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sobre objetivo de pulverización de aleación
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objetivo de pulverización de aleación100+ fábricas verificadas

SUZHOU TECHNO-TEC PHOTOELECTRIC MATERIALS CO., LTD

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Aleación CuNiTi Target Cobre níquel Titanio aleación esputtering objetivo para LCD/panel táctil

Aleación CuNiTi Target Cobre níquel Titanio aleación esputtering objetivo para LCD/panel táctil

US$ 50,00
1 Kg(MOQ)
Objetivo de aleación de AlSc, objetivo de sputtering de aleación de aluminio y escandio para semiconductores

Objetivo de aleación de AlSc, objetivo de sputtering de aleación de aluminio y escandio para semiconductores

US$ 9.400,00
1 Kg(MOQ)
Objetivo de aleación de NiCr cromo níquel objetivo de espumación de aleación para LCD/integrado Circuitos

Objetivo de aleación de NiCr cromo níquel objetivo de espumación de aleación para LCD/integrado Circuitos

US$ 35,00
1 Kg(MOQ)
Esputo de metal/esputo de aleación/esputo serámico objetivo

Esputo de metal/esputo de aleación/esputo serámico objetivo

US$ 35,00
1 Kg(MOQ)
1/4

Changsha Xinkang Advanced Materials Co., Ltd.

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Objetivos de Sputtering de Aleación de Níquel de Alta Pureza Xinkang Níquel Vanadio Niv7%

Objetivos de Sputtering de Aleación de Níquel de Alta Pureza Xinkang Níquel Vanadio Niv7%

US$ 35,00-40,00
1 Pieza(MOQ)
Objetivo de pulverización de aleación de níquel y cromo de alta calidad para recubrimiento

Objetivo de pulverización de aleación de níquel y cromo de alta calidad para recubrimiento

US$ 35,00-40,00
1 Pieza(MOQ)
Objetivo PVD de Nife 3n5 Objetivo de Sputtering de Aleación de Níquel Objetivo de Aleación de Níquel y Hierro

Objetivo PVD de Nife 3n5 Objetivo de Sputtering de Aleación de Níquel Objetivo de Aleación de Níquel y Hierro

US$ 45,00-100,00
1 Pieza(MOQ)
Objetivo de Sputtering de Aleación de Cobre Níquel de Alta Pureza 99.9%2.

Objetivo de Sputtering de Aleación de Cobre Níquel de Alta Pureza 99.9%2.

US$ 160,00-167,00
1 Pieza(MOQ)
1/4

Beenine Shanke Technology Co., Ltd.

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Objetivo de sputtering de aleación de cobre níquel Cu/Ni de construcción multi-PCS

Objetivo de sputtering de aleación de cobre níquel Cu/Ni de construcción multi-PCS

US$ 300,00-1.000,00
1 Pieza(MOQ)
Objetivo de pulverización de recubrimiento PVD plano redondo de aleación de cobre y níquel Cu/Ni fábrica

Objetivo de pulverización de recubrimiento PVD plano redondo de aleación de cobre y níquel Cu/Ni fábrica

US$ 300,00-1.000,00
1 Pieza(MOQ)
Objetivo de sputtering de aleación de níquel cromo de alta pureza Ni/Cr personalizado fábrica de China

Objetivo de sputtering de aleación de níquel cromo de alta pureza Ni/Cr personalizado fábrica de China

US$ 80,00-800,00
1 Pieza(MOQ)
Objetivo de sputtering tubular plano de aleación de níquel cromo de alta pureza

Objetivo de sputtering tubular plano de aleación de níquel cromo de alta pureza

US$ 80,00-800,00
1 Pieza(MOQ)
1/4

Rheniumet Ltd.

