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sobre objetivo de sputtering pvd
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objetivo de sputtering pvd70+ fábricas verificadas

Changsha Xinkang Advanced Materials Co., Ltd.

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99.95% Objetivo de Sputtering de Cromo Puro, Objetivo de Cromo de Alta Pureza para Recubrimiento PVD

99.95% Objetivo de Sputtering de Cromo Puro, Objetivo de Cromo de Alta Pureza para Recubrimiento PVD

US$ 30,00-1.000,00
1 Pieza(MOQ)
Objetivo de Tungsteno PVD 3n5 Objetivo de Sputtering de Tungsteno para Deposición de Películas Delgadas

Objetivo de Tungsteno PVD 3n5 Objetivo de Sputtering de Tungsteno para Deposición de Películas Delgadas

Negociable
1 Pieza(MOQ)
99.9% Puro Y3fe5o12 Objetivo de Sputtering para Recubrimiento PVD

99.9% Puro Y3fe5o12 Objetivo de Sputtering para Recubrimiento PVD

US$ 150,00-1.000,00
1 Pieza(MOQ)
Wo3 Objetivo de Sputtering para Recubrimiento PVD

Wo3 Objetivo de Sputtering para Recubrimiento PVD

US$ 150,00-999,00
1 Pieza(MOQ)
1/4

Sid Metal Co., Ltd

13 años
·Fabricante/Fábrica & Empresa Comercial
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Hoja de objetivo de zirconio Zr702 Zr705 para recubrimiento PVD disco de zirconio

Hoja de objetivo de zirconio Zr702 Zr705 para recubrimiento PVD disco de zirconio

US$ 1,00-3.000,00
1 Pieza(MOQ)
Hoja de objetivo de sputtering de zirconio de alta calidad Zr702 Zr705 para recubrimiento PVD disco de zirconio

Hoja de objetivo de sputtering de zirconio de alta calidad Zr702 Zr705 para recubrimiento PVD disco de zirconio

US$ 1,00-3.000,00
1 Pieza(MOQ)
Objetivo de hoja de sputtering de circonio Zr702 Zr705 para recubrimiento PVD disco de circonio

Objetivo de hoja de sputtering de circonio Zr702 Zr705 para recubrimiento PVD disco de circonio

US$ 1,00-3.000,00
1 Pieza(MOQ)
Precio de fábrica 99.95% Metal Tántalo puro objetivo de sputtering Ta objetivos planos de tantalio

Precio de fábrica 99.95% Metal Tántalo puro objetivo de sputtering Ta objetivos planos de tantalio

US$ 1,00-100,00
1 Pieza(MOQ)
1/4

Beenine Shanke Technology Co., Ltd.

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Objetivo de Sputtering Tubular Planar de Aleación de Tial para Recubrimiento PVD a Precio Competitivo

Objetivo de Sputtering Tubular Planar de Aleación de Tial para Recubrimiento PVD a Precio Competitivo

US$ 80,00-500,00
1 Pieza(MOQ)
99.99% Pureza 4n Objetivo de Sputtering de Aleación de Cobre Níquel Cu Ni Recubrimiento PVD

99.99% Pureza 4n Objetivo de Sputtering de Aleación de Cobre Níquel Cu Ni Recubrimiento PVD

US$ 300,00-1.000,00
1 Pieza(MOQ)
Objetivo de sputtering tubular plano de cromo Cr para recubrimiento PVD a precio competitivo

Objetivo de sputtering tubular plano de cromo Cr para recubrimiento PVD a precio competitivo

US$ 50,00-300,00
1 Pieza(MOQ)
Objetivo de Sputtering de Placa Estaño Sn Metal para Máquina PVD

Objetivo de Sputtering de Placa Estaño Sn Metal para Máquina PVD

US$ 60,00-100,00
1 Pieza(MOQ)
1/4

Zhonghe Steel (Tianjin) Co., Ltd.

