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sobre objetivo de sputtering de metal
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objetivo de sputtering de metal100+ fábricas verificadas

SUZHOU TECHNO-TEC PHOTOELECTRIC MATERIALS CO., LTD

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Objetivo de pulverización de CU/objetivo rotatorio de cobre para conductor/semiconductor recubierto de metal

Objetivo de pulverización de CU/objetivo rotatorio de cobre para conductor/semiconductor recubierto de metal

US$ 10,00-15,00
1 Kg(MOQ)
Objetivo de bismuto para sputtering de semiconductores de metal raro

Objetivo de bismuto para sputtering de semiconductores de metal raro

US$ 400,00-600,00
1 Kg(MOQ)
Esputo de metal/esputo de aleación/esputo serámico objetivo

Esputo de metal/esputo de aleación/esputo serámico objetivo

US$ 35,00
1 Kg(MOQ)
NB Target Niobium sputtering Target para revestimiento de película fina LCD/óptica

NB Target Niobium sputtering Target para revestimiento de película fina LCD/óptica

US$ 100,00-130,00
1 Kg(MOQ)
1/4

Rheniumet Ltd.

17 años
·Empresa Comercial
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Objetivo de Sputtering de Rhenio de Alta Pureza 99.99%, Objetivo Redondo de Metal Re

Objetivo de Sputtering de Rhenio de Alta Pureza 99.99%, Objetivo Redondo de Metal Re

US$ 1.000,00-4.000,00
1 Pieza(MOQ)
99.95% Objetivo de Sputtering de Metal de Tantalio de Alta Pureza para Recubrimiento de Película Fina

99.95% Objetivo de Sputtering de Metal de Tantalio de Alta Pureza para Recubrimiento de Película Fina

US$ 700,00-1.000,00
1 Pieza(MOQ)
99.99% Objetivo de Sputtering de Metal de Wolframio de Alta Pureza

99.99% Objetivo de Sputtering de Metal de Wolframio de Alta Pureza

Negociable
1 Pieza(MOQ)
99.95% Objetivo de metal precioso iridio para recubrimiento por pulverización al vacío

99.95% Objetivo de metal precioso iridio para recubrimiento por pulverización al vacío

US$ 45.000,00-80.000,00
1 Pieza(MOQ)
1/4

Beenine Shanke Technology Co., Ltd.

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Objetivo de Sputtering de Plomo Pb Metal para Máquina PVD

Objetivo de Sputtering de Plomo Pb Metal para Máquina PVD

US$ 80,00-150,00
1 Pieza(MOQ)
Objetivo de Sputtering de Metal Zinc Zn Precio Económico

Objetivo de Sputtering de Metal Zinc Zn Precio Económico

US$ 50,00-100,00
1 Pieza(MOQ)
Objetivo de Sputtering de Placa Estaño Sn Metal para Máquina PVD

Objetivo de Sputtering de Placa Estaño Sn Metal para Máquina PVD

US$ 60,00-100,00
1 Pieza(MOQ)
Objetivo de Sputtering de Metal Estaño Stannum Sn Precio Económico

Objetivo de Sputtering de Metal Estaño Stannum Sn Precio Económico

US$ 60,00-100,00
1 Pieza(MOQ)
1/4

Xiamen Tmax Battery Equipments Limited

5.0
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Marca TMAXCN Alta Pureza 99.99% Níquel Ni Blanco de Sputtering para Recubrimiento de Película Delgada de Metal

Marca TMAXCN Alta Pureza 99.99% Níquel Ni Blanco de Sputtering para Recubrimiento de Película Delgada de Metal

US$ 78,00-90,00
1 Pieza(MOQ)
Marca TMAXCN Alta Pureza 99.95% Hierro Níquel Fe-Ni Blanco de Pulverización para Recubrimiento de Película Delgada de Metal

Marca TMAXCN Alta Pureza 99.95% Hierro Níquel Fe-Ni Blanco de Pulverización para Recubrimiento de Película Delgada de Metal

US$ 78,00-90,00
1 Pieza(MOQ)
Objetivo de sputtering de magnetrón de alta pureza de hafnio/Hf de la marca TMAXCN para recubrimiento al vacío

Objetivo de sputtering de magnetrón de alta pureza de hafnio/Hf de la marca TMAXCN para recubrimiento al vacío

US$ 78,00-90,00
1 Pieza(MOQ)
Objetivo de sputtering de titanio Ti de alta pureza de la marca TMAXCN 99.995% (4N5)

Objetivo de sputtering de titanio Ti de alta pureza de la marca TMAXCN 99.995% (4N5)

US$ 78,00-90,00
1 Pieza(MOQ)
1/4

Changsha Xinkang Advanced Materials Co., Ltd.

