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sobre Objetivo de níquel
  • Innovación tecnológica
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  • Capacidades de fabricación sustanciales

Objetivo de níquel400+ fábricas verificadas

Changsha Xinkang Advanced Materials Co., Ltd.

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Objetivos de Sputtering de Aleación de Níquel de Alta Pureza Xinkang Níquel Vanadio Niv7%

Objetivos de Sputtering de Aleación de Níquel de Alta Pureza Xinkang Níquel Vanadio Niv7%

US$ 35,00-40,00
1 Pieza(MOQ)
Objetivo de pulverización de aleación de níquel y cromo de alta calidad para recubrimiento

Objetivo de pulverización de aleación de níquel y cromo de alta calidad para recubrimiento

US$ 35,00-40,00
1 Pieza(MOQ)
99.95% Blanco de Sputtering de Níquel Vanadio Puro Niv7wt% Blanco Redondo

99.95% Blanco de Sputtering de Níquel Vanadio Puro Niv7wt% Blanco Redondo

US$ 55,00-120,00
1 Pieza(MOQ)
Objetivo rotatorio de aleación de níquel y vanadio Xinkang Niv7wt% objetivo de tubo objetivo magnetrón

Objetivo rotatorio de aleación de níquel y vanadio Xinkang Niv7wt% objetivo de tubo objetivo magnetrón

US$ 55,00-120,00
1 Pieza(MOQ)
1/4

SUZHOU TECHNO-TEC PHOTOELECTRIC MATERIALS CO., LTD

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Aleación CuNiTi Target Cobre níquel Titanio aleación esputtering objetivo para LCD/panel táctil

Aleación CuNiTi Target Cobre níquel Titanio aleación esputtering objetivo para LCD/panel táctil

US$ 50,00
1 Kg(MOQ)
Objetivo de niquelado de níquel para semiconductores

Objetivo de niquelado de níquel para semiconductores

US$ 100,00-130,00
1 Kg(MOQ)
Objetivo de aleación de NIV níquel de vanadio objetivo de esputo de aleación para LCD/semiconductor

Objetivo de aleación de NIV níquel de vanadio objetivo de esputo de aleación para LCD/semiconductor

US$ 100,00
1 Kg(MOQ)
Objetivo de aleación de NiCr cromo níquel objetivo de espumación de aleación para LCD/integrado Circuitos

Objetivo de aleación de NiCr cromo níquel objetivo de espumación de aleación para LCD/integrado Circuitos

US$ 35,00
1 Kg(MOQ)
1/4

Ningbo Galaxy International Trading Co., Ltd.

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99.9% Objetivo de recubrimiento al vacío de níquel, cromo y aluminio para el proceso PVD, objetivo de cromo y tantalio

99.9% Objetivo de recubrimiento al vacío de níquel, cromo y aluminio para el proceso PVD, objetivo de cromo y tantalio

US$ 55,00
1 Pieza(MOQ)
Superficie pulida de alta dureza y objetivo de tubo de níquel de mayor pureza

Superficie pulida de alta dureza y objetivo de tubo de níquel de mayor pureza

US$ 30,00
10 Piezas(MOQ)
Objetivo redondo de níquel preventivo de corrosión de alta calidad

Objetivo redondo de níquel preventivo de corrosión de alta calidad

US$ 10,00
5 Piezas(MOQ)
Hoja de níquel de alta temperatura de fusión, resistencia y dureza

Hoja de níquel de alta temperatura de fusión, resistencia y dureza

US$ 30,00
5 Piezas(MOQ)
1/4

Beenine Shanke Technology Co., Ltd.

