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sobre objetivo de pulverización de aleación
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objetivo de pulverización de aleación100+ fábricas verificadas

SUZHOU TECHNO-TEC PHOTOELECTRIC MATERIALS CO., LTD

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Aleación CuNiTi Target Cobre níquel Titanio aleación esputtering objetivo para LCD/panel táctil

Aleación CuNiTi Target Cobre níquel Titanio aleación esputtering objetivo para LCD/panel táctil

US$ 50,00
1 Kg(MOQ)
Objetivo de aleación de AlSc, objetivo de sputtering de aleación de aluminio y escandio para semiconductores

Objetivo de aleación de AlSc, objetivo de sputtering de aleación de aluminio y escandio para semiconductores

US$ 9.400,00
1 Kg(MOQ)
Esputo de metal/esputo de aleación/esputo serámico objetivo

Esputo de metal/esputo de aleación/esputo serámico objetivo

US$ 35,00
1 Kg(MOQ)
Objetivo de NdFeB Aleación de Neodimio Hierro Boro Objetivo de Sputtering para Accionamiento Magnético

Objetivo de NdFeB Aleación de Neodimio Hierro Boro Objetivo de Sputtering para Accionamiento Magnético

US$ 50,00-80,00
1 Kg(MOQ)
1/4

Changsha Xinkang Advanced Materials Co., Ltd.

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Objetivos de Sputtering de Aleación de Níquel de Alta Pureza Xinkang Níquel Vanadio Niv7%

Objetivos de Sputtering de Aleación de Níquel de Alta Pureza Xinkang Níquel Vanadio Niv7%

US$ 35,00-40,00
1 Pieza(MOQ)
Objetivo de pulverización de aleación de níquel y cromo de alta calidad para recubrimiento

Objetivo de pulverización de aleación de níquel y cromo de alta calidad para recubrimiento

US$ 35,00-40,00
1 Pieza(MOQ)
Objetivo de aleación de aluminio y estaño Alsn90/10wt% Objetivo de sputtering de aluminio y estaño

Objetivo de aleación de aluminio y estaño Alsn90/10wt% Objetivo de sputtering de aluminio y estaño

US$ 70,00-80,00
1 Pieza(MOQ)
Proveedor de objetivo de pulverización de aleación de cromo y níquel

Proveedor de objetivo de pulverización de aleación de cromo y níquel

US$ 45,00-100,00
1 Pieza(MOQ)
1/4

Beenine Shanke Technology Co., Ltd.

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Objetivo de sputtering de aleación de níquel cromo de alta pureza Ni/Cr personalizado fábrica de China

Objetivo de sputtering de aleación de níquel cromo de alta pureza Ni/Cr personalizado fábrica de China

US$ 80,00-800,00
1 Pieza(MOQ)
99.99% Pureza 4n Objetivo de Sputtering de Aleación de Cobre Níquel Cu Ni Recubrimiento PVD

99.99% Pureza 4n Objetivo de Sputtering de Aleación de Cobre Níquel Cu Ni Recubrimiento PVD

US$ 300,00-1.000,00
1 Pieza(MOQ)
Objetivo de sputtering de aleación de Cu/Ni de alta pureza personalizado fábrica de China

Objetivo de sputtering de aleación de Cu/Ni de alta pureza personalizado fábrica de China

US$ 300,00-1.000,00
1 Pieza(MOQ)
Objetivo de sputtering de aleación de titanio y aluminio de alta calidad, precio de unión en China

Objetivo de sputtering de aleación de titanio y aluminio de alta calidad, precio de unión en China

US$ 80,00-500,00
1 Pieza(MOQ)
1/4

Lonwin Industry Group Limited

5.0
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99.9% Objetivo de Sputtering de Aleación de Hierro de Circonio Zrfe

99.9% Objetivo de Sputtering de Aleación de Hierro de Circonio Zrfe

US$ 17,00-55,00
1 Kg(MOQ)
Objetivo de Sputtering de Aleación de Titanio Silicio Ti-Si de Alta Pureza 3n para Recubrimiento PVD

