marca TMAXCN Alta Pureza 99.5% Carburo de Boro B4c Objetivo Cerámico de Sputtering
US$
78,00
-
90,00
1 Pieza
(MOQ)
Coater de Sputtering Magnetrón DC/RF de banco para metales, óxidos, cerámicas y semiconductores
US$
15.000,00
1 Pieza
(MOQ)
Material de recubrimiento cerámico de blanco de pulverización de estaño de zinc de alta densidad de la marca TMAXCN Zn2sno4
US$
78,00
-
90,00
1 Pieza
(MOQ)
1/4
Ningbo Danko Vacuum Technology Co., Ltd.
Enviar Consulta
Fabricante Proveedor de Objetivos de Titanio
US$
30,00
-
100,00
1 Pieza
(MOQ)
Máquina de recubrimiento por sputtering de magnetrón
US$
55.000,00
-
150.000,00
1 Pieza
(MOQ)
Ipg 24K Máquina de recubrimiento al vacío PVD de joyería de oro anti huellas dactilares
US$
45.000,00
-
85.000,00
1 Pieza
(MOQ)
Máquina de recubrimiento PVD por sputtering magnetrón de frecuencia media de múltiples objetivos
US$
65.000,00
-
160.000,00
1 Pieza
(MOQ)
1/4
Shandong Pengcheng Advanced Ceramics Co., Ltd.
12 años
·
5.0
·
Fabricante/Fábrica & Empresa Comercial
Enviar Consulta
Objetivo de sputtering de nitruro de boro, barcos de evaporación de nitruro de boro, crisol eléctrico de cerámica de nitruro de boro
US$
150,00
-
160,00
100 Kg
(MOQ)
Placas de Cerámica de Discos de Sputtering de Diboruro de Titanio (TiB2)
US$
30,00
50 Kg
(MOQ)
Tib2 Objetivo de Sputtering de Cerámica de Disulfuro de Titanio
US$
30,00
50 Kg
(MOQ)
1/4
Hebei Zhongyi Import and Export Co., Ltd.
3 años
·
Empresa Comercial
Enviar Consulta
Objetivo de Sputtering de Disulfuro de Tungsteno de Alta Pureza Ws2 para Aplicaciones de Recubrimiento
US$
9,00
-
12,00
10 Kg
(MOQ)
Recubrimiento cerámico de disulfuro de tungsteno puro Ws2 para un recubrimiento de alta calidad mediante pulverización
US$
9,00
-
12,00
10 Kg
(MOQ)
1/4
BIOTIO SHANGHAI CORP CO., LTD.
5.0
Enviar Consulta
Pellets de Aluminio API-625 Objetivo de Sputtering de Alta Pureza 99.999% en Stock
US$
3.180,00
-
8.500,00
1 Tonelada
(MOQ)
Pellets de Aluminio APP-512 Objetivo de Sputtering de Alta Pureza 99.999% en Stock
US$
3.180,00
-
8.500,00
1 Tonelada
(MOQ)
1/4
Dongguan Gravel Industries and Enterprise Company Limited
Enviar Consulta
Objetivo de rutenio por sputtering magnetrón de alta pureza
US$
32.000,00
1 Pieza
(MOQ)
4n Objetivo de Sputtering de Tungsteno de Alta Precisión
US$
3.500,00
1 Pieza
(MOQ)
Material de objetivo de nitruro de silicio de alta pureza
US$
15.000,00
1 Pieza
(MOQ)
Objetivo de rutenio de alta pureza para pulverización en forma de disco
US$
75.000,00
1 Pieza
(MOQ)
1/4
Ningbo Galaxy International Trading Co., Ltd.
Enviar Consulta
Objetivo de Sputtering Redondo de Zirconio de Alta Fusión Zr702
US$
15,00
1 pcs
(MOQ)
Superficie pulida de alta dureza y objetivo de tubo de níquel de mayor pureza
US$
30,00
10 Piezas
(MOQ)
Objetivo redondo de níquel de alta calidad para pulverización
US$
10,00
1 pcs
(MOQ)
Buena conductividad térmica y eléctrica varilla redonda de zirconio puro
US$
15,00
10 kg
(MOQ)
1/4
Jiangsu Cicel Vacuum Technology Co., Ltd.
