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sobre objetivo de sputtering de metal
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objetivo de sputtering de metal100+ fábricas verificadas

SUZHOU TECHNO-TEC PHOTOELECTRIC MATERIALS CO., LTD

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Objetivo de pulverización de CU/objetivo rotatorio de cobre para conductor/semiconductor recubierto de metal

Objetivo de pulverización de CU/objetivo rotatorio de cobre para conductor/semiconductor recubierto de metal

US$ 10,00-15,00
1 Kg(MOQ)
Esputo de metal/esputo de aleación/esputo serámico objetivo

Esputo de metal/esputo de aleación/esputo serámico objetivo

US$ 35,00
1 Kg(MOQ)
Objetivo de Tantalum de Tantalum de Tantalum de destino rotatorio para semiconductores

Objetivo de Tantalum de Tantalum de Tantalum de destino rotatorio para semiconductores

US$ 400,00-600,00
1 Kg(MOQ)
CR Target espumante de cromo Target para revestimiento de película de decoración

CR Target espumante de cromo Target para revestimiento de película de decoración

US$ 25,00-100,00
1 Kg(MOQ)
1/4

Rheniumet Ltd.

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Objetivo de Sputtering de Rhenio de Alta Pureza 99.99%, Objetivo Redondo de Metal Re

Objetivo de Sputtering de Rhenio de Alta Pureza 99.99%, Objetivo Redondo de Metal Re

US$ 1.000,00-4.000,00
1 Pieza(MOQ)
9995 Objetivo de Platino Puro, Objetivo de Metal para Sputtering PT para Recubrimiento

9995 Objetivo de Platino Puro, Objetivo de Metal para Sputtering PT para Recubrimiento

US$ 30.000,00-50.000,00
1 Pieza(MOQ)
99.95% Objetivo de metal precioso iridio para recubrimiento por pulverización al vacío

99.95% Objetivo de metal precioso iridio para recubrimiento por pulverización al vacío

US$ 45.000,00-80.000,00
1 Pieza(MOQ)
Objetivo de Sputtering de Paladio de Alta Pureza, Objetivo Metálico Redondo PT

Objetivo de Sputtering de Paladio de Alta Pureza, Objetivo Metálico Redondo PT

US$ 1.000,00-5.000,00
1 Pieza(MOQ)
1/4

Inner Mongolia Rongtai Rhenium New Materials Co., Ltd.

5.0
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Objetivo de metal de lantano avanzado para soluciones de pulverización de precisión

Objetivo de metal de lantano avanzado para soluciones de pulverización de precisión

US$ 150,00-350,00
1 Pieza(MOQ)
Objetivo de metal de sputtering de alta pureza Yb negro redondo para pantalla plana

Objetivo de metal de sputtering de alta pureza Yb negro redondo para pantalla plana

US$ 190,00-199,00
1 Pieza(MOQ)
Disco de objetivo de sputtering de metal de gadolinio premium 99.9% pureza

Disco de objetivo de sputtering de metal de gadolinio premium 99.9% pureza

US$ 55,00-85,00
1 Pieza(MOQ)
99.9% Objetivo de Sputtering de Tierra Rara Yitrio Metal Y Disco de Yitrio para Semiconductores

99.9% Objetivo de Sputtering de Tierra Rara Yitrio Metal Y Disco de Yitrio para Semiconductores

US$ 115,00-130,00
1 Pieza(MOQ)
1/4

Beenine Shanke Technology Co., Ltd.

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Objetivo de Sputtering Planar Estaño Sn Estañón Metal Personalizado

Objetivo de Sputtering Planar Estaño Sn Estañón Metal Personalizado

US$ 60,00-100,00
1 Pieza(MOQ)
Objetivo de Sputtering de Plomo Pb Metal para Máquina PVD

Objetivo de Sputtering de Plomo Pb Metal para Máquina PVD

US$ 80,00-150,00
1 Pieza(MOQ)
Objetivo de Sputtering de Metal Zinc Zn Precio Económico

Objetivo de Sputtering de Metal Zinc Zn Precio Económico

US$ 50,00-100,00
1 Pieza(MOQ)
Objetivo de Sputtering de Metal Estaño Stannum Sn Precio Económico

Objetivo de Sputtering de Metal Estaño Stannum Sn Precio Económico

US$ 60,00-100,00
1 Pieza(MOQ)
1/4

Changsha Xinkang Advanced Materials Co., Ltd.