Objetivo de Sputtering de Aleación de Titanio Silicio Ti-Si de Alta Pureza 3n para Recubrimiento PVD

US$ 17,00-55,00
1 Kg(MOQ)
Alcance de alta pureza 99.99% aleación de cobre de zirconio Zrcu para sputtering

Alcance de alta pureza 99.99% aleación de cobre de zirconio Zrcu para sputtering

US$ 17,00-55,00
1 Kg(MOQ)
99.99% Blanco de aleación de níquel y cobre Nicu para recubrimiento PVD

99.99% Blanco de aleación de níquel y cobre Nicu para recubrimiento PVD

US$ 17,00-55,00
1 Kg(MOQ)
1/4

Rheniumet Ltd.

17 años
·Empresa Comercial
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Objetivo de sputtering de aleación de tungsteno rhenio de alta pureza

Objetivo de sputtering de aleación de tungsteno rhenio de alta pureza

US$ 2.000,00-5.000,00
1 Kg(MOQ)
Fabricante de blanco de pulverización de aleación de molibdeno y renio

Fabricante de blanco de pulverización de aleación de molibdeno y renio

US$ 3.000,00-10.000,00
1 Pieza(MOQ)
Objetivo de Sputtering de Aleación de Níquel y Cromo de Alta Pureza, Ni60cr40 Objetivo de Sputtering Personalizado

Objetivo de Sputtering de Aleación de Níquel y Cromo de Alta Pureza, Ni60cr40 Objetivo de Sputtering Personalizado

US$ 500,00-1.000,00
1 pieces(MOQ)
Objetivo de pulverización de aleación de tungsteno, níquel y cromo W-Ni-Cr/W-Ni/Ni-Cr

Objetivo de pulverización de aleación de tungsteno, níquel y cromo W-Ni-Cr/W-Ni/Ni-Cr

US$ 2.000,00-3.000,00
1 Pieza(MOQ)
1/4

Dongguan Gravel Industries and Enterprise Company Limited

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Material de objetivo de pulverización al vacío de aleación de silicio y aluminio de alta pureza

Material de objetivo de pulverización al vacío de aleación de silicio y aluminio de alta pureza

US$ 6.500,00
1 Pieza(MOQ)
99.99% Blanco de Sputtering de Aleación de Estaño de Oro de Alta Pureza

99.99% Blanco de Sputtering de Aleación de Estaño de Oro de Alta Pureza

US$ 265.000,00
10 Piezas(MOQ)
Objetivo de rutenio por sputtering magnetrón de alta pureza

Objetivo de rutenio por sputtering magnetrón de alta pureza

US$ 32.000,00
1 Pieza(MOQ)
Objetivo de Cobre de Alta Pureza para Sputtering al Vacío

Objetivo de Cobre de Alta Pureza para Sputtering al Vacío

US$ 2.200,00
1 Pieza(MOQ)
1/4

Luoyang Modi Tungsten & Molybdenum Material Co., Ltd.

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Tzm Molybdenum Alloy Plate Sputtering Targets Price

Tzm Molybdenum Alloy Plate Sputtering Targets Price

US$ 75,00-95,00
1 Kg(MOQ)
Ta-Mo Alloy Plate Tantalum Molybdenum Sputtering Target

Ta-Mo Alloy Plate Tantalum Molybdenum Sputtering Target

US$ 57,00-72,00
1 Kg(MOQ)
99.95% Molybdenum Round Metal Sputtering Target

99.95% Molybdenum Round Metal Sputtering Target

US$ 57,00-72,00
1 Kg(MOQ)
Molybdenum Thick Plate Molybdenum Ingot Molybdenum Sputtering Target

Molybdenum Thick Plate Molybdenum Ingot Molybdenum Sputtering Target

US$ 57,00-72,00
1 Kg(MOQ)
1/4

Inner Mongolia Rongtai Rhenium New Materials Co., Ltd.

