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sobre cr objetivo
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cr objetivo200+ fábricas verificadas

Beenine Shanke Technology Co., Ltd.

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Objetivo de pulverización de recubrimiento PVD plano redondo de cromo fábrica

Objetivo de pulverización de recubrimiento PVD plano redondo de cromo fábrica

US$ 50,00-300,00
1 Pieza(MOQ)
99.99% Pureza 4n Blanco de aleación de níquel cromo Ni/Cr para recubrimiento PVD

99.99% Pureza 4n Blanco de aleación de níquel cromo Ni/Cr para recubrimiento PVD

US$ 80,00-800,00
1 Pieza(MOQ)
Objetivo de sputtering tubular plano de aleación de níquel cromo de alta pureza

Objetivo de sputtering tubular plano de aleación de níquel cromo de alta pureza

US$ 80,00-800,00
1 Pieza(MOQ)
Objetivo de sputtering tubular plano de cromo Cr para recubrimiento PVD a precio competitivo

Objetivo de sputtering tubular plano de cromo Cr para recubrimiento PVD a precio competitivo

US$ 50,00-300,00
1 Pieza(MOQ)
1/4

Changsha Xinkang Advanced Materials Co., Ltd.

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99.95% Blanco de metal cromo puro Cr/Blanco de cromo para máquina de recubrimiento PVD

99.95% Blanco de metal cromo puro Cr/Blanco de cromo para máquina de recubrimiento PVD

US$ 50,00-1.000,00
1 Pieza(MOQ)
99.95% Objetivo de Sputtering de Cromo Metal Cromo Disco Cr para Recubrimiento

99.95% Objetivo de Sputtering de Cromo Metal Cromo Disco Cr para Recubrimiento

US$ 70,00-80,00
1 Pieza(MOQ)
Objetivo de Sputtering de Cromo 99.95% Varilla de Cr Hoja para Recubrimiento Decorativo

Objetivo de Sputtering de Cromo 99.95% Varilla de Cr Hoja para Recubrimiento Decorativo

US$ 20,00-30,00
1 Pieza(MOQ)
Venta Caliente 99.95% Objetivo de Sputtering de Cromo de Pureza Metal Cromo Objetivos de Cátodo de Arco

Venta Caliente 99.95% Objetivo de Sputtering de Cromo de Pureza Metal Cromo Objetivos de Cátodo de Arco

US$ 55,00-150,00
1 Pieza(MOQ)
1/4

Shanghai Tankii Alloy Material Co., Ltd.

5.0
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Fabricante personalizado de bajo precio, metal de cromo puro de alta pureza, objetivo de sputtering de Cr para recubrimiento PVD

Fabricante personalizado de bajo precio, metal de cromo puro de alta pureza, objetivo de sputtering de Cr para recubrimiento PVD

US$ 60,00-150,00
1 Pieza(MOQ)
Precio de fábrica 99.999% objetivo de sputtering de cromo

Precio de fábrica 99.999% objetivo de sputtering de cromo

US$ 60,00-150,00
1 Pieza(MOQ)
Precio de fábrica Vender 99.999% Objetivo de sputtering de cromo

Precio de fábrica Vender 99.999% Objetivo de sputtering de cromo

US$ 60,00-150,00
1 Pieza(MOQ)
Tipo de recubrimiento PVD más popular, uso de objetivo de sputtering de cromo tipo placa

Tipo de recubrimiento PVD más popular, uso de objetivo de sputtering de cromo tipo placa

US$ 60,00-150,00
1 Pieza(MOQ)
1/4

Xiamen Tmax Battery Equipments Limited

5.0
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Marca TMAXCN Alta Pureza 99.95% Cromo Cromo/Cr Objetivo de Sputtering Magnetrón PVD para Recubrimiento al Vacío

Marca TMAXCN Alta Pureza 99.95% Cromo Cromo/Cr Objetivo de Sputtering Magnetrón PVD para Recubrimiento al Vacío

US$ 78,00-90,00
1 Pieza(MOQ)
Marca TMAXCN Alta Pureza 3n5 Blanco de Cromo/Cr Objetivo de Sputtering para Recubrimiento PVD

