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sobre objetivo de pulverización de aleación
  • Innovación tecnológica
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objetivo de pulverización de aleación100+ fábricas verificadas

Changsha Xinkang Advanced Materials Co., Ltd.

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Objetivos de Sputtering de Aleación de Níquel de Alta Pureza Xinkang Níquel Vanadio Niv7%

Objetivos de Sputtering de Aleación de Níquel de Alta Pureza Xinkang Níquel Vanadio Niv7%

US$ 35,00-40,00
1 Pieza(MOQ)
Objetivo de pulverización de aleación de níquel y cromo de alta calidad para recubrimiento

Objetivo de pulverización de aleación de níquel y cromo de alta calidad para recubrimiento

US$ 35,00-40,00
1 Pieza(MOQ)
99.95% Znsn50wt% Objetivos de aleación de zinc y estaño para sputtering

99.95% Znsn50wt% Objetivos de aleación de zinc y estaño para sputtering

US$ 75,00-85,00
1 Pieza(MOQ)
99.95% Objetivo de Sputtering de Aleación de Cobalto Hierro (CoFe 90/10%)) para Proceso PVD

99.95% Objetivo de Sputtering de Aleación de Cobalto Hierro (CoFe 90/10%)) para Proceso PVD

US$ 50,00-1.000,00
1 pieces(MOQ)
1/4

SUZHOU TECHNO-TEC PHOTOELECTRIC MATERIALS CO., LTD

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Aleación CuNiTi Target Cobre níquel Titanio aleación esputtering objetivo para LCD/panel táctil

Aleación CuNiTi Target Cobre níquel Titanio aleación esputtering objetivo para LCD/panel táctil

US$ 50,00
1 Kg(MOQ)
Objetivo de aleación de AlSc, objetivo de sputtering de aleación de aluminio y escandio para semiconductores

Objetivo de aleación de AlSc, objetivo de sputtering de aleación de aluminio y escandio para semiconductores

US$ 9.400,00
1 Kg(MOQ)
Objetivo de NdFeB Aleación de Neodimio Hierro Boro Objetivo de Sputtering para Accionamiento Magnético

Objetivo de NdFeB Aleación de Neodimio Hierro Boro Objetivo de Sputtering para Accionamiento Magnético

US$ 50,00-80,00
1 Kg(MOQ)
Esputo de metal/esputo de aleación/esputo serámico objetivo

Esputo de metal/esputo de aleación/esputo serámico objetivo

US$ 35,00
1 Kg(MOQ)
1/4

Rheniumet Ltd.

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Objetivo de Sputtering de Aleación de Níquel y Cromo de Alta Pureza, Ni60cr40 Objetivo de Sputtering Personalizado

Objetivo de Sputtering de Aleación de Níquel y Cromo de Alta Pureza, Ni60cr40 Objetivo de Sputtering Personalizado

US$ 500,00-1.000,00
1 pieces(MOQ)
Personalización de fábrica de objetivo de metal noble osmio, aleaciones de osmio y renio, objetivo de pulverización personalizable

Personalización de fábrica de objetivo de metal noble osmio, aleaciones de osmio y renio, objetivo de pulverización personalizable

US$ 20,00-50,00
50 grams(MOQ)
Industria de energía solar fotovoltaica y calefacción, objetivo de pulverización de aleación de molibdeno niobio Monb

Industria de energía solar fotovoltaica y calefacción, objetivo de pulverización de aleación de molibdeno niobio Monb

Negociable
1 Pieza(MOQ)
Objetivo de aleación de tungsteno y renio para deposición física de vapor

Objetivo de aleación de tungsteno y renio para deposición física de vapor

US$ 2.000,00-3.000,00
1 kilograms(MOQ)
1/4

Beenine Shanke Technology Co., Ltd.

