Índice de Fábrica China

objetivo de pulverización de aleación fábrica

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OEMODMMarca PropiaOtros

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Por debajo de US $ 1 Millón1 ~ 2,5 millones de dólares2,5 ~ 5 millones de dólares5 ~ 10 millones de dólares10 ~ 50 millones de dólares

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Número de empleados

Menos de 5 Personas5-50 Personas51-200 Personas201-500 Personas

Provincia & Región

BeijingChongqingFujianGuangdongHebei

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Proveedores revisados por servicios de inspección.

sobre objetivo de pulverización de aleación

Innovación tecnológica
Cadenas de suministro confiables
Capacidades de fabricación sustanciales

objetivo de pulverización de aleación100+ fábricas verificadas

SUZHOU TECHNO-TEC PHOTOELECTRIC MATERIALS CO., LTD

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Aleación CuNiTi Target Cobre níquel Titanio aleación esputtering objetivo para LCD/panel táctil

Aleación CuNiTi Target Cobre níquel Titanio aleación esputtering objetivo para LCD/panel táctil

Objetivo de aleación de AlSc, objetivo de sputtering de aleación de aluminio y escandio para semiconductores

Objetivo de aleación de AlSc, objetivo de sputtering de aleación de aluminio y escandio para semiconductores

US$ 9.400,00

Objetivo de NdFeB Aleación de Neodimio Hierro Boro Objetivo de Sputtering para Accionamiento Magnético

Objetivo de NdFeB Aleación de Neodimio Hierro Boro Objetivo de Sputtering para Accionamiento Magnético

US$ 50,00-80,00

Esputo de metal/esputo de aleación/esputo serámico objetivo

Esputo de metal/esputo de aleación/esputo serámico objetivo

1/4

Changsha Xinkang Advanced Materials Co., Ltd.

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Objetivos de Sputtering de Aleación de Níquel de Alta Pureza Xinkang Níquel Vanadio Niv7%

Objetivos de Sputtering de Aleación de Níquel de Alta Pureza Xinkang Níquel Vanadio Niv7%

US$ 35,00-40,00

Objetivo de pulverización de aleación de níquel y cromo de alta calidad para recubrimiento

Objetivo de pulverización de aleación de níquel y cromo de alta calidad para recubrimiento

US$ 35,00-40,00

Objetivo PVD de Nife 3n5 Objetivo de Sputtering de Aleación de Níquel Objetivo de Aleación de Níquel y Hierro

Objetivo PVD de Nife 3n5 Objetivo de Sputtering de Aleación de Níquel Objetivo de Aleación de Níquel y Hierro

US$ 45,00-100,00

Discos de aleación de níquel, cobre y titanio para aplicaciones de recubrimiento 99.9%

Discos de aleación de níquel, cobre y titanio para aplicaciones de recubrimiento 99.9%

US$ 160,00-167,00

1/4

Beenine Shanke Technology Co., Ltd.

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Objetivo de sputtering tubular plano de aleación de níquel cromo de alta pureza

Objetivo de sputtering tubular plano de aleación de níquel cromo de alta pureza

US$ 80,00-800,00

Objetivo de sputtering de aleación de níquel cromo de alta pureza Ni/Cr personalizado fábrica de China

Objetivo de sputtering de aleación de níquel cromo de alta pureza Ni/Cr personalizado fábrica de China

US$ 80,00-800,00

Objetivo de sputtering de aleación de Cu/Ni de alta pureza personalizado fábrica de China

Objetivo de sputtering de aleación de Cu/Ni de alta pureza personalizado fábrica de China

US$ 300,00-1.000,00

Objetivo de pulverización de recubrimiento PVD plano redondo de aleación de cobre y níquel Cu/Ni fábrica

Objetivo de pulverización de recubrimiento PVD plano redondo de aleación de cobre y níquel Cu/Ni fábrica

US$ 300,00-1.000,00

1/4

Luoyang Modi Tungsten & Molybdenum Material Co., Ltd.

