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sobre cr objetivo
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cr objetivo200+ fábricas verificadas

Changsha Xinkang Advanced Materials Co., Ltd.

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Objetivo de sputtering de cromo disco metal objetivo de cromo para recubrimiento decorativo

Objetivo de sputtering de cromo disco metal objetivo de cromo para recubrimiento decorativo

US$ 20,00-30,00
1 Pieza(MOQ)
Xinkang 99.99% Pureza Metales Raros Tierra Yb Iterbio Objetivos de Sputtering

Xinkang 99.99% Pureza Metales Raros Tierra Yb Iterbio Objetivos de Sputtering

US$ 185,00-250,00
1 Pieza(MOQ)
Objetivo de cromo Cr para procesos de sputtering magnetrón eficientes

Objetivo de cromo Cr para procesos de sputtering magnetrón eficientes

US$ 150,00-200,00
1 Kg(MOQ)
Objetivo de Sputtering de Cr de Alta Pureza Xinkang 99.95% para Recubrimiento en Vacío/PVD

Objetivo de Sputtering de Cr de Alta Pureza Xinkang 99.95% para Recubrimiento en Vacío/PVD

US$ 45,00-100,00
1 Pieza(MOQ)
1/4

Beenine Shanke Technology Co., Ltd.

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Objetivo de sputtering tubular plano de cromo Cr para recubrimiento PVD a precio competitivo

Objetivo de sputtering tubular plano de cromo Cr para recubrimiento PVD a precio competitivo

US$ 50,00-300,00
1 Pieza(MOQ)
Fábrica de blanco de pulverización de recubrimiento PVD de aleación de níquel cromo plano redondo Ni/Cr

Fábrica de blanco de pulverización de recubrimiento PVD de aleación de níquel cromo plano redondo Ni/Cr

US$ 80,00-800,00
1 Pieza(MOQ)
4n 99.99% Objetivo de Sputtering de Cromo de Alta Pureza para Recubrimiento PVD

4n 99.99% Objetivo de Sputtering de Cromo de Alta Pureza para Recubrimiento PVD

US$ 50,00-300,00
1 Pieza(MOQ)
Objetivo de sputtering de aleación de níquel cromo de alta pureza Ni/Cr personalizado fábrica de China

Objetivo de sputtering de aleación de níquel cromo de alta pureza Ni/Cr personalizado fábrica de China

US$ 80,00-800,00
1 Pieza(MOQ)
1/4

Shanghai Tankii Alloy Material Co., Ltd.

5.0
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Precio de fábrica Vender 99.999% Objetivo de sputtering de cromo

Precio de fábrica Vender 99.999% Objetivo de sputtering de cromo

US$ 60,00-150,00
1 Pieza(MOQ)
Fabricante personalizado de bajo precio, metal de cromo puro de alta pureza, objetivo de sputtering de Cr para recubrimiento PVD

Fabricante personalizado de bajo precio, metal de cromo puro de alta pureza, objetivo de sputtering de Cr para recubrimiento PVD

US$ 60,00-150,00
1 Pieza(MOQ)
Precio de fábrica 99.999% objetivo de sputtering de cromo

Precio de fábrica 99.999% objetivo de sputtering de cromo

US$ 60,00-150,00
1 Pieza(MOQ)
Tipo de recubrimiento PVD más popular, uso de objetivo de sputtering de cromo tipo placa

Tipo de recubrimiento PVD más popular, uso de objetivo de sputtering de cromo tipo placa

US$ 60,00-150,00
1 Pieza(MOQ)
1/4

Xiamen Tmax Battery Equipments Limited

5.0
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Marca TMAXCN Alta Pureza 3n5 Blanco de Cromo/Cr Objetivo de Sputtering para Recubrimiento PVD

Marca TMAXCN Alta Pureza 3n5 Blanco de Cromo/Cr Objetivo de Sputtering para Recubrimiento PVD

US$ 78,00-90,00
1 Pieza(MOQ)
Marca TMAXCN Alta Pureza 99.95% Cromo Cromo/Cr Objetivo de Sputtering Magnetrón PVD para Recubrimiento al Vacío

