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sobre Objetivo de níquel
  • Innovación tecnológica
  • Cadenas de suministro confiables
  • Capacidades de fabricación sustanciales

Objetivo de níquel400+ fábricas verificadas

SUZHOU TECHNO-TEC PHOTOELECTRIC MATERIALS CO., LTD

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Aleación CuNiTi Target Cobre níquel Titanio aleación esputtering objetivo para LCD/panel táctil

Aleación CuNiTi Target Cobre níquel Titanio aleación esputtering objetivo para LCD/panel táctil

US$ 50,00
1 Kg(MOQ)
Objetivo de niquelado de níquel para semiconductores

Objetivo de niquelado de níquel para semiconductores

US$ 100,00-130,00
1 Kg(MOQ)
Objetivo de aleación de NIV níquel de vanadio objetivo de esputo de aleación para LCD/semiconductor

Objetivo de aleación de NIV níquel de vanadio objetivo de esputo de aleación para LCD/semiconductor

US$ 100,00
1 Kg(MOQ)
Objetivo de NiO, objetivo de óxido de níquel cerámico para recubrimiento de película delgada óptica en semiconductores

Objetivo de NiO, objetivo de óxido de níquel cerámico para recubrimiento de película delgada óptica en semiconductores

US$ 100,00-130,00
1 Kg(MOQ)
1/4

Ningbo Galaxy International Trading Co., Ltd.

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99.9% Objetivo de recubrimiento al vacío de níquel, cromo y aluminio para el proceso PVD, objetivo de cromo y tantalio

99.9% Objetivo de recubrimiento al vacío de níquel, cromo y aluminio para el proceso PVD, objetivo de cromo y tantalio

US$ 55,00
1 Pieza(MOQ)
Superficie pulida de alta dureza y objetivo de tubo de níquel de mayor pureza

Superficie pulida de alta dureza y objetivo de tubo de níquel de mayor pureza

US$ 30,00
10 Piezas(MOQ)
Placa de Níquel de Alta Pureza, Alta Dureza y Resistente a la Corrosión N4/Ni201, N6/Ni200 para Uso Industrial

Placa de Níquel de Alta Pureza, Alta Dureza y Resistente a la Corrosión N4/Ni201, N6/Ni200 para Uso Industrial

US$ 15,00
5 Piezas(MOQ)
Objetivo de fabricación de capacitores de níquel con tubería de níquel preventivo de corrosión coloreado

Objetivo de fabricación de capacitores de níquel con tubería de níquel preventivo de corrosión coloreado

US$ 30,00
10 Piezas(MOQ)
1/4

Changsha Xinkang Advanced Materials Co., Ltd.

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Objetivos de Sputtering de Aleación de Níquel de Alta Pureza Xinkang Níquel Vanadio Niv7%

Objetivos de Sputtering de Aleación de Níquel de Alta Pureza Xinkang Níquel Vanadio Niv7%

US$ 35,00-40,00
1 Pieza(MOQ)
Objetivo de pulverización de aleación de níquel y cromo de alta calidad para recubrimiento

Objetivo de pulverización de aleación de níquel y cromo de alta calidad para recubrimiento

US$ 35,00-40,00
1 Pieza(MOQ)
Objetivo personalizado de níquel cobre manganeso para sputtering de semiconductores - 99.9% Pureza

Objetivo personalizado de níquel cobre manganeso para sputtering de semiconductores - 99.9% Pureza

US$ 160,00-167,00
1 Pieza(MOQ)
Objetivo de aleación de níquel cromo silicio Xinkang 99.9% Nicrsi Wt% Discos para recubrimiento

Objetivo de aleación de níquel cromo silicio Xinkang 99.9% Nicrsi Wt% Discos para recubrimiento

US$ 35,00-40,00
1 Pieza(MOQ)
1/4

Beenine Shanke Technology Co., Ltd.