Marca TMAXCN Alta Pureza 3n5 Blanco de Cromo/Cr Objetivo de Sputtering para Recubrimiento PVD

US$ 78,00-90,00
1 Pieza(MOQ)
Máquina de recubrimiento por pulverización de plasma rotativo TMAXCN Marca VTC-16-3HD-LD 3 incluyendo 3 objetivos

Máquina de recubrimiento por pulverización de plasma rotativo TMAXCN Marca VTC-16-3HD-LD 3 incluyendo 3 objetivos

US$ 8.000,00
1 Pieza(MOQ)
Máquina de recubrimiento de alta vacuidad de doble cabezal DC/RF de la marca TMAXCN VTC-600-2HD-LD Coater de sputtering por plasma de magnetrón de 2 pulgadas

Máquina de recubrimiento de alta vacuidad de doble cabezal DC/RF de la marca TMAXCN VTC-600-2HD-LD Coater de sputtering por plasma de magnetrón de 2 pulgadas

US$ 15.000,00
1 Pieza(MOQ)
1/4

Lonwin Industry Group Limited

5.0
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99.95% Objetivo de Sputtering de Cromo Puro Metal Cromo Objetivos de Cátodo de Arco

99.95% Objetivo de Sputtering de Cromo Puro Metal Cromo Objetivos de Cátodo de Arco

US$ 17,00-55,00
1 Kg(MOQ)
99.9% Alianzas de Ti-Cr Objetivo de Titanio Cromo Objetivo de Sputtering para Recubrimiento

99.9% Alianzas de Ti-Cr Objetivo de Titanio Cromo Objetivo de Sputtering para Recubrimiento

US$ 17,00-55,00
1 Kg(MOQ)
Objetivo de aleación metálica de estaño, titanio y niobio para pulverización para recubrimiento

Objetivo de aleación metálica de estaño, titanio y niobio para pulverización para recubrimiento

US$ 17,00-55,00
1 Kg(MOQ)
4n, 5n Objetivos de Sputtering de Grafito de Carbono de Alta Pureza C

4n, 5n Objetivos de Sputtering de Grafito de Carbono de Alta Pureza C

US$ 17,00-55,00
1 Kg(MOQ)
1/4

ATM Material Co., Ltd.

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Objetivo de Cr con alta calidad

Objetivo de Cr con alta calidad

US$ 0,10-100,00
1.000 Piezas(MOQ)
Objetivo de pulverización

Objetivo de pulverización

US$ 0,10-100,00
1.000 Piezas(MOQ)
Objetivo Wti / Objetivos de Sputtering / Alta Calidad Wti

Objetivo Wti / Objetivos de Sputtering / Alta Calidad Wti

US$ 1,00-100,00
1 Pieza(MOQ)
W Objetivo

W Objetivo

US$ 100,00
1 Pieza(MOQ)
1/4

Rheniumet Ltd.

17 años
·Empresa Comercial
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Objetivo de cromo 99.95%Min objetivo de Cr para recubrimiento por pulverización en semiconductores

Objetivo de cromo 99.95%Min objetivo de Cr para recubrimiento por pulverización en semiconductores

US$ 1.000,00-4.000,00
1 Pieza(MOQ)
Objetivo de Sputtering de Aleación de Níquel y Cromo de Alta Pureza, Ni60cr40 Objetivo de Sputtering Personalizado

Objetivo de Sputtering de Aleación de Níquel y Cromo de Alta Pureza, Ni60cr40 Objetivo de Sputtering Personalizado

US$ 500,00-1.000,00
1 pieces(MOQ)
3mm Blanco grueso de rutenio, blanco de sputtering de Ru

3mm Blanco grueso de rutenio, blanco de sputtering de Ru

Negociable
1 Pieza(MOQ)
Objetivo de Sputtering de Rhenio de Alta Pureza 99.99%, Objetivo Redondo de Metal Re

Objetivo de Sputtering de Rhenio de Alta Pureza 99.99%, Objetivo Redondo de Metal Re

US$ 1.000,00-4.000,00
1 Pieza(MOQ)
1/4

Shaanxi Mingsheng Guangpu Metal Materials Co., Ltd.