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Tzm Molybdenum Alloy Plate Sputtering Targets Price

Tzm Molybdenum Alloy Plate Sputtering Targets Price

US$ 75,00-95,00

Ta-Mo Alloy Plate Tantalum Molybdenum Sputtering Target

Ta-Mo Alloy Plate Tantalum Molybdenum Sputtering Target

US$ 57,00-72,00

High Purity Sputtering Target Material Molybdenum Sputtering Target

High Purity Sputtering Target Material Molybdenum Sputtering Target

US$ 57,00-72,00

Molybdenum Target Niobium Sputtering Target for Electronic Semiconductor

Molybdenum Target Niobium Sputtering Target for Electronic Semiconductor

US$ 57,00-72,00

1/4

Lonwin Industry Group Limited

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Objetivo de Sputtering de Aleación de Cromo Silicio de Alta Pureza 99.99% para Uso en Semiconductores

Objetivo de Sputtering de Aleación de Cromo Silicio de Alta Pureza 99.99% para Uso en Semiconductores

US$ 17,00-55,00

Alcance de alta pureza 99.99% aleación de cobre de zirconio Zrcu para sputtering

Alcance de alta pureza 99.99% aleación de cobre de zirconio Zrcu para sputtering

US$ 17,00-55,00

Objetivo de Sputtering de Aleación de Titanio Silicio Ti-Si de Alta Pureza 3n para Recubrimiento PVD

Objetivo de Sputtering de Aleación de Titanio Silicio Ti-Si de Alta Pureza 3n para Recubrimiento PVD

US$ 17,00-55,00

99.9% Objetivo de aleación de cobre y gadolinio para pulverización

99.9% Objetivo de aleación de cobre y gadolinio para pulverización

US$ 17,00-55,00

1/4

Dongguan Gravel Industries and Enterprise Company Limited

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Material de objetivo de pulverización al vacío de aleación de silicio y aluminio de alta pureza

Material de objetivo de pulverización al vacío de aleación de silicio y aluminio de alta pureza

US$ 6.500,00

99.99% Blanco de Sputtering de Aleación de Estaño de Oro de Alta Pureza

99.99% Blanco de Sputtering de Aleación de Estaño de Oro de Alta Pureza

US$ 265.000,00

Objetivo de rutenio por sputtering magnetrón de alta pureza

Objetivo de rutenio por sputtering magnetrón de alta pureza

US$ 32.000,00

Objetivo de Níquel 99.99 Objetivo de Sputtering de Alta Pureza

Objetivo de Níquel 99.99 Objetivo de Sputtering de Alta Pureza

US$ 1.500,00

1/4

Rheniumet Ltd.

·Empresa Comercial

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Objetivo de Sputtering de Aleación de Níquel y Cromo de Alta Pureza, Ni60cr40 Objetivo de Sputtering Personalizado

Objetivo de Sputtering de Aleación de Níquel y Cromo de Alta Pureza, Ni60cr40 Objetivo de Sputtering Personalizado

US$ 500,00-1.000,00

Fabricante de blanco de pulverización de aleación de molibdeno y renio

Fabricante de blanco de pulverización de aleación de molibdeno y renio

US$ 3.000,00-10.000,00

Objetivo de aleación de tungsteno y renio para deposición física de vapor

Objetivo de aleación de tungsteno y renio para deposición física de vapor

US$ 2.000,00-3.000,00

1 kilograms(MOQ)

Personalización de fábrica de objetivo de metal noble osmio, aleaciones de osmio y renio, objetivo de pulverización personalizable

Personalización de fábrica de objetivo de metal noble osmio, aleaciones de osmio y renio, objetivo de pulverización personalizable

US$ 20,00-50,00

1/4

Inner Mongolia Rongtai Rhenium New Materials Co., Ltd.

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Objetivo de sputtering de aleación de titanio personalizable para recubrimientos ópticos

Objetivo de sputtering de aleación de titanio personalizable para recubrimientos ópticos

US$ 190,00-199,00

Objetivo de sputtering de aleación de titanio y iterbio de alta pureza para recubrimientos superiores

Objetivo de sputtering de aleación de titanio y iterbio de alta pureza para recubrimientos superiores

US$ 190,00-199,00

Objetivo de sputtering de aleación de titanio de alta pureza personalizado para electrónica

Objetivo de sputtering de aleación de titanio de alta pureza personalizado para electrónica

US$ 115,00-130,00

Objetivos de Sputtering de Titanio y Aluminio Avanzados para Aplicaciones de Precisión

Objetivos de Sputtering de Titanio y Aluminio Avanzados para Aplicaciones de Precisión

US$ 190,00-199,00

1/4

Zhonghe Steel (Tianjin) Co., Ltd.

