Inicioarrow-rightÍndice de Fábrica Chinaarrow-rightobjetivo de pulverización fábricaarrow-rightlista de proveedores
Filtrar
Categoría
Más
Certificación de Gestión
Más
Capacidad de R&D
Ingresos Anuales
Más
Número de empleados
Más
Provincia & Región
Más
sobre objetivo de pulverización
  • Innovación tecnológica
  • Cadenas de suministro confiables
  • Capacidades de fabricación sustanciales

objetivo de pulverización200+ fábricas verificadas

Sid Metal Co., Ltd

13 años
·Fabricante/Fábrica & Empresa Comercial
Enviar Consulta
Zr702 Zr705 Conductividad Térmica de Tubo de Circonio Alta Pureza Objetivo de Sputtering

Zr702 Zr705 Conductividad Térmica de Tubo de Circonio Alta Pureza Objetivo de Sputtering

US$ 1,00-3.000,00
1 Pieza(MOQ)
Hoja de objetivo de sputtering de zirconio de alta calidad Zr702 Zr705 para recubrimiento PVD disco de zirconio

Hoja de objetivo de sputtering de zirconio de alta calidad Zr702 Zr705 para recubrimiento PVD disco de zirconio

US$ 1,00-3.000,00
1 Pieza(MOQ)
Precio de fábrica 99.95% Metal Tántalo puro objetivo de sputtering Ta objetivos planos de tantalio

Precio de fábrica 99.95% Metal Tántalo puro objetivo de sputtering Ta objetivos planos de tantalio

US$ 1,00-100,00
1 Pieza(MOQ)
Objetivo de Sputtering de Titanio Ti / Objetivo Rotatorio de Titanio para Semiconductores / Sputtering de Recubrimiento al Vacío

Objetivo de Sputtering de Titanio Ti / Objetivo Rotatorio de Titanio para Semiconductores / Sputtering de Recubrimiento al Vacío

US$ 1,00-100,00
1 Pieza(MOQ)
1/4

SUZHOU TECHNO-TEC PHOTOELECTRIC MATERIALS CO., LTD

Enviar Consulta
Objetivo de pulverización de CU/objetivo rotatorio de cobre para conductor/semiconductor recubierto de metal

Objetivo de pulverización de CU/objetivo rotatorio de cobre para conductor/semiconductor recubierto de metal

US$ 10,00-15,00
1 Kg(MOQ)
Objetivo cerámico de Poli-silicio para esputo Blanco/Solar Fotovoltaica

Objetivo cerámico de Poli-silicio para esputo Blanco/Solar Fotovoltaica

US$ 35,00-50,00
1 Kg(MOQ)
Objetivo de Silicio Monocristalino Mono-Si para Objetivo de Sputtering en Fotovoltaica Solar para Teléfonos Móviles

Objetivo de Silicio Monocristalino Mono-Si para Objetivo de Sputtering en Fotovoltaica Solar para Teléfonos Móviles

US$ 35,00-75,00
1 Kg(MOQ)
Aleación CuNiTi Target Cobre níquel Titanio aleación esputtering objetivo para LCD/panel táctil

Aleación CuNiTi Target Cobre níquel Titanio aleación esputtering objetivo para LCD/panel táctil

US$ 50,00
1 Kg(MOQ)
1/4

Changsha Xinkang Advanced Materials Co., Ltd.

Enviar Consulta
99.95% Objetivo de Sputtering de Cromo Puro, Objetivo de Cromo de Alta Pureza para Recubrimiento PVD

99.95% Objetivo de Sputtering de Cromo Puro, Objetivo de Cromo de Alta Pureza para Recubrimiento PVD

US$ 30,00-1.000,00
1 Pieza(MOQ)
Objetivos de Sputtering de Aleación de Níquel de Alta Pureza Xinkang Níquel Vanadio Niv7%

Objetivos de Sputtering de Aleación de Níquel de Alta Pureza Xinkang Níquel Vanadio Niv7%

US$ 35,00-40,00
1 Pieza(MOQ)
Objetivo de pulverización de aleación de níquel y cromo de alta calidad para recubrimiento

Objetivo de pulverización de aleación de níquel y cromo de alta calidad para recubrimiento

US$ 35,00-40,00
1 Pieza(MOQ)
Objetivo de Sputtering de Aleación de Titanio y Aluminio Tial 67/33at% Tial 50/50at%

Objetivo de Sputtering de Aleación de Titanio y Aluminio Tial 67/33at% Tial 50/50at%

US$ 45,00-120,00
1 Pieza(MOQ)
1/4

Ningbo Galaxy International Trading Co., Ltd.