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99.99% Pureza 4n Objetivo de Sputtering de Aleación de Cobre Níquel Cu Ni Recubrimiento PVD

99.99% Pureza 4n Objetivo de Sputtering de Aleación de Cobre Níquel Cu Ni Recubrimiento PVD

US$ 300,00-1.000,00
1 Pieza(MOQ)
99.99% Pureza 4n Blanco de aleación de níquel cromo Ni/Cr para recubrimiento PVD

99.99% Pureza 4n Blanco de aleación de níquel cromo Ni/Cr para recubrimiento PVD

US$ 80,00-800,00
1 Pieza(MOQ)
Objetivo de sputtering tubular plano de aleación de cobre níquel de alta pureza Cu/Ni

Objetivo de sputtering tubular plano de aleación de cobre níquel de alta pureza Cu/Ni

US$ 300,00-1.000,00
1 Pieza(MOQ)
Objetivo de Sputtering de Níquel Multi-PCS 99.99% Recubrimiento PVD de China Puro

Objetivo de Sputtering de Níquel Multi-PCS 99.99% Recubrimiento PVD de China Puro

US$ 300,00-1.000,00
1 Pieza(MOQ)
1/4

Rheniumet Ltd.

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Objetivo de sputtering de tungsteno níquel cromo de alta pureza para la industria de películas delgadas

Objetivo de sputtering de tungsteno níquel cromo de alta pureza para la industria de películas delgadas

US$ 2.000,00-3.000,00
1 Pieza(MOQ)
Objetivo de sputtering de alta pureza personalizado W-Ni-Cr/W-Ni/Ni-Cr para la industria de películas delgadas

Objetivo de sputtering de alta pureza personalizado W-Ni-Cr/W-Ni/Ni-Cr para la industria de películas delgadas

US$ 2.000,00-3.000,00
1 Pieza(MOQ)
99.95%Ruthenium Polvo, Polvo de Rutenio de Alta Calidad, Catalizador de Rutenio

99.95%Ruthenium Polvo, Polvo de Rutenio de Alta Calidad, Catalizador de Rutenio

US$ 20,00
100 grams(MOQ)
99.95% Polvo de rutenio, producto de alta calidad, suministro de objetivo de Ru

99.95% Polvo de rutenio, producto de alta calidad, suministro de objetivo de Ru

US$ 20,00-30,00
1 Kg(MOQ)
1/4

Lonwin Industry Group Limited

5.0
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Objetivo de aleación de niobio, níquel y titanio para sputtering

Objetivo de aleación de niobio, níquel y titanio para sputtering

US$ 17,00-55,00
1 Kg(MOQ)
Objetivo de aleación Nicrsi de níquel, cromo y silicio para recubrimiento por PVD

Objetivo de aleación Nicrsi de níquel, cromo y silicio para recubrimiento por PVD

US$ 17,00-55,00
1 Kg(MOQ)
Objetivo de aleación de níquel y titanio para pulverización para recubrimiento PVD

Objetivo de aleación de níquel y titanio para pulverización para recubrimiento PVD

US$ 17,00-55,00
1 Kg(MOQ)
3n, 4n, 5n Ni3c Objetivos de Carburo de Níquel para Sputtering

3n, 4n, 5n Ni3c Objetivos de Carburo de Níquel para Sputtering

US$ 17,00-55,00
1 Kg(MOQ)
1/4

Shaanxi Mingsheng Guangpu Metal Materials Co., Ltd.

3 años·5.0
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Objetivos de sputtering de níquel de alta pureza en forma tubular - Personalizables para células solares fotovoltaicas

Objetivos de sputtering de níquel de alta pureza en forma tubular - Personalizables para células solares fotovoltaicas

US$ 200,00-220,00
50 kilograms(MOQ)
Objetivos de sputtering de níquel resistente al desgaste para recubrimiento de sensores electrónicos automotrices

Objetivos de sputtering de níquel resistente al desgaste para recubrimiento de sensores electrónicos automotrices

US$ 120,00-140,00
50 kilograms(MOQ)
Objetivos de Sputtering de Níquel de Precisión para Películas Conductivas de Instrumentos de Precisión