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Objetivo de pulverización de aleación de tungsteno, níquel y cromo W-Ni-Cr/W-Ni/Ni-Cr

Objetivo de pulverización de aleación de tungsteno, níquel y cromo W-Ni-Cr/W-Ni/Ni-Cr

US$ 2.000,00-3.000,00
1 Pieza(MOQ)
Objetivo de aleación de tungsteno y renio para deposición física de vapor

Objetivo de aleación de tungsteno y renio para deposición física de vapor

US$ 2.000,00-3.000,00
1 kilograms(MOQ)
Personalización de fábrica de objetivo de metal noble osmio, aleaciones de osmio y renio, objetivo de pulverización personalizable

Personalización de fábrica de objetivo de metal noble osmio, aleaciones de osmio y renio, objetivo de pulverización personalizable

US$ 20,00-50,00
50 grams(MOQ)
Más objetivo, placa de aleación de molibdeno y renio, más fabricante de objetivos de pulverización

Más objetivo, placa de aleación de molibdeno y renio, más fabricante de objetivos de pulverización

Negociable
1 Kg(MOQ)
1/4

Dongguan Gravel Industries and Enterprise Company Limited

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99.99% Blanco de Sputtering de Aleación de Estaño de Oro de Alta Pureza

99.99% Blanco de Sputtering de Aleación de Estaño de Oro de Alta Pureza

US$ 265.000,00
10 Piezas(MOQ)
Material de objetivo de pulverización al vacío de aleación de silicio y aluminio de alta pureza

Material de objetivo de pulverización al vacío de aleación de silicio y aluminio de alta pureza

US$ 6.500,00
1 Pieza(MOQ)
Objetivo de rutenio por sputtering magnetrón de alta pureza

Objetivo de rutenio por sputtering magnetrón de alta pureza

US$ 32.000,00
1 Pieza(MOQ)
Objetivo de níquel de sputtering magnetrón de alta pureza

Objetivo de níquel de sputtering magnetrón de alta pureza

US$ 800,00
1 Pieza(MOQ)
1/4

Lonwin Industry Group Limited

5.0
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99.9% Alianzas de Ti-Cr Objetivo de Titanio Cromo Objetivo de Sputtering para Recubrimiento

99.9% Alianzas de Ti-Cr Objetivo de Titanio Cromo Objetivo de Sputtering para Recubrimiento

US$ 17,00-55,00
1 Kg(MOQ)
99.99% Blanco de aleación de níquel y cobre Nicu para recubrimiento PVD

99.99% Blanco de aleación de níquel y cobre Nicu para recubrimiento PVD

US$ 17,00-55,00
1 Kg(MOQ)
Objetivo de Sputtering de Dióxido de Titanio Óxido de Titanio Cerámico de Aleación Tiox

Objetivo de Sputtering de Dióxido de Titanio Óxido de Titanio Cerámico de Aleación Tiox

US$ 17,00-55,00
1 Kg(MOQ)
Objetivo de aleación de agal de plata para sputtering de aluminio para recubrimientos reflectantes

Objetivo de aleación de agal de plata para sputtering de aluminio para recubrimientos reflectantes

US$ 17,00-55,00
1 Kg(MOQ)
1/4

Inner Mongolia Rongtai Rhenium New Materials Co., Ltd.

5.0
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Objetivo de sputtering de aleación de titanio y iterbio de alta pureza para recubrimientos superiores

Objetivo de sputtering de aleación de titanio y iterbio de alta pureza para recubrimientos superiores

US$ 190,00-199,00
1 Pieza(MOQ)
Objetivo de sputtering de aleación de titanio redondo personalizable para recubrimientos ópticos

Objetivo de sputtering de aleación de titanio redondo personalizable para recubrimientos ópticos

US$ 190,00-199,00
1 Pieza(MOQ)
Objetivo de sputtering de aleación de titanio de alta pureza personalizado para electrónica

Objetivo de sputtering de aleación de titanio de alta pureza personalizado para electrónica

US$ 115,00-130,00
1 Pieza(MOQ)
Objetivo de metal de ytterbio premium para aplicaciones electrónicas avanzadas

Objetivo de metal de ytterbio premium para aplicaciones electrónicas avanzadas

US$ 190,00-199,00
1 Pieza(MOQ)
1/4

Zhonghe Steel (Tianjin) Co., Ltd.