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99.95% Objetivo de aleación metálica Znsn Zinc Estaño para recubrimiento mediante sputtering

99.95% Objetivo de aleación metálica Znsn Zinc Estaño para recubrimiento mediante sputtering

Negociable
1 Pieza(MOQ)
Xinkang Wti10wt% Wti30wt% Blanco de Sputtering de Aleación de Metal de Tungsteno y Titanio

Xinkang Wti10wt% Wti30wt% Blanco de Sputtering de Aleación de Metal de Tungsteno y Titanio

US$ 35,00-45,00
1 Pieza(MOQ)
Placa de objetivo de sputtering de cobre de alta pureza

Placa de objetivo de sputtering de cobre de alta pureza

US$ 50,00-200,00
1 Pieza(MOQ)
99.9% Metal de titanio, objetivo de cátodo multi-arco Ti, objetivos de sputtering rotativos de titanio

99.9% Metal de titanio, objetivo de cátodo multi-arco Ti, objetivos de sputtering rotativos de titanio

US$ 45,00-50,00
1 pieces(MOQ)
1/4

Xiamen Tmax Battery Equipments Limited

5.0
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Marca TMAXCN Alta Pureza 99.99% Níquel Ni Blanco de Sputtering para Recubrimiento de Película Delgada de Metal

Marca TMAXCN Alta Pureza 99.99% Níquel Ni Blanco de Sputtering para Recubrimiento de Película Delgada de Metal

US$ 78,00-90,00
1 Pieza(MOQ)
Marca TMAXCN Alta Pureza 99.95% Hierro Níquel Fe-Ni Blanco de Pulverización para Recubrimiento de Película Delgada de Metal

Marca TMAXCN Alta Pureza 99.95% Hierro Níquel Fe-Ni Blanco de Pulverización para Recubrimiento de Película Delgada de Metal

US$ 78,00-90,00
1 Pieza(MOQ)
Objetivo de sputtering de titanio Ti de alta pureza de la marca TMAXCN 99.995% (4N5)

Objetivo de sputtering de titanio Ti de alta pureza de la marca TMAXCN 99.995% (4N5)

US$ 78,00-90,00
1 Pieza(MOQ)
Marca TMAXCN 99.9% Materiales de recubrimiento de alta pureza 3n Objetivo de sputtering de vanadio

Marca TMAXCN 99.9% Materiales de recubrimiento de alta pureza 3n Objetivo de sputtering de vanadio

US$ 78,00-90,00
1 Pieza(MOQ)
1/4

Lonwin Industry Group Limited

5.0
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Aleación de Tizr de metal, objetivo de sputtering de titanio y circonio para recubrimiento

Aleación de Tizr de metal, objetivo de sputtering de titanio y circonio para recubrimiento

US$ 17,00-55,00
1 Kg(MOQ)
99.99% Objetivo de Sputtering de Tungsteno Puro W Material de Tungsteno

99.99% Objetivo de Sputtering de Tungsteno Puro W Material de Tungsteno

US$ 17,00-55,00
1 Kg(MOQ)
Objetivo de Sputtering de Cobre Cu Metal Cobre Objetivo Rotatorio para Sputtering Magnetrón

Objetivo de Sputtering de Cobre Cu Metal Cobre Objetivo Rotatorio para Sputtering Magnetrón

US$ 17,00-55,00
1 Kg(MOQ)
99.95% Objetivo de Sputtering de Cromo Puro Metal Cromo Objetivos de Cátodo de Arco

99.95% Objetivo de Sputtering de Cromo Puro Metal Cromo Objetivos de Cátodo de Arco

US$ 17,00-55,00
1 Kg(MOQ)
1/4

Shanghai Tankii Alloy Material Co., Ltd.