Objetivos de Sputtering de Níquel de Precisión para Películas Conductivas de Instrumentos de Precisión

US$ 110,00-130,00
50 kilograms(MOQ)
Objetivos de Sputtering de Níquel de Ultra Alta Densidad para Metalización de Wafers Semiconductores

Objetivos de Sputtering de Níquel de Ultra Alta Densidad para Metalización de Wafers Semiconductores

US$ 80,00-100,00
50 kilograms(MOQ)
1/4

Dongguan Gravel Industries and Enterprise Company Limited

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Objetivo de níquel de sputtering magnetrón de alta pureza

Objetivo de níquel de sputtering magnetrón de alta pureza

US$ 800,00
1 Pieza(MOQ)
Objetivo de Níquel 99.99 Objetivo de Sputtering de Alta Pureza

Objetivo de Níquel 99.99 Objetivo de Sputtering de Alta Pureza

US$ 1.500,00
1 Pieza(MOQ)
Objetivo de sputtering de aleación de níquel y hierro de alta pureza

Objetivo de sputtering de aleación de níquel y hierro de alta pureza

US$ 6.000,00
1 Pieza(MOQ)
Partículas de níquel de alta pureza vaporizadas al vacío

Partículas de níquel de alta pureza vaporizadas al vacío

US$ 350,00
1 Kg(MOQ)
1/4

Xiamen Tmax Battery Equipments Limited

5.0
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Marca TMAXCN Alta Pureza 99.95% Hierro Níquel Fe-Ni Blanco de Pulverización para Recubrimiento de Película Delgada de Metal

Marca TMAXCN Alta Pureza 99.95% Hierro Níquel Fe-Ni Blanco de Pulverización para Recubrimiento de Película Delgada de Metal

US$ 78,00-90,00
1 Pieza(MOQ)
Marca TMAXCN Alta Pureza 99.99% Níquel Ni Blanco de Sputtering para Recubrimiento de Película Delgada de Metal

Marca TMAXCN Alta Pureza 99.99% Níquel Ni Blanco de Sputtering para Recubrimiento de Película Delgada de Metal

US$ 78,00-90,00
1 Pieza(MOQ)
Máquina de recubrimiento por pulverización de plasma rotativo TMAXCN Marca VTC-16-3HD-LD 3 incluyendo 3 objetivos

Máquina de recubrimiento por pulverización de plasma rotativo TMAXCN Marca VTC-16-3HD-LD 3 incluyendo 3 objetivos

US$ 8.000,00
1 Pieza(MOQ)
Máquina de recubrimiento de alta potencia TMAXCN VTC-16-SM con coater de magnetrón de corriente continua, etapa rotativa y enfriador de agua

Máquina de recubrimiento de alta potencia TMAXCN VTC-16-SM con coater de magnetrón de corriente continua, etapa rotativa y enfriador de agua

US$ 6.000,00
1 Pieza(MOQ)
1/4

Inner Mongolia Rongtai Rhenium New Materials Co., Ltd.

5.0
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Objetivo de sputtering de níquel, cobalto y itrio de alta pureza para aplicaciones ópticas

Objetivo de sputtering de níquel, cobalto y itrio de alta pureza para aplicaciones ópticas

US$ 115,00-130,00
1 Pieza(MOQ)
Objetivo de Cerio de Alta Pureza Rectangular para Pantallas Planas

Objetivo de Cerio de Alta Pureza Rectangular para Pantallas Planas

US$ 55,00-85,00
1 Pieza(MOQ)
Objetivo de metal de itrio de alta precisión premium para aplicaciones de tubo

Objetivo de metal de itrio de alta precisión premium para aplicaciones de tubo

US$ 115,00-130,00
1 Pieza(MOQ)
Objetivo de metal de lantano avanzado para soluciones de pulverización de precisión

Objetivo de metal de lantano avanzado para soluciones de pulverización de precisión

US$ 150,00-350,00
1 Pieza(MOQ)
1/4

Zhonghe Steel (Tianjin) Co., Ltd.