Enviar Consulta
99.9% Objetivo de recubrimiento al vacío de níquel, cromo y aluminio para el proceso PVD, objetivo de cromo y tantalio

99.9% Objetivo de recubrimiento al vacío de níquel, cromo y aluminio para el proceso PVD, objetivo de cromo y tantalio

US$ 55,00
1 Pieza(MOQ)
Objetivo de sputtering redondo de aluminio de titanio de alta calidad

Objetivo de sputtering redondo de aluminio de titanio de alta calidad

US$ 20,00
50 Piezas(MOQ)
Buena dureza venta caliente objetivo de sputtering de cromo

Buena dureza venta caliente objetivo de sputtering de cromo

US$ 30,00-50,00
5 Piezas(MOQ)
Resistencia y dureza propiedad prensadora de frío Titanio esputtering Coating Round Target

Resistencia y dureza propiedad prensadora de frío Titanio esputtering Coating Round Target

US$ 32,00-40,00
1 Pieza(MOQ)
1/4

Dongguan Gravel Industries and Enterprise Company Limited

Enviar Consulta
Objetivo de rutenio por sputtering magnetrón de alta pureza

Objetivo de rutenio por sputtering magnetrón de alta pureza

US$ 32.000,00
1 Pieza(MOQ)
Objetivo de aluminio de alta pureza para sputtering en vacío con magnetrón

Objetivo de aluminio de alta pureza para sputtering en vacío con magnetrón

US$ 1.000,00
1 Pieza(MOQ)
99.99% Blanco de Sputtering de Aleación de Estaño de Oro de Alta Pureza

99.99% Blanco de Sputtering de Aleación de Estaño de Oro de Alta Pureza

US$ 265.000,00
10 Piezas(MOQ)
Material de objetivo de pulverización de oro puro de alta calidad

Material de objetivo de pulverización de oro puro de alta calidad

US$ 1.200.000,00
1 Pieza(MOQ)
1/4

Rheniumet Ltd.

17 años
·Empresa Comercial
Enviar Consulta
3mm Blanco grueso de rutenio, blanco de sputtering de Ru

3mm Blanco grueso de rutenio, blanco de sputtering de Ru

Negociable
1 Pieza(MOQ)
Objetivo de Sputtering de Rhenio de Alta Pureza 99.99%, Objetivo Redondo de Metal Re

Objetivo de Sputtering de Rhenio de Alta Pureza 99.99%, Objetivo Redondo de Metal Re

US$ 1.000,00-4.000,00
1 Pieza(MOQ)
Objetivo de tungsteno de alta pureza 99.999% para recubrimiento de metal de tungsteno mediante sputtering

Objetivo de tungsteno de alta pureza 99.999% para recubrimiento de metal de tungsteno mediante sputtering

US$ 200,00
1 Pieza(MOQ)
99.99% Objetivo de Sputtering de Metal de Wolframio de Alta Pureza

99.99% Objetivo de Sputtering de Metal de Wolframio de Alta Pureza

Negociable
1 Pieza(MOQ)
1/4

Luoyang Modi Tungsten & Molybdenum Material Co., Ltd.

Enviar Consulta
Ta-Mo Alloy Plate Tantalum Molybdenum Sputtering Target

Ta-Mo Alloy Plate Tantalum Molybdenum Sputtering Target

US$ 57,00-72,00
1 Kg(MOQ)
High Purity Sputtering Target Material Molybdenum Sputtering Target

High Purity Sputtering Target Material Molybdenum Sputtering Target

US$ 57,00-72,00
1 Kg(MOQ)
Tzm Molybdenum Alloy Plate Sputtering Targets Price

Tzm Molybdenum Alloy Plate Sputtering Targets Price

US$ 75,00-95,00
1 Kg(MOQ)
Molybdenum Target Niobium Sputtering Target for Electronic Semiconductor

Molybdenum Target Niobium Sputtering Target for Electronic Semiconductor

US$ 57,00-72,00
1 Kg(MOQ)
1/4

Zhuzhou Weilai New Materials Technology Co., Ltd.