5 años
·Empresa Comercial
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Objetivo de Sputtering de Titanio de Alta Pureza Gr1 Gr2 para PVD

Objetivo de Sputtering de Titanio de Alta Pureza Gr1 Gr2 para PVD

US$ 10,00-25,00
1 Pieza(MOQ)
Precio del objetivo de sputtering de titanio PVD personalizado

Precio del objetivo de sputtering de titanio PVD personalizado

US$ 10,00-25,00
1 Pieza(MOQ)
Objetivos de PVD de aleación de aluminio y titanio, objetivos de sputtering de titanio, objetivo de aleación de Tial para recubrimiento

Objetivos de PVD de aleación de aluminio y titanio, objetivos de sputtering de titanio, objetivo de aleación de Tial para recubrimiento

US$ 10,00-25,00
1 Pieza(MOQ)
Objetivo de Titanio de Alta Pureza para Máquina de Recubrimiento PVD

Objetivo de Titanio de Alta Pureza para Máquina de Recubrimiento PVD

US$ 10,00-25,00
1 Pieza(MOQ)
1/4

Xiamen Tmax Battery Equipments Limited

5.0
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Marca TMAXCN Alta Pureza 99.95% Cromo Cromo/Cr Objetivo de Sputtering Magnetrón PVD para Recubrimiento al Vacío

Marca TMAXCN Alta Pureza 99.95% Cromo Cromo/Cr Objetivo de Sputtering Magnetrón PVD para Recubrimiento al Vacío

US$ 78,00-90,00
1 Pieza(MOQ)
Marca TMAXCN 3n/4n/4n5 Materiales de recubrimiento PVD Wti Aleación de tungsteno y titanio Objetivo de sputtering

Marca TMAXCN 3n/4n/4n5 Materiales de recubrimiento PVD Wti Aleación de tungsteno y titanio Objetivo de sputtering

US$ 78,00-90,00
1 Pieza(MOQ)
Marca TMAXCN Alta Pureza 3n5 Blanco de Cromo/Cr Objetivo de Sputtering para Recubrimiento PVD

Marca TMAXCN Alta Pureza 3n5 Blanco de Cromo/Cr Objetivo de Sputtering para Recubrimiento PVD

US$ 78,00-90,00
1 Pieza(MOQ)
Objetivo de sputtering de magnetrón de alta pureza de hafnio/Hf de la marca TMAXCN para recubrimiento al vacío

Objetivo de sputtering de magnetrón de alta pureza de hafnio/Hf de la marca TMAXCN para recubrimiento al vacío

US$ 78,00-90,00
1 Pieza(MOQ)
1/4

Lonwin Industry Group Limited

5.0
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99.95% Disco de Niobio Puro Nb Objetivos de Sputtering de Niobio para Proceso PVD

99.95% Disco de Niobio Puro Nb Objetivos de Sputtering de Niobio para Proceso PVD

US$ 17,00-55,00
1 Kg(MOQ)
99.99% Blanco de aleación de níquel y cobre Nicu para recubrimiento PVD

99.99% Blanco de aleación de níquel y cobre Nicu para recubrimiento PVD

US$ 17,00-55,00
1 Kg(MOQ)
Objetivo de Sputtering de Hf Hafnio de Alta Pureza 99.95% para Recubrimiento PVD

Objetivo de Sputtering de Hf Hafnio de Alta Pureza 99.95% para Recubrimiento PVD

US$ 17,00-55,00
1 Kg(MOQ)
99.95% Objetivos de cerámica Azo dopados con aluminio óxido de zinc para recubrimiento PVD

99.95% Objetivos de cerámica Azo dopados con aluminio óxido de zinc para recubrimiento PVD

US$ 17,00-55,00
1 Kg(MOQ)
1/4

SUZHOU TECHNO-TEC PHOTOELECTRIC MATERIALS CO., LTD

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MN Target espumante de manganeso Target para revestimiento de película fina óptica/PVD Revestimiento de película

