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sobre Objetivo de níquel
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Objetivo de níquel400+ fábricas verificadas

Changsha Xinkang Advanced Materials Co., Ltd.

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Objetivos de Sputtering de Aleación de Níquel de Alta Pureza Xinkang Níquel Vanadio Niv7%

Objetivos de Sputtering de Aleación de Níquel de Alta Pureza Xinkang Níquel Vanadio Niv7%

US$ 35,00-40,00
1 Pieza(MOQ)
Objetivo de pulverización de aleación de níquel y cromo de alta calidad para recubrimiento

Objetivo de pulverización de aleación de níquel y cromo de alta calidad para recubrimiento

US$ 35,00-40,00
1 Pieza(MOQ)
Objetivo de sputtering de aleación de níquel de tamaño personalizado

Objetivo de sputtering de aleación de níquel de tamaño personalizado

US$ 45,00-100,00
1 Pieza(MOQ)
Objetivo de Sputtering de Aleación de Cobre Níquel de Alta Pureza 99.95%

Objetivo de Sputtering de Aleación de Cobre Níquel de Alta Pureza 99.95%

US$ 160,00-167,00
1 Pieza(MOQ)
1/4

SUZHOU TECHNO-TEC PHOTOELECTRIC MATERIALS CO., LTD

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Aleación CuNiTi Target Cobre níquel Titanio aleación esputtering objetivo para LCD/panel táctil

Aleación CuNiTi Target Cobre níquel Titanio aleación esputtering objetivo para LCD/panel táctil

US$ 50,00
1 Kg(MOQ)
Objetivo de aleación de NIV níquel de vanadio objetivo de esputo de aleación para LCD/semiconductor

Objetivo de aleación de NIV níquel de vanadio objetivo de esputo de aleación para LCD/semiconductor

US$ 100,00
1 Kg(MOQ)
Objetivo de niquelado de níquel para semiconductores

Objetivo de niquelado de níquel para semiconductores

US$ 100,00-130,00
1 Kg(MOQ)
Objetivo de aleación de NiCr cromo níquel objetivo de espumación de aleación para LCD/integrado Circuitos

Objetivo de aleación de NiCr cromo níquel objetivo de espumación de aleación para LCD/integrado Circuitos

US$ 35,00
1 Kg(MOQ)
1/4

Ningbo Galaxy International Trading Co., Ltd.

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99.9% Objetivo de recubrimiento al vacío de níquel, cromo y aluminio para el proceso PVD, objetivo de cromo y tantalio

99.9% Objetivo de recubrimiento al vacío de níquel, cromo y aluminio para el proceso PVD, objetivo de cromo y tantalio

US$ 55,00
1 Pieza(MOQ)
Objetivo redondo de níquel preventivo de corrosión de alta calidad

Objetivo redondo de níquel preventivo de corrosión de alta calidad

US$ 10,00
5 Piezas(MOQ)
Objetivo de fabricación de capacitores de níquel con tubería de níquel preventivo de corrosión coloreado

Objetivo de fabricación de capacitores de níquel con tubería de níquel preventivo de corrosión coloreado

US$ 30,00
10 Piezas(MOQ)
Buen objetivo de tubo de níquel puro con buena conductividad térmica para recubrimiento

Buen objetivo de tubo de níquel puro con buena conductividad térmica para recubrimiento

US$ 125,00-130,00
1 Pieza(MOQ)
1/4

Beenine Shanke Technology Co., Ltd.

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Objetivo de sputtering tubular plano de níquel de alta pureza valor precio fábrica

Objetivo de sputtering tubular plano de níquel de alta pureza valor precio fábrica

US$ 300,00-1.000,00
1 Pieza(MOQ)
Objetivo de sputtering de aleación de cobre níquel Cu/Ni de construcción multi-PCS

Objetivo de sputtering de aleación de cobre níquel Cu/Ni de construcción multi-PCS

US$ 300,00-1.000,00
1 Pieza(MOQ)
Objetivo de sputtering de níquel de alta calidad unión Ni

Objetivo de sputtering de níquel de alta calidad unión Ni

US$ 300,00-1.000,00
1 Pieza(MOQ)
Objetivo de sputtering de aleación de níquel cromo de alta calidad con unión de níquel

Objetivo de sputtering de aleación de níquel cromo de alta calidad con unión de níquel

US$ 80,00-800,00
1 Pieza(MOQ)
1/4

Rheniumet Ltd.