5.0
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Alta Pureza 99.99% TANKII Metal Cromo Objetivos de Sputtering

Alta Pureza 99.99% TANKII Metal Cromo Objetivos de Sputtering

US$ 60,00-150,00
1 Pieza(MOQ)
Fabricante personalizado de bajo precio, metal de cromo puro de alta pureza, objetivo de sputtering de Cr para recubrimiento PVD

Fabricante personalizado de bajo precio, metal de cromo puro de alta pureza, objetivo de sputtering de Cr para recubrimiento PVD

US$ 60,00-150,00
1 Pieza(MOQ)
Venta directa de fábrica de objetivo de sputtering de cromo utilizado para preparar películas delgadas de galgas de deformación resistivas

Venta directa de fábrica de objetivo de sputtering de cromo utilizado para preparar películas delgadas de galgas de deformación resistivas

US$ 60,00-150,00
1 Pieza(MOQ)
Precio de fábrica Vender 99.999% Objetivo de sputtering de cromo

Precio de fábrica Vender 99.999% Objetivo de sputtering de cromo

US$ 60,00-150,00
1 Pieza(MOQ)
1/4

Zhuzhou Weilai New Materials Technology Co., Ltd.

8 años
·Fabricante/Fábrica & Empresa Comercial
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Objetivo de Sputtering Rotatorio de Metal, Objetivo de Ánodo Rotatorio de Molibdeno Rhenio Tungsteno

Objetivo de Sputtering Rotatorio de Metal, Objetivo de Ánodo Rotatorio de Molibdeno Rhenio Tungsteno

US$ 142,00-168,00
30 Piezas(MOQ)
Suministramos varios tipos de objetivos metálicos rotativos, objetivo de molibdeno para sputtering, objetivo de anodo de renio y objetivo de tungsteno para sputtering

Suministramos varios tipos de objetivos metálicos rotativos, objetivo de molibdeno para sputtering, objetivo de anodo de renio y objetivo de tungsteno para sputtering

US$ 142,00-168,00
30 Piezas(MOQ)
Objetivo de sputtering de ánodo rotatorio de molibdeno, renio y tungsteno

Objetivo de sputtering de ánodo rotatorio de molibdeno, renio y tungsteno

US$ 142,00-168,00
30 Piezas(MOQ)
Fabricante profesional de objetivo de pulverización de ánodo rotatorio, objetivo compuesto de molibdeno rhenio tungsteno para ánodo rotatorio

Fabricante profesional de objetivo de pulverización de ánodo rotatorio, objetivo compuesto de molibdeno rhenio tungsteno para ánodo rotatorio

US$ 142,00-168,00
30 Piezas(MOQ)
1/4

Sid Metal Co., Ltd

13 años
·Fabricante/Fábrica & Empresa Comercial
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Precio de fábrica 99.95% Metal Tántalo puro objetivo de sputtering Ta objetivos planos de tantalio

Precio de fábrica 99.95% Metal Tántalo puro objetivo de sputtering Ta objetivos planos de tantalio

US$ 1,00-100,00
1 Pieza(MOQ)
Zr702 Zr705 Conductividad Térmica de Tubo de Circonio Alta Pureza Objetivo de Sputtering

Zr702 Zr705 Conductividad Térmica de Tubo de Circonio Alta Pureza Objetivo de Sputtering

US$ 1,00-3.000,00
1 Pieza(MOQ)
Hoja de objetivo de zirconio Zr702 Zr705 para recubrimiento PVD disco de zirconio

Hoja de objetivo de zirconio Zr702 Zr705 para recubrimiento PVD disco de zirconio

US$ 1,00-3.000,00
1 Pieza(MOQ)
Objetivo de zirconio premium para una superior deposición de películas delgadas

Objetivo de zirconio premium para una superior deposición de películas delgadas

US$ 10,00-1.000,00
10 piece(MOQ)
1/4

Shaanxi Mingsheng Guangpu Metal Materials Co., Ltd.