3 años·5.0
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Objetivo de zirconio de alta pureza directo de fábrica para aplicaciones ópticas

Objetivo de zirconio de alta pureza directo de fábrica para aplicaciones ópticas

US$ 90,00-99,00
10 Kg(MOQ)
Objetivo de aluminio y circonio CIP versátil con composición de cromo

Objetivo de aluminio y circonio CIP versátil con composición de cromo

US$ 85,00-95,00
1 Pieza(MOQ)
Objetivo de Sputtering de Cromo en Forma de Rectángulo con Maquinado de Agujeros para Recubrimiento Metálico de Precisión

Objetivo de Sputtering de Cromo en Forma de Rectángulo con Maquinado de Agujeros para Recubrimiento Metálico de Precisión

US$ 99,00-180,00
1 Pieza(MOQ)
Objetivo de Sputtering de Cromo para Electrónica de Precisión y Moldes

Objetivo de Sputtering de Cromo para Electrónica de Precisión y Moldes

US$ 90,00-110,00
2 Piezas(MOQ)
1/4

Ningbo Galaxy International Trading Co., Ltd.

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Excelente resistencia y dureza tubo de cromo objetivo para deposición al vacío

Excelente resistencia y dureza tubo de cromo objetivo para deposición al vacío

US$ 30,00
10 Piezas(MOQ)
Tubo de cromo resistente a la corrosión de color blanco plateado para recubrimiento al vacío

Tubo de cromo resistente a la corrosión de color blanco plateado para recubrimiento al vacío

US$ 30,00
10 Piezas(MOQ)
Resistencia al calor y excelente estabilidad química objetivo de tubo de titanio (3N7)

Resistencia al calor y excelente estabilidad química objetivo de tubo de titanio (3N7)

US$ 100,00-120,00
5 Piezas(MOQ)
Buena dureza venta caliente objetivo de sputtering de cromo

Buena dureza venta caliente objetivo de sputtering de cromo

US$ 30,00-50,00
5 Piezas(MOQ)
1/4

Xiangtan Hondson Coating Technology Co., Ltd.

6 años
·Fabricante/Fábrica & Empresa Comercial
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Objetivo de magnetrón cilíndrico para recubrimiento PVD en vacío de tubos de titanio, materiales en bruto para recubrimiento, cátodos

Objetivo de magnetrón cilíndrico para recubrimiento PVD en vacío de tubos de titanio, materiales en bruto para recubrimiento, cátodos

US$ 800,00-1.500,00
1 Pieza(MOQ)
Bloque de titanio de alta pureza personalizado, material de titanio, material de recubrimiento por ionización multi-arco, objetivo metálico

Bloque de titanio de alta pureza personalizado, material de titanio, material de recubrimiento por ionización multi-arco, objetivo metálico

US$ 500,00-1.000,00
1 Pieza(MOQ)
Máquina de recubrimiento por sputtering magnetrón en vacío de nitruro de titanio PVD

Máquina de recubrimiento por sputtering magnetrón en vacío de nitruro de titanio PVD

US$ 57.000,00-112.000,00
1 Set(MOQ)
Máquina de recubrimiento por pulverización al vacío con tratamiento de superficie PVD

Máquina de recubrimiento por pulverización al vacío con tratamiento de superficie PVD

US$ 40.000,00-65.477,00
1 Pieza(MOQ)
1/4

SUZHOU TECHNO-TEC PHOTOELECTRIC MATERIALS CO., LTD

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CR Rod sputtering Target para revestimiento de película de decoración

CR Rod sputtering Target para revestimiento de película de decoración

US$ 25,00-100,00
1 Kg(MOQ)
CR Target espumante de cromo Target para revestimiento de película de decoración

CR Target espumante de cromo Target para revestimiento de película de decoración

US$ 25,00-100,00
1 Kg(MOQ)
W Target Tungsteno esputtering Target para semiconductores /chips de memoria

W Target Tungsteno esputtering Target para semiconductores /chips de memoria

US$ 45,00-350,00
1 Kg(MOQ)
1/4

Xiamen HiuGong Machinery Co., Ltd.