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Objetivo de sputtering de níquel cromo

Objetivo de sputtering de níquel cromo

US$ 1.000,00-3.000,00
1 Pieza(MOQ)
44-149μ Polvo de Cromo Esférico

44-149μ Polvo de Cromo Esférico

Negociable
10 Kg(MOQ)
Polvo de cromo esférico 99.9% Mínimo utilizado en fabricación aditiva y pulverización térmica

Polvo de cromo esférico 99.9% Mínimo utilizado en fabricación aditiva y pulverización térmica

Negociable
10 Kg(MOQ)
Objetivo de sputtering de aleación de tungsteno y níquel en forma de cuadrado o rectángulo

Objetivo de sputtering de aleación de tungsteno y níquel en forma de cuadrado o rectángulo

US$ 500,00-1.000,00
1 Pieza(MOQ)
1/4

Shaanxi Mingsheng Guangpu Metal Materials Co., Ltd.

3 años
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Objetivos de Sputtering de Níquel de Precisión para Películas Conductivas de Instrumentos de Precisión

Objetivos de Sputtering de Níquel de Precisión para Películas Conductivas de Instrumentos de Precisión

US$ 110,00-130,00
50 kilograms(MOQ)
Objetivos de sputtering de níquel resistente al desgaste para recubrimiento de sensores electrónicos automotrices

Objetivos de sputtering de níquel resistente al desgaste para recubrimiento de sensores electrónicos automotrices

US$ 120,00-140,00
50 kilograms(MOQ)
Objetivos de Sputtering de Níquel de Ultra Alta Densidad para Metalización de Wafers Semiconductores

Objetivos de Sputtering de Níquel de Ultra Alta Densidad para Metalización de Wafers Semiconductores

US$ 80,00-100,00
50 kilograms(MOQ)
Objetivos de Sputtering de Níquel de Alta Densidad Msgp - Perfectamente Adecuados para Aplicaciones de Recubrimiento de Dispositivos Médicos

Objetivos de Sputtering de Níquel de Alta Densidad Msgp - Perfectamente Adecuados para Aplicaciones de Recubrimiento de Dispositivos Médicos

US$ 260,00-280,00
50 kilograms(MOQ)
1/4

Lonwin Industry Group Limited

5.0
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99.9% Objetivos de aleación de Alni, objetivos de aluminio y níquel para sputtering

99.9% Objetivos de aleación de Alni, objetivos de aluminio y níquel para sputtering

US$ 17,00-55,00
1 Kg(MOQ)
Objetivo de aleación Nicrsi de níquel, cromo y silicio para recubrimiento por PVD

Objetivo de aleación Nicrsi de níquel, cromo y silicio para recubrimiento por PVD

US$ 17,00-55,00
1 Kg(MOQ)
99.9% Nisi2 Objetivos de Cerámica Objetivos de Sputtering de Silicuro de Níquel

99.9% Nisi2 Objetivos de Cerámica Objetivos de Sputtering de Silicuro de Níquel

US$ 17,00-55,00
1 Kg(MOQ)
99.99% Blanco de aleación de níquel y cobre Nicu para recubrimiento PVD

99.99% Blanco de aleación de níquel y cobre Nicu para recubrimiento PVD

US$ 17,00-55,00
1 Kg(MOQ)
1/4

Dongguan Gravel Industries and Enterprise Company Limited

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Objetivo de níquel de sputtering magnetrón de alta pureza

Objetivo de níquel de sputtering magnetrón de alta pureza

US$ 800,00
1 Pieza(MOQ)
Objetivo de Níquel 99.99 Objetivo de Sputtering de Alta Pureza

Objetivo de Níquel 99.99 Objetivo de Sputtering de Alta Pureza

US$ 1.500,00
1 Pieza(MOQ)
Objetivo de sputtering de aleación de níquel y hierro de alta pureza

Objetivo de sputtering de aleación de níquel y hierro de alta pureza

US$ 6.000,00
1 Pieza(MOQ)
Partículas de níquel de alta pureza vaporizadas al vacío