5.0
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Objetivo de sputtering de aleación de titanio y iterbio de alta pureza para recubrimientos superiores

Objetivo de sputtering de aleación de titanio y iterbio de alta pureza para recubrimientos superiores

US$ 190,00-199,00
1 Pieza(MOQ)
Objetivo de sputtering de aleación de titanio de alta pureza personalizado para electrónica

Objetivo de sputtering de aleación de titanio de alta pureza personalizado para electrónica

US$ 115,00-130,00
1 Pieza(MOQ)
Objetivo de sputtering de aleación de titanio personalizable para recubrimientos ópticos

Objetivo de sputtering de aleación de titanio personalizable para recubrimientos ópticos

US$ 190,00-199,00
1 Pieza(MOQ)
Personalizado OEM Blanco Raro Tierra Premium Sputtering Metal Ytterbio Objetivo

Personalizado OEM Blanco Raro Tierra Premium Sputtering Metal Ytterbio Objetivo

US$ 190,00-199,00
1 Pieza(MOQ)
1/4

Zhonghe Steel (Tianjin) Co., Ltd.

5 años
·Empresa Comercial
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Objetivos de PVD de aleación de aluminio y titanio, objetivos de sputtering de titanio, objetivo de aleación de Tial para recubrimiento

Objetivos de PVD de aleación de aluminio y titanio, objetivos de sputtering de titanio, objetivo de aleación de Tial para recubrimiento

US$ 10,00-25,00
1 Pieza(MOQ)
Objetivo de Titanio de Alta Pureza para Máquina de Recubrimiento PVD

Objetivo de Titanio de Alta Pureza para Máquina de Recubrimiento PVD

US$ 10,00-25,00
1 Pieza(MOQ)
Objetivo de Sputtering de Titanio de Alta Pureza Gr1 Gr2 para PVD

Objetivo de Sputtering de Titanio de Alta Pureza Gr1 Gr2 para PVD

US$ 10,00-25,00
1 Pieza(MOQ)
Precio del objetivo de sputtering de titanio PVD personalizado

Precio del objetivo de sputtering de titanio PVD personalizado

US$ 10,00-25,00
1 Pieza(MOQ)
1/4

Xiamen Tmax Battery Equipments Limited

5.0
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Marca TMAXCN 3n/4n/4n5 Materiales de recubrimiento PVD Wti Aleación de tungsteno y titanio Objetivo de sputtering

Marca TMAXCN 3n/4n/4n5 Materiales de recubrimiento PVD Wti Aleación de tungsteno y titanio Objetivo de sputtering

US$ 78,00-90,00
1 Pieza(MOQ)
Máquina de recubrimiento por pulverización de plasma rotativo TMAXCN Marca VTC-16-3HD-LD 3 incluyendo 3 objetivos

Máquina de recubrimiento por pulverización de plasma rotativo TMAXCN Marca VTC-16-3HD-LD 3 incluyendo 3 objetivos

US$ 8.000,00
1 Pieza(MOQ)
Equipo de recubrimiento por pulverización PVD de doble objetivo RF&DC&MF para películas multicapa conductoras

Equipo de recubrimiento por pulverización PVD de doble objetivo RF&DC&MF para películas multicapa conductoras

US$ 45.000,00
1 Pieza(MOQ)
Sistema de Sputtering Magnetrón Frío de Escritorio para Recubrimiento Conductivo en la Preparación de Muestras de SEM

Sistema de Sputtering Magnetrón Frío de Escritorio para Recubrimiento Conductivo en la Preparación de Muestras de SEM

US$ 5.000,00
1 Pieza(MOQ)
1/4

Zhuzhou Weilai New Materials Technology Co., Ltd.

8 años
·Fabricante/Fábrica & Empresa Comercial
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Objetivos de ánodo rotatorio de aleación de tungsteno, aleación de renio, aleación de molibdeno

Objetivos de ánodo rotatorio de aleación de tungsteno, aleación de renio, aleación de molibdeno

US$ 142,00-168,00
30 Piezas(MOQ)
99.99% Personalización de objetivo de tungsteno, objetivo de sputtering de tungsteno

99.99% Personalización de objetivo de tungsteno, objetivo de sputtering de tungsteno

US$ 142,00-168,00
30 Piezas(MOQ)
Fabricante profesional de objetivo de pulverización de ánodo rotatorio, objetivo compuesto de molibdeno rhenio tungsteno para ánodo rotatorio