3 años·5.0
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Objetivo de Sputtering de Cromo en Forma de Rectángulo con Maquinado de Agujeros para Recubrimiento Metálico de Precisión

Objetivo de Sputtering de Cromo en Forma de Rectángulo con Maquinado de Agujeros para Recubrimiento Metálico de Precisión

US$ 99,00-180,00
1 Pieza(MOQ)
Objetivos de Sputtering de Níquel de Precisión para Películas Conductivas de Instrumentos de Precisión

Objetivos de Sputtering de Níquel de Precisión para Películas Conductivas de Instrumentos de Precisión

US$ 110,00-130,00
50 kilograms(MOQ)
Objetivos de sputtering de níquel de alta pureza en forma tubular - Personalizables para células solares fotovoltaicas

Objetivos de sputtering de níquel de alta pureza en forma tubular - Personalizables para células solares fotovoltaicas

US$ 200,00-220,00
50 kilograms(MOQ)
Objetivos de Sputtering de Magnetrón de Níquel Msgp - Rendimiento Superior en las Industrias de Pantallas y LED

Objetivos de Sputtering de Magnetrón de Níquel Msgp - Rendimiento Superior en las Industrias de Pantallas y LED

US$ 130,00-160,00
50 kilograms(MOQ)
1/4

Baoji Taizehui Metal Technology Co., Ltd.

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Objetivo de Sputtering de Circonio 705 para Soluciones Metálicas Personalizadas de Alta Calidad

Objetivo de Sputtering de Circonio 705 para Soluciones Metálicas Personalizadas de Alta Calidad

Negociable
10 Kg(MOQ)
Objetivo de Sputtering de Zirconio de Alta Calidad 705 para Soluciones Personalizadas Hoy

Objetivo de Sputtering de Zirconio de Alta Calidad 705 para Soluciones Personalizadas Hoy

Negociable
10 Kg(MOQ)
Material de objetivo de pulverización para recubrimiento al vacío, objetivo curvado, proceso de alta pureza, placa de hafnio

Material de objetivo de pulverización para recubrimiento al vacío, objetivo curvado, proceso de alta pureza, placa de hafnio

Negociable
2 Kg(MOQ)
Placa de objetivo de sputtering de metal hafnio de resistencia al desgaste fuerte y multifuncional al por mayor

Placa de objetivo de sputtering de metal hafnio de resistencia al desgaste fuerte y multifuncional al por mayor

Negociable
10 Kg(MOQ)
1/4

Xiangtan Hondson Coating Technology Co., Ltd.

6 años
·Fabricante/Fábrica & Empresa Comercial
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Objetivo de magnetrón cilíndrico para recubrimiento PVD en vacío de tubos de titanio, materiales en bruto para recubrimiento, cátodos

Objetivo de magnetrón cilíndrico para recubrimiento PVD en vacío de tubos de titanio, materiales en bruto para recubrimiento, cátodos

US$ 800,00-1.500,00
1 Pieza(MOQ)
Bloque de titanio de alta pureza personalizado, material de titanio, material de recubrimiento por ionización multi-arco, objetivo metálico

Bloque de titanio de alta pureza personalizado, material de titanio, material de recubrimiento por ionización multi-arco, objetivo metálico

US$ 500,00-1.000,00
1 Pieza(MOQ)
Cátodo giratorio, objetivo de tubo cilíndrico para máquina de revestimiento

Cátodo giratorio, objetivo de tubo cilíndrico para máquina de revestimiento

US$ 6.700,00-6.800,00
2 sets(MOQ)
5-200kw Fuente de Sputtering Típica para la Industria de Recubrimiento de Películas Delgadas Cátodo de Sputter Magnetrón Rotatorio Objetivo de Sputtering Rotatorio

5-200kw Fuente de Sputtering Típica para la Industria de Recubrimiento de Películas Delgadas Cátodo de Sputter Magnetrón Rotatorio Objetivo de Sputtering Rotatorio

US$ 6.900,00-7.000,00
2 sets(MOQ)
1/4

Zhengzhou Shibo Nonferrous Metals Products Co., Ltd.