5 años
·Empresa Comercial
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Objetivo de Titanio de Alta Pureza para Máquina de Recubrimiento PVD

Objetivo de Titanio de Alta Pureza para Máquina de Recubrimiento PVD

US$ 10,00-25,00
1 Pieza(MOQ)
Alta Pureza 99.6% PVD M86 Objetivo de Titanio Od 98X40mm Objetivo de Titanio

Alta Pureza 99.6% PVD M86 Objetivo de Titanio Od 98X40mm Objetivo de Titanio

US$ 10,00-25,00
1 Pieza(MOQ)
Precio del objetivo de sputtering de titanio PVD personalizado

Precio del objetivo de sputtering de titanio PVD personalizado

US$ 10,00-25,00
1 Pieza(MOQ)
Objetivo de Titanio de Alta Pureza 99.99% para Máquina de Recubrimiento por Vacío / PVD

Objetivo de Titanio de Alta Pureza 99.99% para Máquina de Recubrimiento por Vacío / PVD

US$ 10,00-25,00
1 Pieza(MOQ)
1/4

Shenzhen Hongchen New Materials Co., Ltd

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Material de recubrimiento de níquel de alta pureza Rotary Magnetron sputtering Target

Material de recubrimiento de níquel de alta pureza Rotary Magnetron sputtering Target

US$ 10,00-15,00
1 Kg(MOQ)
Comercio al por mayor de la PVD High-Purity Fábrica de materiales de destino cobre plano

Comercio al por mayor de la PVD High-Purity Fábrica de materiales de destino cobre plano

US$ 10,00-15,00
1 Kg(MOQ)
Vacío de alta pureza de los componentes electrónicos recubierto de titanio con objetivos de sputtering

Vacío de alta pureza de los componentes electrónicos recubierto de titanio con objetivos de sputtering

US$ 10,00-15,00
1 Kg(MOQ)
Titanio esputtering Target Titanium Plate para Color Coating Watch Electronic Componentes

Titanio esputtering Target Titanium Plate para Color Coating Watch Electronic Componentes

US$ 10,00-15,00
1 Kg(MOQ)

Zhengzhou Tainuo Film Materials Co., Ltd.

9 años
·Fabricante/Fábrica
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Precio de fábrica de recubrimiento por magnetrón para metal y cromo níquel

Precio de fábrica de recubrimiento por magnetrón para metal y cromo níquel

US$ 19.000,00-23.000,00
1 Pieza(MOQ)
4-Inch Recubridor de Sputtering de Magnetrón de Objetivo Único de Corriente Continua para Película de Óxido

4-Inch Recubridor de Sputtering de Magnetrón de Objetivo Único de Corriente Continua para Película de Óxido

US$ 32.000,00-34.000,00
1 set(MOQ)
Nuevo diseño de instrumento de recubrimiento por evaporación térmica de alto vacío para muestras de película

Nuevo diseño de instrumento de recubrimiento por evaporación térmica de alto vacío para muestras de película

US$ 52.000,00-54.200,00
1 set(MOQ)
Equipo de recubrimiento por sputtering de magnetrón de laboratorio para recubrimiento de níquel cromo en metal

Equipo de recubrimiento por sputtering de magnetrón de laboratorio para recubrimiento de níquel cromo en metal

US$ 18.000,00-19.500,00
1 set(MOQ)
1/4

Jinan Hengcheng Aluminum Co., Ltd.