8 años
·Fabricante/Fábrica & Empresa Comercial
Enviar Consulta
Objetivos de ánodo rotatorio de aleación de tungsteno, aleación de renio, aleación de molibdeno

Objetivos de ánodo rotatorio de aleación de tungsteno, aleación de renio, aleación de molibdeno

US$ 142,00-168,00
30 Piezas(MOQ)
Objetivo de sputtering de ánodo rotatorio de molibdeno, renio y tungsteno

Objetivo de sputtering de ánodo rotatorio de molibdeno, renio y tungsteno

US$ 142,00-168,00
30 Piezas(MOQ)
Aplicaciones de alta temperatura objetivo de pulverización rotativa de tungsteno rhenio para ánodo de rayos X

Aplicaciones de alta temperatura objetivo de pulverización rotativa de tungsteno rhenio para ánodo de rayos X

US$ 142,00-168,00
30 Piezas(MOQ)
Suministramos varios tipos de objetivos de ánodo rotatorio, chorro de arena, objetivos de sputtering de ánodo rotatorio ennegrecido

Suministramos varios tipos de objetivos de ánodo rotatorio, chorro de arena, objetivos de sputtering de ánodo rotatorio ennegrecido

US$ 142,00-168,00
30 Piezas(MOQ)
1/4

Shanghai Tankii Alloy Material Co., Ltd.

5.0
Enviar Consulta
Tipo de recubrimiento PVD más popular, uso de objetivo de sputtering de cromo tipo placa

Tipo de recubrimiento PVD más popular, uso de objetivo de sputtering de cromo tipo placa

US$ 60,00-150,00
1 Pieza(MOQ)
Precio de fábrica Vender 99.999% Objetivo de sputtering de cromo

Precio de fábrica Vender 99.999% Objetivo de sputtering de cromo

US$ 60,00-150,00
1 Pieza(MOQ)
Fabricante personalizado de bajo precio, metal de cromo puro de alta pureza, objetivo de sputtering de Cr para recubrimiento PVD

Fabricante personalizado de bajo precio, metal de cromo puro de alta pureza, objetivo de sputtering de Cr para recubrimiento PVD

US$ 60,00-150,00
1 Pieza(MOQ)
Alta Pureza 99.99% TANKII Metal Cromo Objetivos de Sputtering

Alta Pureza 99.99% TANKII Metal Cromo Objetivos de Sputtering

US$ 60,00-150,00
1 Pieza(MOQ)
1/4

Beenine Shanke Technology Co., Ltd.

Enviar Consulta
Valor Precio Objetivo de Sputtering de Molibdeno Mo Fabricación Tamaño Personalizado

Valor Precio Objetivo de Sputtering de Molibdeno Mo Fabricación Tamaño Personalizado

US$ 80,00-500,00
1 Kg(MOQ)
Objetivo de sputtering de bismuto Bi de alta calidad, precio de unión en China

Objetivo de sputtering de bismuto Bi de alta calidad, precio de unión en China

US$ 80,00-500,00
1 Pieza(MOQ)
Objetivo de sputtering de aleación de cobre níquel Cu/Ni de construcción multi-PCS

Objetivo de sputtering de aleación de cobre níquel Cu/Ni de construcción multi-PCS

US$ 300,00-1.000,00
1 Pieza(MOQ)
Objetivo de Sputtering de Níquel Precio Inexpensivo Fabricación

Objetivo de Sputtering de Níquel Precio Inexpensivo Fabricación

US$ 300,00-1.000,00
1 Pieza(MOQ)
1/4

Inner Mongolia Rongtai Rhenium New Materials Co., Ltd.

5.0
Enviar Consulta
Objetivo de sputtering de lanthanum de alta pureza premium para electrónica

Objetivo de sputtering de lanthanum de alta pureza premium para electrónica

US$ 150,00-350,00
1 Pieza(MOQ)
Objetivo de Sputtering de Cerio Personalizado Premium para la Excelencia en Recubrimientos

Objetivo de Sputtering de Cerio Personalizado Premium para la Excelencia en Recubrimientos

US$ 55,00-85,00
1 Pieza(MOQ)
Objetivo de metal de sputtering de alta pureza Yb negro redondo para pantalla plana

Objetivo de metal de sputtering de alta pureza Yb negro redondo para pantalla plana

US$ 190,00-199,00
1 Pieza(MOQ)
Objetivo de sputtering de aleación de titanio y iterbio de alta pureza para recubrimientos superiores

Objetivo de sputtering de aleación de titanio y iterbio de alta pureza para recubrimientos superiores

US$ 190,00-199,00
1 Pieza(MOQ)
1/4

Shaanxi Mingsheng Guangpu Metal Materials Co., Ltd.