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Material de metal de objetivo de cromo PVD, objetivo de arco de cromo para máquina de pulverización

Material de metal de objetivo de cromo PVD, objetivo de arco de cromo para máquina de pulverización

US$ 35,00
1 Pieza(MOQ)
Objetivo de Estaño 99.99% Objetivo de Metal de Estaño para Recubrimiento de Película Delgada por Sputtering Magnetrón

Objetivo de Estaño 99.99% Objetivo de Metal de Estaño para Recubrimiento de Película Delgada por Sputtering Magnetrón

US$ 35,00-800,00
1 Pieza(MOQ)
Disco objetivo de sputtering de vanadio de alta pureza

Disco objetivo de sputtering de vanadio de alta pureza

US$ 70,00-80,00
1 Pieza(MOQ)
99.99% Objetivo de Sputtering de Iridio de Metal Puro Personalizar Tamaño Disco Redondo de Iridio IR

99.99% Objetivo de Sputtering de Iridio de Metal Puro Personalizar Tamaño Disco Redondo de Iridio IR

US$ 50,00-100,00
1 Pieza(MOQ)
1/4

Lonwin Industry Group Limited

5.0
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99.99% Blanco Zn Blanco Objetivo de Sputtering Metal de Zinc para Sputtering

99.99% Blanco Zn Blanco Objetivo de Sputtering Metal de Zinc para Sputtering

US$ 17,00-55,00
1 Kg(MOQ)
99.95% Blanco de Sputtering de Cobalto Puro Metal Blanco de Cobalto

99.95% Blanco de Sputtering de Cobalto Puro Metal Blanco de Cobalto

US$ 17,00-55,00
1 Kg(MOQ)
99.9% Ni Níquel Material de Blanco de Sputtering de Metal Magnetrón Ni Níquel Objetivos de Sputtering Rotativos

99.9% Ni Níquel Material de Blanco de Sputtering de Metal Magnetrón Ni Níquel Objetivos de Sputtering Rotativos

US$ 17,00-55,00
1 Kg(MOQ)
99.95% Blanco de Sputtering de Aleación de Metal Znsn Zinc Estaño

99.95% Blanco de Sputtering de Aleación de Metal Znsn Zinc Estaño

US$ 17,00-55,00
1 Kg(MOQ)
1/4

Shanghai Tankii Alloy Material Co., Ltd.

5.0
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Alta Pureza 99.99% TANKII Metal Cromo Objetivos de Sputtering

Alta Pureza 99.99% TANKII Metal Cromo Objetivos de Sputtering

US$ 60,00-150,00
1 Pieza(MOQ)
Fabricante personalizado de bajo precio, metal de cromo puro de alta pureza, objetivo de sputtering de Cr para recubrimiento PVD

Fabricante personalizado de bajo precio, metal de cromo puro de alta pureza, objetivo de sputtering de Cr para recubrimiento PVD

US$ 60,00-150,00
1 Pieza(MOQ)
Tipo de recubrimiento PVD más popular, uso de objetivo de sputtering de cromo tipo placa

Tipo de recubrimiento PVD más popular, uso de objetivo de sputtering de cromo tipo placa

US$ 60,00-150,00
1 Pieza(MOQ)
Precio de fábrica Vender 99.999% Objetivo de sputtering de cromo

Precio de fábrica Vender 99.999% Objetivo de sputtering de cromo

US$ 60,00-150,00
1 Pieza(MOQ)
1/4

Zhuzhou Weilai New Materials Technology Co., Ltd.