MN Target espumante de manganeso Target para revestimiento de película fina óptica/PVD Revestimiento de película

US$ 500,00
1 Kg(MOQ)
Objetivo cerámico de pulverización de estaño para película óptica fina revestimiento/PVD Revestimiento

Objetivo cerámico de pulverización de estaño para película óptica fina revestimiento/PVD Revestimiento

US$ 25,00-100,00
1 Kg(MOQ)
SiO2 Objetivo Cerámico de Sputtering Óxido de Silicio Objetivo Cerámico de Sputtering para Recubrimiento de Película PVD

SiO2 Objetivo Cerámico de Sputtering Óxido de Silicio Objetivo Cerámico de Sputtering para Recubrimiento de Película PVD

US$ 25,00-100,00
1 Kg(MOQ)
Esputo de metal/esputo de aleación/esputo serámico objetivo

Esputo de metal/esputo de aleación/esputo serámico objetivo

US$ 35,00
1 Kg(MOQ)
1/4

Rheniumet Ltd.

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Objetivo de rutenio de alta pureza en forma cuadrada para recubrimiento PVD, suministro de fabricante en China

Objetivo de rutenio de alta pureza en forma cuadrada para recubrimiento PVD, suministro de fabricante en China

US$ 2.000,00-30.000,00
1 Pieza(MOQ)
Objetivo de Ru de alta pureza para pulverización para recubrimiento PVD suministro de fabricante en China

Objetivo de Ru de alta pureza para pulverización para recubrimiento PVD suministro de fabricante en China

US$ 700,00
1 Pieza(MOQ)
Objetivo de aleación de tungsteno y renio para deposición física de vapor

Objetivo de aleación de tungsteno y renio para deposición física de vapor

US$ 2.000,00-3.000,00
1 kilograms(MOQ)
Objetivo de Sputtering de Rhenio de Alta Pureza 99.99%, Objetivo Redondo de Metal Re

Objetivo de Sputtering de Rhenio de Alta Pureza 99.99%, Objetivo Redondo de Metal Re

US$ 1.000,00-4.000,00
1 Pieza(MOQ)
1/4

Shanghai Tankii Alloy Material Co., Ltd.

5.0
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Tipo de recubrimiento PVD más popular, uso de objetivo de sputtering de cromo tipo placa

Tipo de recubrimiento PVD más popular, uso de objetivo de sputtering de cromo tipo placa

US$ 60,00-150,00
1 Pieza(MOQ)
Fabricante personalizado de bajo precio, metal de cromo puro de alta pureza, objetivo de sputtering de Cr para recubrimiento PVD

Fabricante personalizado de bajo precio, metal de cromo puro de alta pureza, objetivo de sputtering de Cr para recubrimiento PVD

US$ 60,00-150,00
1 Pieza(MOQ)
Precio de fábrica Vender 99.999% Objetivo de sputtering de cromo

Precio de fábrica Vender 99.999% Objetivo de sputtering de cromo

US$ 60,00-150,00
1 Pieza(MOQ)
Venta directa de fábrica de objetivo de sputtering de cromo utilizado para preparar películas delgadas de galgas de deformación resistivas

Venta directa de fábrica de objetivo de sputtering de cromo utilizado para preparar películas delgadas de galgas de deformación resistivas

US$ 60,00-150,00
1 Pieza(MOQ)
1/4

Dongguan Gravel Industries and Enterprise Company Limited

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Objetivo de cobre para pulverización catódica en vacío

Objetivo de cobre para pulverización catódica en vacío

US$ 35.000,00
1 Pieza(MOQ)
99.99% Blanco de Sputtering de Aleación de Estaño de Oro de Alta Pureza

99.99% Blanco de Sputtering de Aleación de Estaño de Oro de Alta Pureza

US$ 265.000,00
10 Piezas(MOQ)
Objetivo de Sputtering al Vacío de Boro de Alta Pureza 99.9%

Objetivo de Sputtering al Vacío de Boro de Alta Pureza 99.9%

US$ 1.500,00
1 Pieza(MOQ)
Objetivo de Óxido de Indio y Estaño ITO para Sputtering al Vacío PVD Objetivo Creen

Objetivo de Óxido de Indio y Estaño ITO para Sputtering al Vacío PVD Objetivo Creen

US$ 4.600,00
1 Pieza(MOQ)
1/4

Xiangtan Hondson Coating Technology Co., Ltd.