5 años
·Empresa Comercial
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Objetivos de PVD de aleación de aluminio y titanio, objetivos de sputtering de titanio, objetivo de aleación de Tial para recubrimiento

Objetivos de PVD de aleación de aluminio y titanio, objetivos de sputtering de titanio, objetivo de aleación de Tial para recubrimiento

US$ 10,00-25,00
1 Pieza(MOQ)
Objetivo de Sputtering de Titanio de Alta Pureza Gr1 Gr2 para PVD

Objetivo de Sputtering de Titanio de Alta Pureza Gr1 Gr2 para PVD

US$ 10,00-25,00
1 Pieza(MOQ)
Objetivo de Titanio de Alta Pureza para Máquina de Recubrimiento PVD

Objetivo de Titanio de Alta Pureza para Máquina de Recubrimiento PVD

US$ 10,00-25,00
1 Pieza(MOQ)
Alta Pureza 99.6% PVD M86 Objetivo de Titanio Od 98X40mm Objetivo de Titanio

Alta Pureza 99.6% PVD M86 Objetivo de Titanio Od 98X40mm Objetivo de Titanio

US$ 10,00-25,00
1 Pieza(MOQ)
1/4

Zhuzhou Weilai New Materials Technology Co., Ltd.

8 años
·Fabricante/Fábrica & Empresa Comercial
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Objetivos de ánodo rotatorio de aleación de tungsteno, aleación de renio, aleación de molibdeno

Objetivos de ánodo rotatorio de aleación de tungsteno, aleación de renio, aleación de molibdeno

US$ 142,00-168,00
30 Piezas(MOQ)
Aplicaciones de alta temperatura objetivo de pulverización rotativa de tungsteno rhenio para ánodo de rayos X

Aplicaciones de alta temperatura objetivo de pulverización rotativa de tungsteno rhenio para ánodo de rayos X

US$ 142,00-168,00
30 Piezas(MOQ)
99.99% Personalización de objetivo de tungsteno, objetivo de sputtering de tungsteno

99.99% Personalización de objetivo de tungsteno, objetivo de sputtering de tungsteno

US$ 142,00-168,00
30 Piezas(MOQ)
Suministrar objetivo de sputtering de ánodo rotatorio de tungsteno rutenio negro

Suministrar objetivo de sputtering de ánodo rotatorio de tungsteno rutenio negro

US$ 142,00-168,00
30 Piezas(MOQ)
1/4

Xiamen Tmax Battery Equipments Limited

5.0
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Marca TMAXCN 3n/4n/4n5 Materiales de recubrimiento PVD Wti Aleación de tungsteno y titanio Objetivo de sputtering

Marca TMAXCN 3n/4n/4n5 Materiales de recubrimiento PVD Wti Aleación de tungsteno y titanio Objetivo de sputtering

US$ 78,00-90,00
1 Pieza(MOQ)
Equipo de recubrimiento por pulverización PVD de doble objetivo RF&DC&MF para películas multicapa conductoras

Equipo de recubrimiento por pulverización PVD de doble objetivo RF&DC&MF para películas multicapa conductoras

US$ 45.000,00
1 Pieza(MOQ)
Máquina de recubrimiento por pulverización de plasma rotativo TMAXCN Marca VTC-16-3HD-LD 3 incluyendo 3 objetivos

Máquina de recubrimiento por pulverización de plasma rotativo TMAXCN Marca VTC-16-3HD-LD 3 incluyendo 3 objetivos

US$ 8.000,00
1 Pieza(MOQ)
Marca TMAXCN- VTC-600-3HD-GB 3 Cabezas de sputtering y fuentes de alimentación RF/DC Máquina de recubrimiento por sputtering en caja de guantes

Marca TMAXCN- VTC-600-3HD-GB 3 Cabezas de sputtering y fuentes de alimentación RF/DC Máquina de recubrimiento por sputtering en caja de guantes

US$ 16.000,00
1 Pieza(MOQ)
1/4

Sid Metal Co., Ltd

13 años
·Fabricante/Fábrica & Empresa Comercial
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Zr702 Zr705 Conductividad Térmica de Tubo de Circonio Alta Pureza Objetivo de Sputtering