Fabricante profesional de objetivo de pulverización de ánodo rotatorio, objetivo compuesto de molibdeno rhenio tungsteno para ánodo rotatorio

US$ 142,00-168,00
30 Piezas(MOQ)
Suministrar objetivo de sputtering de ánodo rotatorio de tungsteno rutenio negro

Suministrar objetivo de sputtering de ánodo rotatorio de tungsteno rutenio negro

US$ 142,00-168,00
30 Piezas(MOQ)
1/4

Sid Metal Co., Ltd

13 años
·Fabricante/Fábrica & Empresa Comercial
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Zr702 Zr705 Conductividad Térmica de Tubo de Circonio Alta Pureza Objetivo de Sputtering

Zr702 Zr705 Conductividad Térmica de Tubo de Circonio Alta Pureza Objetivo de Sputtering

US$ 1,00-3.000,00
1 Pieza(MOQ)
99.99% Objetivo de Sputtering de Cromo Recubrimiento de Cromo Objetivo de Cromo

99.99% Objetivo de Sputtering de Cromo Recubrimiento de Cromo Objetivo de Cromo

US$ 100,00-600,00
2 Piezas(MOQ)
Objetivo de sputtering de titanio de alta pureza, planar para la industria de semiconductores, circuitos integrados, vidrio para construcción y automóviles

Objetivo de sputtering de titanio de alta pureza, planar para la industria de semiconductores, circuitos integrados, vidrio para construcción y automóviles

US$ 1,00-100,00
1 Pieza(MOQ)
Hoja de objetivo de sputtering de zirconio de alta calidad Zr702 Zr705 para recubrimiento PVD disco de zirconio

Hoja de objetivo de sputtering de zirconio de alta calidad Zr702 Zr705 para recubrimiento PVD disco de zirconio

US$ 1,00-3.000,00
1 Pieza(MOQ)
1/4

Zhengzhou Shibo Nonferrous Metals Products Co., Ltd.

21 años·5.0
·Fabricante/Fábrica & Empresa Comercial
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Molibdeno material objetivo mejor Precio Mo Tagret

Molibdeno material objetivo mejor Precio Mo Tagret

US$ 40,00-88,00
1 kg(MOQ)
Mo1 Precio del objetivo de molibdeno para sputtering

Mo1 Precio del objetivo de molibdeno para sputtering

US$ 40,00-88,00
1 kg(MOQ)
Placa de molibdeno de alta calidad

Placa de molibdeno de alta calidad

US$ 40,00-88,00
1 kg(MOQ)
Placa Redonda de Molibdeno de Alta Pureza Mo1 para Sputtering

Placa Redonda de Molibdeno de Alta Pureza Mo1 para Sputtering

US$ 40,00-88,00
1 kg(MOQ)
1/2

Shanghai Tankii Alloy Material Co., Ltd.

5.0
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Alta Pureza 99.99% TANKII Metal Cromo Objetivos de Sputtering

Alta Pureza 99.99% TANKII Metal Cromo Objetivos de Sputtering

US$ 60,00-150,00
1 Pieza(MOQ)
Fabricante personalizado de bajo precio, metal de cromo puro de alta pureza, objetivo de sputtering de Cr para recubrimiento PVD

Fabricante personalizado de bajo precio, metal de cromo puro de alta pureza, objetivo de sputtering de Cr para recubrimiento PVD

US$ 60,00-150,00
1 Pieza(MOQ)
Tipo de recubrimiento PVD más popular, uso de objetivo de sputtering de cromo tipo placa

Tipo de recubrimiento PVD más popular, uso de objetivo de sputtering de cromo tipo placa

US$ 60,00-150,00
1 Pieza(MOQ)
Precio de fábrica 99.999% objetivo de sputtering de cromo

Precio de fábrica 99.999% objetivo de sputtering de cromo

US$ 60,00-150,00
1 Pieza(MOQ)
1/4

Shaanxi Mingsheng Guangpu Metal Materials Co., Ltd.