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Fábrica de blanco de pulverización de recubrimiento PVD de aleación de níquel cromo plano redondo Ni/Cr

Fábrica de blanco de pulverización de recubrimiento PVD de aleación de níquel cromo plano redondo Ni/Cr

US$ 80,00-800,00
1 Pieza(MOQ)
Objetivo de pulverización de aleación de recubrimiento PVD plano redondo de titanio y aluminio Tial fábrica

Objetivo de pulverización de aleación de recubrimiento PVD plano redondo de titanio y aluminio Tial fábrica

US$ 80,00-500,00
1 Pieza(MOQ)
Objetivo de sputtering de aleación de titanio de Wolframio recubrimiento PVD fábrica de China

Objetivo de sputtering de aleación de titanio de Wolframio recubrimiento PVD fábrica de China

US$ 300,00-1.000,00
1 Pieza(MOQ)
Objetivo de Sputtering Tubular Planar de Aleación de Tial para Recubrimiento PVD a Precio Competitivo

Objetivo de Sputtering Tubular Planar de Aleación de Tial para Recubrimiento PVD a Precio Competitivo

US$ 80,00-500,00
1 Pieza(MOQ)
1/4

Lonwin Industry Group Limited

5.0
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Alcance de alta pureza 99.99% aleación de cobre de zirconio Zrcu para sputtering

Alcance de alta pureza 99.99% aleación de cobre de zirconio Zrcu para sputtering

US$ 17,00-55,00
1 Kg(MOQ)
99.9% Objetivo de aleación CuIn, objetivo de sputtering de cobre e indio

99.9% Objetivo de aleación CuIn, objetivo de sputtering de cobre e indio

US$ 17,00-55,00
1 Kg(MOQ)
99.9% Objetivo de aleación Alsicu de aluminio, silicio y cobre para sputtering

99.9% Objetivo de aleación Alsicu de aluminio, silicio y cobre para sputtering

US$ 17,00-55,00
1 Kg(MOQ)
99.9% Objetivo de Sputtering de Aleación de Hierro de Circonio Zrfe

99.9% Objetivo de Sputtering de Aleación de Hierro de Circonio Zrfe

US$ 17,00-55,00
1 Kg(MOQ)
1/4

Dongguan Gravel Industries and Enterprise Company Limited

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99.99% Blanco de Sputtering de Aleación de Estaño de Oro de Alta Pureza

99.99% Blanco de Sputtering de Aleación de Estaño de Oro de Alta Pureza

US$ 265.000,00
10 Piezas(MOQ)
Material de objetivo de pulverización al vacío de aleación de silicio y aluminio de alta pureza

Material de objetivo de pulverización al vacío de aleación de silicio y aluminio de alta pureza

US$ 6.500,00
1 Pieza(MOQ)
Objetivo de rutenio por sputtering magnetrón de alta pureza

Objetivo de rutenio por sputtering magnetrón de alta pureza

US$ 32.000,00
1 Pieza(MOQ)
Objetivo de Cobre de Alta Pureza para Sputtering al Vacío

Objetivo de Cobre de Alta Pureza para Sputtering al Vacío

US$ 2.200,00
1 Pieza(MOQ)
1/4

Inner Mongolia Rongtai Rhenium New Materials Co., Ltd.

5.0
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Objetivo de sputtering de aleación de titanio y iterbio de alta pureza para recubrimientos superiores

Objetivo de sputtering de aleación de titanio y iterbio de alta pureza para recubrimientos superiores

US$ 190,00-199,00
1 Pieza(MOQ)
Objetivo de sputtering de aleación de titanio redondo personalizable para recubrimientos ópticos

Objetivo de sputtering de aleación de titanio redondo personalizable para recubrimientos ópticos

US$ 190,00-199,00
1 Pieza(MOQ)
Objetivo de sputtering de aleación de titanio de alta pureza personalizado para electrónica

Objetivo de sputtering de aleación de titanio de alta pureza personalizado para electrónica

US$ 115,00-130,00
1 Pieza(MOQ)
Objetivos de sputtering de tierras raras personalizables para aplicaciones solares

Objetivos de sputtering de tierras raras personalizables para aplicaciones solares

US$ 115,00-130,00
1 Pieza(MOQ)
1/4

Zhonghe Steel (Tianjin) Co., Ltd.