Partículas de níquel de alta pureza vaporizadas al vacío

US$ 350,00
1 Kg(MOQ)
1/4

Xiamen Tmax Battery Equipments Limited

5.0
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Marca TMAXCN Alta Pureza 99.95% Hierro Níquel Fe-Ni Blanco de Pulverización para Recubrimiento de Película Delgada de Metal

Marca TMAXCN Alta Pureza 99.95% Hierro Níquel Fe-Ni Blanco de Pulverización para Recubrimiento de Película Delgada de Metal

US$ 78,00-90,00
1 Pieza(MOQ)
Marca TMAXCN Alta Pureza 99.99% Níquel Ni Blanco de Sputtering para Recubrimiento de Película Delgada de Metal

Marca TMAXCN Alta Pureza 99.99% Níquel Ni Blanco de Sputtering para Recubrimiento de Película Delgada de Metal

US$ 78,00-90,00
1 Pieza(MOQ)
Máquina de recubrimiento por pulverización de plasma rotativo TMAXCN Marca VTC-16-3HD-LD 3 incluyendo 3 objetivos

Máquina de recubrimiento por pulverización de plasma rotativo TMAXCN Marca VTC-16-3HD-LD 3 incluyendo 3 objetivos

US$ 8.000,00
1 Pieza(MOQ)
Máquina de recubrimiento por pulverización catódica híbrida PVD / CVD de laboratorio de la marca TMAXCN VTC-150-H para recubrimiento de películas multicapa

Máquina de recubrimiento por pulverización catódica híbrida PVD / CVD de laboratorio de la marca TMAXCN VTC-150-H para recubrimiento de películas multicapa

US$ 7.000,00
1 Pieza(MOQ)
1/4

Inner Mongolia Rongtai Rhenium New Materials Co., Ltd.

5.0
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Objetivo de Sputtering de Níquel Cobalto Yttrio Premium 99.9% para Recubrimiento Óptico

Objetivo de Sputtering de Níquel Cobalto Yttrio Premium 99.9% para Recubrimiento Óptico

US$ 115,00-130,00
1 Pieza(MOQ)
Objetivo de metal de gadolinio raro y duradero de alta calidad para dispositivos

Objetivo de metal de gadolinio raro y duradero de alta calidad para dispositivos

US$ 55,00-85,00
1 Pieza(MOQ)
Objetivo de Metal de Yttrio de Alta Pureza para Almacenamiento de Datos Avanzado

Objetivo de Metal de Yttrio de Alta Pureza para Almacenamiento de Datos Avanzado

US$ 115,00-130,00
1 Pieza(MOQ)
Objetivo de Cerio Raro Premium para la Fabricación de Chips

Objetivo de Cerio Raro Premium para la Fabricación de Chips

US$ 55,00-85,00
1 Pieza(MOQ)
1/4

Zhonghe Steel (Tianjin) Co., Ltd.

5 años
·Empresa Comercial
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Objetivo de Titanio de Alta Pureza para Máquina de Recubrimiento PVD

Objetivo de Titanio de Alta Pureza para Máquina de Recubrimiento PVD

US$ 10,00-25,00
1 Pieza(MOQ)
Personalización de objetivo de sputtering de titanio para necesidades de recubrimiento especializadas

Personalización de objetivo de sputtering de titanio para necesidades de recubrimiento especializadas

US$ 10,00-25,00
1 Pieza(MOQ)
Precio del objetivo de sputtering de titanio PVD personalizado

Precio del objetivo de sputtering de titanio PVD personalizado

US$ 10,00-25,00
1 Pieza(MOQ)
Alta Pureza 99.6% PVD M86 Objetivo de Titanio Od 98X40mm Objetivo de Titanio

Alta Pureza 99.6% PVD M86 Objetivo de Titanio Od 98X40mm Objetivo de Titanio

US$ 10,00-25,00
1 Pieza(MOQ)
1/4

Shenzhen Hongchen New Materials Co., Ltd

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Material de recubrimiento de níquel de alta pureza Rotary Magnetron sputtering Target

Material de recubrimiento de níquel de alta pureza Rotary Magnetron sputtering Target

US$ 10,00-15,00
1 Kg(MOQ)
Vacío de alta pureza de los componentes electrónicos recubierto de titanio con objetivos de sputtering

Vacío de alta pureza de los componentes electrónicos recubierto de titanio con objetivos de sputtering

US$ 10,00-15,00
1 Kg(MOQ)
Titanio esputtering Target Titanium Plate para Color Coating Watch Electronic Componentes

Titanio esputtering Target Titanium Plate para Color Coating Watch Electronic Componentes

US$ 10,00-15,00
1 Kg(MOQ)
99,999% Titanium Target TI Target para máquina de revestimiento PVD

99,999% Titanium Target TI Target para máquina de revestimiento PVD

US$ 10,00-15,00
1 Kg(MOQ)

Zhengzhou Tainuo Film Materials Co., Ltd.