Zr702 Zr705 Conductividad Térmica de Tubo de Circonio Alta Pureza Objetivo de Sputtering

US$ 1,00-3.000,00
1 Pieza(MOQ)
Objetivo de Sputtering de Titanio Ti / Objetivo Rotatorio de Titanio para Semiconductores / Sputtering de Recubrimiento al Vacío

Objetivo de Sputtering de Titanio Ti / Objetivo Rotatorio de Titanio para Semiconductores / Sputtering de Recubrimiento al Vacío

US$ 1,00-100,00
1 Pieza(MOQ)
Hoja de objetivo de zirconio Zr702 Zr705 para recubrimiento PVD disco de zirconio

Hoja de objetivo de zirconio Zr702 Zr705 para recubrimiento PVD disco de zirconio

US$ 1,00-3.000,00
1 Pieza(MOQ)
Objetivo de hoja de sputtering de circonio Zr702 Zr705 para recubrimiento PVD disco de circonio

Objetivo de hoja de sputtering de circonio Zr702 Zr705 para recubrimiento PVD disco de circonio

US$ 1,00-3.000,00
1 Pieza(MOQ)
1/4

Zhengzhou Shibo Nonferrous Metals Products Co., Ltd.

21 años·5.0
·Fabricante/Fábrica & Empresa Comercial
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Placa Redonda de Molibdeno de Alta Pureza Mo1 para Sputtering

Placa Redonda de Molibdeno de Alta Pureza Mo1 para Sputtering

US$ 40,00-88,00
1 kg(MOQ)
Molibdeno material objetivo mejor Precio Mo Tagret

Molibdeno material objetivo mejor Precio Mo Tagret

US$ 40,00-88,00
1 kg(MOQ)
Placa de molibdeno de alta calidad

Placa de molibdeno de alta calidad

US$ 40,00-88,00
1 kg(MOQ)
Mo1 Precio del objetivo de molibdeno para sputtering

Mo1 Precio del objetivo de molibdeno para sputtering

US$ 40,00-88,00
1 kg(MOQ)
1/2

Shaanxi Mingsheng Guangpu Metal Materials Co., Ltd.

3 años
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Objetivos de Sputtering de Níquel de Ultra Alta Densidad para Metalización de Wafers Semiconductores

Objetivos de Sputtering de Níquel de Ultra Alta Densidad para Metalización de Wafers Semiconductores

US$ 80,00-100,00
50 kilograms(MOQ)
Objetivos de Sputtering de Níquel de Precisión para Películas Conductivas de Instrumentos de Precisión

Objetivos de Sputtering de Níquel de Precisión para Películas Conductivas de Instrumentos de Precisión

US$ 110,00-130,00
50 kilograms(MOQ)
Objetivos de Sputtering de Níquel Personalizados Msgp - Ideales para Aplicaciones de Deposición de Películas Delgadas

Objetivos de Sputtering de Níquel Personalizados Msgp - Ideales para Aplicaciones de Deposición de Películas Delgadas

US$ 100,00-120,00
50 kilograms(MOQ)
Objetivos de sputtering de níquel resistente al desgaste para recubrimiento de sensores electrónicos automotrices

Objetivos de sputtering de níquel resistente al desgaste para recubrimiento de sensores electrónicos automotrices

US$ 120,00-140,00
50 kilograms(MOQ)
1/4

Shanghai Tankii Alloy Material Co., Ltd.

5.0
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Fabricante personalizado de bajo precio, metal de cromo puro de alta pureza, objetivo de sputtering de Cr para recubrimiento PVD

Fabricante personalizado de bajo precio, metal de cromo puro de alta pureza, objetivo de sputtering de Cr para recubrimiento PVD

US$ 60,00-150,00
1 Pieza(MOQ)
Alta Pureza 99.99% TANKII Metal Cromo Objetivos de Sputtering

Alta Pureza 99.99% TANKII Metal Cromo Objetivos de Sputtering

US$ 60,00-150,00
1 Pieza(MOQ)
Precio de fábrica Vender 99.999% Objetivo de sputtering de cromo

Precio de fábrica Vender 99.999% Objetivo de sputtering de cromo

US$ 60,00-150,00
1 Pieza(MOQ)
Venta directa de fábrica de objetivo de sputtering de cromo utilizado para preparar películas delgadas de galgas de deformación resistivas

Venta directa de fábrica de objetivo de sputtering de cromo utilizado para preparar películas delgadas de galgas de deformación resistivas

US$ 60,00-150,00
1 Pieza(MOQ)
1/4

Luoyang Bless Tungsten & Molybdenum Materials Co., Ltd.