5 años
·Empresa Comercial
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Objetivos de PVD de aleación de aluminio y titanio, objetivos de sputtering de titanio, objetivo de aleación de Tial para recubrimiento

Objetivos de PVD de aleación de aluminio y titanio, objetivos de sputtering de titanio, objetivo de aleación de Tial para recubrimiento

US$ 10,00-25,00
1 Pieza(MOQ)
Objetivo de Sputtering de Titanio de Alta Pureza Gr1 Gr2 para PVD

Objetivo de Sputtering de Titanio de Alta Pureza Gr1 Gr2 para PVD

US$ 10,00-25,00
1 Pieza(MOQ)
Personalización de objetivo de sputtering de titanio para necesidades de recubrimiento especializadas

Personalización de objetivo de sputtering de titanio para necesidades de recubrimiento especializadas

US$ 10,00-25,00
1 Pieza(MOQ)
Alta Pureza 99.6% PVD M86 Objetivo de Titanio Od 98X40mm Objetivo de Titanio

Alta Pureza 99.6% PVD M86 Objetivo de Titanio Od 98X40mm Objetivo de Titanio

US$ 10,00-25,00
1 Pieza(MOQ)
1/4

Xiamen Tmax Battery Equipments Limited

5.0
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Marca TMAXCN 3n/4n/4n5 Materiales de recubrimiento PVD Wti Aleación de tungsteno y titanio Objetivo de sputtering

Marca TMAXCN 3n/4n/4n5 Materiales de recubrimiento PVD Wti Aleación de tungsteno y titanio Objetivo de sputtering

US$ 78,00-90,00
1 Pieza(MOQ)
Equipo de recubrimiento por pulverización PVD de doble objetivo RF&DC&MF para películas multicapa conductoras

Equipo de recubrimiento por pulverización PVD de doble objetivo RF&DC&MF para películas multicapa conductoras

US$ 45.000,00
1 Pieza(MOQ)
Máquina de recubrimiento por pulverización de plasma rotativo TMAXCN Marca VTC-16-3HD-LD 3 incluyendo 3 objetivos

Máquina de recubrimiento por pulverización de plasma rotativo TMAXCN Marca VTC-16-3HD-LD 3 incluyendo 3 objetivos

US$ 8.000,00
1 Pieza(MOQ)
Sistema de recubrimiento por sputtering de iones de magnetrón de doble objetivo de alto vacío pequeño

Sistema de recubrimiento por sputtering de iones de magnetrón de doble objetivo de alto vacío pequeño

US$ 12.000,00
1 Pieza(MOQ)
1/4

Zhuzhou Weilai New Materials Technology Co., Ltd.

8 años
·Fabricante/Fábrica & Empresa Comercial
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Objetivos de ánodo rotatorio de aleación de tungsteno, aleación de renio, aleación de molibdeno

Objetivos de ánodo rotatorio de aleación de tungsteno, aleación de renio, aleación de molibdeno

US$ 142,00-168,00
30 Piezas(MOQ)
Inserto de tubo de rayos X de dispositivo médico, ánodo rotatorio de TC, objetivo de sputtering de Mo

Inserto de tubo de rayos X de dispositivo médico, ánodo rotatorio de TC, objetivo de sputtering de Mo

US$ 142,00-168,00
30 Piezas(MOQ)
99.99% Personalización de objetivo de tungsteno, objetivo de sputtering de tungsteno

99.99% Personalización de objetivo de tungsteno, objetivo de sputtering de tungsteno

US$ 142,00-168,00
30 Piezas(MOQ)
Arenado, objetivo de molibdeno rutenio tungsteno negro para inserciones de tubo de rayos X

Arenado, objetivo de molibdeno rutenio tungsteno negro para inserciones de tubo de rayos X

US$ 142,00-168,00
30 Piezas(MOQ)
1/4

Sid Metal Co., Ltd

13 años
·Fabricante/Fábrica & Empresa Comercial
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Zr702 Zr705 Conductividad Térmica de Tubo de Circonio Alta Pureza Objetivo de Sputtering

Zr702 Zr705 Conductividad Térmica de Tubo de Circonio Alta Pureza Objetivo de Sputtering

US$ 1,00-3.000,00
1 Pieza(MOQ)
Hoja de objetivo de zirconio Zr702 Zr705 para recubrimiento PVD disco de zirconio