9 años
·Fabricante/Fábrica
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Precio de fábrica de recubrimiento por magnetrón para metal y cromo níquel

Precio de fábrica de recubrimiento por magnetrón para metal y cromo níquel

US$ 19.000,00-23.000,00
1 Pieza(MOQ)
4-Inch Recubridor de Sputtering de Magnetrón de Objetivo Único de Corriente Continua para Película de Óxido

4-Inch Recubridor de Sputtering de Magnetrón de Objetivo Único de Corriente Continua para Película de Óxido

US$ 32.000,00-34.000,00
1 set(MOQ)
Nuevo diseño de instrumento de recubrimiento por evaporación térmica de alto vacío para muestras de película

Nuevo diseño de instrumento de recubrimiento por evaporación térmica de alto vacío para muestras de película

US$ 52.000,00-54.200,00
1 set(MOQ)
4 Recubridor de Sputtering Magnetrón de 1 pulgada Sputtering Directo de Níquel en Masterización de Vinilo

4 Recubridor de Sputtering Magnetrón de 1 pulgada Sputtering Directo de Níquel en Masterización de Vinilo

US$ 32.000,00-34.000,00
1 set(MOQ)
1/4

Jinan Hengcheng Aluminum Co., Ltd.

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Objetivo de sputtering de aluminio y titanio, objetivo de sputtering de titanio y aluminio

Objetivo de sputtering de aluminio y titanio, objetivo de sputtering de titanio y aluminio

US$ 3.380,00
1 Tonelada(MOQ)
Objetivo de Sputtering de Aluminio Titanio Alloy/50 para Máquina de Recubrimiento PVD

Objetivo de Sputtering de Aluminio Titanio Alloy/50 para Máquina de Recubrimiento PVD

US$ 3.380,00
1 Tonelada(MOQ)
1/4

Hunan Ultra Minor Metals Ltd

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Tungsteno de alta pureza níquel cromo/níquel cromo/ tungsteno níquel esputante objetivo Para la industria de películas delgadas

Tungsteno de alta pureza níquel cromo/níquel cromo/ tungsteno níquel esputante objetivo Para la industria de películas delgadas

Negociable
1 Pieza(MOQ)

Huameixin International Trading Limited

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Objetivo de níquel

Objetivo de níquel

US$ 20,00
1 Pieza(MOQ)

Shanghai Zenkaah New Materials Technology Co., Ltd.

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Material objetivo de níquel de alta pureza, objetivo de recubrimiento de vacío de PVD de níquel, objetivo de aleación derretida al vacío, objetivo de aleación de níquel-vanadio

Material objetivo de níquel de alta pureza, objetivo de recubrimiento de vacío de PVD de níquel, objetivo de aleación derretida al vacío, objetivo de aleación de níquel-vanadio

Negociable
1 Pieza(MOQ)

Super Magnet Co., Ltd

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2-Vía señales magnéticas para codificadores magnéticos absoluta IC-Mu Hut128

2-Vía señales magnéticas para codificadores magnéticos absoluta IC-Mu Hut128

US$ 21,00
5 Piezas(MOQ)

Sid Metal Co., Ltd

13 años
·Fabricante/Fábrica & Empresa Comercial
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Precio de fábrica 99.95% Metal Tántalo puro objetivo de sputtering Ta objetivos planos de tantalio

Precio de fábrica 99.95% Metal Tántalo puro objetivo de sputtering Ta objetivos planos de tantalio

US$ 1,00-100,00
1 Pieza(MOQ)
Objetivo de Sputtering de Titanio Ti / Objetivo Rotatorio de Titanio para Semiconductores / Sputtering de Recubrimiento al Vacío

Objetivo de Sputtering de Titanio Ti / Objetivo Rotatorio de Titanio para Semiconductores / Sputtering de Recubrimiento al Vacío