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Objetivo de Sputtering de Níquel Precio Inexpensivo Fabricación

Objetivo de Sputtering de Níquel Precio Inexpensivo Fabricación

US$ 300,00-1.000,00
1 Pieza(MOQ)
Objetivo de sputtering de aleación de níquel cromo de alta pureza Ni/Cr personalizado fábrica de China

Objetivo de sputtering de aleación de níquel cromo de alta pureza Ni/Cr personalizado fábrica de China

US$ 80,00-800,00
1 Pieza(MOQ)
Objetivo de pulverización de recubrimiento PVD plano redondo de aleación de cobre y níquel Cu/Ni fábrica

Objetivo de pulverización de recubrimiento PVD plano redondo de aleación de cobre y níquel Cu/Ni fábrica

US$ 300,00-1.000,00
1 Pieza(MOQ)
Objetivo de pulverización de aleación de níquel y cromo a precio económico

Objetivo de pulverización de aleación de níquel y cromo a precio económico

US$ 80,00-800,00
1 Pieza(MOQ)
1/4

Rheniumet Ltd.

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Objetivo de pulverización de aleación de tungsteno, níquel y cromo W-Ni-Cr/W-Ni/Ni-Cr

Objetivo de pulverización de aleación de tungsteno, níquel y cromo W-Ni-Cr/W-Ni/Ni-Cr

US$ 2.000,00-3.000,00
1 Pieza(MOQ)
Objetivo de sputtering de tungsteno níquel cromo de alta pureza para la industria de películas delgadas

Objetivo de sputtering de tungsteno níquel cromo de alta pureza para la industria de películas delgadas

US$ 2.000,00-3.000,00
1 Pieza(MOQ)
99.95%Min Polvo de rutenio, Polvo de rutenio de alta calidad, Polvo precioso

99.95%Min Polvo de rutenio, Polvo de rutenio de alta calidad, Polvo precioso

US$ 19,00-25,00
50 g(MOQ)
99.95% Polvo de rutenio, producto de alta calidad, suministro de objetivo de Ru

99.95% Polvo de rutenio, producto de alta calidad, suministro de objetivo de Ru

US$ 20,00-30,00
1 Kg(MOQ)
1/4

Shaanxi Mingsheng Guangpu Metal Materials Co., Ltd.

3 años·5.0
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Objetivos de Sputtering de Níquel de Alta Densidad Msgp - Perfectamente Adecuados para Aplicaciones de Recubrimiento de Dispositivos Médicos

Objetivos de Sputtering de Níquel de Alta Densidad Msgp - Perfectamente Adecuados para Aplicaciones de Recubrimiento de Dispositivos Médicos

US$ 260,00-280,00
50 kilograms(MOQ)
Objetivos de sputtering de níquel resistente al desgaste para recubrimiento de sensores electrónicos automotrices

Objetivos de sputtering de níquel resistente al desgaste para recubrimiento de sensores electrónicos automotrices

US$ 120,00-140,00
50 kilograms(MOQ)
Objetivos de sputtering de níquel de alta pureza en forma tubular - Personalizables para células solares fotovoltaicas

Objetivos de sputtering de níquel de alta pureza en forma tubular - Personalizables para células solares fotovoltaicas

US$ 200,00-220,00
50 kilograms(MOQ)
Objetivos de Sputtering de Níquel de Precisión para Películas Conductivas de Instrumentos de Precisión

Objetivos de Sputtering de Níquel de Precisión para Películas Conductivas de Instrumentos de Precisión

US$ 110,00-130,00
50 kilograms(MOQ)
1/4

Lonwin Industry Group Limited

5.0
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99.99% Blanco de aleación de níquel y hierro puro para procesos PVD avanzados

99.99% Blanco de aleación de níquel y hierro puro para procesos PVD avanzados

US$ 17,00-55,00
1 Kg(MOQ)
Objetivos de aleación de níquel de alta pureza Niv objetivo de sputtering de níquel y vanadio

Objetivos de aleación de níquel de alta pureza Niv objetivo de sputtering de níquel y vanadio

US$ 17,00-55,00
1 Kg(MOQ)
99.9% Objetivos de aleación de Alni, objetivos de aluminio y níquel para sputtering

99.9% Objetivos de aleación de Alni, objetivos de aluminio y níquel para sputtering

US$ 17,00-55,00
1 Kg(MOQ)
Objetivo de aleación Nicrsi de níquel, cromo y silicio para recubrimiento por PVD

Objetivo de aleación Nicrsi de níquel, cromo y silicio para recubrimiento por PVD

US$ 17,00-55,00
1 Kg(MOQ)
1/4

Dongguan Gravel Industries and Enterprise Company Limited

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Objetivo de níquel de sputtering magnetrón de alta pureza