5 años
·Fabricante/Fábrica & Empresa Comercial
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Objetivo de magnetrón cilíndrico para recubrimiento PVD en vacío de tubos de titanio, materiales en bruto para recubrimiento, cátodos

Objetivo de magnetrón cilíndrico para recubrimiento PVD en vacío de tubos de titanio, materiales en bruto para recubrimiento, cátodos

US$ 800,00-1.500,00
1 Pieza(MOQ)
Bloque de titanio de alta pureza personalizado, material de titanio, material de recubrimiento por ionización multi-arco, objetivo metálico

Bloque de titanio de alta pureza personalizado, material de titanio, material de recubrimiento por ionización multi-arco, objetivo metálico

US$ 500,00-1.000,00
1 Pieza(MOQ)
Cátodo giratorio, objetivo de tubo cilíndrico para máquina de revestimiento

Cátodo giratorio, objetivo de tubo cilíndrico para máquina de revestimiento

US$ 6.700,00-6.800,00
2 sets(MOQ)
5-200kw Fuente de Sputtering Típica para la Industria de Recubrimiento de Películas Delgadas Cátodo de Sputter Magnetrón Rotatorio Objetivo de Sputtering Rotatorio

5-200kw Fuente de Sputtering Típica para la Industria de Recubrimiento de Películas Delgadas Cátodo de Sputter Magnetrón Rotatorio Objetivo de Sputtering Rotatorio

US$ 6.900,00-7.000,00
2 sets(MOQ)
1/4

Ningbo Galaxy International Trading Co., Ltd.

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99.9% Objetivo de recubrimiento al vacío de níquel, cromo y aluminio para el proceso PVD, objetivo de cromo y tantalio

99.9% Objetivo de recubrimiento al vacío de níquel, cromo y aluminio para el proceso PVD, objetivo de cromo y tantalio

US$ 55,00
1 Pieza(MOQ)
Objetivo Redondo de Titanio de Mayor Pureza Día 100*40

Objetivo Redondo de Titanio de Mayor Pureza Día 100*40

US$ 60,00
1 Pieza(MOQ)
Resistencia al calor y excelente estabilidad química objetivo de titanio para recubrimiento al vacío

Resistencia al calor y excelente estabilidad química objetivo de titanio para recubrimiento al vacío

US$ 60,00
1 Pieza(MOQ)
Objetivo Redondo de Zirconio con Ductilidad Colorida y Resistencia al Calor

Objetivo Redondo de Zirconio con Ductilidad Colorida y Resistencia al Calor

US$ 15,00
5 Piezas(MOQ)
1/4

Jiangsu Cicel Vacuum Technology Co., Ltd.

4.5
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Objetivo de titanio por sputtering, objetivo de sputtering de titanio, recubrimiento al vacío, objetivo de titanio para máquina de recubrimiento al vacío por arco múltiple

Objetivo de titanio por sputtering, objetivo de sputtering de titanio, recubrimiento al vacío, objetivo de titanio para máquina de recubrimiento al vacío por arco múltiple

US$ 35,00-50,00
1 Pieza(MOQ)
Objetivos de PVD de aleación de aluminio y titanio, objetivos de sputtering de titanio, objetivo de aleación de Tial para recubrimiento

Objetivos de PVD de aleación de aluminio y titanio, objetivos de sputtering de titanio, objetivo de aleación de Tial para recubrimiento