12 años
·Empresa Comercial
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Doblado y Pliegue de Objetivos de Sputtering de Molibdeno

Doblado y Pliegue de Objetivos de Sputtering de Molibdeno

US$ 40,00-43,00
1 Kg(MOQ)
Material de alta pureza ultra molibdeno objetivos de pulverización

Material de alta pureza ultra molibdeno objetivos de pulverización

US$ 20,00-86,00
1 Pieza(MOQ)
Objetivos de sputtering de molibdeno para ensamblaje complejo

Objetivos de sputtering de molibdeno para ensamblaje complejo

US$ 40,00-43,00
1 Kg(MOQ)
Objetivos de sputtering de molibdeno de alta calidad

Objetivos de sputtering de molibdeno de alta calidad

US$ 66,00-77,00
1 Kg(MOQ)
1/1

Tianjin Rui Yuan Electric Material Co., Ltd.

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Objetivos de Cobre de Ultra Pureza 99.9999% 7n5

Objetivos de Cobre de Ultra Pureza 99.9999% 7n5

US$ 26,99-53,03
1.000 kilograms(MOQ)
Fábrica china de alta pureza 6n cobre (Cu) 99.9999% objetivo de sputtering

Fábrica china de alta pureza 6n cobre (Cu) 99.9999% objetivo de sputtering

US$ 89,00-180,00
1.000 kilograms(MOQ)
C110/C10100/Tu00 5n Objetivo de Sputtering de Alta Pureza Cobre 99.999% para Recubrimiento Óptico

C110/C10100/Tu00 5n Objetivo de Sputtering de Alta Pureza Cobre 99.999% para Recubrimiento Óptico

US$ 79,99
50 Kg(MOQ)
99.9999% 6n Placas de respaldo de objetivos de sputtering de cobre de alta pureza

99.9999% 6n Placas de respaldo de objetivos de sputtering de cobre de alta pureza

US$ 335,00-350,00
100 Kg(MOQ)
1/4

Zhejiang Ruisheng New Materials Co., Ltd.

Empresa Comercial
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Objetivo de tungsteno rotativo premium para aplicaciones de sputtering eficientes

Objetivo de tungsteno rotativo premium para aplicaciones de sputtering eficientes

US$ 50,00-270,00
10 Kg(MOQ)
Objetivo de Sputtering de Tungsteno de Alta Pureza 99.95% Deposición de Películas Finas de Semiconductores Personalizable Estándar ASTM

Objetivo de Sputtering de Tungsteno de Alta Pureza 99.95% Deposición de Películas Finas de Semiconductores Personalizable Estándar ASTM

US$ 60,00-100,00
1 Kg(MOQ)
Objetivo de Molybdeno Puro Ultra Denso 99.9% 100mm Diámetro Recubrimiento de Película Delgada Opcional RoHS

Objetivo de Molybdeno Puro Ultra Denso 99.9% 100mm Diámetro Recubrimiento de Película Delgada Opcional RoHS

US$ 30,00-60,00
10 Kg(MOQ)
Discos de molibdeno de alta pureza y resistencia al calor para objetivos de sputtering fiables

Discos de molibdeno de alta pureza y resistencia al calor para objetivos de sputtering fiables

US$ 40,00-80,00
10 Kg(MOQ)
1/4

Jiangsu Cicel Vacuum Technology Co., Ltd.