Objetivo de níquel de sputtering magnetrón de alta pureza

US$ 800,00
1 Pieza(MOQ)
Objetivo de Níquel 99.99 Objetivo de Sputtering de Alta Pureza

Objetivo de Níquel 99.99 Objetivo de Sputtering de Alta Pureza

US$ 1.500,00
1 Pieza(MOQ)
Objetivo de sputtering de aleación de níquel y hierro de alta pureza

Objetivo de sputtering de aleación de níquel y hierro de alta pureza

US$ 6.000,00
1 Pieza(MOQ)
Partículas de níquel de alta pureza vaporizadas al vacío

Partículas de níquel de alta pureza vaporizadas al vacío

US$ 350,00
1 Kg(MOQ)
1/4

Xiamen Tmax Battery Equipments Limited

5.0
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Marca TMAXCN Alta Pureza 99.99% Níquel Ni Blanco de Sputtering para Recubrimiento de Película Delgada de Metal

Marca TMAXCN Alta Pureza 99.99% Níquel Ni Blanco de Sputtering para Recubrimiento de Película Delgada de Metal

US$ 78,00-90,00
1 Pieza(MOQ)
Marca TMAXCN Alta Pureza 99.95% Hierro Níquel Fe-Ni Blanco de Pulverización para Recubrimiento de Película Delgada de Metal

Marca TMAXCN Alta Pureza 99.95% Hierro Níquel Fe-Ni Blanco de Pulverización para Recubrimiento de Película Delgada de Metal

US$ 78,00-90,00
1 Pieza(MOQ)
Máquina de recubrimiento por pulverización de plasma rotativo TMAXCN Marca VTC-16-3HD-LD 3 incluyendo 3 objetivos

Máquina de recubrimiento por pulverización de plasma rotativo TMAXCN Marca VTC-16-3HD-LD 3 incluyendo 3 objetivos

US$ 8.000,00
1 Pieza(MOQ)
Horno de fusión por suspensión al vacío Vlf de la marca TMAXCN para 0.3-2kg

Horno de fusión por suspensión al vacío Vlf de la marca TMAXCN para 0.3-2kg

US$ 4.500,00-13.000,00
1 Pieza(MOQ)
1/4

Inner Mongolia Rongtai Rhenium New Materials Co., Ltd.

5.0
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Objetivo de sputtering de níquel, cobalto y itrio de alta pureza para aplicaciones ópticas

Objetivo de sputtering de níquel, cobalto y itrio de alta pureza para aplicaciones ópticas

US$ 115,00-130,00
1 Pieza(MOQ)
Objetivo de Lanthanum Puro 99.99% Premium para un Rendimiento Superior

Objetivo de Lanthanum Puro 99.99% Premium para un Rendimiento Superior

US$ 150,00-350,00
1 Pieza(MOQ)
Objetivo de metal de lantano de alta pureza premium para pantallas

Objetivo de metal de lantano de alta pureza premium para pantallas

US$ 150,00-350,00
1 Pieza(MOQ)
Objetivo de metal de gadolinio de alta pureza para uso industrial

Objetivo de metal de gadolinio de alta pureza para uso industrial

US$ 55,00-85,00
1 Pieza(MOQ)
1/4

Zhonghe Steel (Tianjin) Co., Ltd.

5 años
·Empresa Comercial
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Objetivo de Sputtering de Titanio de Alta Pureza Gr1 Gr2 para PVD

Objetivo de Sputtering de Titanio de Alta Pureza Gr1 Gr2 para PVD

US$ 10,00-25,00
1 Pieza(MOQ)
Alta Pureza 99.6% PVD M86 Objetivo de Titanio Od 98X40mm Objetivo de Titanio

Alta Pureza 99.6% PVD M86 Objetivo de Titanio Od 98X40mm Objetivo de Titanio

US$ 10,00-25,00
1 Pieza(MOQ)
Precio del objetivo de sputtering de titanio PVD personalizado

Precio del objetivo de sputtering de titanio PVD personalizado

US$ 10,00-25,00
1 Pieza(MOQ)
Personalización de objetivo de sputtering de titanio para necesidades de recubrimiento especializadas

Personalización de objetivo de sputtering de titanio para necesidades de recubrimiento especializadas