US$ 80,00-300,00
1 Pieza(MOQ)
Objetivo de Sputtering de Cromo PVD Objetivo de Cromo/Objetivo de Sputtering de Cr

Objetivo de Sputtering de Cromo PVD Objetivo de Cromo/Objetivo de Sputtering de Cr

US$ 130,00-300,00
1 Pieza(MOQ)
Precio de objetivos de titanio de alta pureza para recubrimiento PVD/objetivo de titanio por pulverización, objetivo redondo de titanio en venta

Precio de objetivos de titanio de alta pureza para recubrimiento PVD/objetivo de titanio por pulverización, objetivo redondo de titanio en venta

US$ 80,00-300,00
1 Pieza(MOQ)
1/4

Shenzhen Silver Technologies Ltd

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Ventas Directas de Fábrica de 99.99% - 99.999% Material de Objetivo de Sputtering de Oro

Ventas Directas de Fábrica de 99.99% - 99.999% Material de Objetivo de Sputtering de Oro

US$ 200,00
100 g(MOQ)
4n Objetivo de Sputtering de Oro de Alta Pureza

4n Objetivo de Sputtering de Oro de Alta Pureza

US$ 200,00
10 g(MOQ)
Objetivo de Oro Puro para Recubrimiento por Sputtering al Vacío

Objetivo de Oro Puro para Recubrimiento por Sputtering al Vacío

US$ 200,00
10 g(MOQ)
99.99% Objetivo de Sputtering de Oro de Alta Calidad Au

99.99% Objetivo de Sputtering de Oro de Alta Calidad Au

US$ 200,00
10 g(MOQ)
1/4

Zhengzhou Tainuo Film Materials Co., Ltd.

9 años
·Fabricante/Fábrica
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Fuente de Sputtering Magnetrón de Alto Vacío para el Proceso de Recubrimiento PVD

Fuente de Sputtering Magnetrón de Alto Vacío para el Proceso de Recubrimiento PVD

US$ 1.800,00-2.000,00
1 set(MOQ)
Máquina de recubrimiento por pulverización catódica magnetrón PVD con objetivo de triple pulverización y alimentación de corriente continua

Máquina de recubrimiento por pulverización catódica magnetrón PVD con objetivo de triple pulverización y alimentación de corriente continua

US$ 38.000,00-39.500,00
1 set(MOQ)
Recubridor de plasma de doble objetivo de escritorio para muestras de SEM y cromo

Recubridor de plasma de doble objetivo de escritorio para muestras de SEM y cromo

US$ 7.900,00-8.500,00
1 Pieza(MOQ)
Recubrimiento por sputtering de magnetrón de un solo objetivo con fuente de alimentación de sesgo

Recubrimiento por sputtering de magnetrón de un solo objetivo con fuente de alimentación de sesgo

US$ 10.000,00-12.000,00
1 set(MOQ)
1/4

Shaanxi Mingsheng Guangpu Metal Materials Co., Ltd.

3 años
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Objetivo de Sputtering de Cromo para Electrónica de Precisión y Moldes

Objetivo de Sputtering de Cromo para Electrónica de Precisión y Moldes

US$ 90,00-110,00
2 Piezas(MOQ)
Objetivo de zirconio de alta pureza directo de fábrica para aplicaciones ópticas

Objetivo de zirconio de alta pureza directo de fábrica para aplicaciones ópticas

US$ 90,00-99,00
10 Kg(MOQ)
1/4

Inner Mongolia Rongtai Rhenium New Materials Co., Ltd.

5.0
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Objetivo de metal de gadolinio de alta pureza para recubrimiento PVD

Objetivo de metal de gadolinio de alta pureza para recubrimiento PVD

US$ 55,00-85,00
1 Pieza(MOQ)
1/4

Jinan Hengcheng Aluminum Co., Ltd.