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Objetivo de Sputtering Magnetrón Zrox Si Cr Nb Cu Cr AG

Objetivo de Sputtering Magnetrón Zrox Si Cr Nb Cu Cr AG

US$ 500,00
1 Pieza(MOQ)
99.99% Objetivo de Sputtering de Óxido de Galio Objetivo Plano Ga2o3 Objetivo

99.99% Objetivo de Sputtering de Óxido de Galio Objetivo Plano Ga2o3 Objetivo

US$ 300,00
1 Pieza(MOQ)
Equipo de recubrimiento por pulverización de plasma, antiadherente, resistente al desgaste, silicio, aluminio, alúmina, circonio

Equipo de recubrimiento por pulverización de plasma, antiadherente, resistente al desgaste, silicio, aluminio, alúmina, circonio

US$ 35.000,00
1 Pieza(MOQ)
1/4

Zhengzhou Tainuo Film Materials Co., Ltd.

9 años
·Fabricante/Fábrica
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Al, objetivo de sputtering de Cr para evaporación térmica y máquina de sputtering magnetrón

Al, objetivo de sputtering de Cr para evaporación térmica y máquina de sputtering magnetrón

US$ 30,00-200,00
1 Pieza(MOQ)
Revestidor de PVD por sputtering de doble objetivo con etapa de muestra rotativa y control de temperatura para titanio y cromo

Revestidor de PVD por sputtering de doble objetivo con etapa de muestra rotativa y control de temperatura para titanio y cromo

US$ 10.000,00-12.000,00
1 Pieza(MOQ)
Revestidor de plasma de vacío de doble objetivo para laboratorio, recubrimiento de películas nano de Cr, Ti y Au

Revestidor de plasma de vacío de doble objetivo para laboratorio, recubrimiento de películas nano de Cr, Ti y Au

US$ 6.500,00-7.900,00
1 set(MOQ)
1/4

Jiangsu Cicel Vacuum Technology Co., Ltd.

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Objetivo de Sputtering de Cromo PVD Objetivo de Cromo/Objetivo de Sputtering de Cr

Objetivo de Sputtering de Cromo PVD Objetivo de Cromo/Objetivo de Sputtering de Cr

US$ 130,00-300,00
1 Pieza(MOQ)
1/4

Sino Resources Import & Export (Liao Ning) Co., Ltd.

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Cromo de la cadera de Sputtering meta para el recubrimiento PVD 99.5 Destino Cr

Cromo de la cadera de Sputtering meta para el recubrimiento PVD 99.5 Destino Cr

US$ 60,00-90,00
1 Pieza(MOQ)
La pureza del 99,5 Hip Varilla Cr objetivo para el cromo

La pureza del 99,5 Hip Varilla Cr objetivo para el cromo

Negociable
10 Piezas(MOQ)
Chrome Sputtering Meta Hip 99,5 Cr objetivo para la PVD

Chrome Sputtering Meta Hip 99,5 Cr objetivo para la PVD

Negociable
1 Pieza(MOQ)
Cromo de alta pureza Sputtering Meta 99.5 Ronda Cr objetivo para la PVD

Cromo de alta pureza Sputtering Meta 99.5 Ronda Cr objetivo para la PVD

US$ 80,00-100,00
1 Pieza(MOQ)

Junsion Precision Hardware Co., Ltd.

7 años
·Fabricante/Fábrica & Empresa Comercial
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Objetivo de pulverización de titanio, aluminio, cobre, cromo, níquel, tubo de magnetrón, recubrimiento PVD rotativo

Objetivo de pulverización de titanio, aluminio, cobre, cromo, níquel, tubo de magnetrón, recubrimiento PVD rotativo

US$ 0,50-10,00
10 Piezas(MOQ)
1/4

Uv Tech Material Ltd

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Cromo Cr PVD Planar destino pegado en la Cooper la placa de apoyo o metro.

Cromo Cr PVD Planar destino pegado en la Cooper la placa de apoyo o metro.

Negociable
1 Pieza(MOQ)

Suzhou Zhongzhina Semiconductor Technology Co., Ltd.