Marca TMAXCN Alta Pureza 99.95% Cromo Cromo/Cr Objetivo de Sputtering Magnetrón PVD para Recubrimiento al Vacío

US$ 78,00-90,00
1 Pieza(MOQ)
Máquina de recubrimiento por pulverización de plasma rotativo TMAXCN Marca VTC-16-3HD-LD 3 incluyendo 3 objetivos

Máquina de recubrimiento por pulverización de plasma rotativo TMAXCN Marca VTC-16-3HD-LD 3 incluyendo 3 objetivos

US$ 8.000,00
1 Pieza(MOQ)
Marca TMAXCN - OTF-1200X-HP-70-V Tubo de superaleación 1100C Horno vertical de alta presión de doble zona

Marca TMAXCN - OTF-1200X-HP-70-V Tubo de superaleación 1100C Horno vertical de alta presión de doble zona

US$ 4.000,00-8.000,00
1 Pieza(MOQ)
1/4

Lonwin Industry Group Limited

5.0
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99.95% Objetivo de Sputtering de Cromo Puro Metal Cromo Objetivos de Cátodo de Arco

99.95% Objetivo de Sputtering de Cromo Puro Metal Cromo Objetivos de Cátodo de Arco

US$ 17,00-55,00
1 Kg(MOQ)
99.9% Alianzas de Ti-Cr Objetivo de Titanio Cromo Objetivo de Sputtering para Recubrimiento

99.9% Alianzas de Ti-Cr Objetivo de Titanio Cromo Objetivo de Sputtering para Recubrimiento

US$ 17,00-55,00
1 Kg(MOQ)
Objetivos de aleación de níquel de alta pureza Niv objetivo de sputtering de níquel y vanadio

Objetivos de aleación de níquel de alta pureza Niv objetivo de sputtering de níquel y vanadio

US$ 17,00-55,00
1 Kg(MOQ)
Objetivo de Sputtering de Hf Hafnio de Alta Pureza 99.95% para Recubrimiento PVD

Objetivo de Sputtering de Hf Hafnio de Alta Pureza 99.95% para Recubrimiento PVD

US$ 17,00-55,00
1 Kg(MOQ)
1/4

Rheniumet Ltd.

17 años
·Empresa Comercial
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Objetivo de cromo 99.95%Min objetivo de Cr para recubrimiento por pulverización en semiconductores

Objetivo de cromo 99.95%Min objetivo de Cr para recubrimiento por pulverización en semiconductores

US$ 1.000,00-4.000,00
1 Pieza(MOQ)
Objetivo de Sputtering de Aleación de Níquel y Cromo de Alta Pureza, Ni60cr40 Objetivo de Sputtering Personalizado

Objetivo de Sputtering de Aleación de Níquel y Cromo de Alta Pureza, Ni60cr40 Objetivo de Sputtering Personalizado

US$ 500,00-1.000,00
1 pieces(MOQ)
3mm Blanco grueso de rutenio, blanco de sputtering de Ru

3mm Blanco grueso de rutenio, blanco de sputtering de Ru

Negociable
1 Pieza(MOQ)
Objetivo de Sputtering de Rhenio de Alta Pureza 99.99%, Objetivo Redondo de Metal Re

Objetivo de Sputtering de Rhenio de Alta Pureza 99.99%, Objetivo Redondo de Metal Re

US$ 1.000,00-4.000,00
1 Pieza(MOQ)
1/4

ATM Material Co., Ltd.

4.0
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Objetivo de Cr con alta calidad

Objetivo de Cr con alta calidad

US$ 0,10-100,00
1.000 Piezas(MOQ)
Objetivo de pulverización

Objetivo de pulverización

US$ 0,10-100,00
1.000 Piezas(MOQ)
Objetivo Wti / Objetivos de Sputtering / Alta Calidad Wti

Objetivo Wti / Objetivos de Sputtering / Alta Calidad Wti

US$ 1,00-100,00
1 Pieza(MOQ)
W Objetivo

W Objetivo

US$ 100,00
1 Pieza(MOQ)
1/4

Shaanxi Mingsheng Guangpu Metal Materials Co., Ltd.