·Empresa Comercial

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Objetivos de PVD de aleación de aluminio y titanio, objetivos de sputtering de titanio, objetivo de aleación de Tial para recubrimiento

Objetivos de PVD de aleación de aluminio y titanio, objetivos de sputtering de titanio, objetivo de aleación de Tial para recubrimiento

US$ 10,00-25,00

Precio del objetivo de sputtering de titanio PVD personalizado

Precio del objetivo de sputtering de titanio PVD personalizado

US$ 10,00-25,00

Personalización de objetivo de sputtering de titanio para necesidades de recubrimiento especializadas

Personalización de objetivo de sputtering de titanio para necesidades de recubrimiento especializadas

US$ 10,00-25,00

Alta Pureza 99.6% PVD M86 Objetivo de Titanio Od 98X40mm Objetivo de Titanio

Alta Pureza 99.6% PVD M86 Objetivo de Titanio Od 98X40mm Objetivo de Titanio

US$ 10,00-25,00

1/4

Zhuzhou Weilai New Materials Technology Co., Ltd.

·Fabricante/Fábrica & Empresa Comercial

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Objetivos de ánodo rotatorio de aleación de tungsteno, aleación de renio, aleación de molibdeno

Objetivos de ánodo rotatorio de aleación de tungsteno, aleación de renio, aleación de molibdeno

US$ 142,00-168,00

Material de objetivo de molibdeno mejor precio objetivo de pulverización de tungsteno rutenio superficie de ánodo CT

Material de objetivo de molibdeno mejor precio objetivo de pulverización de tungsteno rutenio superficie de ánodo CT

US$ 142,00-168,00

Suministrar objetivo de sputtering de ánodo rotatorio de tungsteno rutenio negro

Suministrar objetivo de sputtering de ánodo rotatorio de tungsteno rutenio negro

US$ 142,00-168,00

Repuestos de inserto de tubo de rayos X, objetivo rotativo de tomografía computarizada, objetivo de Mo por pulverización

Repuestos de inserto de tubo de rayos X, objetivo rotativo de tomografía computarizada, objetivo de Mo por pulverización

US$ 142,00-168,00

1/4

Xiamen Tmax Battery Equipments Limited

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Marca TMAXCN 3n/4n/4n5 Materiales de recubrimiento PVD Wti Aleación de tungsteno y titanio Objetivo de sputtering

US$ 78,00-90,00

Máquina de recubrimiento por pulverización de plasma rotativo TMAXCN Marca VTC-16-3HD-LD 3 incluyendo 3 objetivos

US$ 8.000,00

Equipo de recubrimiento por pulverización PVD de doble objetivo RF&DC&MF para películas multicapa conductoras

Equipo de recubrimiento por pulverización PVD de doble objetivo RF&DC&MF para películas multicapa conductoras

US$ 45.000,00

Sistema de equipo de máquina de recubrimiento por sputtering magnetrón de múltiples objetivos para deposición de películas delgadas compuestas

Sistema de equipo de máquina de recubrimiento por sputtering magnetrón de múltiples objetivos para deposición de películas delgadas compuestas

US$ 50.000,00

1/4

Sid Metal Co., Ltd

·Fabricante/Fábrica & Empresa Comercial

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Zr702 Zr705 Conductividad Térmica de Tubo de Circonio Alta Pureza Objetivo de Sputtering

Zr702 Zr705 Conductividad Térmica de Tubo de Circonio Alta Pureza Objetivo de Sputtering

US$ 1,00-3.000,00

Hoja de objetivo de sputtering de zirconio de alta calidad Zr702 Zr705 para recubrimiento PVD disco de zirconio

Hoja de objetivo de sputtering de zirconio de alta calidad Zr702 Zr705 para recubrimiento PVD disco de zirconio

US$ 1,00-3.000,00

Objetivo de Sputtering de Titanio Ti / Objetivo Rotatorio de Titanio para Semiconductores / Sputtering de Recubrimiento al Vacío

Objetivo de Sputtering de Titanio Ti / Objetivo Rotatorio de Titanio para Semiconductores / Sputtering de Recubrimiento al Vacío

US$ 1,00-100,00

Objetivo de hoja de sputtering de circonio Zr702 Zr705 para recubrimiento PVD disco de circonio

Objetivo de hoja de sputtering de circonio Zr702 Zr705 para recubrimiento PVD disco de circonio

US$ 1,00-3.000,00

1/4

Zhengzhou Shibo Nonferrous Metals Products Co., Ltd.

