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Tantalum Metal de alta pureza sputtering Target para revestimiento de película fina

Condición: Nuevo
Proceso de dar un título: ISO 9001
Estándar: GB
Material: tantalio
Solicitud: Hydrogeneration
forma: redondo

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Fabricante/Fábrica
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Visión General

Información Básica.

No. de Modelo.
Ta
composición química
tantalio
Paquete de Transporte
Vacuum Packed or Per Customer′s Request.
Marca Comercial
UMM
Origen
Guangdong, China
Capacidad de Producción
10000000 Kilogram/Kilograms Per Month

Descripción de Producto

Descripción del producto

Espumación de metal de tántalo de alta pureza Target para recubrimiento de película fina,Titanio/Rhodium /rutenio escupir objetivo

Manual del producto

El tantalio, un elemento metálico, existe principalmente en el tantalita y coexiste con el niobio. La textura del tantalio es muy dura, el
la dureza puede alcanzar 6-6,5. Su punto de fusión es de hasta 2996, segundo solo al tungsteno y al renio, tercero. El tantalio es maleable y puede ser arrastrado en una lámina fina como un alambre. Su coeficiente de expansión térmica es muy pequeño. Solo se expande un 6,6% por grado Celsius. Además, su dureza es muy fuerte, incluso mejor que el cobre. El tantalio también tiene una resistencia a la corrosión extremadamente alta. No reacciona al ácido clorhídrico, ácido nítrico concentrado y "aqua regia", independientemente de si está en condiciones frías o calientes.


Aplicación
Las placas de tantalio y de tantalio pueden usarse para fabricar diversos equipos de preparación de ácidos inorgánicos, fijaciones resistentes a la corrosión, accesorios de apoyo, escudos de calor, calentadores y disipadores de calor en hornos de vacío de alta temperatura, tanques de agua, puentes y otros elementos de acero estructura del sistema catódico.

Tamaños estándar
Grosor (0,15~6,0)mm × ancho (50~300)mm×largo (50~1000)mm, se pueden negociar el tamaño y los requisitos especiales del cliente

Nombre del producto
fórmula molecular
Pureza
Especificación
 Objetivo de renio
Re
4N-5N
Personalizado para blanco plano, blanco giratorio, blanco de tubo, etc.
Objetivo de tántalo
Ta
3N-4N
 
Objetivo de niobio
N.
3N-4N
 
Objetivo de vanadio
V
3N-4N
 
Objetivo de titanio
TI
2N5-4N
 
Objetivo de cromo
CR
2N5-4N
 
Objetivo de cobre
Cu
3N-5N
 
Objetivo de aluminio
Al
2N5-4N
 
Objetivo de cobalto
Co
3N5
 
 Objetivo de níquel
Ni
3N-5N
 
Objetivo rutenio
RU
3N-4N
 
Blanco Iridium
Ir
3N-4N
 
Objetivo de rodio
 
4N
 
Objetivo de bismuto
BI
3N-4N
 
Objetivo de paladio
PD
3N-4N
 
 Objetivo de plata
AG
4N-5N
 
Objetivo de oro
Au
4N-5N
 

Ultra también proporciona una variedad de objetivos de aleación y cerámica destino personalizado
 

Perfil de la empresa

High Purity Tantalum Metal Sputtering Target for Thin Film CoatingHigh Purity Tantalum Metal Sputtering Target for Thin Film CoatingHigh Purity Tantalum Metal Sputtering Target for Thin Film CoatingHigh Purity Tantalum Metal Sputtering Target for Thin Film CoatingHigh Purity Tantalum Metal Sputtering Target for Thin Film CoatingHigh Purity Tantalum Metal Sputtering Target for Thin Film CoatingHigh Purity Tantalum Metal Sputtering Target for Thin Film Coating

Nuestro Servicio

 


High Purity Tantalum Metal Sputtering Target for Thin Film Coating

 

 
 
 
 
 

PREGUNTAS FRECUENTES


P: ¿es usted empresa comercial o fabricante?
R: Somos fábrica.

P: ¿Cuánto tiempo dura su entrega?
R: Generalmente son 3-7 días si los bienes están en stock o son 15-20 días si los bienes no están en stock, es según
cantidad.

P: ¿proporciona muestras? ¿es gratis o extra?
R: Sí, podríamos ofrecer la muestra, pero necesitamos pagar el costo de la muestra y el flete ya que nuestro producto es de alto valor.

P: ¿Cuáles son sus condiciones de pago?
R: Pago <=1000USD, 100% por adelantado. Pago>=1000USD, 30% T/T por adelantado, saldo antes del envío.
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12777788 RMB
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1001~2000 Metros Cuadrados