21 años·5.0
·Fabricante/Fábrica & Empresa Comercial
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Molibdeno material objetivo mejor Precio Mo Tagret

Molibdeno material objetivo mejor Precio Mo Tagret

US$ 40,00-88,00
1 kg(MOQ)
Mo1 Precio del objetivo de molibdeno para sputtering

Mo1 Precio del objetivo de molibdeno para sputtering

US$ 40,00-88,00
1 kg(MOQ)
Objetivo de molibdeno para recubrimiento por pulverización al vacío

Objetivo de molibdeno para recubrimiento por pulverización al vacío

US$ 45,00
1 kg(MOQ)
Objetivo de Sputtering de Molibdeno Pulido (99.95% puro)

Objetivo de Sputtering de Molibdeno Pulido (99.95% puro)

US$ 40,00-60,00
1 Kg(MOQ)
1/2

Ningbo Danko Vacuum Technology Co., Ltd.

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Metalización al vacío de aleación de titanio y aluminio

Metalización al vacío de aleación de titanio y aluminio

US$ 30,00-100,00
1 Pieza(MOQ)
Máquina de recubrimiento de tamaño personalizado para recubrimiento duro

Máquina de recubrimiento de tamaño personalizado para recubrimiento duro

Negociable
1 Set(MOQ)
Máquina de recubrimiento por sputtering de magnetrón

Máquina de recubrimiento por sputtering de magnetrón

US$ 55.000,00-150.000,00
1 Pieza(MOQ)
Máquina de recubrimiento PVD para todos los materiales: metal, vidrio, cerámica

Máquina de recubrimiento PVD para todos los materiales: metal, vidrio, cerámica

Negociable
1 Set(MOQ)
1/4

Dongguan Gravel Industries and Enterprise Company Limited

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Material de objetivo de pulverización de oro de alta pureza procesamiento personalizado

Material de objetivo de pulverización de oro de alta pureza procesamiento personalizado

US$ 350.000,00
1 Pieza(MOQ)
Objetivo de Níquel 99.99 Objetivo de Sputtering de Alta Pureza

Objetivo de Níquel 99.99 Objetivo de Sputtering de Alta Pureza

US$ 1.500,00
1 Pieza(MOQ)
Objetivo de Sputtering de Oro Objetivo Au

Objetivo de Sputtering de Oro Objetivo Au

US$ 1.850.000,00
1 Pieza(MOQ)
Gold Sputtering Target Laboratory Special Au Target

Gold Sputtering Target Laboratory Special Au Target

US$ 5.000,00
1 Pieza(MOQ)
1/4

Shenzhen Silver Technologies Ltd

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4n Objetivo de Sputtering de Oro de Alta Pureza

4n Objetivo de Sputtering de Oro de Alta Pureza

US$ 200,00
10 g(MOQ)
Objetivo de Sputtering de Oro Puro Premium 99.99% para Aplicaciones Avanzadas

Objetivo de Sputtering de Oro Puro Premium 99.99% para Aplicaciones Avanzadas

US$ 200,00
10 g(MOQ)
99.99% Objetivo de Sputtering de Oro de Alta Pureza, Objetivo de Au

99.99% Objetivo de Sputtering de Oro de Alta Pureza, Objetivo de Au

US$ 200,00
100 g(MOQ)
Objetivo de Oro Puro para Recubrimiento por Sputtering al Vacío

Objetivo de Oro Puro para Recubrimiento por Sputtering al Vacío

US$ 200,00
10 g(MOQ)
1/4

Xiamen HiuGong Machinery Co., Ltd.

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Objetivo de Sputtering Rotatorio 4n-5n Sial Nicr Znal Znsn Tiox Nbox

Objetivo de Sputtering Rotatorio 4n-5n Sial Nicr Znal Znsn Tiox Nbox

US$ 1.000,00
1 Pieza(MOQ)
Objetivo de Sputtering Magnetrón Zrox Si Cr Nb Cu Cr AG

Objetivo de Sputtering Magnetrón Zrox Si Cr Nb Cu Cr AG

US$ 500,00
1 Pieza(MOQ)
99.99% Objetivo de Sputtering de Óxido de Galio Objetivo Plano Ga2o3 Objetivo

99.99% Objetivo de Sputtering de Óxido de Galio Objetivo Plano Ga2o3 Objetivo

US$ 300,00
1 Pieza(MOQ)
Equipo de recubrimiento por pulverización de plasma, antiadherente, resistente al desgaste, silicio, aluminio, alúmina, circonio

Equipo de recubrimiento por pulverización de plasma, antiadherente, resistente al desgaste, silicio, aluminio, alúmina, circonio

US$ 35.000,00
1 Pieza(MOQ)
1/4

Ningbo Galaxy International Trading Co., Ltd.