·Fabricante/Fábrica & Empresa Comercial

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Molibdeno material objetivo mejor Precio Mo Tagret

Molibdeno material objetivo mejor Precio Mo Tagret

US$ 40,00-88,00

Placa de molibdeno de alta calidad

Placa de molibdeno de alta calidad

US$ 40,00-88,00

Placa Redonda de Molibdeno de Alta Pureza Mo1 para Sputtering

Placa Redonda de Molibdeno de Alta Pureza Mo1 para Sputtering

US$ 40,00-88,00

Mo1 Precio del objetivo de molibdeno para sputtering

Mo1 Precio del objetivo de molibdeno para sputtering

US$ 40,00-88,00

1/2

Shanghai Tankii Alloy Material Co., Ltd.

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Alta Pureza 99.99% TANKII Metal Cromo Objetivos de Sputtering

Alta Pureza 99.99% TANKII Metal Cromo Objetivos de Sputtering

US$ 60,00-150,00

Precio de fábrica 99.999% objetivo de sputtering de cromo

Precio de fábrica 99.999% objetivo de sputtering de cromo

US$ 60,00-150,00

Fabricante personalizado de bajo precio, metal de cromo puro de alta pureza, objetivo de sputtering de Cr para recubrimiento PVD

Fabricante personalizado de bajo precio, metal de cromo puro de alta pureza, objetivo de sputtering de Cr para recubrimiento PVD

US$ 60,00-150,00

Tipo de recubrimiento PVD más popular, uso de objetivo de sputtering de cromo tipo placa

Tipo de recubrimiento PVD más popular, uso de objetivo de sputtering de cromo tipo placa

US$ 60,00-150,00

1/4

Shaanxi Mingsheng Guangpu Metal Materials Co., Ltd.

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Objetivos de Sputtering de Níquel Personalizados Msgp - Ideales para Aplicaciones de Deposición de Películas Delgadas

Objetivos de Sputtering de Níquel Personalizados Msgp - Ideales para Aplicaciones de Deposición de Películas Delgadas

US$ 100,00-120,00

50 kilograms(MOQ)

Objetivos de Sputtering de Níquel de Ultra Alta Densidad para Metalización de Wafers Semiconductores

Objetivos de Sputtering de Níquel de Ultra Alta Densidad para Metalización de Wafers Semiconductores

US$ 80,00-100,00

50 kilograms(MOQ)

Objetivos de sputtering de níquel de alta pureza en forma tubular - Personalizables para células solares fotovoltaicas

Objetivos de sputtering de níquel de alta pureza en forma tubular - Personalizables para células solares fotovoltaicas

US$ 200,00-220,00

50 kilograms(MOQ)

Objetivos de Sputtering de Níquel de Alta Densidad Msgp - Perfectamente Adecuados para Aplicaciones de Recubrimiento de Dispositivos Médicos

Objetivos de Sputtering de Níquel de Alta Densidad Msgp - Perfectamente Adecuados para Aplicaciones de Recubrimiento de Dispositivos Médicos

US$ 260,00-280,00

50 kilograms(MOQ)

1/4

Luoyang Bless Tungsten & Molybdenum Materials Co., Ltd.

·Empresa Comercial

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Objetivos de sputtering de molibdeno de alta calidad

Objetivos de sputtering de molibdeno de alta calidad

US$ 66,00-77,00

Doblado y Pliegue de Objetivos de Sputtering de Molibdeno

Doblado y Pliegue de Objetivos de Sputtering de Molibdeno

US$ 40,00-43,00

Material de alta pureza ultra molibdeno objetivos de pulverización

Material de alta pureza ultra molibdeno objetivos de pulverización

US$ 20,00-86,00

Objetivos de sputtering de molibdeno para ensamblaje complejo

Objetivos de sputtering de molibdeno para ensamblaje complejo

US$ 40,00-43,00

1/1

Zhejiang Ruisheng New Materials Co., Ltd.