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Objetivo de Sputtering de Aluminio Titanio Alloy/50 para Máquina de Recubrimiento PVD

Objetivo de Sputtering de Aluminio Titanio Alloy/50 para Máquina de Recubrimiento PVD

US$ 3.380,00
1 Tonelada(MOQ)
Objetivo de sputtering de aluminio y titanio, objetivo de sputtering de titanio y aluminio

Objetivo de sputtering de aluminio y titanio, objetivo de sputtering de titanio y aluminio

US$ 3.380,00
1 Tonelada(MOQ)
1/4

Hunan Ultra Minor Metals Ltd

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Tungsteno de alta pureza níquel cromo/níquel cromo/ tungsteno níquel esputante objetivo Para la industria de películas delgadas

Tungsteno de alta pureza níquel cromo/níquel cromo/ tungsteno níquel esputante objetivo Para la industria de películas delgadas

Negociable
1 Pieza(MOQ)

Huameixin International Trading Limited

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Objetivo de níquel

Objetivo de níquel

US$ 20,00
1 Pieza(MOQ)

Super Magnet Co., Ltd

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2-Vía señales magnéticas para codificadores magnéticos absoluta IC-Mu Hut128

2-Vía señales magnéticas para codificadores magnéticos absoluta IC-Mu Hut128

US$ 21,00
5 Piezas(MOQ)

Shanghai Zenkaah New Materials Technology Co., Ltd.

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Material objetivo de níquel de alta pureza, objetivo de recubrimiento de vacío de PVD de níquel, objetivo de aleación derretida al vacío, objetivo de aleación de níquel-vanadio

Material objetivo de níquel de alta pureza, objetivo de recubrimiento de vacío de PVD de níquel, objetivo de aleación derretida al vacío, objetivo de aleación de níquel-vanadio

Negociable
1 Pieza(MOQ)

Shanghai Tankii Alloy Material Co., Ltd.

5.0
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Alta Pureza 99.99% TANKII Metal Cromo Objetivos de Sputtering

Alta Pureza 99.99% TANKII Metal Cromo Objetivos de Sputtering

US$ 60,00-150,00
1 Pieza(MOQ)
Tipo de recubrimiento PVD más popular, uso de objetivo de sputtering de cromo tipo placa

Tipo de recubrimiento PVD más popular, uso de objetivo de sputtering de cromo tipo placa

US$ 60,00-150,00
1 Pieza(MOQ)
Fabricante personalizado de bajo precio, metal de cromo puro de alta pureza, objetivo de sputtering de Cr para recubrimiento PVD

Fabricante personalizado de bajo precio, metal de cromo puro de alta pureza, objetivo de sputtering de Cr para recubrimiento PVD

US$ 60,00-150,00
1 Pieza(MOQ)
Precio de fábrica 99.999% objetivo de sputtering de cromo

Precio de fábrica 99.999% objetivo de sputtering de cromo

US$ 60,00-150,00
1 Pieza(MOQ)
1/4

Sid Metal Co., Ltd

13 años
·Fabricante/Fábrica & Empresa Comercial
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Precio de fábrica 99.95% Metal Tántalo puro objetivo de sputtering Ta objetivos planos de tantalio

Precio de fábrica 99.95% Metal Tántalo puro objetivo de sputtering Ta objetivos planos de tantalio

US$ 1,00-100,00
1 Pieza(MOQ)
Objetivo de sputtering de titanio de alta pureza, planar para la industria de semiconductores, circuitos integrados, vidrio para construcción y automóviles

Objetivo de sputtering de titanio de alta pureza, planar para la industria de semiconductores, circuitos integrados, vidrio para construcción y automóviles

US$ 1,00-100,00
1 Pieza(MOQ)
Objetivo de Sputtering de Titanio Ti / Objetivo Rotatorio de Titanio para Semiconductores / Sputtering de Recubrimiento al Vacío

Objetivo de Sputtering de Titanio Ti / Objetivo Rotatorio de Titanio para Semiconductores / Sputtering de Recubrimiento al Vacío

US$ 1,00-100,00
1 Pieza(MOQ)
Alta Pureza Zr702 Zr705 Objetivo de Zirconio Conductividad Térmica Objetivo de Sputtering

Alta Pureza Zr702 Zr705 Objetivo de Zirconio Conductividad Térmica Objetivo de Sputtering

US$ 0,05-100,00
1 Pieza(MOQ)
1/4

Zhejiang Ruisheng New Materials Co., Ltd.