8 años
·Fabricante/Fábrica & Empresa Comercial
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Suministramos varios tipos de objetivos metálicos rotativos, objetivo de molibdeno para sputtering, objetivo de anodo de renio y objetivo de tungsteno para sputtering

Suministramos varios tipos de objetivos metálicos rotativos, objetivo de molibdeno para sputtering, objetivo de anodo de renio y objetivo de tungsteno para sputtering

US$ 142,00-168,00
30 Piezas(MOQ)
Objetivo de Sputtering Rotatorio de Metal, Objetivo de Ánodo Rotatorio de Molibdeno Rhenio Tungsteno

Objetivo de Sputtering Rotatorio de Metal, Objetivo de Ánodo Rotatorio de Molibdeno Rhenio Tungsteno

US$ 142,00-168,00
30 Piezas(MOQ)
Fabricante profesional de blanco o arenado CT rotativo Mo objetivo de sputtering

Fabricante profesional de blanco o arenado CT rotativo Mo objetivo de sputtering

US$ 142,00-168,00
30 Piezas(MOQ)
Arenado, objetivo de molibdeno rutenio tungsteno negro para inserciones de tubo de rayos X

Arenado, objetivo de molibdeno rutenio tungsteno negro para inserciones de tubo de rayos X

US$ 142,00-168,00
30 Piezas(MOQ)
1/4

Sid Metal Co., Ltd

13 años
·Fabricante/Fábrica & Empresa Comercial
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Precio de fábrica 99.95% Metal Tántalo puro objetivo de sputtering Ta objetivos planos de tantalio

Precio de fábrica 99.95% Metal Tántalo puro objetivo de sputtering Ta objetivos planos de tantalio

US$ 1,00-100,00
1 Pieza(MOQ)
Zr702 Zr705 Conductividad Térmica de Tubo de Circonio Alta Pureza Objetivo de Sputtering

Zr702 Zr705 Conductividad Térmica de Tubo de Circonio Alta Pureza Objetivo de Sputtering

US$ 1,00-3.000,00
1 Pieza(MOQ)
Objetivo de Sputtering de Titanio Ti / Objetivo Rotatorio de Titanio para Semiconductores / Sputtering de Recubrimiento al Vacío

Objetivo de Sputtering de Titanio Ti / Objetivo Rotatorio de Titanio para Semiconductores / Sputtering de Recubrimiento al Vacío

US$ 1,00-100,00
1 Pieza(MOQ)
Hoja de objetivo de zirconio Zr702 Zr705 para recubrimiento PVD disco de zirconio

Hoja de objetivo de zirconio Zr702 Zr705 para recubrimiento PVD disco de zirconio

US$ 1,00-3.000,00
1 Pieza(MOQ)
1/4

Shaanxi Mingsheng Guangpu Metal Materials Co., Ltd.

3 años·5.0
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Objetivo de Sputtering de Cromo en Forma de Rectángulo con Maquinado de Agujeros para Recubrimiento Metálico de Precisión

Objetivo de Sputtering de Cromo en Forma de Rectángulo con Maquinado de Agujeros para Recubrimiento Metálico de Precisión

US$ 99,00-180,00
1 Pieza(MOQ)
Objetivo de Sputtering de Cromo para Electrónica de Precisión y Moldes

Objetivo de Sputtering de Cromo para Electrónica de Precisión y Moldes

US$ 90,00-110,00
2 Piezas(MOQ)
Objetivo de aluminio y circonio CIP versátil con composición de cromo

Objetivo de aluminio y circonio CIP versátil con composición de cromo

US$ 85,00-95,00
1 Pieza(MOQ)
Objetivos de sputtering de níquel resistente al desgaste para recubrimiento de sensores electrónicos automotrices

Objetivos de sputtering de níquel resistente al desgaste para recubrimiento de sensores electrónicos automotrices

US$ 120,00-140,00
50 kilograms(MOQ)
1/4

Xiangtan Hondson Coating Technology Co., Ltd.