3 años·5.0
Enviar Consulta
Objetivos de sputtering de níquel de alta pureza en forma tubular - Personalizables para células solares fotovoltaicas

Objetivos de sputtering de níquel de alta pureza en forma tubular - Personalizables para células solares fotovoltaicas

US$ 200,00-220,00
50 kilograms(MOQ)
Objetivo de Sputtering de Cromo en Forma de Rectángulo con Maquinado de Agujeros para Recubrimiento Metálico de Precisión

Objetivo de Sputtering de Cromo en Forma de Rectángulo con Maquinado de Agujeros para Recubrimiento Metálico de Precisión

US$ 99,00-180,00
1 Pieza(MOQ)
Objetivos de Sputtering de Níquel Personalizados Msgp - Ideales para Aplicaciones de Deposición de Películas Delgadas

Objetivos de Sputtering de Níquel Personalizados Msgp - Ideales para Aplicaciones de Deposición de Películas Delgadas

US$ 100,00-120,00
50 kilograms(MOQ)
Objetivos de Sputtering de Níquel de Precisión para Películas Conductivas de Instrumentos de Precisión

Objetivos de Sputtering de Níquel de Precisión para Películas Conductivas de Instrumentos de Precisión

US$ 110,00-130,00
50 kilograms(MOQ)
1/4

Zhonghe Steel (Tianjin) Co., Ltd.

5 años
·Empresa Comercial
Enviar Consulta
Personalización de objetivo de sputtering de titanio para necesidades de recubrimiento especializadas

Personalización de objetivo de sputtering de titanio para necesidades de recubrimiento especializadas

US$ 10,00-25,00
1 Pieza(MOQ)
Objetivos de PVD de aleación de aluminio y titanio, objetivos de sputtering de titanio, objetivo de aleación de Tial para recubrimiento

Objetivos de PVD de aleación de aluminio y titanio, objetivos de sputtering de titanio, objetivo de aleación de Tial para recubrimiento

US$ 10,00-25,00
1 Pieza(MOQ)
Objetivo de Sputtering de Titanio de Alta Pureza Gr1 Gr2 para PVD

Objetivo de Sputtering de Titanio de Alta Pureza Gr1 Gr2 para PVD

US$ 10,00-25,00
1 Pieza(MOQ)
Precio del objetivo de sputtering de titanio PVD personalizado

Precio del objetivo de sputtering de titanio PVD personalizado

US$ 10,00-25,00
1 Pieza(MOQ)
1/4

Lonwin Industry Group Limited

5.0
Enviar Consulta
Objetivo de Sputtering de Dióxido de Titanio Óxido de Titanio Cerámico de Aleación Tiox

Objetivo de Sputtering de Dióxido de Titanio Óxido de Titanio Cerámico de Aleación Tiox

US$ 17,00-55,00
1 Kg(MOQ)
99.99% Objetivo Cerámico Ysz Objetivo de Circonio Estabilizado con Yttria para Sputtering

99.99% Objetivo Cerámico Ysz Objetivo de Circonio Estabilizado con Yttria para Sputtering

US$ 17,00-55,00
1 Kg(MOQ)
99.99% VSI2 Objetivos de Cerámica Disiliciuro de Vanadio Objetivos de Sputtering

99.99% VSI2 Objetivos de Cerámica Disiliciuro de Vanadio Objetivos de Sputtering

US$ 17,00-55,00
1 Kg(MOQ)
99.95% Lac2 Objetivo de Cerámica de Carburo de Lantano para Sputtering

99.95% Lac2 Objetivo de Cerámica de Carburo de Lantano para Sputtering

US$ 17,00-55,00
1 Kg(MOQ)
1/4

Xiamen Tmax Battery Equipments Limited

5.0
Enviar Consulta
Marca TMAXCN Alta Pureza 99.9% 3n Objetivo de Sputtering de Boro Puro

Marca TMAXCN Alta Pureza 99.9% 3n Objetivo de Sputtering de Boro Puro

US$ 78,00-90,00
1 Pieza(MOQ)
Marca TMAXCN 99.5% Objetivo de cerámica de carburo de silicio para pulverización para recubrimiento

Marca TMAXCN 99.5% Objetivo de cerámica de carburo de silicio para pulverización para recubrimiento

US$ 78,00-90,00
1 Pieza(MOQ)
Marca TMAXCN 4" Diámetro X 0.25" 4n Objetivo de Sputtering de Alta Pureza de Aluminio (Al)

Marca TMAXCN 4" Diámetro X 0.25" 4n Objetivo de Sputtering de Alta Pureza de Aluminio (Al)

US$ 78,00-90,00
1 Pieza(MOQ)
Objetivo de sputtering de carbono de alta pureza de la marca TMAXCN 99.95% C

Objetivo de sputtering de carbono de alta pureza de la marca TMAXCN 99.95% C

US$ 78,00-90,00
1 Pieza(MOQ)
1/4

Zhengzhou Shibo Nonferrous Metals Products Co., Ltd.