Empresa Comercial
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Objetivo de Sputtering de Tungsteno de Alta Pureza 99.95% Deposición de Películas Finas de Semiconductores Personalizable Estándar ASTM

Objetivo de Sputtering de Tungsteno de Alta Pureza 99.95% Deposición de Películas Finas de Semiconductores Personalizable Estándar ASTM

US$ 60,00-100,00
1 Kg(MOQ)
Objetivo de tungsteno rotativo premium para aplicaciones de sputtering eficientes

Objetivo de tungsteno rotativo premium para aplicaciones de sputtering eficientes

US$ 50,00-270,00
10 Kg(MOQ)
Objetivo de tungsteno pulido de alta pureza para aplicaciones avanzadas de bombardeo iónico

Objetivo de tungsteno pulido de alta pureza para aplicaciones avanzadas de bombardeo iónico

US$ 50,00-270,00
10 Kg(MOQ)
Varilla de aleación de tungsteno, níquel y cobre no magnética, alta densidad, contrapeso de rotor de giroscopio para instrumentos de precisión, anti interferencia

Varilla de aleación de tungsteno, níquel y cobre no magnética, alta densidad, contrapeso de rotor de giroscopio para instrumentos de precisión, anti interferencia

US$ 58,00-121,50
10 Kg(MOQ)
1/4

Zhuzhou Hongtong Tungsten Carbide Co., Ltd.

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Anodo Estacionario para Tubo de Rayos X

Anodo Estacionario para Tubo de Rayos X

US$ 65,00-70,00
10 Piezas(MOQ)
Objetivo de ánodo rotatorio CT para tubos de rayos X consumibles hecho de molibdeno y tungsteno

Objetivo de ánodo rotatorio CT para tubos de rayos X consumibles hecho de molibdeno y tungsteno

US$ 65,00-70,00
10 Piezas(MOQ)
Placa de tungsteno carburo pulido espejo con aglutinante de níquel

Placa de tungsteno carburo pulido espejo con aglutinante de níquel

US$ 38,00-45,00
10 Kg(MOQ)
Proporcionar productos semiterminados y terminados de objetivo de ánodo estacionario para partes de tubos de rayos X

Proporcionar productos semiterminados y terminados de objetivo de ánodo estacionario para partes de tubos de rayos X

US$ 65,00-70,00
10 Piezas(MOQ)
1/4

Shandong Quansheng Material Technology Group Co., LTD

3 años
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Alta Calidad 15mm Objetivo Redondo de Tantalio para Recubrimiento al Vacío

Alta Calidad 15mm Objetivo Redondo de Tantalio para Recubrimiento al Vacío

US$ 351,00-601,00
5 Kg(MOQ)
Tubería de Níquel Industrial de Fábrica N6n8 Resistente a Ácidos y Álcali Personalizable Directamente

Tubería de Níquel Industrial de Fábrica N6n8 Resistente a Ácidos y Álcali Personalizable Directamente

US$ 71,00-79,00
1 Kg(MOQ)
Hoja de tungsteno pulido con acabado espejo para recubrimiento de rayos X

Hoja de tungsteno pulido con acabado espejo para recubrimiento de rayos X

US$ 55,00-60,00
1 Kg(MOQ)
Placa de tungsteno W1 para recubrimiento al vacío y objetivos de pulverización

Placa de tungsteno W1 para recubrimiento al vacío y objetivos de pulverización

US$ 56,00-61,00
5 Kg(MOQ)
1/4

Uv Tech Material Ltd

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Si se puede girar de forma cilíndrica de cátodos de destino de silicio de alta calidad Monilithic rectas y de forma Dogbone

Si se puede girar de forma cilíndrica de cátodos de destino de silicio de alta calidad Monilithic rectas y de forma Dogbone

Negociable
1 Pieza(MOQ)
Cromo Cr PVD Planar destino pegado en la Cooper la placa de apoyo o metro.