6 años
·Fabricante/Fábrica & Empresa Comercial
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Objetivo de magnetrón cilíndrico para recubrimiento PVD en vacío de tubos de titanio, materiales en bruto para recubrimiento, cátodos

Objetivo de magnetrón cilíndrico para recubrimiento PVD en vacío de tubos de titanio, materiales en bruto para recubrimiento, cátodos

US$ 800,00-1.500,00
1 Pieza(MOQ)
Bloque de titanio de alta pureza personalizado, material de titanio, material de recubrimiento por ionización multi-arco, objetivo metálico

Bloque de titanio de alta pureza personalizado, material de titanio, material de recubrimiento por ionización multi-arco, objetivo metálico

US$ 500,00-1.000,00
1 Pieza(MOQ)
Cátodo giratorio, objetivo de tubo cilíndrico para máquina de revestimiento

Cátodo giratorio, objetivo de tubo cilíndrico para máquina de revestimiento

US$ 6.700,00-6.800,00
2 sets(MOQ)
5-200kw Fuente de Sputtering Típica para la Industria de Recubrimiento de Películas Delgadas Cátodo de Sputter Magnetrón Rotatorio Objetivo de Sputtering Rotatorio

5-200kw Fuente de Sputtering Típica para la Industria de Recubrimiento de Películas Delgadas Cátodo de Sputter Magnetrón Rotatorio Objetivo de Sputtering Rotatorio

US$ 6.900,00-7.000,00
2 sets(MOQ)
1/4

Baoji Taizehui Metal Technology Co., Ltd.

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Objetivo de Sputtering de Circonio 705 para Soluciones Metálicas Personalizadas de Alta Calidad

Objetivo de Sputtering de Circonio 705 para Soluciones Metálicas Personalizadas de Alta Calidad

Negociable
10 Kg(MOQ)
Objetivo de Sputtering de Zirconio de Alta Calidad 705 para Soluciones Personalizadas Hoy

Objetivo de Sputtering de Zirconio de Alta Calidad 705 para Soluciones Personalizadas Hoy

Negociable
10 Kg(MOQ)
Material de objetivo de pulverización para recubrimiento al vacío, objetivo curvado, proceso de alta pureza, placa de hafnio

Material de objetivo de pulverización para recubrimiento al vacío, objetivo curvado, proceso de alta pureza, placa de hafnio

Negociable
2 Kg(MOQ)
Placa de objetivo de sputtering de metal hafnio de resistencia al desgaste fuerte y multifuncional al por mayor

Placa de objetivo de sputtering de metal hafnio de resistencia al desgaste fuerte y multifuncional al por mayor

Negociable
10 Kg(MOQ)
1/4

Luoyang Modi Tungsten & Molybdenum Material Co., Ltd.

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99.95% Molybdenum Round Metal Sputtering Target

99.95% Molybdenum Round Metal Sputtering Target

US$ 57,00-72,00
1 Kg(MOQ)
High Pure 99.95% Molybdenum/Mo Sputtering Target Price

High Pure 99.95% Molybdenum/Mo Sputtering Target Price

US$ 57,00-72,00
1 Kg(MOQ)
99.9% Molybdenum-Alloy Sheet Molybdenum Sputtering Target

99.9% Molybdenum-Alloy Sheet Molybdenum Sputtering Target

US$ 57,00-72,00
1 Kg(MOQ)
Tubo de molibdeno mecanizado, tubería de molibdeno

Tubo de molibdeno mecanizado, tubería de molibdeno

US$ 57,00-72,00
1 Kg(MOQ)
1/4

Ningbo Danko Vacuum Technology Co., Ltd.

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Metalización al vacío de aleación de titanio y aluminio

Metalización al vacío de aleación de titanio y aluminio

US$ 30,00-100,00
1 Pieza(MOQ)
La máquina de pulverización catódica por magnetrón puede tratar con colores oscuros

La máquina de pulverización catódica por magnetrón puede tratar con colores oscuros

US$ 15.000,00-150.000,00
1 Pieza(MOQ)
Sistema de Sputtering Magnetrón de Media Frecuencia para Recubrimiento al Vacío PVD

Sistema de Sputtering Magnetrón de Media Frecuencia para Recubrimiento al Vacío PVD