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Cromo (cromo) Metal de alta pureza objetivo para PVD Magnetron esputtering recubrimiento de vacío, tamaño de partículas personalizable, con servicio de unión de placas de apoyo

Cromo (cromo) Metal de alta pureza objetivo para PVD Magnetron esputtering recubrimiento de vacío, tamaño de partículas personalizable, con servicio de unión de placas de apoyo

Negociable
1 Pieza(MOQ)

Shanghai Zenkaah New Materials Technology Co., Ltd.

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Cromo (cromo) Metal de alta pureza objetivo para PVD Magnetron esputtering recubrimiento de vacío, tamaño de partículas personalizable, con servicio de unión de placas de apoyo

Cromo (cromo) Metal de alta pureza objetivo para PVD Magnetron esputtering recubrimiento de vacío, tamaño de partículas personalizable, con servicio de unión de placas de apoyo

Negociable
1 Pieza(MOQ)

Inner Mongolia Rongtai Rhenium New Materials Co., Ltd.

5.0
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Objetivo de sputtering de aleación de titanio personalizable para recubrimientos ópticos

Objetivo de sputtering de aleación de titanio personalizable para recubrimientos ópticos

US$ 190,00-199,00
1 Pieza(MOQ)
Objetivos de Sputtering de Titanio y Aluminio Avanzados para Aplicaciones de Precisión

Objetivos de Sputtering de Titanio y Aluminio Avanzados para Aplicaciones de Precisión

US$ 190,00-199,00
1 Pieza(MOQ)
Objetivos de Sputtering de Ytterbio (Yb) Personalizados para Aplicaciones Avanzadas

Objetivos de Sputtering de Ytterbio (Yb) Personalizados para Aplicaciones Avanzadas

US$ 190,00-199,00
1 Pieza(MOQ)
Objetivo de metal de sputtering de alta pureza Yb negro redondo para pantalla plana

Objetivo de metal de sputtering de alta pureza Yb negro redondo para pantalla plana

US$ 190,00-199,00
1 Pieza(MOQ)
1/4

Taizhou ATS Optical Material Co., Ltd.

26 años
·Fabricante/Fábrica & Empresa Comercial
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Objetivo de silicio, oblea de silicio, pieza de silicio monocristalino

Objetivo de silicio, oblea de silicio, pieza de silicio monocristalino

US$ 4,00-5,00
1 piece(MOQ)
Objetivo de silicio pieza de polisilicio

Objetivo de silicio pieza de polisilicio

US$ 26,00-28,00
1 piece(MOQ)
Material de recubrimiento óptico al vacío granulado de silicio Si

Material de recubrimiento óptico al vacío granulado de silicio Si

US$ 97,50-100,00
1 Kg(MOQ)
99.99% Gránulo de silicio Si para recubrimiento óptico al vacío

99.99% Gránulo de silicio Si para recubrimiento óptico al vacío

US$ 97,50-100,00
1 Kg(MOQ)
1/4

CHANGSHA EASCHEM CO., LIMITED

5 años
·Empresa Comercial
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Varilla de metal de tulio objetivo granular CAS No 7440-30-4 TM 2n 3n 3n5

Varilla de metal de tulio objetivo granular CAS No 7440-30-4 TM 2n 3n 3n5

Negociable
1 Piece(MOQ)
Varilla de metal de samario granular CAS No 7440-19-9 Sm 3n 4n

Varilla de metal de samario granular CAS No 7440-19-9 Sm 3n 4n

Negociable
1 Piece(MOQ)
Varilla de metal de lutecio granular con número CAS 7439-94-3 Lu 3n 4n

Varilla de metal de lutecio granular con número CAS 7439-94-3 Lu 3n 4n

Negociable
1 Piece(MOQ)
Varilla de metal de itrio objetivo granular CAS No 7440-65-5 Y 3n 4n 5n

Varilla de metal de itrio objetivo granular CAS No 7440-65-5 Y 3n 4n 5n

Negociable
1 Piece(MOQ)
1/4

Zhongzheng Yejin Technology Co., Ltd.