3 años·5.0
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Objetivo de zirconio de alta pureza directo de fábrica para aplicaciones ópticas

Objetivo de zirconio de alta pureza directo de fábrica para aplicaciones ópticas

US$ 90,00-99,00
10 Kg(MOQ)
Objetivo de aluminio y circonio CIP versátil con composición de cromo

Objetivo de aluminio y circonio CIP versátil con composición de cromo

US$ 85,00-95,00
1 Pieza(MOQ)
Objetivo de Sputtering de Cromo en Forma de Rectángulo con Maquinado de Agujeros para Recubrimiento Metálico de Precisión

Objetivo de Sputtering de Cromo en Forma de Rectángulo con Maquinado de Agujeros para Recubrimiento Metálico de Precisión

US$ 99,00-180,00
1 Pieza(MOQ)
Objetivo de Sputtering de Cromo para Electrónica de Precisión y Moldes

Objetivo de Sputtering de Cromo para Electrónica de Precisión y Moldes

US$ 90,00-110,00
2 Piezas(MOQ)
1/4

Xiangtan Hondson Coating Technology Co., Ltd.

6 años
·Fabricante/Fábrica & Empresa Comercial
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Objetivo de magnetrón cilíndrico para recubrimiento PVD en vacío de tubos de titanio, materiales en bruto para recubrimiento, cátodos

Objetivo de magnetrón cilíndrico para recubrimiento PVD en vacío de tubos de titanio, materiales en bruto para recubrimiento, cátodos

US$ 800,00-1.500,00
1 Pieza(MOQ)
Bloque de titanio de alta pureza personalizado, material de titanio, material de recubrimiento por ionización multi-arco, objetivo metálico

Bloque de titanio de alta pureza personalizado, material de titanio, material de recubrimiento por ionización multi-arco, objetivo metálico

US$ 500,00-1.000,00
1 Pieza(MOQ)
Sistema de Deposición PVD por Arco Catódico de Capa Fina

Sistema de Deposición PVD por Arco Catódico de Capa Fina

US$ 50.000,00-150.000,00
1 Pieza(MOQ)
Máquina de recubrimiento PVD por vacío, maquinaria de recubrimiento metálico por sputtering magnetrón

Máquina de recubrimiento PVD por vacío, maquinaria de recubrimiento metálico por sputtering magnetrón

US$ 50.000,00-51.000,00
1 Pieza(MOQ)
1/4

Ningbo Galaxy International Trading Co., Ltd.

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Tubo de cromo resistente a la corrosión de color blanco plateado para recubrimiento al vacío

Tubo de cromo resistente a la corrosión de color blanco plateado para recubrimiento al vacío

US$ 30,00
10 Piezas(MOQ)
Excelente resistencia y dureza tubo de cromo objetivo para deposición al vacío

Excelente resistencia y dureza tubo de cromo objetivo para deposición al vacío

US$ 30,00
10 Piezas(MOQ)
Buena dureza venta caliente objetivo de sputtering de cromo

Buena dureza venta caliente objetivo de sputtering de cromo

US$ 30,00-50,00
5 Piezas(MOQ)
Resistencia al calor y excelente estabilidad química objetivo de tubo de titanio (3N7)

Resistencia al calor y excelente estabilidad química objetivo de tubo de titanio (3N7)

US$ 100,00-120,00
5 Piezas(MOQ)
1/4

SUZHOU TECHNO-TEC PHOTOELECTRIC MATERIALS CO., LTD

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CR Target espumante de cromo Target para revestimiento de película de decoración

CR Target espumante de cromo Target para revestimiento de película de decoración

US$ 25,00-100,00
1 Kg(MOQ)
CR Rod sputtering Target para revestimiento de película de decoración

CR Rod sputtering Target para revestimiento de película de decoración

US$ 25,00-100,00
1 Kg(MOQ)
W Target Tungsteno esputtering Target para semiconductores /chips de memoria

W Target Tungsteno esputtering Target para semiconductores /chips de memoria

US$ 45,00-350,00
1 Kg(MOQ)
1/4

Xiamen HiuGong Machinery Co., Ltd.