US$ 1,00-100,00
1 Pieza(MOQ)
Alta Pureza Zr702 Zr705 Objetivo de Zirconio Conductividad Térmica Objetivo de Sputtering

Alta Pureza Zr702 Zr705 Objetivo de Zirconio Conductividad Térmica Objetivo de Sputtering

US$ 0,05-100,00
1 Pieza(MOQ)
Objetivo de sputtering de titanio de alta pureza, planar para la industria de semiconductores, circuitos integrados, vidrio para construcción y automóviles

Objetivo de sputtering de titanio de alta pureza, planar para la industria de semiconductores, circuitos integrados, vidrio para construcción y automóviles

US$ 1,00-100,00
1 Pieza(MOQ)
1/4

Shanghai Tankii Alloy Material Co., Ltd.

5.0
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Tipo de recubrimiento PVD más popular, uso de objetivo de sputtering de cromo tipo placa

Tipo de recubrimiento PVD más popular, uso de objetivo de sputtering de cromo tipo placa

US$ 60,00-150,00
1 Pieza(MOQ)
Venta directa de fábrica de objetivo de sputtering de cromo utilizado para preparar películas delgadas de galgas de deformación resistivas

Venta directa de fábrica de objetivo de sputtering de cromo utilizado para preparar películas delgadas de galgas de deformación resistivas

US$ 60,00-150,00
1 Pieza(MOQ)
Alta Pureza 99.99% TANKII Metal Cromo Objetivos de Sputtering

Alta Pureza 99.99% TANKII Metal Cromo Objetivos de Sputtering

US$ 60,00-150,00
1 Pieza(MOQ)
Fabricante personalizado de bajo precio, metal de cromo puro de alta pureza, objetivo de sputtering de Cr para recubrimiento PVD

Fabricante personalizado de bajo precio, metal de cromo puro de alta pureza, objetivo de sputtering de Cr para recubrimiento PVD

US$ 60,00-150,00
1 Pieza(MOQ)
1/4

Zhejiang Ruisheng New Materials Co., Ltd.

Empresa Comercial
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Objetivo de tungsteno pulido de alta pureza para aplicaciones avanzadas de bombardeo iónico

Objetivo de tungsteno pulido de alta pureza para aplicaciones avanzadas de bombardeo iónico

US$ 50,00-270,00
10 Kg(MOQ)
Objetivo de tungsteno rotativo premium para aplicaciones de sputtering eficientes

Objetivo de tungsteno rotativo premium para aplicaciones de sputtering eficientes

US$ 50,00-270,00
10 Kg(MOQ)
Varilla de aleación de tungsteno, níquel y cobre no magnética, alta densidad, contrapeso de rotor de giroscopio para instrumentos de precisión, anti interferencia

Varilla de aleación de tungsteno, níquel y cobre no magnética, alta densidad, contrapeso de rotor de giroscopio para instrumentos de precisión, anti interferencia

US$ 58,00-121,50
10 Kg(MOQ)
Placa de aleación de tungsteno níquel hierro de alta densidad para contrapesos de rotores de giroscopios aeroespaciales

Placa de aleación de tungsteno níquel hierro de alta densidad para contrapesos de rotores de giroscopios aeroespaciales

US$ 68,00-131,00
10 Kg(MOQ)
1/4

Shandong Quansheng Material Technology Group Co., LTD

3 años
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Alta Calidad 15mm Objetivo Redondo de Tantalio para Recubrimiento al Vacío

Alta Calidad 15mm Objetivo Redondo de Tantalio para Recubrimiento al Vacío

US$ 351,00-601,00
1 Kg(MOQ)
Tubería de Níquel Industrial de Fábrica N6n8 Resistente a Ácidos y Álcali Personalizable Directamente

Tubería de Níquel Industrial de Fábrica N6n8 Resistente a Ácidos y Álcali Personalizable Directamente

US$ 71,00-79,00
1 Kg(MOQ)
Hoja de tungsteno pulido con acabado espejo para recubrimiento de rayos X

Hoja de tungsteno pulido con acabado espejo para recubrimiento de rayos X

US$ 55,00-60,00
1 Kg(MOQ)
Placa de tungsteno de gran tamaño para recubrimiento al vacío y objetivos de pulverización

Placa de tungsteno de gran tamaño para recubrimiento al vacío y objetivos de pulverización

US$ 56,00-61,00
1 Kg(MOQ)
1/4

Zhongzheng Yejin Technology Co., Ltd.