21 años·5.0
·Fabricante/Fábrica & Empresa Comercial
Enviar Consulta
Objetivo de Sputtering de Molibdeno Pulido (99.95% puro)

Objetivo de Sputtering de Molibdeno Pulido (99.95% puro)

US$ 40,00-60,00
1 Kg(MOQ)
Objetivo de molibdeno para recubrimiento por pulverización al vacío

Objetivo de molibdeno para recubrimiento por pulverización al vacío

US$ 45,00
1 kg(MOQ)
Mo1 Precio del objetivo de molibdeno para sputtering

Mo1 Precio del objetivo de molibdeno para sputtering

US$ 40,00-88,00
1 kg(MOQ)
Placa Redonda de Molibdeno de Alta Pureza Mo1 para Sputtering

Placa Redonda de Molibdeno de Alta Pureza Mo1 para Sputtering

US$ 40,00-88,00
1 kg(MOQ)
1/2

Luoyang Bless Tungsten & Molybdenum Materials Co., Ltd.

12 años
·Empresa Comercial
Enviar Consulta
Objetivos de sputtering de molibdeno para ensamblaje complejo

Objetivos de sputtering de molibdeno para ensamblaje complejo

US$ 40,00-43,00
1 Kg(MOQ)
Objetivos de sputtering de molibdeno de alta calidad

Objetivos de sputtering de molibdeno de alta calidad

US$ 66,00-77,00
1 Kg(MOQ)
Material de alta pureza ultra molibdeno objetivos de pulverización

Material de alta pureza ultra molibdeno objetivos de pulverización

US$ 20,00-86,00
1 Pieza(MOQ)
Doblado y Pliegue de Objetivos de Sputtering de Molibdeno

Doblado y Pliegue de Objetivos de Sputtering de Molibdeno

US$ 40,00-43,00
1 Kg(MOQ)
1/1

Shenzhen Silver Technologies Ltd

Enviar Consulta
Ventas Directas de Fábrica de 99.99% - 99.999% Material de Objetivo de Sputtering de Oro

Ventas Directas de Fábrica de 99.99% - 99.999% Material de Objetivo de Sputtering de Oro

US$ 200,00
100 g(MOQ)
99.99% Objetivo de Sputtering de Oro de Alta Pureza, Objetivo de Au

99.99% Objetivo de Sputtering de Oro de Alta Pureza, Objetivo de Au

US$ 200,00
100 g(MOQ)
Objetivo de sputtering de oro de alta pureza, adecuado para 5g materiales

Objetivo de sputtering de oro de alta pureza, adecuado para 5g materiales

US$ 200,00
100 g(MOQ)
Material de objetivo de pulverización de oro de alta pureza procesamiento personalizado

Material de objetivo de pulverización de oro de alta pureza procesamiento personalizado

US$ 200,00
100 g(MOQ)
1/4

Baoji Taizehui Metal Technology Co., Ltd.

Enviar Consulta
Objetivo de Sputtering de Zirconio de Alta Calidad 705 para Soluciones Personalizadas Hoy

Objetivo de Sputtering de Zirconio de Alta Calidad 705 para Soluciones Personalizadas Hoy

Negociable
10 Kg(MOQ)
Objetivo de Sputtering de Circonio 705 para Soluciones Metálicas Personalizadas de Alta Calidad

Objetivo de Sputtering de Circonio 705 para Soluciones Metálicas Personalizadas de Alta Calidad

Negociable
10 Kg(MOQ)
Material de objetivo de pulverización para recubrimiento al vacío, objetivo curvado, proceso de alta pureza, placa de hafnio

Material de objetivo de pulverización para recubrimiento al vacío, objetivo curvado, proceso de alta pureza, placa de hafnio

Negociable
2 Kg(MOQ)
Partículas de tantalio para recubrimiento de pulverización de alta calidad y evaporación

Partículas de tantalio para recubrimiento de pulverización de alta calidad y evaporación

Negociable
1 Kg(MOQ)
1/4

Xiamen HiuGong Machinery Co., Ltd.

Enviar Consulta
99.99% Objetivo de Sputtering de Óxido de Galio Objetivo Plano Ga2o3 Objetivo

99.99% Objetivo de Sputtering de Óxido de Galio Objetivo Plano Ga2o3 Objetivo

US$ 300,00
1 Pieza(MOQ)
Objetivo de Sputtering Rotatorio 4n-5n Sial Nicr Znal Znsn Tiox Nbox

Objetivo de Sputtering Rotatorio 4n-5n Sial Nicr Znal Znsn Tiox Nbox

US$ 1.000,00
1 Pieza(MOQ)
Objetivo de Sputtering Magnetrón Zrox Si Cr Nb Cu Cr AG

Objetivo de Sputtering Magnetrón Zrox Si Cr Nb Cu Cr AG

US$ 500,00
1 Pieza(MOQ)
Equipo de recubrimiento por pulverización de plasma, antiadherente, resistente al desgaste, silicio, aluminio, alúmina, circonio

Equipo de recubrimiento por pulverización de plasma, antiadherente, resistente al desgaste, silicio, aluminio, alúmina, circonio

US$ 35.000,00
1 Pieza(MOQ)
1/4

Zhejiang Ruisheng New Materials Co., Ltd.