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Objetivo de Sputtering Magnetrón Zrox Si Cr Nb Cu Cr AG

Objetivo de Sputtering Magnetrón Zrox Si Cr Nb Cu Cr AG

US$ 500,00
1 Pieza(MOQ)
99.99% Objetivo de Sputtering de Óxido de Galio Objetivo Plano Ga2o3 Objetivo

99.99% Objetivo de Sputtering de Óxido de Galio Objetivo Plano Ga2o3 Objetivo

US$ 300,00
1 Pieza(MOQ)
Equipo de recubrimiento por pulverización de plasma, antiadherente, resistente al desgaste, silicio, aluminio, alúmina, circonio

Equipo de recubrimiento por pulverización de plasma, antiadherente, resistente al desgaste, silicio, aluminio, alúmina, circonio

US$ 35.000,00
1 Pieza(MOQ)
1/4

Zhengzhou Tainuo Film Materials Co., Ltd.

9 años
·Fabricante/Fábrica
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Al, objetivo de sputtering de Cr para evaporación térmica y máquina de sputtering magnetrón

Al, objetivo de sputtering de Cr para evaporación térmica y máquina de sputtering magnetrón

US$ 30,00-200,00
1 Pieza(MOQ)
Revestidor de PVD por sputtering de doble objetivo con etapa de muestra rotativa y control de temperatura para titanio y cromo

Revestidor de PVD por sputtering de doble objetivo con etapa de muestra rotativa y control de temperatura para titanio y cromo

US$ 10.000,00-12.000,00
1 Pieza(MOQ)
Revestidor de plasma de vacío de doble objetivo para laboratorio, recubrimiento de películas nano de Cr, Ti y Au

Revestidor de plasma de vacío de doble objetivo para laboratorio, recubrimiento de películas nano de Cr, Ti y Au

US$ 6.500,00-7.900,00
1 set(MOQ)
1/4

Jiangsu Cicel Vacuum Technology Co., Ltd.

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Objetivo de Sputtering de Cromo PVD Objetivo de Cromo/Objetivo de Sputtering de Cr

Objetivo de Sputtering de Cromo PVD Objetivo de Cromo/Objetivo de Sputtering de Cr

US$ 130,00-300,00
1 Pieza(MOQ)
1/4

Sino Resources Import & Export (Liao Ning) Co., Ltd.

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Cromo de la cadera de Sputtering meta para el recubrimiento PVD 99.5 Destino Cr

Cromo de la cadera de Sputtering meta para el recubrimiento PVD 99.5 Destino Cr

US$ 60,00-90,00
1 Pieza(MOQ)
Cromo de alta pureza Sputtering Meta 99.5 Ronda Cr objetivo para la PVD

Cromo de alta pureza Sputtering Meta 99.5 Ronda Cr objetivo para la PVD

US$ 80,00-100,00
1 Pieza(MOQ)
La pureza del 99,5 Hip Varilla Cr objetivo para el cromo

La pureza del 99,5 Hip Varilla Cr objetivo para el cromo

Negociable
10 Piezas(MOQ)
Chrome Sputtering Meta Hip 99,5 Cr objetivo para la PVD

Chrome Sputtering Meta Hip 99,5 Cr objetivo para la PVD

Negociable
1 Pieza(MOQ)

Junsion Precision Hardware Co., Ltd.

7 años
·Fabricante/Fábrica & Empresa Comercial
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Objetivo de pulverización de titanio, aluminio, cobre, cromo, níquel, tubo de magnetrón, recubrimiento PVD rotativo

Objetivo de pulverización de titanio, aluminio, cobre, cromo, níquel, tubo de magnetrón, recubrimiento PVD rotativo

US$ 0,50-10,00
10 Piezas(MOQ)
1/4

Uv Tech Material Ltd

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Cromo Cr PVD Planar destino pegado en la Cooper la placa de apoyo o metro.

Cromo Cr PVD Planar destino pegado en la Cooper la placa de apoyo o metro.