4.5
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Objetivo de sputtering de titanio de aleación con personalización

Objetivo de sputtering de titanio de aleación con personalización

US$ 100,00-300,00
1 Pieza(MOQ)
Objetivo de Titanio Puro Mejor Precio Gr2 Objetivo de Titanio para Sputtering al Vacío Recubrimiento con Objetivo de Titanio

Objetivo de Titanio Puro Mejor Precio Gr2 Objetivo de Titanio para Sputtering al Vacío Recubrimiento con Objetivo de Titanio

US$ 100,00-300,00
1 Pieza(MOQ)
Objetivo de titanio por sputtering, objetivo de sputtering de titanio, recubrimiento al vacío, objetivo de titanio

Objetivo de titanio por sputtering, objetivo de sputtering de titanio, recubrimiento al vacío, objetivo de titanio

US$ 100,00-300,00
1 Pieza(MOQ)
Precio de objetivos de titanio de alta pureza para recubrimiento PVD/objetivo de titanio por pulverización, objetivo redondo de titanio en venta

Precio de objetivos de titanio de alta pureza para recubrimiento PVD/objetivo de titanio por pulverización, objetivo redondo de titanio en venta

US$ 80,00-300,00
1 Pieza(MOQ)
1/4

Xiamen HiuGong Machinery Co., Ltd.

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Objetivo de Sputtering Rotatorio 4n-5n Sial Nicr Znal Znsn Tiox Nbox

Objetivo de Sputtering Rotatorio 4n-5n Sial Nicr Znal Znsn Tiox Nbox

US$ 1.000,00
1 Pieza(MOQ)
Objetivo de Sputtering Magnetrón Zrox Si Cr Nb Cu Cr AG

Objetivo de Sputtering Magnetrón Zrox Si Cr Nb Cu Cr AG

US$ 500,00
1 Pieza(MOQ)
99.99% Objetivo de Sputtering de Óxido de Galio Objetivo Plano Ga2o3 Objetivo

99.99% Objetivo de Sputtering de Óxido de Galio Objetivo Plano Ga2o3 Objetivo

US$ 300,00
1 Pieza(MOQ)
Equipo de recubrimiento por pulverización de plasma, antiadherente, resistente al desgaste, silicio, aluminio, alúmina, circonio

Equipo de recubrimiento por pulverización de plasma, antiadherente, resistente al desgaste, silicio, aluminio, alúmina, circonio

US$ 35.000,00
1 Pieza(MOQ)
1/4

Hubei Fotma Machinery Co., Ltd.

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Producto personalizado de tungsteno, blanco de sputtering de tungsteno puro

Producto personalizado de tungsteno, blanco de sputtering de tungsteno puro

US$ 40,00-50,00
1 Kg(MOQ)
99.95% Tubo de Molienda Objetivo de Sputtering Objetivo de Molibdeno

99.95% Tubo de Molienda Objetivo de Sputtering Objetivo de Molibdeno

US$ 5,00-200,00
1 Kilogram(MOQ)
Tubo de molibdeno para objetivo de pulverización 99.95% Tubo de molibdeno puro

Tubo de molibdeno para objetivo de pulverización 99.95% Tubo de molibdeno puro

US$ 40,00-50,00
1 Kg(MOQ)
99.95% Placas de tungsteno negro mecanizadas y rectificadas en puro tungsteno

99.95% Placas de tungsteno negro mecanizadas y rectificadas en puro tungsteno

US$ 1,00-20,00
1 Pieza(MOQ)
1/4

Ningbo Danko Vacuum Technology Co., Ltd.

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Metalización al vacío de aleación de titanio y aluminio

Metalización al vacío de aleación de titanio y aluminio

US$ 30,00-100,00
1 Pieza(MOQ)
Máquina de recubrimiento de tamaño personalizado para recubrimiento duro

Máquina de recubrimiento de tamaño personalizado para recubrimiento duro

Negociable
1 Set(MOQ)
Máquina de recubrimiento PVD para todos los materiales: metal, vidrio, cerámica

Máquina de recubrimiento PVD para todos los materiales: metal, vidrio, cerámica

Negociable
1 Set(MOQ)
Máquina de Platinado de Oro por PVD de Arco Catódico

Máquina de Platinado de Oro por PVD de Arco Catódico

US$ 100.000,00-230.000,00
1 Pieza(MOQ)
1/4

LUOYANG COMBAT TUNGSTEN & MOLYBDENUM MATERIAL CO., LTD.