Empresa Comercial
Enviar Consulta
Objetivo de Sputtering de Tungsteno de Alta Pureza 99.95% Deposición de Películas Finas de Semiconductores Personalizable Estándar ASTM

Objetivo de Sputtering de Tungsteno de Alta Pureza 99.95% Deposición de Películas Finas de Semiconductores Personalizable Estándar ASTM

US$ 60,00-100,00
1 Kg(MOQ)
Objetivo de tungsteno rotativo premium para aplicaciones de sputtering eficientes

Objetivo de tungsteno rotativo premium para aplicaciones de sputtering eficientes

US$ 50,00-270,00
10 Kg(MOQ)
Objetivo de Molybdeno Puro Ultra Denso 99.9% 100mm Diámetro Recubrimiento de Película Delgada Opcional RoHS

Objetivo de Molybdeno Puro Ultra Denso 99.9% 100mm Diámetro Recubrimiento de Película Delgada Opcional RoHS

US$ 30,00-60,00
10 Kg(MOQ)
Objetivo de sputtering de molibdeno personalizable con alta densidad para aplicaciones de recubrimiento de semiconductores y vidrio

Objetivo de sputtering de molibdeno personalizable con alta densidad para aplicaciones de recubrimiento de semiconductores y vidrio

US$ 30,00-80,00
10 Kg(MOQ)
1/4

Hubei Fotma Machinery Co., Ltd.

Enviar Consulta
Producto personalizado de tungsteno, blanco de sputtering de tungsteno puro

Producto personalizado de tungsteno, blanco de sputtering de tungsteno puro

US$ 40,00-50,00
1 Kg(MOQ)
99.95% Tubo de Molienda Objetivo de Sputtering Objetivo de Molibdeno

99.95% Tubo de Molienda Objetivo de Sputtering Objetivo de Molibdeno

US$ 5,00-200,00
1 Kilogram(MOQ)
Tubo de molibdeno para objetivo de pulverización 99.95% Tubo de molibdeno puro

Tubo de molibdeno para objetivo de pulverización 99.95% Tubo de molibdeno puro

US$ 40,00-50,00
1 Kg(MOQ)
99.95% Placas de tungsteno negro mecanizadas y rectificadas en puro tungsteno

99.95% Placas de tungsteno negro mecanizadas y rectificadas en puro tungsteno

US$ 1,00-20,00
1 Pieza(MOQ)
1/4

ATM Material Co., Ltd.

Enviar Consulta
Objetivo de pulverización

Objetivo de pulverización

US$ 0,10-100,00
1.000 Piezas(MOQ)
Objetivo Wti / Objetivos de Sputtering / Alta Calidad Wti

Objetivo Wti / Objetivos de Sputtering / Alta Calidad Wti

US$ 1,00-100,00
1 Pieza(MOQ)
W Objetivo

W Objetivo

US$ 100,00
1 Pieza(MOQ)
Objetivo de Cr con alta calidad

Objetivo de Cr con alta calidad

US$ 0,10-100,00
1.000 Piezas(MOQ)
1/4

Jiangsu Cicel Vacuum Technology Co., Ltd.

Enviar Consulta
Objetivo de titanio por sputtering, objetivo de sputtering de titanio, recubrimiento al vacío, objetivo de titanio

Objetivo de titanio por sputtering, objetivo de sputtering de titanio, recubrimiento al vacío, objetivo de titanio

US$ 100,00-300,00
1 Pieza(MOQ)
Objetivo de Titanio Puro Mejor Precio Gr2 Objetivo de Titanio para Sputtering al Vacío Recubrimiento con Objetivo de Titanio

Objetivo de Titanio Puro Mejor Precio Gr2 Objetivo de Titanio para Sputtering al Vacío Recubrimiento con Objetivo de Titanio

US$ 100,00-300,00
1 Pieza(MOQ)
Objetivos de PVD de aleación de aluminio y titanio, objetivos de sputtering de titanio, objetivo de aleación de Tial para recubrimiento

Objetivos de PVD de aleación de aluminio y titanio, objetivos de sputtering de titanio, objetivo de aleación de Tial para recubrimiento

US$ 80,00-300,00
1 Pieza(MOQ)
Precio de objetivos de titanio de alta pureza para recubrimiento PVD/objetivo de titanio por pulverización, objetivo redondo de titanio en venta

Precio de objetivos de titanio de alta pureza para recubrimiento PVD/objetivo de titanio por pulverización, objetivo redondo de titanio en venta

US$ 80,00-300,00
1 Pieza(MOQ)
1/4

Xiangtan Hondson Coating Technology Co., Ltd.