US$ 15.000,00-150.000,00
1 Pieza(MOQ)
Máquina de recubrimiento PVD por arco y chispa para piezas de acero inoxidable

Máquina de recubrimiento PVD por arco y chispa para piezas de acero inoxidable

US$ 15.000,00-85.000,00
1 Pieza(MOQ)
1/4

Dongguan Gravel Industries and Enterprise Company Limited

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Material de objetivo de pulverización de oro de alta pureza procesamiento personalizado

Material de objetivo de pulverización de oro de alta pureza procesamiento personalizado

US$ 350.000,00
1 Pieza(MOQ)
Objetivo de Sputtering de Oro Objetivo Au

Objetivo de Sputtering de Oro Objetivo Au

US$ 1.850.000,00
1 Pieza(MOQ)
Objetivo de níquel de sputtering magnetrón de alta pureza

Objetivo de níquel de sputtering magnetrón de alta pureza

US$ 800,00
1 Pieza(MOQ)
Laboratorio de Objetivos de Sputtering de Oro Objetivo Especial de Au

Laboratorio de Objetivos de Sputtering de Oro Objetivo Especial de Au

US$ 5.000,00
1 Pieza(MOQ)
1/4

Shenzhen Silver Technologies Ltd

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Objetivo de Sputtering de Oro Puro Premium 99.99% para Aplicaciones Avanzadas

Objetivo de Sputtering de Oro Puro Premium 99.99% para Aplicaciones Avanzadas

US$ 200,00
10 g(MOQ)
Ventas Directas de Fábrica de 99.99% - 99.999% Material de Objetivo de Sputtering de Oro

Ventas Directas de Fábrica de 99.99% - 99.999% Material de Objetivo de Sputtering de Oro

US$ 200,00
100 g(MOQ)
4n Objetivo de Sputtering de Oro de Alta Pureza

4n Objetivo de Sputtering de Oro de Alta Pureza

US$ 200,00
10 g(MOQ)
Objetivo de Oro Puro para Recubrimiento por Sputtering al Vacío

Objetivo de Oro Puro para Recubrimiento por Sputtering al Vacío

US$ 200,00
10 g(MOQ)
1/4

Zhengzhou Shibo Nonferrous Metals Products Co., Ltd.

21 años·5.0
·Fabricante/Fábrica & Empresa Comercial
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Objetivo de Sputtering de Molibdeno Pulido (99.95% puro)

Objetivo de Sputtering de Molibdeno Pulido (99.95% puro)

US$ 40,00-60,00
1 Kg(MOQ)
Mo1 Precio del objetivo de molibdeno para sputtering

Mo1 Precio del objetivo de molibdeno para sputtering

US$ 40,00-88,00
1 kg(MOQ)
Placa de molibdeno de alta calidad

Placa de molibdeno de alta calidad

US$ 40,00-88,00
1 kg(MOQ)
Molibdeno material objetivo mejor Precio Mo Tagret

Molibdeno material objetivo mejor Precio Mo Tagret

US$ 40,00-88,00
1 kg(MOQ)
1/2

Xiamen HiuGong Machinery Co., Ltd.

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Objetivo de Sputtering Magnetrón Zrox Si Cr Nb Cu Cr AG

Objetivo de Sputtering Magnetrón Zrox Si Cr Nb Cu Cr AG

US$ 500,00
1 Pieza(MOQ)
99.99% Objetivo de Sputtering de Óxido de Galio Objetivo Plano Ga2o3 Objetivo

99.99% Objetivo de Sputtering de Óxido de Galio Objetivo Plano Ga2o3 Objetivo

US$ 300,00
1 Pieza(MOQ)
Objetivo de Sputtering Rotatorio 4n-5n Sial Nicr Znal Znsn Tiox Nbox

Objetivo de Sputtering Rotatorio 4n-5n Sial Nicr Znal Znsn Tiox Nbox

US$ 1.000,00
1 Pieza(MOQ)
Equipo de recubrimiento por pulverización de plasma, antiadherente, resistente al desgaste, silicio, aluminio, alúmina, circonio

Equipo de recubrimiento por pulverización de plasma, antiadherente, resistente al desgaste, silicio, aluminio, alúmina, circonio

US$ 35.000,00
1 Pieza(MOQ)
1/4

Ningbo Galaxy International Trading Co., Ltd.