Hoja de objetivo de zirconio Zr702 Zr705 para recubrimiento PVD disco de zirconio

US$ 1,00-3.000,00
1 Pieza(MOQ)
Objetivo de sputtering de titanio de alta pureza, planar para la industria de semiconductores, circuitos integrados, vidrio para construcción y automóviles

Objetivo de sputtering de titanio de alta pureza, planar para la industria de semiconductores, circuitos integrados, vidrio para construcción y automóviles

US$ 1,00-100,00
1 Pieza(MOQ)
Alta Pureza Zr702 Zr705 Objetivo de Zirconio Conductividad Térmica Objetivo de Sputtering

Alta Pureza Zr702 Zr705 Objetivo de Zirconio Conductividad Térmica Objetivo de Sputtering

US$ 0,05-100,00
1 Pieza(MOQ)
1/4

Shanghai Tankii Alloy Material Co., Ltd.

5.0
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Precio de fábrica Vender 99.999% Objetivo de sputtering de cromo

Precio de fábrica Vender 99.999% Objetivo de sputtering de cromo

US$ 60,00-150,00
1 Pieza(MOQ)
Venta directa de fábrica de objetivo de sputtering de cromo utilizado para preparar películas delgadas de galgas de deformación resistivas

Venta directa de fábrica de objetivo de sputtering de cromo utilizado para preparar películas delgadas de galgas de deformación resistivas

US$ 60,00-150,00
1 Pieza(MOQ)
Fabricante personalizado de bajo precio, metal de cromo puro de alta pureza, objetivo de sputtering de Cr para recubrimiento PVD

Fabricante personalizado de bajo precio, metal de cromo puro de alta pureza, objetivo de sputtering de Cr para recubrimiento PVD

US$ 60,00-150,00
1 Pieza(MOQ)
Alta Pureza 99.99% TANKII Metal Cromo Objetivos de Sputtering

Alta Pureza 99.99% TANKII Metal Cromo Objetivos de Sputtering

US$ 60,00-150,00
1 Pieza(MOQ)
1/4

Zhengzhou Shibo Nonferrous Metals Products Co., Ltd.

21 años·5.0
·Fabricante/Fábrica & Empresa Comercial
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Molibdeno material objetivo mejor Precio Mo Tagret

Molibdeno material objetivo mejor Precio Mo Tagret

US$ 40,00-88,00
1 kg(MOQ)
Mo1 Precio del objetivo de molibdeno para sputtering

Mo1 Precio del objetivo de molibdeno para sputtering

US$ 40,00-88,00
1 kg(MOQ)
Placa de molibdeno de alta calidad

Placa de molibdeno de alta calidad

US$ 40,00-88,00
1 kg(MOQ)
Placa Redonda de Molibdeno de Alta Pureza Mo1 para Sputtering

Placa Redonda de Molibdeno de Alta Pureza Mo1 para Sputtering

US$ 40,00-88,00
1 kg(MOQ)
1/2

Shaanxi Mingsheng Guangpu Metal Materials Co., Ltd.

3 años
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Objetivos de Sputtering de Níquel de Alta Densidad Msgp - Perfectamente Adecuados para Aplicaciones de Recubrimiento de Dispositivos Médicos

Objetivos de Sputtering de Níquel de Alta Densidad Msgp - Perfectamente Adecuados para Aplicaciones de Recubrimiento de Dispositivos Médicos

US$ 260,00-280,00
50 kilograms(MOQ)
Objetivos de Sputtering de Níquel Personalizados Msgp - Ideales para Aplicaciones de Deposición de Películas Delgadas

Objetivos de Sputtering de Níquel Personalizados Msgp - Ideales para Aplicaciones de Deposición de Películas Delgadas

US$ 100,00-120,00
50 kilograms(MOQ)
Objetivos de Sputtering de Níquel de Precisión para Películas Conductivas de Instrumentos de Precisión

Objetivos de Sputtering de Níquel de Precisión para Películas Conductivas de Instrumentos de Precisión

US$ 110,00-130,00
50 kilograms(MOQ)
Objetivos de sputtering de níquel resistente al desgaste para recubrimiento de sensores electrónicos automotrices

Objetivos de sputtering de níquel resistente al desgaste para recubrimiento de sensores electrónicos automotrices

US$ 120,00-140,00
50 kilograms(MOQ)
1/4

Luoyang Bless Tungsten & Molybdenum Materials Co., Ltd.