Enviar Consulta
Precio de objetivos de titanio de alta pureza para recubrimiento PVD/objetivo de titanio por pulverización, objetivo redondo de titanio en venta
US$
80,00
-
300,00
1 Pieza
(MOQ)
Línea de recubrimiento por sputtering magnetrón para espejo de aluminio y plata (CCZK-ION)
US$
45.000,00
-
150.000,00
1 Set
(MOQ)
Sistema de recubrimiento de cromo plástico Cicel, equipo de galvanoplastia de cromo en cámara de vacío por sputtering PVD de magnetrón
US$
45.000,00
-
150.000,00
1 Set
(MOQ)
Máquina de recubrimiento al vacío por sputtering magnetrón Cicel para recubrimientos de estaño, TiC, TiCN, TiAlN, CrN, Cu, etc
US$
45.000,00
-
150.000,00
1 Set
(MOQ)
1/4
Suzhou Zhongzhina Semiconductor Technology Co., Ltd.
Enviar Consulta
Nitruro de boro (BN) Ceramic nitruro PVD esputtering Target, Titanium Diboride, Titanium Boride, Customized Size, Afizing Plate
Negociable
1 Pieza
(MOQ)
Titanato de bario BaTiO3 Target, Titanato de estroncio de bario Target Basrtio3, PVD Magnetron sputtering Target, Laboratory Consumibles
Negociable
1 Pieza
(MOQ)
Óxido de zinc de alta pureza aluminio (AZO) material objetivo, óxido de zinc (ZnO) dopado con óxido de aluminio (Al2O3), óxido de esputo Magnetron objetivo, Unión de placa trasera
Negociable
1 Pieza
(MOQ)
Material objetivo DE ITO (óxido de estaño de Indium), película conductiva transparente de Indium Tin Oxide Semiconductor, objetivo de espumación de Magnetron
Negociable
1 Pieza
(MOQ)
Zhengzhou Tainuo Film Materials Co., Ltd.
9 años
·
Fabricante/Fábrica
Enviar Consulta
Recubridor de magnetrón de sputtering de doble objetivo RF de cerámica, dieléctrico, óptico, óxido, película dura, película de PTFE
US$
26.500,00
1 Pieza
(MOQ)
Recubrimiento por sputtering magnetrón de un solo objetivo con monitor de grosor de película
US$
18.000,00
-
19.200,00
1 set
(MOQ)
Sputtering magnetrón de un solo objetivo con función de bobinado de fibra óptica
US$
28.000,00
-
29.500,00
1 set
(MOQ)
Recubrimiento por sputtering de magnetrón de un solo, doble y triple objetivo con monitor de grosor de película
US$
60.000,00
-
61.200,00
1 set
(MOQ)
1/4
Zhengzhou CY Scientific Instrument Co., Ltd.
13 años
·
Fabricante/Fábrica & Empresa Comercial
Enviar Consulta
Cuatro recubridores de magnetrón por sputtering de Target con cámara de carga y descarga para película delgada de cerámica
US$
28.500,00
-
40.100,00
1 Pieza
(MOQ)
Depósito por Sputtering de Magnetrón de Doble Objetivo de CC y RF para Películas Delgadas de Metal y Óxido
US$
21.000,00
-
26.000,00
1 Pieza
(MOQ)
Aparato de recubrimiento por sputtering de magnetrón de un solo objetivo de acero inoxidable de escritorio
US$
8.730,00
-
8.900,00
1 Pieza
(MOQ)
Tres recubridores de magnetrón por sputtering de Target con cámara de transición para la preparación de muestras de SEM
US$
68.200,00
-
70.000,00
1 Pieza
(MOQ)
1/4
Shanghai Zenkaah New Materials Technology Co., Ltd.