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99.9% Objetivo de recubrimiento al vacío de níquel, cromo y aluminio para el proceso PVD, objetivo de cromo y tantalio

99.9% Objetivo de recubrimiento al vacío de níquel, cromo y aluminio para el proceso PVD, objetivo de cromo y tantalio

US$ 55,00
1 Pieza(MOQ)
Buena dureza venta caliente objetivo de sputtering de cromo

Buena dureza venta caliente objetivo de sputtering de cromo

US$ 30,00-50,00
5 Piezas(MOQ)
Objetivo redondo de zirconio gris claro resistente al calor para máquina CNC

Objetivo redondo de zirconio gris claro resistente al calor para máquina CNC

US$ 6,00
5 Piezas(MOQ)
Objetivo redondo de níquel preventivo de corrosión de alta calidad

Objetivo redondo de níquel preventivo de corrosión de alta calidad

US$ 10,00
5 Piezas(MOQ)
1/4

Zhejiang Ruisheng New Materials Co., Ltd.

Empresa Comercial
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Objetivo de Sputtering de Tungsteno de Alta Pureza 99.95% Deposición de Películas Finas de Semiconductores Personalizable Estándar ASTM

Objetivo de Sputtering de Tungsteno de Alta Pureza 99.95% Deposición de Películas Finas de Semiconductores Personalizable Estándar ASTM

US$ 60,00-100,00
1 Kg(MOQ)
Objetivo de tungsteno rotativo premium para aplicaciones de sputtering eficientes

Objetivo de tungsteno rotativo premium para aplicaciones de sputtering eficientes

US$ 50,00-270,00
10 Kg(MOQ)
Objetivo de Molybdeno Puro Ultra Denso 99.9% 100mm Diámetro Recubrimiento de Película Delgada Opcional RoHS

Objetivo de Molybdeno Puro Ultra Denso 99.9% 100mm Diámetro Recubrimiento de Película Delgada Opcional RoHS

US$ 30,00-60,00
10 Kg(MOQ)
Objetivo de sputtering de molibdeno personalizable con alta densidad para aplicaciones de recubrimiento de semiconductores y vidrio

Objetivo de sputtering de molibdeno personalizable con alta densidad para aplicaciones de recubrimiento de semiconductores y vidrio

US$ 30,00-80,00
10 Kg(MOQ)
1/4

LUOYANG COMBAT TUNGSTEN & MOLYBDENUM MATERIAL CO., LTD.

18 años·5.0
·Fabricante/Fábrica & Empresa Comercial
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Objetivo de Sputtering de Molybdeno de Alta Densidad de Combate 99.95%

Objetivo de Sputtering de Molybdeno de Alta Densidad de Combate 99.95%

US$ 55,00-59,00
1 Kg(MOQ)
Objetivo de Sputtering de Titanio Puro de Material de Titanio Hecho a Medida 99.6% en Venta

Objetivo de Sputtering de Titanio Puro de Material de Titanio Hecho a Medida 99.6% en Venta

US$ 35,00-40,00
5 Kg(MOQ)
Empaque estándar de exportación puro para electrónica de alto punto de fusión a la venta tantalio

Empaque estándar de exportación puro para electrónica de alto punto de fusión a la venta tantalio

US$ 588,95-602,26
3 Kg(MOQ)
Comportamiento Eléctrico Estable de Combate Estándar de Embalaje de Exportación 99.95% Puro Ta1 Disco Tantalio

Comportamiento Eléctrico Estable de Combate Estándar de Embalaje de Exportación 99.95% Puro Ta1 Disco Tantalio

US$ 588,95-602,26
3 Kg(MOQ)
1/4

Zhonghe Steel (Tianjin) Co., Ltd.