12 años
·Empresa Comercial
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Objetivos de sputtering de molibdeno de alta calidad

Objetivos de sputtering de molibdeno de alta calidad

US$ 66,00-77,00
1 Kg(MOQ)
Objetivos de sputtering de molibdeno para ensamblaje complejo

Objetivos de sputtering de molibdeno para ensamblaje complejo

US$ 40,00-43,00
1 Kg(MOQ)
Doblado y Pliegue de Objetivos de Sputtering de Molibdeno

Doblado y Pliegue de Objetivos de Sputtering de Molibdeno

US$ 40,00-43,00
1 Kg(MOQ)
Material de alta pureza ultra molibdeno objetivos de pulverización

Material de alta pureza ultra molibdeno objetivos de pulverización

US$ 20,00-86,00
1 Pieza(MOQ)
1/1

Tianjin Rui Yuan Electric Material Co., Ltd.

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Objetivos de Cobre de Ultra Pureza 99.9999% 7n5

Objetivos de Cobre de Ultra Pureza 99.9999% 7n5

US$ 26,99-53,03
1.000 kilograms(MOQ)
Fábrica china de alta pureza 6n cobre (Cu) 99.9999% objetivo de sputtering

Fábrica china de alta pureza 6n cobre (Cu) 99.9999% objetivo de sputtering

US$ 89,00-180,00
1.000 kilograms(MOQ)
C110/C10100/Tu00 5n Objetivo de Sputtering de Alta Pureza Cobre 99.999% para Recubrimiento Óptico

C110/C10100/Tu00 5n Objetivo de Sputtering de Alta Pureza Cobre 99.999% para Recubrimiento Óptico

US$ 79,99
50 Kg(MOQ)
99.9999% 6n Placas de respaldo de objetivos de sputtering de cobre de alta pureza

99.9999% 6n Placas de respaldo de objetivos de sputtering de cobre de alta pureza

US$ 335,00-350,00
100 Kg(MOQ)
1/4

Jiangsu Cicel Vacuum Technology Co., Ltd.

4.5
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Objetivo de sputtering de titanio de aleación con personalización

Objetivo de sputtering de titanio de aleación con personalización

US$ 100,00-300,00
1 Pieza(MOQ)
Objetivo de Titanio Puro Mejor Precio Gr2 Objetivo de Titanio para Sputtering al Vacío Recubrimiento con Objetivo de Titanio

Objetivo de Titanio Puro Mejor Precio Gr2 Objetivo de Titanio para Sputtering al Vacío Recubrimiento con Objetivo de Titanio

US$ 100,00-300,00
1 Pieza(MOQ)
Objetivo de titanio por sputtering, objetivo de sputtering de titanio, recubrimiento al vacío, objetivo de titanio

Objetivo de titanio por sputtering, objetivo de sputtering de titanio, recubrimiento al vacío, objetivo de titanio

US$ 100,00-300,00
1 Pieza(MOQ)
Revestimiento de Titanio Target/Gr2 Objetivo de Titanio Objetivo de Sputtering de Titanio

Revestimiento de Titanio Target/Gr2 Objetivo de Titanio Objetivo de Sputtering de Titanio

US$ 100,00-300,00
1 Pieza(MOQ)
1/4

Hubei Fotma Machinery Co., Ltd.