3 años·5.0
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Objetivos de Sputtering de Níquel de Precisión para Películas Conductivas de Instrumentos de Precisión

Objetivos de Sputtering de Níquel de Precisión para Películas Conductivas de Instrumentos de Precisión

US$ 110,00-130,00
50 kilograms(MOQ)
Objetivos de Sputtering de Níquel de Ultra Alta Densidad para Metalización de Wafers Semiconductores

Objetivos de Sputtering de Níquel de Ultra Alta Densidad para Metalización de Wafers Semiconductores

US$ 80,00-100,00
50 kilograms(MOQ)
Objetivos de Sputtering de Magnetrón de Níquel Msgp - Rendimiento Superior en las Industrias de Pantallas y LED

Objetivos de Sputtering de Magnetrón de Níquel Msgp - Rendimiento Superior en las Industrias de Pantallas y LED

US$ 130,00-160,00
50 kilograms(MOQ)
Objetivos de Sputtering de Níquel Puro Msgp para la Fabricación de Sensores Garantía Central

Objetivos de Sputtering de Níquel Puro Msgp para la Fabricación de Sensores Garantía Central

US$ 160,00-200,00
50 kilograms(MOQ)
1/4

Luoyang Bless Tungsten & Molybdenum Materials Co., Ltd.

12 años
·Empresa Comercial
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Material de alta pureza ultra molibdeno objetivos de pulverización

Material de alta pureza ultra molibdeno objetivos de pulverización

US$ 20,00-86,00
1 Pieza(MOQ)
Objetivos de sputtering de molibdeno para ensamblaje complejo

Objetivos de sputtering de molibdeno para ensamblaje complejo

US$ 40,00-43,00
1 Kg(MOQ)
Doblado y Pliegue de Objetivos de Sputtering de Molibdeno

Doblado y Pliegue de Objetivos de Sputtering de Molibdeno

US$ 40,00-43,00
1 Kg(MOQ)
Objetivos de sputtering de molibdeno de alta calidad

Objetivos de sputtering de molibdeno de alta calidad

US$ 66,00-77,00
1 Kg(MOQ)
1/1

Tianjin Rui Yuan Electric Material Co., Ltd.

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Fábrica china de alta pureza 6n cobre (Cu) 99.9999% objetivo de sputtering

Fábrica china de alta pureza 6n cobre (Cu) 99.9999% objetivo de sputtering

US$ 89,00-180,00
1.000 kilograms(MOQ)
Objetivos de Cobre de Ultra Pureza 99.9999% 7n5

Objetivos de Cobre de Ultra Pureza 99.9999% 7n5

US$ 26,99-53,03
1.000 kilograms(MOQ)
C110/C10100/Tu00 5n Objetivo de Sputtering de Alta Pureza Cobre 99.999% para Recubrimiento Óptico

C110/C10100/Tu00 5n Objetivo de Sputtering de Alta Pureza Cobre 99.999% para Recubrimiento Óptico

US$ 79,99
50 Kg(MOQ)
99.9999% 6n Placas de respaldo de objetivos de sputtering de cobre de alta pureza

99.9999% 6n Placas de respaldo de objetivos de sputtering de cobre de alta pureza

US$ 335,00-350,00
100 Kg(MOQ)
1/4

Hubei Fotma Machinery Co., Ltd.

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Producto personalizado de tungsteno, blanco de sputtering de tungsteno puro

Producto personalizado de tungsteno, blanco de sputtering de tungsteno puro

US$ 40,00-50,00
1 Kg(MOQ)
99.95% Tubo de Molienda Objetivo de Sputtering Objetivo de Molibdeno

99.95% Tubo de Molienda Objetivo de Sputtering Objetivo de Molibdeno

US$ 5,00-200,00
1 Kilogram(MOQ)
Tubo de molibdeno para objetivo de pulverización 99.95% Tubo de molibdeno puro

Tubo de molibdeno para objetivo de pulverización 99.95% Tubo de molibdeno puro

US$ 40,00-50,00
1 Kg(MOQ)
99.95% Placas de tungsteno negro mecanizadas y rectificadas en puro tungsteno

99.95% Placas de tungsteno negro mecanizadas y rectificadas en puro tungsteno

US$ 1,00-20,00
1 Pieza(MOQ)
1/4

Zhejiang Ruisheng New Materials Co., Ltd.