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Objetivo de Sputtering de Níquel 99.99% Objetivo de Ni de Alta Pureza para Recubrimiento PVD

Objetivo de Sputtering de Níquel 99.99% Objetivo de Ni de Alta Pureza para Recubrimiento PVD

Negociable
1 Pieza(MOQ)
99.99% Objetivo de recubrimiento por pulverización de níquel, objetivo magnético decorativo para recubrimiento de metal

99.99% Objetivo de recubrimiento por pulverización de níquel, objetivo magnético decorativo para recubrimiento de metal

Negociable
1 Pieza(MOQ)
Venta caliente de objetivo de sputtering de níquel con alta pureza

Venta caliente de objetivo de sputtering de níquel con alta pureza

Negociable
1 Pieza(MOQ)
99.9% Precio del objetivo de níquel de alta pureza, objetivo de aleación de níquel, objetivo de pulverización de níquel

99.9% Precio del objetivo de níquel de alta pureza, objetivo de aleación de níquel, objetivo de pulverización de níquel

Negociable
1 Pieza(MOQ)
1/2

Uv Tech Material Ltd

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Si se puede girar de forma cilíndrica de cátodos de destino de silicio de alta calidad Monilithic rectas y de forma Dogbone

Si se puede girar de forma cilíndrica de cátodos de destino de silicio de alta calidad Monilithic rectas y de forma Dogbone

Negociable
1 Pieza(MOQ)
Azo Sputering Objetivo Material de recubrimiento cerámico blanco para la industria del vidrio de recubrimiento de película fina

Azo Sputering Objetivo Material de recubrimiento cerámico blanco para la industria del vidrio de recubrimiento de película fina

Negociable
1 Pieza(MOQ)
PVD de aluminio cilíndrica de destino al destino Sputter giratorio el 99,999% pureza 2n-5n disponible

PVD de aluminio cilíndrica de destino al destino Sputter giratorio el 99,999% pureza 2n-5n disponible

Negociable
1 Pieza(MOQ)
Objetivos de recubrimiento de vidrio Msvd contenedor de carga para la exportación Vicky-Chan@Uvtm. COM

Objetivos de recubrimiento de vidrio Msvd contenedor de carga para la exportación Vicky-Chan@Uvtm. COM

Negociable
1 Pieza(MOQ)

Zhengzhou CY Scientific Instrument Co., Ltd.

13 años
·Fabricante/Fábrica & Empresa Comercial
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Depósito por Sputtering de Magnetrón de Doble Objetivo de CC y RF para Películas Delgadas de Metal y Óxido

Depósito por Sputtering de Magnetrón de Doble Objetivo de CC y RF para Películas Delgadas de Metal y Óxido

US$ 21.000,00-26.000,00
1 Pieza(MOQ)
Objetivo de cobre, objetivo de recubrimiento al vacío

Objetivo de cobre, objetivo de recubrimiento al vacío

US$ 692,00
10 Piezas(MOQ)
Sistema de recubrimiento por evaporación térmica pequeña para la preparación de películas conductoras

Sistema de recubrimiento por evaporación térmica pequeña para la preparación de películas conductoras

US$ 39.500,00-64.900,00
1 Pieza(MOQ)
Temperatura de Calentamiento 400c Sistema de Recubrimiento por Evaporación para Complejos Organometálicos (CY-300A)

Temperatura de Calentamiento 400c Sistema de Recubrimiento por Evaporación para Complejos Organometálicos (CY-300A)

US$ 39.500,00-64.900,00
1 Pieza(MOQ)
1/4

Changsha Xinkang Advanced Materials Co., Ltd

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99.95% Cromo del níquel de la pureza/blanco de la farfulla de Nicr

99.95% Cromo del níquel de la pureza/blanco de la farfulla de Nicr

US$ 30,00
1 Pieza(MOQ)
99.9% Blanco de la farfulla del níquel Copper/Nicu de la pureza

99.9% Blanco de la farfulla del níquel Copper/Nicu de la pureza

US$ 30,00
1 Pieza(MOQ)
Blanco de la farfulla de la pureza elevada 99.995% Ni/Nickel

Blanco de la farfulla de la pureza elevada 99.995% Ni/Nickel

US$ 20,00
1 Pieza(MOQ)
99.9% Blanco de la farfulla vanadio/Niv7 del níquel de la pureza

99.9% Blanco de la farfulla vanadio/Niv7 del níquel de la pureza

US$ 50,00
1 Pieza(MOQ)

Jiangyin Entret Coating Technology Co., Ltd.