Empresa Comercial

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Objetivo de Sputtering de Tungsteno de Alta Pureza 99.95% Deposición de Películas Finas de Semiconductores Personalizable Estándar ASTM

Objetivo de Sputtering de Tungsteno de Alta Pureza 99.95% Deposición de Películas Finas de Semiconductores Personalizable Estándar ASTM

US$ 60,00-100,00

Objetivo de tungsteno rotativo premium para aplicaciones de sputtering eficientes

Objetivo de tungsteno rotativo premium para aplicaciones de sputtering eficientes

US$ 50,00-270,00

Objetivo de Molybdeno Puro Ultra Denso 99.9% 100mm Diámetro Recubrimiento de Película Delgada Opcional RoHS

Objetivo de Molybdeno Puro Ultra Denso 99.9% 100mm Diámetro Recubrimiento de Película Delgada Opcional RoHS

US$ 30,00-60,00

Objetivo de sputtering de molibdeno personalizable con alta densidad para aplicaciones de recubrimiento de semiconductores y vidrio

Objetivo de sputtering de molibdeno personalizable con alta densidad para aplicaciones de recubrimiento de semiconductores y vidrio

US$ 30,00-80,00

1/4

Jiangsu Cicel Vacuum Technology Co., Ltd.

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Objetivo de sputtering de titanio de aleación con personalización

Objetivo de sputtering de titanio de aleación con personalización

US$ 100,00-300,00

Objetivo de titanio de fábrica de China de buena calidad, objetivo de titanio de recubrimiento al vacío, objetivo de titanio de alta pureza

Objetivo de titanio de fábrica de China de buena calidad, objetivo de titanio de recubrimiento al vacío, objetivo de titanio de alta pureza

US$ 100,00-300,00

Objetivo de titanio por sputtering, objetivo de sputtering de titanio, recubrimiento al vacío, objetivo de titanio

Objetivo de titanio por sputtering, objetivo de sputtering de titanio, recubrimiento al vacío, objetivo de titanio

US$ 100,00-300,00

Objetivo de Sputtering de Cromo PVD Objetivo de Cromo/Objetivo de Sputtering de Cr

Objetivo de Sputtering de Cromo PVD Objetivo de Cromo/Objetivo de Sputtering de Cr

US$ 130,00-300,00

1/4

Xiamen HiuGong Machinery Co., Ltd.

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Objetivo de Sputtering Magnetrón Zrox Si Cr Nb Cu Cr AG

Objetivo de Sputtering Magnetrón Zrox Si Cr Nb Cu Cr AG

Objetivo de Sputtering Rotatorio 4n-5n Sial Nicr Znal Znsn Tiox Nbox

Objetivo de Sputtering Rotatorio 4n-5n Sial Nicr Znal Znsn Tiox Nbox

US$ 1.000,00

99.99% Objetivo de Sputtering de Óxido de Galio Objetivo Plano Ga2o3 Objetivo

99.99% Objetivo de Sputtering de Óxido de Galio Objetivo Plano Ga2o3 Objetivo

Equipo de recubrimiento por pulverización de plasma, antiadherente, resistente al desgaste, silicio, aluminio, alúmina, circonio

Equipo de recubrimiento por pulverización de plasma, antiadherente, resistente al desgaste, silicio, aluminio, alúmina, circonio

US$ 35.000,00

1/4

Hubei Fotma Machinery Co., Ltd.

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Producto personalizado de tungsteno, blanco de sputtering de tungsteno puro

Producto personalizado de tungsteno, blanco de sputtering de tungsteno puro

US$ 40,00-50,00

99.95% Tubo de Molienda Objetivo de Sputtering Objetivo de Molibdeno

99.95% Tubo de Molienda Objetivo de Sputtering Objetivo de Molibdeno

US$ 5,00-200,00

1 Kilogram(MOQ)

Tubo de molibdeno para objetivo de pulverización 99.95% Tubo de molibdeno puro

Tubo de molibdeno para objetivo de pulverización 99.95% Tubo de molibdeno puro

US$ 40,00-50,00

99.95% Placas de tungsteno negro mecanizadas y rectificadas en puro tungsteno

99.95% Placas de tungsteno negro mecanizadas y rectificadas en puro tungsteno

US$ 1,00-20,00

1/4

LUOYANG COMBAT TUNGSTEN & MOLYBDENUM MATERIAL CO., LTD.