Cromo Cr PVD Planar destino pegado en la Cooper la placa de apoyo o metro.

Negociable
1 Pieza(MOQ)
Fábrica Uvtm Sputtering Meta fabricante en China de 18 años para Msvd Experiece y PVD continua vacío recubrimiento sputter Vicky 13249153016 la línea de producción

Fábrica Uvtm Sputtering Meta fabricante en China de 18 años para Msvd Experiece y PVD continua vacío recubrimiento sputter Vicky 13249153016 la línea de producción

Negociable
1 Pieza(MOQ)
Rotary indio Blanco en blanco de sputtering

Rotary indio Blanco en blanco de sputtering

Negociable
1 Pieza(MOQ)

Zhongzheng Yejin Technology Co., Ltd.

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Objetivo de Sputtering de Níquel 99.99% Objetivo de Ni de Alta Pureza para Recubrimiento PVD

Objetivo de Sputtering de Níquel 99.99% Objetivo de Ni de Alta Pureza para Recubrimiento PVD

Negociable
1 Pieza(MOQ)
Venta caliente de objetivo de sputtering de níquel con alta pureza

Venta caliente de objetivo de sputtering de níquel con alta pureza

Negociable
1 Pieza(MOQ)
99.99% Objetivo de recubrimiento por pulverización de níquel, objetivo magnético decorativo para recubrimiento de metal

99.99% Objetivo de recubrimiento por pulverización de níquel, objetivo magnético decorativo para recubrimiento de metal

Negociable
1 Pieza(MOQ)
99.9% Precio del objetivo de níquel de alta pureza, objetivo de aleación de níquel, objetivo de pulverización de níquel

99.9% Precio del objetivo de níquel de alta pureza, objetivo de aleación de níquel, objetivo de pulverización de níquel

Negociable
1 Pieza(MOQ)
1/2

Zhengzhou CY Scientific Instrument Co., Ltd.

13 años
·Fabricante/Fábrica & Empresa Comercial
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Depósito por Sputtering de Magnetrón de Doble Objetivo de CC y RF para Películas Delgadas de Metal y Óxido

Depósito por Sputtering de Magnetrón de Doble Objetivo de CC y RF para Películas Delgadas de Metal y Óxido

US$ 21.000,00-26.000,00
1 Pieza(MOQ)
Objetivo de cobre, objetivo de recubrimiento al vacío

Objetivo de cobre, objetivo de recubrimiento al vacío

US$ 692,00
10 Piezas(MOQ)
Sistema de recubrimiento por evaporación térmica pequeña para la preparación de películas conductoras

Sistema de recubrimiento por evaporación térmica pequeña para la preparación de películas conductoras

US$ 39.500,00-64.900,00
1 Pieza(MOQ)
Temperatura de Calentamiento 400c Sistema de Recubrimiento por Evaporación para Complejos Organometálicos (CY-300A)

Temperatura de Calentamiento 400c Sistema de Recubrimiento por Evaporación para Complejos Organometálicos (CY-300A)

US$ 39.500,00-64.900,00
1 Pieza(MOQ)
1/4

Changsha Xinkang Advanced Materials Co., Ltd

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Blanco de la farfulla de la pureza elevada 99.995% Ni/Nickel

Blanco de la farfulla de la pureza elevada 99.995% Ni/Nickel

US$ 20,00
1 Pieza(MOQ)
99.9% Blanco de la farfulla del níquel Copper/Nicu de la pureza

99.9% Blanco de la farfulla del níquel Copper/Nicu de la pureza

US$ 30,00
1 Pieza(MOQ)
99.95% Cromo del níquel de la pureza/blanco de la farfulla de Nicr

99.95% Cromo del níquel de la pureza/blanco de la farfulla de Nicr

US$ 30,00
1 Pieza(MOQ)
99.9% Blanco de la farfulla vanadio/Niv7 del níquel de la pureza

99.9% Blanco de la farfulla vanadio/Niv7 del níquel de la pureza

US$ 50,00
1 Pieza(MOQ)

Jiangyin Entret Coating Technology Co., Ltd.