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99.9% Objetivo de recubrimiento al vacío de níquel, cromo y aluminio para el proceso PVD, objetivo de cromo y tantalio

99.9% Objetivo de recubrimiento al vacío de níquel, cromo y aluminio para el proceso PVD, objetivo de cromo y tantalio

US$ 55,00
1 Pieza(MOQ)
Buena dureza venta caliente objetivo de sputtering de cromo

Buena dureza venta caliente objetivo de sputtering de cromo

US$ 30,00-50,00
5 Piezas(MOQ)
Objetivo de sputtering redondo de aluminio de titanio de alta calidad

Objetivo de sputtering redondo de aluminio de titanio de alta calidad

US$ 20,00
50 Piezas(MOQ)
Objetivo de Sputtering Redondo de Zirconio de Alta Fusión Zr702

Objetivo de Sputtering Redondo de Zirconio de Alta Fusión Zr702

US$ 15,00
1 pcs(MOQ)
1/4

Zhejiang Ruisheng New Materials Co., Ltd.

Empresa Comercial
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Objetivo de Sputtering de Tungsteno de Alta Pureza 99.95% Deposición de Películas Finas de Semiconductores Personalizable Estándar ASTM

Objetivo de Sputtering de Tungsteno de Alta Pureza 99.95% Deposición de Películas Finas de Semiconductores Personalizable Estándar ASTM

US$ 60,00-100,00
1 Kg(MOQ)
Objetivo de tungsteno rotativo premium para aplicaciones de sputtering eficientes

Objetivo de tungsteno rotativo premium para aplicaciones de sputtering eficientes

US$ 50,00-270,00
10 Kg(MOQ)
Objetivo de Molybdeno Puro Ultra Denso 99.9% 100mm Diámetro Recubrimiento de Película Delgada Opcional RoHS

Objetivo de Molybdeno Puro Ultra Denso 99.9% 100mm Diámetro Recubrimiento de Película Delgada Opcional RoHS

US$ 30,00-60,00
10 Kg(MOQ)
Crucible de molibdeno confiable para fundir y alear metales

Crucible de molibdeno confiable para fundir y alear metales

US$ 20,00-115,00
10 Kg(MOQ)
1/4

Tianjin Rui Yuan Electric Material Co., Ltd.

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Objetivos de Cobre de Ultra Pureza 99.9999% 7n5

Objetivos de Cobre de Ultra Pureza 99.9999% 7n5

US$ 26,99-53,03
1.000 kilograms(MOQ)
Fábrica china de alta pureza 6n cobre (Cu) 99.9999% objetivo de sputtering

Fábrica china de alta pureza 6n cobre (Cu) 99.9999% objetivo de sputtering

US$ 89,00-180,00
1.000 kilograms(MOQ)
99.9999% 6n Placas de respaldo de objetivos de sputtering de cobre de alta pureza

99.9999% 6n Placas de respaldo de objetivos de sputtering de cobre de alta pureza

US$ 335,00-350,00
100 Kg(MOQ)
C110/C10100/Tu00 5n Objetivo de Sputtering de Alta Pureza Cobre 99.999% para Recubrimiento Óptico

C110/C10100/Tu00 5n Objetivo de Sputtering de Alta Pureza Cobre 99.999% para Recubrimiento Óptico

US$ 79,99
50 Kg(MOQ)
1/4

LUOYANG COMBAT TUNGSTEN & MOLYBDENUM MATERIAL CO., LTD.

