Objetivos de alta calidad de pulverización de molibdeno

• Application: Aviation, Electronics, Industrial, Medical, Chemical
• Standard: JIS, GB, DIN, BS, ASTM, AISI
• Purity: >99.95%
• Alloy: Alloy
• Type: Molybdenum Plate
• Powder: Not Powder
• No. de Modelo.: Moly Target
• Paquete de Transporte: Wooden Box
• Especificación: 0.02mm--12.0mm diameter
• Origen: China
• Código del HS: 8102950000
• Capacidad de Producción: 1000000meters

Descripción de Producto

Objetivos de pulverización de molibdeno

Descripción:
El objetivo de pulverización de molibdeno se utiliza ampliamente en la fabricación de pantallas LCD y táctiles (paneles). También se utiliza para las células solares y la calefacción solar de agua. Podemos proporcionar blancos puros de molibdeno y aleación de molibdeno con diferentes formas, incluyendo blancos de disco, planos, rotativos y personalizados.

Aplicación:
El espumamiento es un método de deposición de vapor físico (PVD) para depositar el material de destino evaporado en la superficie del sustrato formando una capa de película fina.
El esputo es la técnica de deposición de vacío preferida por los fabricantes de semiconductores, CD, unidades de disco y dispositivos ópticos. Se utiliza ampliamente en la industria de semiconductores para depositar películas delgadas de diversos materiales en el procesamiento de circuitos integrados. Los revestimientos antireflejos finos en el vidrio para aplicaciones ópticas también se depositan por medio de la pulverización. Las películas con mantequilla exhiben una excelente uniformidad, densidad, pureza y adhesión.


Principio de funcionamiento:
Los materiales de destino de espumación para los depósitos de espumación de magnetrón, es un nuevo tipo de método de deposición de vapor físico (PVD)
Se añade un campo magnético y eléctrico ortogonal al ánodo y cátodo del objetivo de esputo, y se llena el gas (normalmente el gas de Ar) en la cámara de vacío alto.
Ionización de gas AR en iones positivos y electrones. Bajo la acción del campo eléctrico, Target tiene cierta presión negativa, Electrónica efectuada por el campo magnético y su probabilidad de ionización aumenta con el gas de trabajo, Luego formando alta densidad de plasma cerca del cátodo, Ar ión bajo la acción de la fuerza de lorentz, acelerar la mosca hasta la superficie objetivo, bombardeando la superficie objetivo a alta velocidad, haciendo que los átomos escupen desde la mosca objetivo hasta la película de deposición sustrato.


Especificación:
Los objetivos de pulverización de molibdeno que podemos proporcionar son los siguientes:
Placa objetivo: Peso:≤200kg/pc, pureza:≥99,95%
Objetivo del tubo: Longitud:≤Φ165mmΧ1000mm, pureza:≥99,95%


Podemos suministrar objetivos de molibdeno según las peticiones de los clientes.
Si hay alguna otra especificación, por favor, póngase en contacto con nosotros sin duda!
Bienvenido a su consulta, por favor contacte a Wendy.

Hora de actualización del contenido:2024.05.14