US$ 10,00-25,00
1 Pieza(MOQ)
1/4

Shenzhen Hongchen New Materials Co., Ltd

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Material de recubrimiento de níquel de alta pureza Rotary Magnetron sputtering Target

Material de recubrimiento de níquel de alta pureza Rotary Magnetron sputtering Target

US$ 10,00-15,00
1 Kg(MOQ)
Comercio al por mayor de la PVD High-Purity Fábrica de materiales de destino cobre plano

Comercio al por mayor de la PVD High-Purity Fábrica de materiales de destino cobre plano

US$ 10,00-15,00
1 Kg(MOQ)
Titanio esputtering Target Titanium Plate para Color Coating Watch Electronic Componentes

Titanio esputtering Target Titanium Plate para Color Coating Watch Electronic Componentes

US$ 10,00-15,00
1 Kg(MOQ)
Vacío de alta pureza de los componentes electrónicos recubierto de titanio con objetivos de sputtering

Vacío de alta pureza de los componentes electrónicos recubierto de titanio con objetivos de sputtering

US$ 10,00-15,00
1 Kg(MOQ)

Zhengzhou Tainuo Film Materials Co., Ltd.

9 años
·Fabricante/Fábrica
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Precio de fábrica de recubrimiento por magnetrón para metal y cromo níquel

Precio de fábrica de recubrimiento por magnetrón para metal y cromo níquel

US$ 19.000,00-23.000,00
1 Pieza(MOQ)
4-Inch Recubridor de Sputtering de Magnetrón de Objetivo Único de Corriente Continua para Película de Óxido

4-Inch Recubridor de Sputtering de Magnetrón de Objetivo Único de Corriente Continua para Película de Óxido

US$ 32.000,00-34.000,00
1 set(MOQ)
Nuevo diseño de instrumento de recubrimiento por evaporación térmica de alto vacío para muestras de película

Nuevo diseño de instrumento de recubrimiento por evaporación térmica de alto vacío para muestras de película

US$ 52.000,00-54.200,00
1 set(MOQ)
4 Recubridor de Sputtering Magnetrón de 1 pulgada Sputtering Directo de Níquel en Masterización de Vinilo

4 Recubridor de Sputtering Magnetrón de 1 pulgada Sputtering Directo de Níquel en Masterización de Vinilo

US$ 32.000,00-34.000,00
1 set(MOQ)
1/4

Jinan Hengcheng Aluminum Co., Ltd.

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Objetivo de sputtering de aluminio y titanio, objetivo de sputtering de titanio y aluminio

Objetivo de sputtering de aluminio y titanio, objetivo de sputtering de titanio y aluminio

US$ 3.380,00
1 Tonelada(MOQ)
Objetivo de Sputtering de Aluminio Titanio Alloy/50 para Máquina de Recubrimiento PVD

Objetivo de Sputtering de Aluminio Titanio Alloy/50 para Máquina de Recubrimiento PVD

US$ 3.380,00
1 Tonelada(MOQ)
1/4

Hunan Ultra Minor Metals Ltd

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Tungsteno de alta pureza níquel cromo/níquel cromo/ tungsteno níquel esputante objetivo Para la industria de películas delgadas

Tungsteno de alta pureza níquel cromo/níquel cromo/ tungsteno níquel esputante objetivo Para la industria de películas delgadas

Negociable
1 Pieza(MOQ)

Huameixin International Trading Limited

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Objetivo de níquel

Objetivo de níquel

US$ 20,00
1 Pieza(MOQ)

Super Magnet Co., Ltd

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2-Vía señales magnéticas para codificadores magnéticos absoluta IC-Mu Hut128

2-Vía señales magnéticas para codificadores magnéticos absoluta IC-Mu Hut128

US$ 21,00
5 Piezas(MOQ)

Shanghai Zenkaah New Materials Technology Co., Ltd.