18 años·5.0
·Fabricante/Fábrica & Empresa Comercial
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Objetivo de Sputtering de Molybdeno de Alta Densidad de Combate 99.95%

Objetivo de Sputtering de Molybdeno de Alta Densidad de Combate 99.95%

US$ 55,00-59,00
1 Kg(MOQ)
Objetivo de Sputtering de Titanio Puro de Material de Titanio Hecho a Medida 99.6% en Venta

Objetivo de Sputtering de Titanio Puro de Material de Titanio Hecho a Medida 99.6% en Venta

US$ 35,00-40,00
5 Kg(MOQ)
Paquete de exportación estándar no concentrado de electrónica, precio puro por kg, tubo de tantalio

Paquete de exportación estándar no concentrado de electrónica, precio puro por kg, tubo de tantalio

US$ 588,95-602,26
3 Kg(MOQ)
Alta Capacitancia Resistencia a la Corrosión Estándar Embalaje de Exportación Piezas Tubo de Tántalo

Alta Capacitancia Resistencia a la Corrosión Estándar Embalaje de Exportación Piezas Tubo de Tántalo

US$ 588,95-602,26
3 Kg(MOQ)
1/4

Zhonghe Steel (Tianjin) Co., Ltd.

5 años
·Empresa Comercial
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Alta Pureza 99.6% PVD M86 Objetivo de Titanio Od 98X40mm Objetivo de Titanio

Alta Pureza 99.6% PVD M86 Objetivo de Titanio Od 98X40mm Objetivo de Titanio

US$ 10,00-25,00
1 Pieza(MOQ)
Objetivo de Sputtering de Titanio de Alta Pureza Gr1 Gr2 para PVD

Objetivo de Sputtering de Titanio de Alta Pureza Gr1 Gr2 para PVD

US$ 10,00-25,00
1 Pieza(MOQ)
Objetivo de Titanio de Alta Pureza para Máquina de Recubrimiento PVD

Objetivo de Titanio de Alta Pureza para Máquina de Recubrimiento PVD

US$ 10,00-25,00
1 Pieza(MOQ)
Precio del objetivo de sputtering de titanio PVD personalizado

Precio del objetivo de sputtering de titanio PVD personalizado

US$ 10,00-25,00
1 Pieza(MOQ)
1/4

Jiangsu Cicel Vacuum Technology Co., Ltd.

4.5
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Proveedores de objetivos de titanio para deposición por sputtering de alta pureza Fabricantes de objetivos de titanio

Proveedores de objetivos de titanio para deposición por sputtering de alta pureza Fabricantes de objetivos de titanio

US$ 100,00-300,00
1 Pieza(MOQ)
Revestimiento de Titanio Target/Gr2 Objetivo de Titanio Objetivo de Sputtering de Titanio

Revestimiento de Titanio Target/Gr2 Objetivo de Titanio Objetivo de Sputtering de Titanio

US$ 100,00-300,00
1 Pieza(MOQ)
Máquina de recubrimiento dorado por sputtering magnetrón PVD en vacío para marcos de vidrio de relojes y lámparas

Máquina de recubrimiento dorado por sputtering magnetrón PVD en vacío para marcos de vidrio de relojes y lámparas

US$ 20.000,00-55.000,00
1 Pieza(MOQ)
Objetivo de titanio de fábrica de China de buena calidad, objetivo de titanio de recubrimiento al vacío, objetivo de titanio de alta pureza

Objetivo de titanio de fábrica de China de buena calidad, objetivo de titanio de recubrimiento al vacío, objetivo de titanio de alta pureza

US$ 100,00-300,00
1 Pieza(MOQ)
1/4

Zhengzhou CY Scientific Instrument Co., Ltd.

13 años
·Fabricante/Fábrica & Empresa Comercial
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Depósito por Sputtering de Magnetrón de Doble Objetivo de CC y RF para Películas Delgadas de Metal y Óxido

Depósito por Sputtering de Magnetrón de Doble Objetivo de CC y RF para Películas Delgadas de Metal y Óxido

US$ 21.000,00-26.000,00
1 Pieza(MOQ)
Máquina de recubrimiento por pulverización de plasma de doble objetivo para película de AG Pd

Máquina de recubrimiento por pulverización de plasma de doble objetivo para película de AG Pd

US$ 3.000,00-5.000,00
1 set(MOQ)
Aparato de recubrimiento por sputtering de magnetrón de un solo objetivo de acero inoxidable de escritorio

Aparato de recubrimiento por sputtering de magnetrón de un solo objetivo de acero inoxidable de escritorio

US$ 8.730,00-8.900,00
1 Pieza(MOQ)
Revestidor de Sputtering Magnetrón Personalizado con 3 Objetivos para la Preparación de Metal

Revestidor de Sputtering Magnetrón Personalizado con 3 Objetivos para la Preparación de Metal

US$ 28.500,00-40.100,00
1 Pieza(MOQ)
1/4

Zhuzhou M & J Import and Export Co., Ltd.