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Producto personalizado de tungsteno, blanco de sputtering de tungsteno puro

Producto personalizado de tungsteno, blanco de sputtering de tungsteno puro

US$ 40,00-50,00
1 Kg(MOQ)
99.95% Tubo de Molienda Objetivo de Sputtering Objetivo de Molibdeno

99.95% Tubo de Molienda Objetivo de Sputtering Objetivo de Molibdeno

US$ 5,00-200,00
1 Kilogram(MOQ)
Tubo de molibdeno para objetivo de pulverización 99.95% Tubo de molibdeno puro

Tubo de molibdeno para objetivo de pulverización 99.95% Tubo de molibdeno puro

US$ 40,00-50,00
1 Kg(MOQ)
99.95% Placas de tungsteno negro mecanizadas y rectificadas en puro tungsteno

99.95% Placas de tungsteno negro mecanizadas y rectificadas en puro tungsteno

US$ 1,00-20,00
1 Pieza(MOQ)
1/4

Xiamen HiuGong Machinery Co., Ltd.

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Objetivo de Sputtering Rotatorio 4n-5n Sial Nicr Znal Znsn Tiox Nbox

Objetivo de Sputtering Rotatorio 4n-5n Sial Nicr Znal Znsn Tiox Nbox

US$ 1.000,00
1 Pieza(MOQ)
Objetivo de Sputtering Magnetrón Zrox Si Cr Nb Cu Cr AG

Objetivo de Sputtering Magnetrón Zrox Si Cr Nb Cu Cr AG

US$ 500,00
1 Pieza(MOQ)
99.99% Objetivo de Sputtering de Óxido de Galio Objetivo Plano Ga2o3 Objetivo

99.99% Objetivo de Sputtering de Óxido de Galio Objetivo Plano Ga2o3 Objetivo

US$ 300,00
1 Pieza(MOQ)
Equipo de recubrimiento por pulverización de plasma, antiadherente, resistente al desgaste, silicio, aluminio, alúmina, circonio

Equipo de recubrimiento por pulverización de plasma, antiadherente, resistente al desgaste, silicio, aluminio, alúmina, circonio

US$ 35.000,00
1 Pieza(MOQ)
1/4

Zhejiang Ruisheng New Materials Co., Ltd.

Empresa Comercial
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Objetivo de Sputtering de Tungsteno de Alta Pureza 99.95% Deposición de Películas Finas de Semiconductores Personalizable Estándar ASTM

Objetivo de Sputtering de Tungsteno de Alta Pureza 99.95% Deposición de Películas Finas de Semiconductores Personalizable Estándar ASTM

US$ 60,00-100,00
1 Kg(MOQ)
Objetivo de tungsteno rotativo premium para aplicaciones de sputtering eficientes

Objetivo de tungsteno rotativo premium para aplicaciones de sputtering eficientes

US$ 50,00-270,00
10 Kg(MOQ)
Objetivo de Molybdeno Puro Ultra Denso 99.9% 100mm Diámetro Recubrimiento de Película Delgada Opcional RoHS

Objetivo de Molybdeno Puro Ultra Denso 99.9% 100mm Diámetro Recubrimiento de Película Delgada Opcional RoHS

US$ 30,00-60,00
10 Kg(MOQ)
Discos de molibdeno versátiles para soluciones electrónicas y de gestión térmica

Discos de molibdeno versátiles para soluciones electrónicas y de gestión térmica

US$ 40,00-80,00
10 Kg(MOQ)
1/4

LUOYANG COMBAT TUNGSTEN & MOLYBDENUM MATERIAL CO., LTD.

18 años·5.0
·Fabricante/Fábrica & Empresa Comercial
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Objetivo de Sputtering de Molybdeno de Alta Densidad de Combate 99.95%

Objetivo de Sputtering de Molybdeno de Alta Densidad de Combate 99.95%

US$ 55,00-59,00
1 Kg(MOQ)
Objetivo de Sputtering de Titanio Puro de Material de Titanio Hecho a Medida 99.6% en Venta

Objetivo de Sputtering de Titanio Puro de Material de Titanio Hecho a Medida 99.6% en Venta

US$ 35,00-40,00
5 Kg(MOQ)
Precio Competitivo ASTM 99.95% Placa de Tungsteno de Pureza

Precio Competitivo ASTM 99.95% Placa de Tungsteno de Pureza

US$ 74,00
1 Kg(MOQ)
Electrónica de Alta Capacitancia Tubo de Aleación de Tungsteno de Luoyang Hoja de Tantalio

Electrónica de Alta Capacitancia Tubo de Aleación de Tungsteno de Luoyang Hoja de Tantalio

US$ 456,80-500,20
1 Kg(MOQ)
1/4

Ningbo Danko Vacuum Technology Co., Ltd.