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Material objetivo de níquel de alta pureza, objetivo de recubrimiento de vacío de PVD de níquel, objetivo de aleación derretida al vacío, objetivo de aleación de níquel-vanadio

Material objetivo de níquel de alta pureza, objetivo de recubrimiento de vacío de PVD de níquel, objetivo de aleación derretida al vacío, objetivo de aleación de níquel-vanadio

Negociable
1 Pieza(MOQ)

Sid Metal Co., Ltd

13 años
·Fabricante/Fábrica & Empresa Comercial
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Alta Pureza Zr702 Zr705 Objetivo de Zirconio Conductividad Térmica Objetivo de Sputtering

Alta Pureza Zr702 Zr705 Objetivo de Zirconio Conductividad Térmica Objetivo de Sputtering

US$ 0,05-100,00
1 Pieza(MOQ)
Precio de fábrica 99.95% Metal Tántalo puro objetivo de sputtering Ta objetivos planos de tantalio

Precio de fábrica 99.95% Metal Tántalo puro objetivo de sputtering Ta objetivos planos de tantalio

US$ 1,00-100,00
1 Pieza(MOQ)
Objetivo de sputtering de titanio de alta pureza, planar para la industria de semiconductores, circuitos integrados, vidrio para construcción y automóviles

Objetivo de sputtering de titanio de alta pureza, planar para la industria de semiconductores, circuitos integrados, vidrio para construcción y automóviles

US$ 1,00-100,00
1 Pieza(MOQ)
Objetivo de Sputtering de Titanio Ti / Objetivo Rotatorio de Titanio para Semiconductores / Sputtering de Recubrimiento al Vacío

Objetivo de Sputtering de Titanio Ti / Objetivo Rotatorio de Titanio para Semiconductores / Sputtering de Recubrimiento al Vacío

US$ 1,00-100,00
1 Pieza(MOQ)
1/4

Shanghai Tankii Alloy Material Co., Ltd.

5.0
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Venta directa de fábrica de objetivo de sputtering de cromo utilizado para preparar películas delgadas de galgas de deformación resistivas

Venta directa de fábrica de objetivo de sputtering de cromo utilizado para preparar películas delgadas de galgas de deformación resistivas

US$ 60,00-150,00
1 Pieza(MOQ)
Fabricante personalizado de bajo precio, metal de cromo puro de alta pureza, objetivo de sputtering de Cr para recubrimiento PVD

Fabricante personalizado de bajo precio, metal de cromo puro de alta pureza, objetivo de sputtering de Cr para recubrimiento PVD

US$ 60,00-150,00
1 Pieza(MOQ)
Precio de fábrica 99.999% objetivo de sputtering de cromo

Precio de fábrica 99.999% objetivo de sputtering de cromo

US$ 60,00-150,00
1 Pieza(MOQ)
Alta Pureza 99.99% TANKII Metal Cromo Objetivos de Sputtering

Alta Pureza 99.99% TANKII Metal Cromo Objetivos de Sputtering

US$ 60,00-150,00
1 Pieza(MOQ)
1/4

Zhejiang Ruisheng New Materials Co., Ltd.

Empresa Comercial
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Objetivo de tungsteno pulido de alta pureza para aplicaciones avanzadas de bombardeo iónico

Objetivo de tungsteno pulido de alta pureza para aplicaciones avanzadas de bombardeo iónico

US$ 50,00-270,00
10 Kg(MOQ)
Objetivo de Sputtering de Tungsteno de Alta Pureza 99.95% Deposición de Películas Finas de Semiconductores Personalizable Estándar ASTM

Objetivo de Sputtering de Tungsteno de Alta Pureza 99.95% Deposición de Películas Finas de Semiconductores Personalizable Estándar ASTM

US$ 60,00-100,00
1 Kg(MOQ)
Objetivo de tungsteno rotativo premium para aplicaciones de sputtering eficientes

Objetivo de tungsteno rotativo premium para aplicaciones de sputtering eficientes

US$ 50,00-270,00
10 Kg(MOQ)
Placa de aleación de tungsteno níquel hierro de alta densidad para contrapesos de rotores de giroscopios aeroespaciales

Placa de aleación de tungsteno níquel hierro de alta densidad para contrapesos de rotores de giroscopios aeroespaciales

US$ 68,00-131,00
10 Kg(MOQ)
1/4

Zhuzhou Hongtong Tungsten Carbide Co., Ltd.