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Fabricante de Objetivos de Sputtering de Cromo Ofrece Objetivos de Sputtering de Cr de Alta Calidad

Fabricante de Objetivos de Sputtering de Cromo Ofrece Objetivos de Sputtering de Cr de Alta Calidad

US$ 5,00-20,00
1 Pieza(MOQ)
Objetivo de Titanio Aluminio Tial / Cr/Zr/Ti para sistema de equipo de planta de máquina de recubrimiento PVD

Objetivo de Titanio Aluminio Tial / Cr/Zr/Ti para sistema de equipo de planta de máquina de recubrimiento PVD

Negociable
1 Pieza(MOQ)
Objetivo de cromo de buena calidad de fabricación

Objetivo de cromo de buena calidad de fabricación

US$ 45,00-50,00
1 Pieza(MOQ)
Cr Cr blanco de Sputtering Meta utilizado para hacer vidrio Arquitectónico y cristal auto

Cr Cr blanco de Sputtering Meta utilizado para hacer vidrio Arquitectónico y cristal auto

US$ 70,00-80,00
1 Pieza(MOQ)
1/2

UV Tech Material Co., Ltd.

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Objetivo de cromo, el objetivo de Cr giratorio cromo de alta pureza tubo, tubo de cromo objetivo para la deposición de vacío

Objetivo de cromo, el objetivo de Cr giratorio cromo de alta pureza tubo, tubo de cromo objetivo para la deposición de vacío

Negociable
2 Piezas(MOQ)
La meta (Cr giratorio recubrimiento vacío equipos y máquinas) , el magnetrón Sputtering Meta, meta de cromo

La meta (Cr giratorio recubrimiento vacío equipos y máquinas) , el magnetrón Sputtering Meta, meta de cromo

Negociable
1 Pieza(MOQ)
Objetivo giratorio cromado 99.5-99.99% de mejor venta de puro metal cromo Cr Objetivo Objetivo para la producción de Cr/ Crno película Color negro.

Objetivo giratorio cromado 99.5-99.99% de mejor venta de puro metal cromo Cr Objetivo Objetivo para la producción de Cr/ Crno película Color negro.

Negociable
2 Piezas(MOQ)
99.5-99.95% de superventas de metal cromado puro tubo Destino Destino Cr

99.5-99.95% de superventas de metal cromado puro tubo Destino Destino Cr

Negociable
2 Piezas(MOQ)

Yochane Vacuum Technology Limited

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C.C. que farfulla la blanco de la hoja/de la placa de Chromium/Cr

C.C. que farfulla la blanco de la hoja/de la placa de Chromium/Cr

US$ 20,00
1 Pieza(MOQ)
DC Sputtering Zirconium / Cr hoja / placa objetivo Coating

DC Sputtering Zirconium / Cr hoja / placa objetivo Coating

US$ 15,00
1 Pieza(MOQ)
Blanco rotatoria de la capa de la farfulla del tubo Chromium/Cr

Blanco rotatoria de la capa de la farfulla del tubo Chromium/Cr

US$ 20,00
1 Pieza(MOQ)
Blanco de la hoja/de la placa del cromo de la farfulla

Blanco de la hoja/de la placa del cromo de la farfulla

US$ 20,00
1 Pieza(MOQ)

Zhengzhou CY Scientific Instrument Co., Ltd.

13 años
·Fabricante/Fábrica & Empresa Comercial
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Revestidor de Sputtering Magnetrón de Doble Objetivo de Escritorio con Cavidad de Acero Inoxidable

Revestidor de Sputtering Magnetrón de Doble Objetivo de Escritorio con Cavidad de Acero Inoxidable

US$ 8.730,00-8.900,00
1 Pieza(MOQ)
Recubridor de Plasma de Vacío por Sputtering con Tres Objetivos Rotativos para Wafers

Recubridor de Plasma de Vacío por Sputtering con Tres Objetivos Rotativos para Wafers

US$ 5.800,00
1 Pieza(MOQ)
Revestidor de polvo compacto PVD con sputtering de magnetrón de corriente continua y etapa de vibración

Revestidor de polvo compacto PVD con sputtering de magnetrón de corriente continua y etapa de vibración

US$ 5.600,00
1 Pieza(MOQ)
Horno de tubo de alta temperatura y alta presión de laboratorio 1100c para la síntesis