Enviar Consulta
Nitruro de boro (BN) Ceramic nitruro PVD esputtering Target, Titanium Diboride, Titanium Boride, Customized Size, Afizing Plate
Negociable
1 Pieza
(MOQ)
Titanato de bario BaTiO3 Target, Titanato de estroncio de bario Target Basrtio3, PVD Magnetron sputtering Target, Consumibles de laboratorio, partículas, Unión de la lámina de refuerzo
Negociable
1 Pieza
(MOQ)
Material objetivo de IGZO (óxido de zinc galio-indico) de alta pureza para espumación de magnetrón PVD, recubrimiento de vacío, investigación y material experimental
Negociable
1 Pieza
(MOQ)
Material objetivo DE ITO (óxido de estaño de Indium), película conductiva transparente de Indium Tin Oxide Semiconductor, objetivo de espumación de Magnetron, Especificaciones personalizadas
Negociable
1 Pieza
(MOQ)
Huita Opto-Electronic Materials Co., Ltd
Enviar Consulta
El circonio Sputtering meta
Negociable
5 Piezas
(MOQ)
ITO (tabletas) Sputtering meta
Negociable
5 Piezas
(MOQ)
Destino DE ITO
Negociable
5 Piezas
(MOQ)
Objetivo Tiox
Negociable
5 Piezas
(MOQ)
China Rare Metal Material Co., Ltd.
Enviar Consulta
Los objetivos de Sputtering cerámica
US$
100,00
1 Pieza
(MOQ)
Jiangyin Maideli Advanced Materials Co., Ltd.
Enviar Consulta
Ybco Yba2Cu3O7 itrio de óxido de cobre de bario de Sputtering meta
US$
250,00
-
500,00
1 Pieza
(MOQ)
Hunan Ultra Minor Metals Ltd
Enviar Consulta
La pureza del osmio blanco de Sputtering meta para la industria de película fina
Negociable
1 Pieza
(MOQ)
Deyang Aijialun Vacuum Technology Co., Ltd.
Enviar Consulta
ITO Sputtering meta
US$
20,00
-
1.000,00
1 Set
(MOQ)
Inner Mongolia Rongtai Rhenium New Materials Co., Ltd.
5.0
Enviar Consulta
Objetivo de Sputtering de Cerio Premium para Aplicaciones Avanzadas de Recubrimiento
US$
55,00
-
85,00
1 Pieza
(MOQ)
Objetivo de tiro redondo negro de metal raro de alta calidad
US$
115,00
-
130,00
1 Pieza
(MOQ)
Objetivo de Sputtering de Gadolinio Gd Premium para Aplicaciones Avanzadas
US$
55,00
-
85,00
1 Pieza
(MOQ)
Objetivo de sputtering de aleación de titanio personalizable para recubrimientos ópticos
US$
190,00
-
199,00
1 Pieza
(MOQ)
1/4
Zhengzhou Shibo Nonferrous Metals Products Co., Ltd.
21 años
·
5.0
·
Fabricante/Fábrica & Empresa Comercial
Enviar Consulta
Placa de molibdeno de alta calidad
US$
40,00
-
88,00
1 kg
(MOQ)
Mo1 Precio del objetivo de molibdeno para sputtering
US$
40,00
-
88,00
1 kg
(MOQ)
Barco Molybybum profesional en venta
US$
31,00
-
54,00
1 kg
(MOQ)
El barco más popular de molibdeno para la venta
US$
31,00
-
54,00
1 kg
(MOQ)
1/2
Fuzhou Nuoxin Advanced Material Co. Ltd.
Enviar Consulta
Itrio Óxido de Zirconio Ysz(ZRO2/S2o3 99,99% de Sputtering Meta Objetivo de cerámica
Negociable
1 Pieza
(MOQ)
Dióxido de cerio de tierras raras CeO2 99,95% Cerámica esputtering objetivo PVD Revestimiento
Negociable
1 Pieza
(MOQ)
Azoespumante objetivo de óxido de zinc de aluminio para evaporación película fina óptica Revestimiento
Negociable
1 Pieza
(MOQ)
Óxido ferroso Feo 4n Sputtering Target para recubrimiento PVD
Negociable
1 Pieza
(MOQ)
Xiangtan Hondson Coating Technology Co., Ltd.