·Fabricante/Fábrica & Empresa Comercial

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Objetivo de Sputtering de Molybdeno de Alta Densidad de Combate 99.95%

Objetivo de Sputtering de Molybdeno de Alta Densidad de Combate 99.95%

US$ 55,00-59,00

Objetivo de Sputtering de Titanio Puro de Material de Titanio Hecho a Medida 99.6% en Venta

Objetivo de Sputtering de Titanio Puro de Material de Titanio Hecho a Medida 99.6% en Venta

US$ 35,00-40,00

Precio Competitivo ASTM 99.95% Placa de Tungsteno de Pureza

Precio Competitivo ASTM 99.95% Placa de Tungsteno de Pureza

Comportamiento Eléctrico Estable Alta Temperatura de Fusión Tubo de Aleación de Tungsteno Hoja de Tantalio

Comportamiento Eléctrico Estable Alta Temperatura de Fusión Tubo de Aleación de Tungsteno Hoja de Tantalio

US$ 456,80-500,20

1/4

Ningbo Danko Vacuum Technology Co., Ltd.

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Metalización al vacío de aleación de titanio y aluminio

Metalización al vacío de aleación de titanio y aluminio

US$ 30,00-100,00

Máquina de recubrimiento PVD para todos los materiales: metal, vidrio, cerámica

Máquina de recubrimiento PVD para todos los materiales: metal, vidrio, cerámica

Máquina de recubrimiento de oro por PVD con arco catódico y molde

Máquina de recubrimiento de oro por PVD con arco catódico y molde

US$ 100.000,00-230.000,00

Máquina de recubrimiento por sputtering de magnetrón de cátodo hueco para herramientas de fresado de película superdura

Máquina de recubrimiento por sputtering de magnetrón de cátodo hueco para herramientas de fresado de película superdura

US$ 120.000,00-230.000,00

1/4

Shandong Quansheng Material Technology Group Co., LTD

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Objetivos de Sputtering de Tungsteno Superior para Aplicaciones Avanzadas de Recubrimiento

Objetivos de Sputtering de Tungsteno Superior para Aplicaciones Avanzadas de Recubrimiento

US$ 56,00-61,00

Placa de Sputtering de Molybdeno de Ultra Alta Pureza 99.95% para Aplicaciones de Precisión

Placa de Sputtering de Molybdeno de Ultra Alta Pureza 99.95% para Aplicaciones de Precisión

US$ 61,00-69,00

Tubo de Niobio ASTM Nb1nb2 de alta pureza, resistente a la corrosión, sin costura para equipos químicos

Tubo de Niobio ASTM Nb1nb2 de alta pureza, resistente a la corrosión, sin costura para equipos químicos

US$ 300,00-450,00

Alta Pureza 3mm 6mm 8mm Grosor Laminado en Frío RO4200 RO4210 Placa de Niobio Hoja de Niobio

Alta Pureza 3mm 6mm 8mm Grosor Laminado en Frío RO4200 RO4210 Placa de Niobio Hoja de Niobio

US$ 300,00-450,00

1/4

Ningbo Galaxy International Trading Co., Ltd.

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Objetivo de Sputtering Redondo de Zirconio de Alta Fusión Zr702

Objetivo de Sputtering Redondo de Zirconio de Alta Fusión Zr702

Excelente estabilidad química y ductilidad objetivo redondo de titanio

Excelente estabilidad química y ductilidad objetivo redondo de titanio

Objetivo Redondo de Zirconio con Ductilidad Colorida y Resistencia al Calor

Objetivo Redondo de Zirconio con Ductilidad Colorida y Resistencia al Calor

Objetivo redondo de níquel preventivo de corrosión de alta calidad

Objetivo redondo de níquel preventivo de corrosión de alta calidad

1/4

CHANGSHA EASCHEM CO., LIMITED

·Empresa Comercial

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Precio de fábrica Vender alta calidad objetivo de sputtering ITO 4n In2o3 y Sno2

Precio de fábrica Vender alta calidad objetivo de sputtering ITO 4n In2o3 y Sno2

Varilla de metal de samario granular CAS No 7440-19-9 Sm 3n 4n

Varilla de metal de samario granular CAS No 7440-19-9 Sm 3n 4n

Precio de fábrica Vender bajo densidad 4n objetivo redondo pequeño ITO

Precio de fábrica Vender bajo densidad 4n objetivo redondo pequeño ITO

Objetivo de sputtering de niobio de alta calidad con número CAS 7440-03-1

Objetivo de sputtering de niobio de alta calidad con número CAS 7440-03-1

1/4

Zhuzhou Hongtong Tungsten Carbide Co., Ltd.