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Objetivo de Sputtering de Aluminio Titanio Alloy/50 para Máquina de Recubrimiento PVD

Objetivo de Sputtering de Aluminio Titanio Alloy/50 para Máquina de Recubrimiento PVD

US$ 3.380,00
1 Tonelada(MOQ)
1/4

Xiamen Wintrustek Advanced Materials Co., Ltd.

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Objetivo de Sputtering de Cerámica de Hexaburó de Lantano Lab6 para Recubrimiento de Película Delgada PVD

Objetivo de Sputtering de Cerámica de Hexaburó de Lantano Lab6 para Recubrimiento de Película Delgada PVD

US$ 50,00-200,00
1 Pieza(MOQ)
1/4

Ningbo Danko Vacuum Technology Co., Ltd.

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Fabricante Proveedor de Objetivos de Titanio

Fabricante Proveedor de Objetivos de Titanio

US$ 30,00-100,00
1 Pieza(MOQ)
Máquina de recubrimiento por pulverización catódica de magnetrón PVD en vacío

Máquina de recubrimiento por pulverización catódica de magnetrón PVD en vacío

US$ 75.000,00-148.000,00
1 Pieza(MOQ)
Máquina de recubrimiento por ionización de plasma PVD de color dorado real para joyería, relojes

Máquina de recubrimiento por ionización de plasma PVD de color dorado real para joyería, relojes

US$ 75.000,00-160.000,00
1 Pieza(MOQ)
Sistema de recubrimiento por vacío PVD de galvanoplastia Ipg para joyería y relojes

Sistema de recubrimiento por vacío PVD de galvanoplastia Ipg para joyería y relojes

US$ 65.000,00-160.000,00
1 Pieza(MOQ)
1/4

Shenzhen Hongchen New Materials Co., Ltd

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Cobre objetivo de pulverización de múltiples arcos de placas de cobre de revestimiento PVD de fábrica Semiconductor rotativo

Cobre objetivo de pulverización de múltiples arcos de placas de cobre de revestimiento PVD de fábrica Semiconductor rotativo

US$ 10,00-15,00
1 Kg(MOQ)
La personalización de cromo cromo arco múltiple Material Objetivo magnetrón Sputtering para revestimiento PVD

La personalización de cromo cromo arco múltiple Material Objetivo magnetrón Sputtering para revestimiento PVD

US$ 10,00-15,00
1 Kg(MOQ)
China Cu High Purity aleación de cobre esputante objetivo para PVD Revestimiento

China Cu High Purity aleación de cobre esputante objetivo para PVD Revestimiento

US$ 10,00-15,00
1 Kg(MOQ)
99,999% Titanium Target TI Target para máquina de revestimiento PVD

99,999% Titanium Target TI Target para máquina de revestimiento PVD

US$ 10,00-15,00
1 Kg(MOQ)

Sino Resources Import & Export (Liao Ning) Co., Ltd.

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Cromo de la cadera de Sputtering meta para el revestimiento PVD decorativos

Cromo de la cadera de Sputtering meta para el revestimiento PVD decorativos

US$ 70,00-100,00
1 Pieza(MOQ)
Cromo de la cadera de Sputtering meta para el recubrimiento PVD 99.5 Destino Cr

Cromo de la cadera de Sputtering meta para el recubrimiento PVD 99.5 Destino Cr

US$ 60,00-90,00
1 Pieza(MOQ)
Chrome Sputtering Meta Hip 99,5 Cr objetivo para la PVD

Chrome Sputtering Meta Hip 99,5 Cr objetivo para la PVD

Negociable
1 Pieza(MOQ)
Cromo de alta pureza Sputtering Meta 99.5 Ronda Cr objetivo para la PVD

Cromo de alta pureza Sputtering Meta 99.5 Ronda Cr objetivo para la PVD

US$ 80,00-100,00
1 Pieza(MOQ)

Uv Tech Material Ltd

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Se puede girar Tiox Sial Plata Sputtering meta el tubo de cátodos de alta calidad de pureza para la PVD Nano material de película delgada