6 años
·
Fabricante/Fábrica & Empresa Comercial
Enviar Consulta
Cátodo giratorio, objetivo de tubo cilíndrico para máquina de revestimiento
US$
6.700,00
-
6.800,00
2 sets
(MOQ)
5-200kw Fuente de Sputtering Típica para la Industria de Recubrimiento de Películas Delgadas Cátodo de Sputter Magnetrón Rotatorio Objetivo de Sputtering Rotatorio
US$
6.900,00
-
7.000,00
2 sets
(MOQ)
Máquina de recubrimiento por sputtering de magnetrón de alta precisión para sustratos de metal, vidrio y cerámica
US$
80.000,00
-
180.000,00
1 Set
(MOQ)
Máquina de Sputtering Magnetrón PVD para Tratamiento de Superficies Cerámicas
US$
80.000,00
-
180.000,00
1 Set
(MOQ)
1/4
Shenzhen Canyuan Metal Material Co., Ltd.
Enviar Consulta
99.999% Placa de objetivo de pulverización de silicio monocristalino de alta pureza / Objetivo de cerámica de silicio
US$
200,00
-
10.000,00
1 Pieza
(MOQ)
4n Azo Objetivo ZnO: Al2O3 Objetivos de Sputtering Rotatorio
US$
200,00
-
10.000,00
1 Pieza
(MOQ)
Objetivos de Sputtering de Grafito de Carbono de Alta Pureza de Tamaño Personalizado 99.99% Objetivo de Cobre de Unión
US$
200,00
-
10.000,00
1 Pieza
(MOQ)
4n Nbo2 Objetivos de óxido de niobio Objetivos planos
US$
200,00
-
10.000,00
1 Pieza
(MOQ)
CHANGSHA EASCHEM CO., LIMITED
5 años
·
Empresa Comercial
Enviar Consulta
Precio de fábrica Vender alta calidad objetivo de sputtering ITO 4n In2o3 y Sno2
Negociable
1 Piece
(MOQ)
Precio de fábrica Vender alta pureza objetivo ITO para Rpd 4n
Negociable
1 Piece
(MOQ)
Precio de fábrica Vender bajo densidad 4n objetivo redondo pequeño ITO
Negociable
1 Piece
(MOQ)
Precio de fábrica Vender alta calidad objetivo de metal Igzo 4n In2o3 Ga2o3 ZnO Indio Zinc Galio
Negociable
1 Piece
(MOQ)
1/4
Beijing Loyaltarget Technology Co, Limited
Enviar Consulta
Bi2te3 Sputtering meta
Negociable
1 Pieza
(MOQ)
Bi2O3 blanco de Sputtering cerámica
Negociable
1 Pieza
(MOQ)
Bifeo3 blanco de Sputtering cerámica
Negociable
1 Pieza
(MOQ)
Al2O3 blanco de Sputtering cerámica
Negociable
1 Pieza
(MOQ)
Enam Optoelectronic Material Co., Ltd
Enviar Consulta
Objetivo de óxido de indio, en2o3 blanco
Negociable
1 Pieza
(MOQ)
El cadmio Stannate Target, CD-te la energía solar película delgada capa de TCO
Negociable
1 Pieza
(MOQ)
Objetivo Igzo, TFT Igzo Indium-Gallium Canal de la capa de óxido de Zinc blanco
Negociable
1 Pieza
(MOQ)
Izo Izo Sputtering Meta, Meta, óxido de Indium-Zinc
Negociable
1 Pieza
(MOQ)
1
4
Innovación tecnológica
Cadenas de suministro confiables
Capacidades de fabricación sustancialesInnovación tecnológicaCadenas de suministro confiablesCapacidades de fabricación sustanciales