6 años
·Fabricante/Fábrica & Empresa Comercial
Enviar Consulta
Objetivo de magnetrón cilíndrico para recubrimiento PVD en vacío de tubos de titanio, materiales en bruto para recubrimiento, cátodos

Objetivo de magnetrón cilíndrico para recubrimiento PVD en vacío de tubos de titanio, materiales en bruto para recubrimiento, cátodos

US$ 800,00-1.500,00
1 Pieza(MOQ)
Bloque de titanio de alta pureza personalizado, material de titanio, material de recubrimiento por ionización multi-arco, objetivo metálico

Bloque de titanio de alta pureza personalizado, material de titanio, material de recubrimiento por ionización multi-arco, objetivo metálico

US$ 500,00-1.000,00
1 Pieza(MOQ)
5-200kw Fuente de Sputtering Típica para la Industria de Recubrimiento de Películas Delgadas Cátodo de Sputter Magnetrón Rotatorio Objetivo de Sputtering Rotatorio

5-200kw Fuente de Sputtering Típica para la Industria de Recubrimiento de Películas Delgadas Cátodo de Sputter Magnetrón Rotatorio Objetivo de Sputtering Rotatorio

US$ 6.900,00-7.000,00
2 sets(MOQ)
Cátodo giratorio, objetivo de tubo cilíndrico para máquina de revestimiento

Cátodo giratorio, objetivo de tubo cilíndrico para máquina de revestimiento

US$ 6.700,00-6.800,00
2 sets(MOQ)
1/4

Zhengzhou Tainuo Film Materials Co., Ltd.

9 años
·Fabricante/Fábrica
Enviar Consulta
Al, objetivo de sputtering de Cr para evaporación térmica y máquina de sputtering magnetrón

Al, objetivo de sputtering de Cr para evaporación térmica y máquina de sputtering magnetrón

US$ 30,00-200,00
1 Pieza(MOQ)
Recubridor de plasma de doble objetivo de escritorio para muestras de SEM y cromo

Recubridor de plasma de doble objetivo de escritorio para muestras de SEM y cromo

US$ 7.900,00-8.500,00
1 Pieza(MOQ)
Fuente de Sputtering Magnetrón de Alto Vacío para el Proceso de Recubrimiento PVD

Fuente de Sputtering Magnetrón de Alto Vacío para el Proceso de Recubrimiento PVD

US$ 1.800,00-2.000,00
1 set(MOQ)
Sputtering magnetrón de un solo objetivo con función de bobinado de fibra óptica

Sputtering magnetrón de un solo objetivo con función de bobinado de fibra óptica

US$ 28.000,00-29.500,00
1 set(MOQ)
1/4

Zhengzhou CY Scientific Instrument Co., Ltd.

13 años
·Fabricante/Fábrica & Empresa Comercial
Enviar Consulta
Objetivo de Sputtering de Plasma de Alta Pureza

Objetivo de Sputtering de Plasma de Alta Pureza

US$ 65,00
1 Set(MOQ)
Aparato de recubrimiento por sputtering de magnetrón de un solo objetivo de acero inoxidable de escritorio

Aparato de recubrimiento por sputtering de magnetrón de un solo objetivo de acero inoxidable de escritorio

US$ 8.730,00-8.900,00
1 Pieza(MOQ)
Depósito por Sputtering de Magnetrón de Doble Objetivo de CC y RF para Películas Delgadas de Metal y Óxido

Depósito por Sputtering de Magnetrón de Doble Objetivo de CC y RF para Películas Delgadas de Metal y Óxido

US$ 21.000,00-26.000,00
1 Pieza(MOQ)
Máquina de recubrimiento por pulverización de plasma de doble objetivo para película de AG Pd

Máquina de recubrimiento por pulverización de plasma de doble objetivo para película de AG Pd

US$ 3.000,00-5.000,00
1 set(MOQ)
1/4

Xiamen Wintrustek Advanced Materials Co., Ltd.