Se puede girar Tiox Sial Plata Sputtering meta el tubo de cátodos de alta calidad de pureza para la PVD Nano material de película delgada

Negociable
1 Pieza(MOQ)
Fábrica Uvtm Sputtering Meta fabricante en China de 18 años para Msvd Experiece y PVD continua vacío recubrimiento sputter Vicky 13249153016 la línea de producción

Fábrica Uvtm Sputtering Meta fabricante en China de 18 años para Msvd Experiece y PVD continua vacío recubrimiento sputter Vicky 13249153016 la línea de producción

Negociable
1 Pieza(MOQ)
Objetivo de Sputtering Planar Nicr bajo vidrio E EL RECUBRIMIENTO PVD de alta pureza

Objetivo de Sputtering Planar Nicr bajo vidrio E EL RECUBRIMIENTO PVD de alta pureza

Negociable
1 Pieza(MOQ)
PVD de aluminio cilíndrica de destino al destino Sputter giratorio el 99,999% pureza 2n-5n disponible

PVD de aluminio cilíndrica de destino al destino Sputter giratorio el 99,999% pureza 2n-5n disponible

Negociable
1 Pieza(MOQ)

Zhengzhou CY Scientific Instrument Co., Ltd.

13 años
·Fabricante/Fábrica & Empresa Comercial
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Aparato de recubrimiento por sputtering de magnetrón de un solo objetivo de acero inoxidable de escritorio

Aparato de recubrimiento por sputtering de magnetrón de un solo objetivo de acero inoxidable de escritorio

US$ 8.730,00-8.900,00
1 Pieza(MOQ)
Depósito por Sputtering de Magnetrón de Doble Objetivo de CC y RF para Películas Delgadas de Metal y Óxido

Depósito por Sputtering de Magnetrón de Doble Objetivo de CC y RF para Películas Delgadas de Metal y Óxido

US$ 21.000,00-26.000,00
1 Pieza(MOQ)
Máquina de transferencia de muestras del sistema de recubrimiento en cámara de vacío

Máquina de transferencia de muestras del sistema de recubrimiento en cámara de vacío

US$ 57.800,00-68.000,00
1 Pieza(MOQ)
Máquina de recubrimiento por pulverización magnetrón de polvo para equipo de recubrimiento ideal

Máquina de recubrimiento por pulverización magnetrón de polvo para equipo de recubrimiento ideal

US$ 28.500,00-40.100,00
1 Pieza(MOQ)
1/4

Suzhou Zhongzhina Semiconductor Technology Co., Ltd.

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Titanato de bario BaTiO3 Target, Titanato de estroncio de bario Target Basrtio3, PVD Magnetron sputtering Target, Laboratory Consumibles

Titanato de bario BaTiO3 Target, Titanato de estroncio de bario Target Basrtio3, PVD Magnetron sputtering Target, Laboratory Consumibles

Negociable
1 Pieza(MOQ)
Nitruro de boro (BN) Ceramic nitruro PVD esputtering Target, Titanium Diboride, Titanium Boride, Customized Size, Afizing Plate

Nitruro de boro (BN) Ceramic nitruro PVD esputtering Target, Titanium Diboride, Titanium Boride, Customized Size, Afizing Plate

Negociable
1 Pieza(MOQ)
Objetivo de Hafnio HF de alta pureza, objetivo de dióxido de Hafnio Hfo2, objetivo Hfzro2, objetivo de recubrimiento de vacío de magnetrón PVD

Objetivo de Hafnio HF de alta pureza, objetivo de dióxido de Hafnio Hfo2, objetivo Hfzro2, objetivo de recubrimiento de vacío de magnetrón PVD

Negociable
1 Pieza(MOQ)
Objetivos de oro de metales preciosos de alta pureza y objetivos de esputo de aleación basados en oro (Objetivos de la AU) para materiales de revestimiento de PVD

Objetivos de oro de metales preciosos de alta pureza y objetivos de esputo de aleación basados en oro (Objetivos de la AU) para materiales de revestimiento de PVD

Negociable
1 Pieza(MOQ)

Shanghai Zenkaah New Materials Technology Co., Ltd.