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Metalización al vacío de aleación de titanio y aluminio

Metalización al vacío de aleación de titanio y aluminio

US$ 30,00-100,00
1 Pieza(MOQ)
Máquina de recubrimiento PVD para productos de vidrio

Máquina de recubrimiento PVD para productos de vidrio

US$ 40.000,00-150.000,00
1 Set(MOQ)
Máquina de recubrimiento de tamaño personalizado para recubrimiento duro

Máquina de recubrimiento de tamaño personalizado para recubrimiento duro

Negociable
1 Set(MOQ)
Máquina de metalización al vacío con película resistente al desgaste de larga duración

Máquina de metalización al vacío con película resistente al desgaste de larga duración

US$ 120.000,00-190.000,00
1 Pieza(MOQ)
1/4

Ningbo Galaxy International Trading Co., Ltd.

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Objetivo de Sputtering Redondo de Zirconio de Alta Fusión Zr702

Objetivo de Sputtering Redondo de Zirconio de Alta Fusión Zr702

US$ 15,00
1 pcs(MOQ)
Superficie pulida de alta dureza y objetivo de tubo de níquel de mayor pureza

Superficie pulida de alta dureza y objetivo de tubo de níquel de mayor pureza

US$ 30,00
10 Piezas(MOQ)
Objetivo redondo de zirconio gris claro resistente al calor para máquina CNC

Objetivo redondo de zirconio gris claro resistente al calor para máquina CNC

US$ 6,00
5 Piezas(MOQ)
Buena conductividad térmica y eléctrica objetivo de lámina de titanio

Buena conductividad térmica y eléctrica objetivo de lámina de titanio

US$ 20,00
1 Pieza(MOQ)
1/4

CHANGSHA EASCHEM CO., LIMITED

5 años
·Empresa Comercial
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Precio de fábrica Vender alta calidad objetivo de sputtering ITO 4n In2o3 y Sno2

Precio de fábrica Vender alta calidad objetivo de sputtering ITO 4n In2o3 y Sno2

Negociable
1 Piece(MOQ)
Varilla de metal de samario granular CAS No 7440-19-9 Sm 3n 4n

Varilla de metal de samario granular CAS No 7440-19-9 Sm 3n 4n

Negociable
1 Piece(MOQ)
Precio de fábrica Vender alta pureza objetivo ITO para Rpd 4n

Precio de fábrica Vender alta pureza objetivo ITO para Rpd 4n

Negociable
1 Piece(MOQ)
Objetivo de sputtering de niobio de alta calidad con número CAS 7440-03-1

Objetivo de sputtering de niobio de alta calidad con número CAS 7440-03-1

Negociable
1 Piece(MOQ)
1/4

Zhuzhou Hongtong Tungsten Carbide Co., Ltd.

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Objetivos de sputtering de carburo de tungsteno para fabricar recubrimientos de DLC

Objetivos de sputtering de carburo de tungsteno para fabricar recubrimientos de DLC

US$ 38,00-45,00
10 Kg(MOQ)
Varios objetivos de tungsteno carburo en diferentes formas para recubrimientos de DLC

Varios objetivos de tungsteno carburo en diferentes formas para recubrimientos de DLC

US$ 38,00-45,00
10 Kg(MOQ)
Placa de Carburo de Tungsteno con un Lado Estriado

Placa de Carburo de Tungsteno con un Lado Estriado

US$ 38,00-45,00
10 Kg(MOQ)
Placa de mandíbula rompiente de carburo de tungsteno

Placa de mandíbula rompiente de carburo de tungsteno

US$ 38,00-45,00
10 Kg(MOQ)
1/4

Zhuzhou M & J Import and Export Co., Ltd.