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Planar de titanio de alta pureza Sputtering meta de 2n6 a 4n, 4n5, 5n

Planar de titanio de alta pureza Sputtering meta de 2n6 a 4n, 4n5, 5n

US$ 30,00-50,00
1 Pieza(MOQ)
El titanio de Sputtering meta en la Pureza

El titanio de Sputtering meta en la Pureza

US$ 30,00-50,00
1 Pieza(MOQ)
Sputtering Meta: Titanium Sputtering Meta, meta de ti

Sputtering Meta: Titanium Sputtering Meta, meta de ti

US$ 100,00
10 Piezas(MOQ)
Silicon blanco de Sputtering giratorio de aluminio de alta calidad (sputtering meta)

Silicon blanco de Sputtering giratorio de aluminio de alta calidad (sputtering meta)

US$ 200,00-300,00
2 Piezas(MOQ)

Xi'an Kefeng Powder Metallurgy Co., Ltd.

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Hojas y Placas de Molibdeno

Hojas y Placas de Molibdeno

US$ 100,00-500,00
10 Kg(MOQ)
Blindaje de tungsteno y colimadores para diagnósticos y aplicaciones terapéuticas en medicina nuclear

Blindaje de tungsteno y colimadores para diagnósticos y aplicaciones terapéuticas en medicina nuclear

US$ 50,00-100,00
10 Kg(MOQ)
Colimador de tungsteno para medicina nuclear en lámina de placa

Colimador de tungsteno para medicina nuclear en lámina de placa

US$ 50,00-100,00
10 Kg(MOQ)
Componentes de blindaje de radiación de aleación de tungsteno utilizados en aplicaciones de equipos de diagnóstico médico

Componentes de blindaje de radiación de aleación de tungsteno utilizados en aplicaciones de equipos de diagnóstico médico

US$ 50,00-100,00
10 Kg(MOQ)
1/4

LORK GROUP CO., LTD

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Disco redondo de metal precioso de aleación Csf Lork personalizado 99.99% Pureza de objetivo de pulverización de oro Csf

Disco redondo de metal precioso de aleación Csf Lork personalizado 99.99% Pureza de objetivo de pulverización de oro Csf

US$ 30,00-40,00
100 Kg(MOQ)
Lork Personalizado Alta Pureza Aleación de Níquel 4n5 Pastel Redondo para Disco de Objetivo de Sputtering de Semiconductores

Lork Personalizado Alta Pureza Aleación de Níquel 4n5 Pastel Redondo para Disco de Objetivo de Sputtering de Semiconductores

US$ 30,00-40,00
100 Kg(MOQ)
Suministro Lork Super Aleación Uns K93600 4j36 Varilla para Turbinas Eólicas Invar 36 Barra Redonda

Suministro Lork Super Aleación Uns K93600 4j36 Varilla para Turbinas Eólicas Invar 36 Barra Redonda

US$ 10,00-15,00
100 Kg(MOQ)
Aleación Super Lork Uns K93600/ASTM B753 4j36 Tubo de Aleación de Precisión para Blindaje Magnético Invar 36 Tubo de Aleación

Aleación Super Lork Uns K93600/ASTM B753 4j36 Tubo de Aleación de Precisión para Blindaje Magnético Invar 36 Tubo de Aleación

US$ 10,00-15,00
100 Kg(MOQ)
1/4

CHANGSHA EASCHEM CO., LIMITED

5 años
·Empresa Comercial
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Objetivo de sputtering de niobio de alta calidad con número CAS 7440-03-1

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Negociable
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Precio de fábrica Comprar objetivo de sputtering de metal niobio con número CAS 7440-03-1

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Polvo de Carburo de Tantalio y Niobio de Alta Pureza con Fórmula Molecular Cnbta

Polvo de Carburo de Tantalio y Niobio de Alta Pureza con Fórmula Molecular Cnbta

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Objetivo de Sputtering de Metal Niobio con No CAS 7440-03-1 y Nb

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