5 años
·Empresa Comercial
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Alta Pureza 99.6% PVD M86 Objetivo de Titanio Od 98X40mm Objetivo de Titanio

Alta Pureza 99.6% PVD M86 Objetivo de Titanio Od 98X40mm Objetivo de Titanio

US$ 10,00-25,00
1 Pieza(MOQ)
Objetivo de Sputtering de Titanio de Alta Pureza Gr1 Gr2 para PVD

Objetivo de Sputtering de Titanio de Alta Pureza Gr1 Gr2 para PVD

US$ 10,00-25,00
1 Pieza(MOQ)
Personalización de objetivo de sputtering de titanio para necesidades de recubrimiento especializadas

Personalización de objetivo de sputtering de titanio para necesidades de recubrimiento especializadas

US$ 10,00-25,00
1 Pieza(MOQ)
Precio del objetivo de sputtering de titanio PVD personalizado

Precio del objetivo de sputtering de titanio PVD personalizado

US$ 10,00-25,00
1 Pieza(MOQ)
1/4

Jiangsu Cicel Vacuum Technology Co., Ltd.

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Revestimiento de Titanio Target/Gr2 Objetivo de Titanio Objetivo de Sputtering de Titanio

Revestimiento de Titanio Target/Gr2 Objetivo de Titanio Objetivo de Sputtering de Titanio

US$ 100,00-300,00
1 Pieza(MOQ)
Proveedores de objetivos de titanio para deposición por sputtering de alta pureza Fabricantes de objetivos de titanio

Proveedores de objetivos de titanio para deposición por sputtering de alta pureza Fabricantes de objetivos de titanio

US$ 100,00-300,00
1 Pieza(MOQ)
Máquina de recubrimiento al vacío Multi-Arc PVD Cicel con sistema de sputtering magnetrón para negro oscuro

Máquina de recubrimiento al vacío Multi-Arc PVD Cicel con sistema de sputtering magnetrón para negro oscuro

US$ 20.000,00-55.000,00
1 Pieza(MOQ)
Objetivo de titanio de fábrica de China de buena calidad, objetivo de titanio de recubrimiento al vacío, objetivo de titanio de alta pureza

Objetivo de titanio de fábrica de China de buena calidad, objetivo de titanio de recubrimiento al vacío, objetivo de titanio de alta pureza

US$ 100,00-300,00
1 Pieza(MOQ)
1/4

Zhengzhou CY Scientific Instrument Co., Ltd.

13 años
·Fabricante/Fábrica & Empresa Comercial
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Depósito por Sputtering de Magnetrón de Doble Objetivo de CC y RF para Películas Delgadas de Metal y Óxido

Depósito por Sputtering de Magnetrón de Doble Objetivo de CC y RF para Películas Delgadas de Metal y Óxido

US$ 21.000,00-26.000,00
1 Pieza(MOQ)
Máquina de recubrimiento por pulverización de plasma de doble objetivo para película de AG Pd

Máquina de recubrimiento por pulverización de plasma de doble objetivo para película de AG Pd

US$ 3.000,00-5.000,00
1 set(MOQ)
Aparato de recubrimiento por sputtering de magnetrón de un solo objetivo de acero inoxidable de escritorio

Aparato de recubrimiento por sputtering de magnetrón de un solo objetivo de acero inoxidable de escritorio

US$ 8.730,00-8.900,00
1 Pieza(MOQ)
Máquina de recubrimiento magnetrón de un solo objetivo altamente integrada para recubrimiento por sputtering de metal

Máquina de recubrimiento magnetrón de un solo objetivo altamente integrada para recubrimiento por sputtering de metal

US$ 8.500,00-11.200,00
1 Pieza(MOQ)
1/4

Zhuzhou M & J Import and Export Co., Ltd.

4.0
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Objetivo de Sputtering de Tungsteno Cementado de Alta Calidad

Objetivo de Sputtering de Tungsteno Cementado de Alta Calidad

US$ 5,00-20,00
20 Piezas(MOQ)
Proveedores de barra redonda de aleación de tungsteno puro

Proveedores de barra redonda de aleación de tungsteno puro

US$ 10,00-20,00
100 Piezas(MOQ)
Placa de tungsteno con 99.95% W

Placa de tungsteno con 99.95% W

US$ 5,00-10,00
20 Piezas(MOQ)
1/4

Jinan Hengcheng Aluminum Co., Ltd.