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Planar de titanio de alta pureza Sputtering meta de 2n6 a 4n, 4n5, 5n

Planar de titanio de alta pureza Sputtering meta de 2n6 a 4n, 4n5, 5n

US$ 30,00-50,00
1 Pieza(MOQ)
El titanio de Sputtering meta en la Pureza

El titanio de Sputtering meta en la Pureza

US$ 30,00-50,00
1 Pieza(MOQ)
Sputtering Meta: Titanium Sputtering Meta, meta de ti

Sputtering Meta: Titanium Sputtering Meta, meta de ti

US$ 100,00
10 Piezas(MOQ)
Silicon blanco de Sputtering giratorio de aluminio de alta calidad (sputtering meta)

Silicon blanco de Sputtering giratorio de aluminio de alta calidad (sputtering meta)

US$ 200,00-300,00
2 Piezas(MOQ)

Xi'an Kefeng Powder Metallurgy Co., Ltd.

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Hojas y Placas de Molibdeno

Hojas y Placas de Molibdeno

US$ 100,00-500,00
10 Kg(MOQ)
Blindaje de tungsteno y colimadores para diagnósticos y aplicaciones terapéuticas en medicina nuclear

Blindaje de tungsteno y colimadores para diagnósticos y aplicaciones terapéuticas en medicina nuclear

US$ 50,00-100,00
10 Kg(MOQ)
Colimador de tungsteno para medicina nuclear en lámina de placa

Colimador de tungsteno para medicina nuclear en lámina de placa

US$ 50,00-100,00
10 Kg(MOQ)
Bloques de contrapeso de aleación pesada de tungsteno (WHA) de clase ASTM B777-15, 1, 2, 3 y 4 piezas mecanizables

Bloques de contrapeso de aleación pesada de tungsteno (WHA) de clase ASTM B777-15, 1, 2, 3 y 4 piezas mecanizables

US$ 50,00-100,00
10 Kg(MOQ)
1/4

LORK GROUP CO., LTD

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Disco redondo de metal precioso de aleación Csf Lork personalizado 99.99% Pureza de objetivo de pulverización de oro Csf

Disco redondo de metal precioso de aleación Csf Lork personalizado 99.99% Pureza de objetivo de pulverización de oro Csf

US$ 30,00-40,00
100 Kg(MOQ)
Lork Personalizado Alta Pureza Aleación de Níquel 4n5 Pastel Redondo para Disco de Objetivo de Sputtering de Semiconductores

Lork Personalizado Alta Pureza Aleación de Níquel 4n5 Pastel Redondo para Disco de Objetivo de Sputtering de Semiconductores

US$ 30,00-40,00
100 Kg(MOQ)
Tubo de aleación de precisión Lork Custom Uns K93600/ASTM B753 4j36 para equipos de semiconductores, tubo de aleación Invar 36

Tubo de aleación de precisión Lork Custom Uns K93600/ASTM B753 4j36 para equipos de semiconductores, tubo de aleación Invar 36

US$ 20,00-30,00
100 Kg(MOQ)
Hoja de Aleación Super Lork Uns K93600/ASTM B753 4j36 Aleación de Precisión para Blindaje Magnético Placa de Aleación Invar 36

Hoja de Aleación Super Lork Uns K93600/ASTM B753 4j36 Aleación de Precisión para Blindaje Magnético Placa de Aleación Invar 36

US$ 10,00-15,00
100 Kg(MOQ)
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