Enviar Consulta
Disco de Cerámica de Hexaburó de Lantano Lab6 para Sputtering

Disco de Cerámica de Hexaburó de Lantano Lab6 para Sputtering

US$ 50,00-200,00
1 Pieza(MOQ)
Objetivo de Sputtering de Cerámica de Hexaburó de Lantano Lab6 para Recubrimiento de Película Delgada PVD

Objetivo de Sputtering de Cerámica de Hexaburó de Lantano Lab6 para Recubrimiento de Película Delgada PVD

US$ 50,00-200,00
1 Pieza(MOQ)
Objetivos de cerámica de hexaboruro de lantano de alta emisividad electrónica Lab6

Objetivos de cerámica de hexaboruro de lantano de alta emisividad electrónica Lab6

US$ 50,00-200,00
1 Pieza(MOQ)
Disco Cerámico de Boruro de Lantano para Objetivo de Sputtering Lab6

Disco Cerámico de Boruro de Lantano para Objetivo de Sputtering Lab6

US$ 50,00-200,00
1 Pieza(MOQ)
1/4

LUOYANG COMBAT TUNGSTEN & MOLYBDENUM MATERIAL CO., LTD.

18 años·5.0
·Fabricante/Fábrica & Empresa Comercial
Enviar Consulta
Objetivo de Sputtering de Molybdeno de Alta Densidad de Combate 99.95%

Objetivo de Sputtering de Molybdeno de Alta Densidad de Combate 99.95%

US$ 55,00-59,00
1 Kg(MOQ)
Objetivo de Sputtering de Titanio Puro de Material de Titanio Hecho a Medida 99.6% en Venta

Objetivo de Sputtering de Titanio Puro de Material de Titanio Hecho a Medida 99.6% en Venta

US$ 35,00-40,00
5 Kg(MOQ)
Hoja de Foil de Tantalio Acepta Personalización del Cliente Electrónica Hoja Fina de Tantalio en Venta

Hoja de Foil de Tantalio Acepta Personalización del Cliente Electrónica Hoja Fina de Tantalio en Venta

US$ 456,80-500,20
1 Kg(MOQ)
Paquete de exportación estándar de electrónica puro a la venta tubo de tantalio

Paquete de exportación estándar de electrónica puro a la venta tubo de tantalio

US$ 588,95-602,26
3 Kg(MOQ)
1/4

Shanghai Rui Tai Photoelectric Technology Co., Ltd.

10 años·5.0
·Empresa Comercial
Enviar Consulta
Objetivo de Sputtering de Cuarzo Avanzado para Soluciones de Recubrimiento Óptimas

Objetivo de Sputtering de Cuarzo Avanzado para Soluciones de Recubrimiento Óptimas

US$ 3,00-5,00
100 Piezas(MOQ)
Difusores ópticos de cuarzo, difusores ingenierizados de cuarzo, difusores ópticos de cuarzo

Difusores ópticos de cuarzo, difusores ingenierizados de cuarzo, difusores ópticos de cuarzo

US$ 3,00-5,00
100 Piezas(MOQ)
Difusores Ópticos de Cuarzo

Difusores Ópticos de Cuarzo

US$ 3,00-5,00
100 Piezas(MOQ)
Difusor de cuarzo óptico, difusores de cuarzo ingenierizados, difusor láser

Difusor de cuarzo óptico, difusores de cuarzo ingenierizados, difusor láser

US$ 3,00-5,00
100 Piezas(MOQ)
1/4
18
Productos Populares
Resina Epóxica
Silicio De China
Titanio De China
Tungsteno De China
Molibdeno De China
Metales De Alta Pureza
Crisol De China
Metal Raro
Fabricantes relacionados & Proveedor
Fábrica De Objetivos Rotativos
Fábrica De Objetivo De Sputtering De Metal
Fábrica De Objetivo De Sputtering De Oro
Fábrica De Objetivo De Sputtering De Circonio
Fabricantes De Objetivo De Sputtering De Aluminio
Fabricantes De Niobio
Fabricantes De Aleación De Circonio
Fabricantes De Objetivo De Titanio
Sobre Nosotros Declaración Acuerdo del usuario Política de privacidad Contactar a Made-in-China.com Productos Rápidos Perspectivas
Opciones de Idioma: English 简体中文 繁體中文 日本語 Français Español Deutsch Português Italiano Русский язык 한국어 العربية Nederlands हिन्दी ภาษาไทย Türkçe Tiếng Việt Bahasa Indonesia
Copyright ©2026 Focus Technology Co., Ltd. Todos los derechos reservados.
Focus no está responsable de la diferencia entre la versión en inglés y versiones en otros idiomas del sitio web. Si hay algún conflicto, la versión en inglés prevalecerá. Su uso de este sitio web está sujeto a, y constituye el reconocimiento y la aceptación de nuestros Términos y Condiciones.