Negociable
1 Pieza(MOQ)

Suzhou Zhongzhina Semiconductor Technology Co., Ltd.

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Cromo (cromo) Metal de alta pureza objetivo para PVD Magnetron esputtering recubrimiento de vacío, tamaño de partículas personalizable, con servicio de unión de placas de apoyo

Cromo (cromo) Metal de alta pureza objetivo para PVD Magnetron esputtering recubrimiento de vacío, tamaño de partículas personalizable, con servicio de unión de placas de apoyo

Negociable
1 Pieza(MOQ)

Shanghai Zenkaah New Materials Technology Co., Ltd.

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Cromo (cromo) Metal de alta pureza objetivo para PVD Magnetron esputtering recubrimiento de vacío, tamaño de partículas personalizable, con servicio de unión de placas de apoyo

Cromo (cromo) Metal de alta pureza objetivo para PVD Magnetron esputtering recubrimiento de vacío, tamaño de partículas personalizable, con servicio de unión de placas de apoyo

Negociable
1 Pieza(MOQ)

Taizhou ATS Optical Material Co., Ltd.

26 años
·Fabricante/Fábrica & Empresa Comercial
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Objetivo de silicio pieza de polisilicio

Objetivo de silicio pieza de polisilicio

US$ 26,00-28,00
1 piece(MOQ)
Objetivo de silicio, oblea de silicio, pieza de silicio monocristalino

Objetivo de silicio, oblea de silicio, pieza de silicio monocristalino

US$ 4,00-5,00
1 piece(MOQ)
Silicio policristalino gránulo de silicio granular

Silicio policristalino gránulo de silicio granular

US$ 97,50-100,00
1 Kg(MOQ)
1-3mm Si Partículas de Silicio Intrínseco Granulares

1-3mm Si Partículas de Silicio Intrínseco Granulares

US$ 97,50-100,00
1 Kg(MOQ)
1/4

CHANGSHA EASCHEM CO., LIMITED

5 años
·Empresa Comercial
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Varilla de metal de holmio objetivo granular CAS No 7440-60-0 Ho 3n 4n

Varilla de metal de holmio objetivo granular CAS No 7440-60-0 Ho 3n 4n

Negociable
1 Piece(MOQ)
Varilla de metal de escandio objetivo granular CAS No 7440-20-2 Sc 3n 4n 5n

Varilla de metal de escandio objetivo granular CAS No 7440-20-2 Sc 3n 4n 5n

Negociable
1 Piece(MOQ)
Varilla de metal de iterbio objetivo granular CAS No 7440-64-4 Yb 3n 4n

Varilla de metal de iterbio objetivo granular CAS No 7440-64-4 Yb 3n 4n

Negociable
1 Piece(MOQ)
Varilla de metal de praseodimio granular CAS No 7440-10-0 Pr 2n5 3n

Varilla de metal de praseodimio granular CAS No 7440-10-0 Pr 2n5 3n

Negociable
1 Piece(MOQ)
1/4

UV Tech Material Co., Ltd.

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Objetivo de cromo, el objetivo de Cr giratorio cromo de alta pureza tubo, tubo de cromo objetivo para la deposición de vacío

Objetivo de cromo, el objetivo de Cr giratorio cromo de alta pureza tubo, tubo de cromo objetivo para la deposición de vacío

Negociable
2 Piezas(MOQ)
99.5-99.95% de superventas de metal cromado puro tubo Destino Destino Cr

99.5-99.95% de superventas de metal cromado puro tubo Destino Destino Cr

Negociable
2 Piezas(MOQ)
Objetivo giratorio cromado 99.5-99.99% de mejor venta de puro metal cromo Cr Objetivo Objetivo para la producción de Cr/ Crno película Color negro.

Objetivo giratorio cromado 99.5-99.99% de mejor venta de puro metal cromo Cr Objetivo Objetivo para la producción de Cr/ Crno película Color negro.