18 años·5.0
·Fabricante/Fábrica & Empresa Comercial
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Objetivo de Sputtering de Molybdeno de Alta Densidad de Combate 99.95%

Objetivo de Sputtering de Molybdeno de Alta Densidad de Combate 99.95%

US$ 55,00-59,00
1 Kg(MOQ)
Objetivo de Sputtering de Titanio Puro de Material de Titanio Hecho a Medida 99.6% en Venta

Objetivo de Sputtering de Titanio Puro de Material de Titanio Hecho a Medida 99.6% en Venta

US$ 35,00-40,00
5 Kg(MOQ)
Precio Competitivo ASTM 99.95% Placa de Tungsteno de Pureza

Precio Competitivo ASTM 99.95% Placa de Tungsteno de Pureza

US$ 74,00
1 Kg(MOQ)
Comportamiento Eléctrico Estable Alta Temperatura de Fusión Tubo de Aleación de Tungsteno Hoja de Tantalio

Comportamiento Eléctrico Estable Alta Temperatura de Fusión Tubo de Aleación de Tungsteno Hoja de Tantalio

US$ 456,80-500,20
1 Kg(MOQ)
1/4

Ningbo Galaxy International Trading Co., Ltd.

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Objetivo de Sputtering Redondo de Zirconio de Alta Fusión Zr702

Objetivo de Sputtering Redondo de Zirconio de Alta Fusión Zr702

US$ 15,00
1 pcs(MOQ)
Buena conductividad térmica y eléctrica objetivo de lámina de titanio

Buena conductividad térmica y eléctrica objetivo de lámina de titanio

US$ 20,00
1 Pieza(MOQ)
Objetivo redondo de tantalio puro pulido para la fabricación de capacitores de tantalio

Objetivo redondo de tantalio puro pulido para la fabricación de capacitores de tantalio

US$ 30,00
10 Piezas(MOQ)
Superficie pulida de alta dureza y objetivo de tubo de níquel de mayor pureza

Superficie pulida de alta dureza y objetivo de tubo de níquel de mayor pureza

US$ 30,00
10 Piezas(MOQ)
1/4

CHANGSHA EASCHEM CO., LIMITED

5 años
·Empresa Comercial
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Precio de fábrica Vender alta calidad objetivo de sputtering ITO 4n In2o3 y Sno2

Precio de fábrica Vender alta calidad objetivo de sputtering ITO 4n In2o3 y Sno2

Negociable
1 Piece(MOQ)
Varilla de metal de samario granular CAS No 7440-19-9 Sm 3n 4n

Varilla de metal de samario granular CAS No 7440-19-9 Sm 3n 4n

Negociable
1 Piece(MOQ)
Precio de fábrica Vender alta pureza objetivo ITO para Rpd 4n

Precio de fábrica Vender alta pureza objetivo ITO para Rpd 4n

Negociable
1 Piece(MOQ)
Precio de fábrica Vender bajo densidad 4n objetivo redondo pequeño ITO

Precio de fábrica Vender bajo densidad 4n objetivo redondo pequeño ITO

Negociable
1 Piece(MOQ)
1/4

Zhuzhou Hongtong Tungsten Carbide Co., Ltd.

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Varios objetivos de tungsteno carburo en diferentes formas para recubrimientos de DLC

Varios objetivos de tungsteno carburo en diferentes formas para recubrimientos de DLC

US$ 38,00-45,00
10 Kg(MOQ)
Objetivos de sputtering de carburo de tungsteno para fabricar recubrimientos de DLC

Objetivos de sputtering de carburo de tungsteno para fabricar recubrimientos de DLC

US$ 38,00-45,00
10 Kg(MOQ)
Placa de Carburo de Tungsteno con un Lado Estriado

Placa de Carburo de Tungsteno con un Lado Estriado

US$ 38,00-45,00
10 Kg(MOQ)
100X100X10mm 100X100X8mm 100X100X12mm Placas de Bloque de Carburo de Tungsteno

100X100X10mm 100X100X8mm 100X100X12mm Placas de Bloque de Carburo de Tungsteno

US$ 38,00-45,00
10 Kg(MOQ)
1/4

Zhuzhou M & J Import and Export Co., Ltd.