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Objetivo de ánodo rotatorio CT para tubos de rayos X consumibles hecho de molibdeno y tungsteno

Objetivo de ánodo rotatorio CT para tubos de rayos X consumibles hecho de molibdeno y tungsteno

US$ 65,00-70,00
10 Piezas(MOQ)
Anodo Estacionario para Tubo de Rayos X

Anodo Estacionario para Tubo de Rayos X

US$ 65,00-70,00
10 Piezas(MOQ)
Placa de tungsteno carburo pulido espejo con aglutinante de níquel

Placa de tungsteno carburo pulido espejo con aglutinante de níquel

US$ 38,00-45,00
10 Kg(MOQ)
Proporcionar productos semiterminados y terminados de objetivo de ánodo estacionario para partes de tubos de rayos X

Proporcionar productos semiterminados y terminados de objetivo de ánodo estacionario para partes de tubos de rayos X

US$ 65,00-70,00
10 Piezas(MOQ)
1/4

Shandong Quansheng Material Technology Group Co., LTD

3 años
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Alta Calidad 15mm Objetivo Redondo de Tantalio para Recubrimiento al Vacío

Alta Calidad 15mm Objetivo Redondo de Tantalio para Recubrimiento al Vacío

US$ 351,00-601,00
5 Kg(MOQ)
Tubería de Níquel Industrial de Fábrica N6n8 Resistente a Ácidos y Álcali Personalizable Directamente

Tubería de Níquel Industrial de Fábrica N6n8 Resistente a Ácidos y Álcali Personalizable Directamente

US$ 71,00-79,00
1 Kg(MOQ)
Placa de tungsteno W1 para recubrimiento al vacío y objetivos de pulverización

Placa de tungsteno W1 para recubrimiento al vacío y objetivos de pulverización

US$ 56,00-61,00
5 Kg(MOQ)
Hoja de tungsteno pulido con acabado espejo para recubrimiento de rayos X

Hoja de tungsteno pulido con acabado espejo para recubrimiento de rayos X

US$ 55,00-60,00
1 Kg(MOQ)
1/4

Uv Tech Material Ltd

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Objetivos de recubrimiento de vidrio Msvd contenedor de carga para la exportación Vicky-Chan@Uvtm. COM

Objetivos de recubrimiento de vidrio Msvd contenedor de carga para la exportación Vicky-Chan@Uvtm. COM

Negociable
1 Pieza(MOQ)
Si se puede girar de forma cilíndrica de cátodos de destino de silicio de alta calidad Monilithic rectas y de forma Dogbone

Si se puede girar de forma cilíndrica de cátodos de destino de silicio de alta calidad Monilithic rectas y de forma Dogbone

Negociable
1 Pieza(MOQ)
Azo Sputering Objetivo Material de recubrimiento cerámico blanco para la industria del vidrio de recubrimiento de película fina

Azo Sputering Objetivo Material de recubrimiento cerámico blanco para la industria del vidrio de recubrimiento de película fina

Negociable
1 Pieza(MOQ)
Rotary indio Blanco en blanco de sputtering

Rotary indio Blanco en blanco de sputtering

Negociable
1 Pieza(MOQ)

Zhongzheng Yejin Technology Co., Ltd.

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99.99% Objetivo de recubrimiento por pulverización de níquel, objetivo magnético decorativo para recubrimiento de metal

99.99% Objetivo de recubrimiento por pulverización de níquel, objetivo magnético decorativo para recubrimiento de metal

Negociable
1 Pieza(MOQ)
Objetivo de Sputtering de Níquel 99.99% Objetivo de Ni de Alta Pureza para Recubrimiento PVD

Objetivo de Sputtering de Níquel 99.99% Objetivo de Ni de Alta Pureza para Recubrimiento PVD

Negociable
1 Pieza(MOQ)
99.9% Precio del objetivo de níquel de alta pureza, objetivo de aleación de níquel, objetivo de pulverización de níquel

99.9% Precio del objetivo de níquel de alta pureza, objetivo de aleación de níquel, objetivo de pulverización de níquel

Negociable
1 Pieza(MOQ)
Venta caliente de objetivo de sputtering de níquel con alta pureza

Venta caliente de objetivo de sputtering de níquel con alta pureza

Negociable
1 Pieza(MOQ)
1/2

Zhengzhou CY Scientific Instrument Co., Ltd.