Negociable
2 Piezas(MOQ)
La meta (Cr giratorio recubrimiento vacío equipos y máquinas) , el magnetrón Sputtering Meta, meta de cromo

La meta (Cr giratorio recubrimiento vacío equipos y máquinas) , el magnetrón Sputtering Meta, meta de cromo

Negociable
1 Pieza(MOQ)

Zhongzheng Yejin Technology Co., Ltd.

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Fabricante de Objetivos de Sputtering de Cromo Ofrece Objetivos de Sputtering de Cr de Alta Calidad

Fabricante de Objetivos de Sputtering de Cromo Ofrece Objetivos de Sputtering de Cr de Alta Calidad

US$ 5,00-20,00
1 Pieza(MOQ)
Objetivo de Titanio Aluminio Tial / Cr/Zr/Ti para sistema de equipo de planta de máquina de recubrimiento PVD

Objetivo de Titanio Aluminio Tial / Cr/Zr/Ti para sistema de equipo de planta de máquina de recubrimiento PVD

Negociable
1 Pieza(MOQ)
El 99,95% puro de alta 3n5 de cromo de alto rendimiento de los objetivos de sputtering

El 99,95% puro de alta 3n5 de cromo de alto rendimiento de los objetivos de sputtering

US$ 45,00-50,00
1 Pieza(MOQ)
La alta calidad de Sputtering objetivos para el recubrimiento de cromo vacío máquinas/equipo/sistema/Planta

La alta calidad de Sputtering objetivos para el recubrimiento de cromo vacío máquinas/equipo/sistema/Planta

US$ 40,00-50,00
1 Kg(MOQ)
1/2

Yochane Vacuum Technology Limited

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Blanco de la hoja/de la placa del cromo de la farfulla

Blanco de la hoja/de la placa del cromo de la farfulla

US$ 20,00
1 Pieza(MOQ)
DC Sputtering Zirconium / Cr hoja / placa objetivo Coating

DC Sputtering Zirconium / Cr hoja / placa objetivo Coating

US$ 15,00
1 Pieza(MOQ)
Blanco rotatoria de la capa de la farfulla del tubo Chromium/Cr

Blanco rotatoria de la capa de la farfulla del tubo Chromium/Cr

US$ 20,00
1 Pieza(MOQ)
C.C. que farfulla la blanco de la hoja/de la placa de Chromium/Cr

C.C. que farfulla la blanco de la hoja/de la placa de Chromium/Cr

US$ 20,00
1 Pieza(MOQ)

Zhengzhou CY Scientific Instrument Co., Ltd.

13 años
·Fabricante/Fábrica & Empresa Comercial
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Revestidor de Sputtering Magnetrón de Doble Objetivo de Escritorio con Cavidad de Acero Inoxidable

Revestidor de Sputtering Magnetrón de Doble Objetivo de Escritorio con Cavidad de Acero Inoxidable

US$ 8.730,00-8.900,00
1 Pieza(MOQ)
Recubridor de Plasma de Vacío por Sputtering con Tres Objetivos Rotativos para Wafers

Recubridor de Plasma de Vacío por Sputtering con Tres Objetivos Rotativos para Wafers

US$ 5.800,00
1 Pieza(MOQ)
Revestidor de polvo compacto PVD con sputtering de magnetrón de corriente continua y etapa de vibración

Revestidor de polvo compacto PVD con sputtering de magnetrón de corriente continua y etapa de vibración

US$ 5.600,00
1 Pieza(MOQ)
Máquina de recubrimiento por pulverización de plasma de magnetrón pequeña máquina de recubrimiento PVD oro

Máquina de recubrimiento por pulverización de plasma de magnetrón pequeña máquina de recubrimiento PVD oro

US$ 5.800,00-8.800,00
1 Pieza(MOQ)
1/4

LORK GROUP CO., LTD

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Disco redondo de metal precioso de aleación Csf Lork personalizado 99.99% Pureza de objetivo de pulverización de oro Csf

Disco redondo de metal precioso de aleación Csf Lork personalizado 99.99% Pureza de objetivo de pulverización de oro Csf

US$ 30,00-40,00
100 Kg(MOQ)
Tubo de aleación de precisión Lork Custom Uns K93600/ASTM B753 4j36 para equipos de semiconductores, tubo de aleación Invar 36