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Aluminio de alta pureza al objetivo, material objetivo de alúmina, PVD (deposición física de vapor) material de revestimiento, Magnetron esputtering aluminio objetivo, y soldadura

Aluminio de alta pureza al objetivo, material objetivo de alúmina, PVD (deposición física de vapor) material de revestimiento, Magnetron esputtering aluminio objetivo, y soldadura

Negociable
1 Pieza(MOQ)
Nitruro de boro (BN) Ceramic nitruro PVD esputtering Target, Titanium Diboride, Titanium Boride, Customized Size, Afizing Plate

Nitruro de boro (BN) Ceramic nitruro PVD esputtering Target, Titanium Diboride, Titanium Boride, Customized Size, Afizing Plate

Negociable
1 Pieza(MOQ)
Objetivo de Hafnio HF de alta pureza, objetivo de dióxido de Hafnio Hfo2, objetivo Hfzro2, objetivo de recubrimiento de vacío de magnetrón PVD, Tamaño personalizable

Objetivo de Hafnio HF de alta pureza, objetivo de dióxido de Hafnio Hfo2, objetivo Hfzro2, objetivo de recubrimiento de vacío de magnetrón PVD, Tamaño personalizable

Negociable
1 Pieza(MOQ)
Material de blanco de silicio de PVD (deposición física de vapor) de alta pureza para revestimiento de espumación de magnetrón, objetivo de dióxido de silicio (SiO2)

Material de blanco de silicio de PVD (deposición física de vapor) de alta pureza para revestimiento de espumación de magnetrón, objetivo de dióxido de silicio (SiO2)

Negociable
1 Pieza(MOQ)

Zhejiang Ruisheng New Materials Co., Ltd.

Empresa Comercial
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Objetivo de tungsteno rotativo premium para aplicaciones de sputtering eficientes

Objetivo de tungsteno rotativo premium para aplicaciones de sputtering eficientes

US$ 50,00-270,00
10 Kg(MOQ)
Objetivo de Molybdeno de Alta Pureza para Aplicaciones Industriales Avanzadas

Objetivo de Molybdeno de Alta Pureza para Aplicaciones Industriales Avanzadas

US$ 30,00-60,00
1 Kg(MOQ)
Objetivo de molibdeno forjado de nanogrado para recubrimiento PVD uniforme

Objetivo de molibdeno forjado de nanogrado para recubrimiento PVD uniforme

US$ 30,00-60,00
1 Kg(MOQ)
1/4

Hunan Radiance Material Co., Ltd

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Blancos de alta pureza para el espumamiento de PVD

Blancos de alta pureza para el espumamiento de PVD

Negociable
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Objetivos de tungsteno de alta pureza para el esputo de PVD

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Negociable
1 Pieza(MOQ)

Yangzhou Jingge Semiconductor Technology Co., Ltd.

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6N objetivo de silicio Poly/Blanco de silicio Mono/Blanco de silicio de esputo/silicio redondo para Revestimiento PVD

6N objetivo de silicio Poly/Blanco de silicio Mono/Blanco de silicio de esputo/silicio redondo para Revestimiento PVD

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6N objetivo de silicio Poly/Blanco de silicio Mono/Blanco de silicio de esputo/silicio redondo para Revestimiento PVD

6N objetivo de silicio Poly/Blanco de silicio Mono/Blanco de silicio de esputo/silicio redondo para Revestimiento PVD

US$ 10,00-99,00
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Baoji Tianbo Metal Materials Co., Ltd

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Cralsi Sputtering meta para el recubrimiento PVD

Cralsi Sputtering meta para el recubrimiento PVD

US$ 75,00
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