13 años
·Fabricante/Fábrica & Empresa Comercial
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Depósito por Sputtering de Magnetrón de Doble Objetivo de CC y RF para Películas Delgadas de Metal y Óxido

Depósito por Sputtering de Magnetrón de Doble Objetivo de CC y RF para Películas Delgadas de Metal y Óxido

US$ 21.000,00-26.000,00
1 Pieza(MOQ)
Objetivo de cobre, objetivo de recubrimiento al vacío

Objetivo de cobre, objetivo de recubrimiento al vacío

US$ 692,00
10 Piezas(MOQ)
Sistema de recubrimiento por evaporación térmica pequeña para la preparación de películas conductoras

Sistema de recubrimiento por evaporación térmica pequeña para la preparación de películas conductoras

US$ 39.500,00-64.900,00
1 Pieza(MOQ)
Temperatura de Calentamiento 400c Sistema de Recubrimiento por Evaporación para Complejos Organometálicos (CY-300A)

Temperatura de Calentamiento 400c Sistema de Recubrimiento por Evaporación para Complejos Organometálicos (CY-300A)

US$ 39.500,00-64.900,00
1 Pieza(MOQ)
1/4

Changsha Xinkang Advanced Materials Co., Ltd

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Blanco de la farfulla de la pureza elevada 99.995% Ni/Nickel

Blanco de la farfulla de la pureza elevada 99.995% Ni/Nickel

US$ 20,00
1 Pieza(MOQ)
99.95% Cromo del níquel de la pureza/blanco de la farfulla de Nicr

99.95% Cromo del níquel de la pureza/blanco de la farfulla de Nicr

US$ 30,00
1 Pieza(MOQ)
99.9% Blanco de la farfulla del níquel Copper/Nicu de la pureza

99.9% Blanco de la farfulla del níquel Copper/Nicu de la pureza

US$ 30,00
1 Pieza(MOQ)
99.9% Blanco de la farfulla vanadio/Niv7 del níquel de la pureza

99.9% Blanco de la farfulla vanadio/Niv7 del níquel de la pureza

US$ 50,00
1 Pieza(MOQ)

Jiangyin Entret Coating Technology Co., Ltd.

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Planar de titanio de alta pureza Sputtering meta de 2n6 a 4n, 4n5, 5n

Planar de titanio de alta pureza Sputtering meta de 2n6 a 4n, 4n5, 5n

US$ 30,00-50,00
1 Pieza(MOQ)
El titanio de Sputtering meta en la Pureza

El titanio de Sputtering meta en la Pureza

US$ 30,00-50,00
1 Pieza(MOQ)
Silicon blanco de Sputtering giratorio de aluminio de alta calidad (sputtering meta)

Silicon blanco de Sputtering giratorio de aluminio de alta calidad (sputtering meta)

US$ 200,00-300,00
2 Piezas(MOQ)
Sputtering Meta: Titanium Sputtering Meta, meta de ti

Sputtering Meta: Titanium Sputtering Meta, meta de ti

US$ 100,00
10 Piezas(MOQ)

Xi'an Kefeng Powder Metallurgy Co., Ltd.

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Hojas y Placas de Molibdeno

Hojas y Placas de Molibdeno

US$ 100,00-500,00
10 Kg(MOQ)
Blindaje de tungsteno y colimadores para diagnósticos y aplicaciones terapéuticas en medicina nuclear

Blindaje de tungsteno y colimadores para diagnósticos y aplicaciones terapéuticas en medicina nuclear

US$ 50,00-100,00
10 Kg(MOQ)
Colimador de tungsteno para medicina nuclear en lámina de placa

Colimador de tungsteno para medicina nuclear en lámina de placa

US$ 50,00-100,00
10 Kg(MOQ)
Fabricante líder chino de alta calidad en tubo y anillo de aleación de tungsteno

Fabricante líder chino de alta calidad en tubo y anillo de aleación de tungsteno

US$ 50,00-500,00
10 Kg(MOQ)
1/4

CHANGSHA EASCHEM CO., LIMITED

5 años
·Empresa Comercial
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Objetivo de sputtering de niobio de alta calidad con número CAS 7440-03-1

Objetivo de sputtering de niobio de alta calidad con número CAS 7440-03-1

Negociable
1 Piece(MOQ)
Objetivo de Sputtering de Metal Niobio con No CAS 7440-03-1 y Nb

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Negociable
1 Piece(MOQ)
Precio de fábrica Vender objetivo de metal niobio de alta calidad con número CAS 7440-03-1

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Negociable
1 Piece(MOQ)
Precio de fábrica Vender blanco de sputtering de niobio puro de alta calidad

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