4.0
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Objetivo de Sputtering de Tungsteno Cementado de Alta Calidad

Objetivo de Sputtering de Tungsteno Cementado de Alta Calidad

US$ 5,00-20,00
20 Piezas(MOQ)
Placa de tungsteno con 99.95% W

Placa de tungsteno con 99.95% W

US$ 5,00-10,00
20 Piezas(MOQ)
Proveedores de barra redonda de aleación de tungsteno puro

Proveedores de barra redonda de aleación de tungsteno puro

US$ 10,00-20,00
100 Piezas(MOQ)
1/4

Jinan Hengcheng Aluminum Co., Ltd.

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Bloques de aluminio metal para objetivo de sputtering de aluminio para investigación en laboratorio

Bloques de aluminio metal para objetivo de sputtering de aluminio para investigación en laboratorio

US$ 2.960,00
1 Tonelada(MOQ)
Objetivo de Sputtering de Aluminio Titanio Alloy/50 para Máquina de Recubrimiento PVD

Objetivo de Sputtering de Aluminio Titanio Alloy/50 para Máquina de Recubrimiento PVD

US$ 3.380,00
1 Tonelada(MOQ)
Objetivo de sputtering de aluminio y titanio, objetivo de sputtering de titanio y aluminio

Objetivo de sputtering de aluminio y titanio, objetivo de sputtering de titanio y aluminio

US$ 3.380,00
1 Tonelada(MOQ)
1/4

Inner Mongolia Pusheng Iron &Steel Co., Ltd.

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Materiales Primos Alta Pureza 99.7% Lingotes de Silicio Metálicos Objetivos de Silicio Puro Objetivos de Sputtering

Materiales Primos Alta Pureza 99.7% Lingotes de Silicio Metálicos Objetivos de Silicio Puro Objetivos de Sputtering

US$ 2.000,00-2.500,00
22 Montones(MOQ)
Silicio policristalino de alta pureza 99.999% objetivo de pulverización de polisilicio

Silicio policristalino de alta pureza 99.999% objetivo de pulverización de polisilicio

US$ 2.769,00-3.100,00
22 Montones(MOQ)
1/4

Junsion Precision Hardware Co., Ltd.

7 años
·Fabricante/Fábrica & Empresa Comercial
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Objetivo de pulverización de titanio, aluminio, cobre, cromo, níquel, tubo de magnetrón, recubrimiento PVD rotativo

Objetivo de pulverización de titanio, aluminio, cobre, cromo, níquel, tubo de magnetrón, recubrimiento PVD rotativo

US$ 0,50-10,00
10 Piezas(MOQ)
1/4

Zhengzhou Tainuo Film Materials Co., Ltd.

9 años
·Fabricante/Fábrica
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Recubridor de plasma de doble objetivo de escritorio para muestras de SEM y cromo

Recubridor de plasma de doble objetivo de escritorio para muestras de SEM y cromo

US$ 7.900,00-8.500,00
1 Pieza(MOQ)
Fuente de Sputtering Magnetrón de Alto Vacío para el Proceso de Recubrimiento PVD

Fuente de Sputtering Magnetrón de Alto Vacío para el Proceso de Recubrimiento PVD

US$ 1.800,00-2.000,00
1 set(MOQ)
Al, objetivo de sputtering de Cr para evaporación térmica y máquina de sputtering magnetrón

Al, objetivo de sputtering de Cr para evaporación térmica y máquina de sputtering magnetrón

US$ 30,00-200,00
1 Pieza(MOQ)
Recubrimiento por sputtering magnetrón de un solo objetivo con monitor de grosor de película

Recubrimiento por sputtering magnetrón de un solo objetivo con monitor de grosor de película

US$ 18.000,00-19.200,00
1 set(MOQ)
1/4
16
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