Horno de tubo de alta temperatura y alta presión de laboratorio 1100c para la síntesis

US$ 6.700,00-7.100,00
1 Pieza(MOQ)
1/4

LORK GROUP CO., LTD

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Disco redondo de metal precioso de aleación Csf Lork personalizado 99.99% Pureza de objetivo de pulverización de oro Csf

Disco redondo de metal precioso de aleación Csf Lork personalizado 99.99% Pureza de objetivo de pulverización de oro Csf

US$ 30,00-40,00
100 Kg(MOQ)
Suministro Lork ASTM F1684/Uns K93600 Varilla para turbinas eólicas Invar 36 Equipo semiconductor aleación de precisión barra redonda

Suministro Lork ASTM F1684/Uns K93600 Varilla para turbinas eólicas Invar 36 Equipo semiconductor aleación de precisión barra redonda

US$ 10,00-15,00
100 Kg(MOQ)
Barra de aleación superlativa Lork Supply ASTM F1684/Uns K93600/AMS 1-23011 para turbinas eólicas Invar 36 barra redonda de aleación

Barra de aleación superlativa Lork Supply ASTM F1684/Uns K93600/AMS 1-23011 para turbinas eólicas Invar 36 barra redonda de aleación

US$ 15,00-20,00
100 Kg(MOQ)
Suministro Lork Super Aleación Uns K93600 4j36 Varilla para Turbinas Eólicas Invar 36 Barra Redonda

Suministro Lork Super Aleación Uns K93600 4j36 Varilla para Turbinas Eólicas Invar 36 Barra Redonda

US$ 10,00-15,00
100 Kg(MOQ)
1/4

Luoyang Bless Tungsten & Molybdenum Materials Co., Ltd.

12 años
·Empresa Comercial
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Objetivos de sputtering de molibdeno para ensamblaje complejo

Objetivos de sputtering de molibdeno para ensamblaje complejo

US$ 40,00-43,00
1 Kg(MOQ)
8PCS Llave de carraca intercambiable profesional con mecanismo de liberación rápida

8PCS Llave de carraca intercambiable profesional con mecanismo de liberación rápida

US$ 8,30
20 Conjuntos(MOQ)
Llave de torque ajustable tipo clic - Herramienta de torque de precisión con mango de liberación rápida

Llave de torque ajustable tipo clic - Herramienta de torque de precisión con mango de liberación rápida

US$ 9,00-19,20
20 Piezas(MOQ)
1/1

Xiamen U-Spring Technology Co., Ltd

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Objetivo rotatorio de cromo U-Spring / objetivo de pulverización para pulverización magnetrónica y recubrimiento al vacío

Objetivo rotatorio de cromo U-Spring / objetivo de pulverización para pulverización magnetrónica y recubrimiento al vacío

US$ 2.000,00
1 Pcs(MOQ)
Objetivo Planar U-Spring Cr / Objetivo de Sputtering para Sputtering Magnetrón y Recubrimiento al Vacío

Objetivo Planar U-Spring Cr / Objetivo de Sputtering para Sputtering Magnetrón y Recubrimiento al Vacío

US$ 2.000,00
1 Pcs(MOQ)
Cátodos de cromo / Cr para arco / objetivo de pulverización para pulverización magnetrónica y recubrimiento al vacío

Cátodos de cromo / Cr para arco / objetivo de pulverización para pulverización magnetrónica y recubrimiento al vacío

US$ 2.000,00
1 Pcs(MOQ)
1/2

Sid Metal Co., Ltd

13 años
·Fabricante/Fábrica & Empresa Comercial
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Alta Pureza Zr702 Zr705 Objetivo de Zirconio Conductividad Térmica Objetivo de Sputtering

Alta Pureza Zr702 Zr705 Objetivo de Zirconio Conductividad Térmica Objetivo de Sputtering

US$ 0,05-100,00
1 Pieza(MOQ)
99.99% Objetivo de Sputtering de Cromo Recubrimiento de Cromo Objetivo de Cromo

99.99% Objetivo de Sputtering de Cromo Recubrimiento de Cromo Objetivo de Cromo

US$ 100,00-600,00
2 Piezas(MOQ)
1/4
110
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