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Bloques de aluminio metal para objetivo de sputtering de aluminio para investigación en laboratorio

Bloques de aluminio metal para objetivo de sputtering de aluminio para investigación en laboratorio

US$ 2.960,00
1 Tonelada(MOQ)
Objetivo de Sputtering de Aluminio Titanio Alloy/50 para Máquina de Recubrimiento PVD

Objetivo de Sputtering de Aluminio Titanio Alloy/50 para Máquina de Recubrimiento PVD

US$ 3.380,00
1 Tonelada(MOQ)
Objetivo de sputtering de aluminio y titanio, objetivo de sputtering de titanio y aluminio

Objetivo de sputtering de aluminio y titanio, objetivo de sputtering de titanio y aluminio

US$ 3.380,00
1 Tonelada(MOQ)
1/4

Inner Mongolia Pusheng Iron &Steel Co., Ltd.

5.0
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Materiales Primos Alta Pureza 99.7% Lingotes de Silicio Metálicos Objetivos de Silicio Puro Objetivos de Sputtering

Materiales Primos Alta Pureza 99.7% Lingotes de Silicio Metálicos Objetivos de Silicio Puro Objetivos de Sputtering

US$ 2.000,00-2.500,00
22 Montones(MOQ)
Silicio policristalino de alta pureza 99.999% objetivo de pulverización de polisilicio

Silicio policristalino de alta pureza 99.999% objetivo de pulverización de polisilicio

US$ 2.769,00-3.100,00
22 Montones(MOQ)
1/4

Junsion Precision Hardware Co., Ltd.

7 años
·Fabricante/Fábrica & Empresa Comercial
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Objetivo de pulverización de titanio, aluminio, cobre, cromo, níquel, tubo de magnetrón, recubrimiento PVD rotativo

Objetivo de pulverización de titanio, aluminio, cobre, cromo, níquel, tubo de magnetrón, recubrimiento PVD rotativo

US$ 0,50-10,00
10 Piezas(MOQ)
1/4

Zhengzhou Tainuo Film Materials Co., Ltd.

9 años
·Fabricante/Fábrica
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Recubridor de plasma de doble objetivo de escritorio para muestras de SEM y cromo

Recubridor de plasma de doble objetivo de escritorio para muestras de SEM y cromo

US$ 7.900,00-8.500,00
1 Pieza(MOQ)
Al, objetivo de sputtering de Cr para evaporación térmica y máquina de sputtering magnetrón

Al, objetivo de sputtering de Cr para evaporación térmica y máquina de sputtering magnetrón

US$ 30,00-200,00
1 Pieza(MOQ)
Fuente de Sputtering Magnetrón de Alto Vacío para el Proceso de Recubrimiento PVD

Fuente de Sputtering Magnetrón de Alto Vacío para el Proceso de Recubrimiento PVD

US$ 1.800,00-2.000,00
1 set(MOQ)
Máquina de recubrimiento por pulverización catódica magnetrón PVD con objetivo de triple pulverización y alimentación de corriente continua

Máquina de recubrimiento por pulverización catódica magnetrón PVD con objetivo de triple pulverización y alimentación de corriente continua

US$ 38.000,00-39.500,00
1 set(MOQ)
1/4

Luoyang Bless Tungsten & Molybdenum Materials Co., Ltd.

12 años
·Empresa Comercial
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Material de alta pureza ultra molibdeno objetivos de pulverización

Material de alta pureza ultra molibdeno objetivos de pulverización

US$ 20,00-86,00
1 Pieza(MOQ)
Doblado y Pliegue de Objetivos de Sputtering de Molibdeno

Doblado y Pliegue de Objetivos de Sputtering de Molibdeno

US$ 40,00-43,00
1 Kg(MOQ)
Objetivos de sputtering de molibdeno para ensamblaje complejo

Objetivos de sputtering de molibdeno para ensamblaje complejo

US$ 40,00-43,00
1 Kg(MOQ)
Crisol de molibdeno según el dibujo de aduanas

Crisol de molibdeno según el dibujo de aduanas

US$ 65,00-68,00
1 Kg(MOQ)
1/1
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