4.0
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Objetivo de Sputtering de Tungsteno Cementado de Alta Calidad

Objetivo de Sputtering de Tungsteno Cementado de Alta Calidad

US$ 5,00-20,00
20 Piezas(MOQ)
Placa de tungsteno con 99.95% W

Placa de tungsteno con 99.95% W

US$ 5,00-10,00
20 Piezas(MOQ)
Proveedores de barra redonda de aleación de tungsteno puro

Proveedores de barra redonda de aleación de tungsteno puro

US$ 10,00-20,00
100 Piezas(MOQ)
1/4

Jinan Hengcheng Aluminum Co., Ltd.

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Objetivo de Sputtering de Aluminio Titanio Alloy/50 para Máquina de Recubrimiento PVD

Objetivo de Sputtering de Aluminio Titanio Alloy/50 para Máquina de Recubrimiento PVD

US$ 3.380,00
1 Tonelada(MOQ)
Objetivo de sputtering de aluminio y titanio, objetivo de sputtering de titanio y aluminio

Objetivo de sputtering de aluminio y titanio, objetivo de sputtering de titanio y aluminio

US$ 3.380,00
1 Tonelada(MOQ)
Bloques de aluminio metal para objetivo de sputtering de aluminio para investigación en laboratorio

Bloques de aluminio metal para objetivo de sputtering de aluminio para investigación en laboratorio

US$ 2.960,00
1 Tonelada(MOQ)
1/4

Baoji Taizehui Metal Technology Co., Ltd.

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Objetivo de Sputtering de Circonio 705 para Soluciones Metálicas Personalizadas de Alta Calidad

Objetivo de Sputtering de Circonio 705 para Soluciones Metálicas Personalizadas de Alta Calidad

Negociable
10 Kg(MOQ)
Objetivo de Sputtering de Zirconio de Alta Calidad 705 para Soluciones Personalizadas Hoy

Objetivo de Sputtering de Zirconio de Alta Calidad 705 para Soluciones Personalizadas Hoy

Negociable
10 Kg(MOQ)
Material de objetivo de pulverización para recubrimiento al vacío, objetivo curvado, proceso de alta pureza, placa de hafnio

Material de objetivo de pulverización para recubrimiento al vacío, objetivo curvado, proceso de alta pureza, placa de hafnio

Negociable
2 Kg(MOQ)
Placa de Zirconio de Alta Calidad 705 para Soluciones Metálicas de Precisión Personalizadas

Placa de Zirconio de Alta Calidad 705 para Soluciones Metálicas de Precisión Personalizadas

Negociable
10 Kg(MOQ)
1/4

Shenzhen Silver Technologies Ltd

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Material de objetivo de pulverización de oro de alta pureza procesamiento personalizado

Material de objetivo de pulverización de oro de alta pureza procesamiento personalizado

US$ 200,00
100 g(MOQ)
Objetivo de Sputtering de Oro 99.99% Objetivo de Alta Calidad Au Objetivo de Oro Puro

Objetivo de Sputtering de Oro 99.99% Objetivo de Alta Calidad Au Objetivo de Oro Puro

US$ 200,00
100 g(MOQ)
Objetivo de sputtering de oro de alta pureza, adecuado para 5g materiales

Objetivo de sputtering de oro de alta pureza, adecuado para 5g materiales

US$ 200,00
100 g(MOQ)
99.99% Objetivo de Sputtering de Oro de Alta Pureza, Objetivo de Au

99.99% Objetivo de Sputtering de Oro de Alta Pureza, Objetivo de Au

US$ 200,00
100 g(MOQ)
1/4

ATM Material Co., Ltd.

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Objetivo Wti / Objetivos de Sputtering / Alta Calidad Wti

Objetivo Wti / Objetivos de Sputtering / Alta Calidad Wti

US$ 1,00-100,00
1 Pieza(MOQ)
Objetivo de pulverización

Objetivo de pulverización

US$ 0,10-100,00
1.000 Piezas(MOQ)
Objetivo de molibdeno puro para recubrimientos, pantallas TFT-LCD

Objetivo de molibdeno puro para recubrimientos, pantallas TFT-LCD

US$ 1.000,00
1 Pieza(MOQ)
Calentador de tungsteno de alta calidad

Calentador de tungsteno de alta calidad

US$ 1,00-100,00
10 Piezas(MOQ)
1/4
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