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Varios objetivos de tungsteno carburo en diferentes formas para recubrimientos de DLC

Varios objetivos de tungsteno carburo en diferentes formas para recubrimientos de DLC

US$ 38,00-45,00

Objetivos de sputtering de carburo de tungsteno para fabricar recubrimientos de DLC

Objetivos de sputtering de carburo de tungsteno para fabricar recubrimientos de DLC

US$ 38,00-45,00

Placa de Carburo de Tungsteno con un Lado Estriado

Placa de Carburo de Tungsteno con un Lado Estriado

US$ 38,00-45,00

Hoja de Carburo de Tungsteno Pulido Duro para Actividades y Aplicaciones a Alta Temperatura

Hoja de Carburo de Tungsteno Pulido Duro para Actividades y Aplicaciones a Alta Temperatura

US$ 38,00-45,00

1/4

Tianjin Rui Yuan Electric Material Co., Ltd.

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C110/C10100/Tu00 5n Objetivo de Sputtering de Alta Pureza Cobre 99.999% para Recubrimiento Óptico

C110/C10100/Tu00 5n Objetivo de Sputtering de Alta Pureza Cobre 99.999% para Recubrimiento Óptico

Fábrica de alta pureza 5n 99.999% 60mm*30mm varilla de cobre

Fábrica de alta pureza 5n 99.999% 60mm*30mm varilla de cobre

US$ 35,00-59,00

1.000 kilometers(MOQ)

Alta Conductividad C110/C10100/Tu00 99.9999% 6n5 0.8mm Barra de Cobre Libre de Oxígeno de Alta Pureza

Alta Conductividad C110/C10100/Tu00 99.9999% 6n5 0.8mm Barra de Cobre Libre de Oxígeno de Alta Pureza

Personalizado 2mm/3mm/5mm Alta Pureza 6n Pellets de Cobre Materiales de Evaporación

Personalizado 2mm/3mm/5mm Alta Pureza 6n Pellets de Cobre Materiales de Evaporación

US$ 35,00-67,00

100 kilograms(MOQ)

1/4

Zhuzhou M & J Import and Export Co., Ltd.

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Objetivo de Sputtering de Tungsteno Cementado de Alta Calidad

Objetivo de Sputtering de Tungsteno Cementado de Alta Calidad

US$ 5,00-20,00

Placa de tungsteno con 99.95% W

Placa de tungsteno con 99.95% W

US$ 5,00-10,00

Proveedores de barra redonda de aleación de tungsteno puro

Proveedores de barra redonda de aleación de tungsteno puro

US$ 10,00-20,00

100 Piezas(MOQ)

1/4

Jinan Hengcheng Aluminum Co., Ltd.

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Objetivo de Sputtering de Aluminio Titanio Alloy/50 para Máquina de Recubrimiento PVD

Objetivo de Sputtering de Aluminio Titanio Alloy/50 para Máquina de Recubrimiento PVD

US$ 3.380,00

1 Tonelada(MOQ)

Bloques de aluminio metal para objetivo de sputtering de aluminio para investigación en laboratorio

Bloques de aluminio metal para objetivo de sputtering de aluminio para investigación en laboratorio

US$ 2.960,00

1 Tonelada(MOQ)

Objetivo de sputtering de aluminio y titanio, objetivo de sputtering de titanio y aluminio

Objetivo de sputtering de aluminio y titanio, objetivo de sputtering de titanio y aluminio

US$ 3.380,00

1 Tonelada(MOQ)

1/4

Baoji Taizehui Metal Technology Co., Ltd.

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Objetivo de Sputtering de Zirconio de Alta Calidad 705 para Soluciones Personalizadas Hoy

Objetivo de Sputtering de Zirconio de Alta Calidad 705 para Soluciones Personalizadas Hoy

Objetivo de Sputtering de Circonio 705 para Soluciones Metálicas Personalizadas de Alta Calidad

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