Tubo de aleación de precisión Lork Custom Uns K93600/ASTM B753 4j36 para equipos de semiconductores, tubo de aleación Invar 36

US$ 20,00-30,00
100 Kg(MOQ)
Suministro Lork ASTM F1684/Uns K93600 Varilla para turbinas eólicas Invar 36 Equipo semiconductor aleación de precisión barra redonda

Suministro Lork ASTM F1684/Uns K93600 Varilla para turbinas eólicas Invar 36 Equipo semiconductor aleación de precisión barra redonda

US$ 10,00-15,00
100 Kg(MOQ)
Aleación Super Lork Uns K93600/ASTM B753 4j36 Tubo de Aleación de Precisión para Blindaje Magnético Invar 36 Tubo de Aleación

Aleación Super Lork Uns K93600/ASTM B753 4j36 Tubo de Aleación de Precisión para Blindaje Magnético Invar 36 Tubo de Aleación

US$ 10,00-15,00
100 Kg(MOQ)
1/4

Luoyang Bless Tungsten & Molybdenum Materials Co., Ltd.

12 años
·Empresa Comercial
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Objetivos de sputtering de molibdeno para ensamblaje complejo

Objetivos de sputtering de molibdeno para ensamblaje complejo

US$ 40,00-43,00
1 Kg(MOQ)
8PCS Llave de carraca intercambiable profesional con mecanismo de liberación rápida

8PCS Llave de carraca intercambiable profesional con mecanismo de liberación rápida

US$ 8,30
20 Conjuntos(MOQ)
Llave de torque ajustable tipo clic - Herramienta de torque de precisión con mango de liberación rápida

Llave de torque ajustable tipo clic - Herramienta de torque de precisión con mango de liberación rápida

US$ 9,00-19,20
20 Piezas(MOQ)
1/1

Xiamen U-Spring Technology Co., Ltd

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Objetivo Planar U-Spring Cr / Objetivo de Sputtering para Sputtering Magnetrón y Recubrimiento al Vacío

Objetivo Planar U-Spring Cr / Objetivo de Sputtering para Sputtering Magnetrón y Recubrimiento al Vacío

US$ 2.000,00
1 Pcs(MOQ)
Objetivo rotatorio de cromo U-Spring / objetivo de pulverización para pulverización magnetrónica y recubrimiento al vacío

Objetivo rotatorio de cromo U-Spring / objetivo de pulverización para pulverización magnetrónica y recubrimiento al vacío

US$ 2.000,00
1 Pcs(MOQ)
Cátodos de cromo / Cr para arco / objetivo de pulverización para pulverización magnetrónica y recubrimiento al vacío

Cátodos de cromo / Cr para arco / objetivo de pulverización para pulverización magnetrónica y recubrimiento al vacío

US$ 2.000,00
1 Pcs(MOQ)
1/2

Sid Metal Co., Ltd

13 años
·Fabricante/Fábrica & Empresa Comercial
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Alta Pureza Zr702 Zr705 Objetivo de Zirconio Conductividad Térmica Objetivo de Sputtering

Alta Pureza Zr702 Zr705 Objetivo de Zirconio Conductividad Térmica Objetivo de Sputtering

US$ 0,05-100,00
1 Pieza(MOQ)
99.99% Objetivo de Sputtering de Cromo Recubrimiento de Cromo Objetivo de Cromo

99.99% Objetivo de Sputtering de Cromo Recubrimiento de Cromo Objetivo de Cromo

US$ 100,00-600,00
2 Piezas(MOQ)
1/4

Ningbo Sen Ao Electronic Technology Co., Ltd

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El 99,5% de cromo Cr material de pulverización de plasma de cromo Cr objetivo rotar los objetivos de la pantalla táctil Material Objetivo1 Comprador

El 99,5% de cromo Cr material de pulverización de plasma de cromo Cr objetivo rotar los objetivos de la pantalla táctil Material Objetivo1 Comprador

Negociable
1 Pieza(MOQ)
110
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