4.0
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Objetivo de Sputtering de Tungsteno Cementado de Alta Calidad

Objetivo de Sputtering de Tungsteno Cementado de Alta Calidad

US$ 5,00-20,00
20 Piezas(MOQ)
Proveedores de barra redonda de aleación de tungsteno puro

Proveedores de barra redonda de aleación de tungsteno puro

US$ 10,00-20,00
100 Piezas(MOQ)
Placa de tungsteno con 99.95% W

Placa de tungsteno con 99.95% W

US$ 5,00-10,00
20 Piezas(MOQ)
1/4

Jinan Hengcheng Aluminum Co., Ltd.

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Objetivo de Sputtering de Aluminio Titanio Alloy/50 para Máquina de Recubrimiento PVD

Objetivo de Sputtering de Aluminio Titanio Alloy/50 para Máquina de Recubrimiento PVD

US$ 3.380,00
1 Tonelada(MOQ)
Objetivo de sputtering de aluminio y titanio, objetivo de sputtering de titanio y aluminio

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US$ 3.380,00
1 Tonelada(MOQ)
Bloques de aluminio metal para objetivo de sputtering de aluminio para investigación en laboratorio

Bloques de aluminio metal para objetivo de sputtering de aluminio para investigación en laboratorio

US$ 2.960,00
1 Tonelada(MOQ)
1/4

Baoji Taizehui Metal Technology Co., Ltd.

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Objetivo de Sputtering de Circonio 705 para Soluciones Metálicas Personalizadas de Alta Calidad

Objetivo de Sputtering de Circonio 705 para Soluciones Metálicas Personalizadas de Alta Calidad

Negociable
10 Kg(MOQ)
Objetivo de Sputtering de Zirconio de Alta Calidad 705 para Soluciones Personalizadas Hoy

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Negociable
10 Kg(MOQ)
Material de objetivo de pulverización para recubrimiento al vacío, objetivo curvado, proceso de alta pureza, placa de hafnio

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Negociable
2 Kg(MOQ)
Hoja y placa de hafnio de alta precisión personalizadas de alta calidad OEM ODM

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Negociable
10 Kg(MOQ)
1/4

Shenzhen Silver Technologies Ltd

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Material de objetivo de pulverización de oro de alta pureza procesamiento personalizado

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US$ 200,00
100 g(MOQ)
Objetivo de sputtering de oro de alta pureza, adecuado para 5g materiales

Objetivo de sputtering de oro de alta pureza, adecuado para 5g materiales

US$ 200,00
100 g(MOQ)
Objetivo de Sputtering de Oro 99.99% Objetivo de Alta Calidad Au Objetivo de Oro Puro

Objetivo de Sputtering de Oro 99.99% Objetivo de Alta Calidad Au Objetivo de Oro Puro

US$ 200,00
100 g(MOQ)
99.99% Objetivo de Sputtering de Oro de Alta Calidad Au

99.99% Objetivo de Sputtering de Oro de Alta Calidad Au

US$ 200,00
10 g(MOQ)
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ATM Material Co., Ltd.

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Objetivo Wti / Objetivos de Sputtering / Alta Calidad Wti

Objetivo Wti / Objetivos de Sputtering / Alta Calidad Wti

US$ 1,00-100,00
1 Pieza(MOQ)
Objetivo de pulverización

Objetivo de pulverización

US$ 0,10-100,00
1.000 Piezas(MOQ)
Objetivo de molibdeno puro para recubrimientos, pantallas TFT-LCD

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US$ 1.000,00
1 Pieza(MOQ)
Tubo de tungsteno de alta calidad

Tubo de tungsteno de alta calidad

US$ 0,10-100,00
1.000 Piezas(MOQ)
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