Empresa Comercial
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Objetivo de Sputtering de Tungsteno de Alta Pureza 99.95% Deposición de Películas Finas de Semiconductores Personalizable Estándar ASTM

Objetivo de Sputtering de Tungsteno de Alta Pureza 99.95% Deposición de Películas Finas de Semiconductores Personalizable Estándar ASTM

US$ 60,00-100,00
1 Kg(MOQ)
Objetivo de tungsteno rotativo premium para aplicaciones de sputtering eficientes

Objetivo de tungsteno rotativo premium para aplicaciones de sputtering eficientes

US$ 50,00-270,00
10 Kg(MOQ)
Objetivo de Molybdeno Puro Ultra Denso 99.9% 100mm Diámetro Recubrimiento de Película Delgada Opcional RoHS

Objetivo de Molybdeno Puro Ultra Denso 99.9% 100mm Diámetro Recubrimiento de Película Delgada Opcional RoHS

US$ 30,00-60,00
10 Kg(MOQ)
Objetivo de sputtering de molibdeno personalizable con alta densidad para aplicaciones de recubrimiento de semiconductores y vidrio

Objetivo de sputtering de molibdeno personalizable con alta densidad para aplicaciones de recubrimiento de semiconductores y vidrio

US$ 30,00-80,00
10 Kg(MOQ)
1/4

Jiangsu Cicel Vacuum Technology Co., Ltd.

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Objetivos de PVD de aleación de aluminio y titanio, objetivos de sputtering de titanio, objetivo de aleación de Tial para recubrimiento

Objetivos de PVD de aleación de aluminio y titanio, objetivos de sputtering de titanio, objetivo de aleación de Tial para recubrimiento

US$ 80,00-300,00
1 Pieza(MOQ)
Objetivo de titanio por sputtering, objetivo de sputtering de titanio, recubrimiento al vacío, objetivo de titanio para máquina de recubrimiento al vacío por arco múltiple

Objetivo de titanio por sputtering, objetivo de sputtering de titanio, recubrimiento al vacío, objetivo de titanio para máquina de recubrimiento al vacío por arco múltiple

US$ 35,00-50,00
1 Pieza(MOQ)
Objetivo de titanio por sputtering, objetivo de sputtering de titanio, recubrimiento al vacío, objetivo de titanio

Objetivo de titanio por sputtering, objetivo de sputtering de titanio, recubrimiento al vacío, objetivo de titanio

US$ 100,00-300,00
1 Pieza(MOQ)
Metalización al vacío de aleación de titanio y aluminio

Metalización al vacío de aleación de titanio y aluminio

US$ 100,00-300,00
1 Pieza(MOQ)
1/4

Xiamen HiuGong Machinery Co., Ltd.

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Objetivo de Sputtering Magnetrón Zrox Si Cr Nb Cu Cr AG

Objetivo de Sputtering Magnetrón Zrox Si Cr Nb Cu Cr AG

US$ 500,00
1 Pieza(MOQ)
Objetivo de Sputtering Rotatorio 4n-5n Sial Nicr Znal Znsn Tiox Nbox

Objetivo de Sputtering Rotatorio 4n-5n Sial Nicr Znal Znsn Tiox Nbox

US$ 1.000,00
1 Pieza(MOQ)
99.99% Objetivo de Sputtering de Óxido de Galio Objetivo Plano Ga2o3 Objetivo

99.99% Objetivo de Sputtering de Óxido de Galio Objetivo Plano Ga2o3 Objetivo

US$ 300,00
1 Pieza(MOQ)
Equipo de recubrimiento por pulverización de plasma, antiadherente, resistente al desgaste, silicio, aluminio, alúmina, circonio

Equipo de recubrimiento por pulverización de plasma, antiadherente, resistente al desgaste, silicio, aluminio, alúmina, circonio

US$ 35.000,00
1 Pieza(MOQ)
1/4

Ningbo Danko Vacuum Technology Co., Ltd.

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Metalización al vacío de aleación de titanio y aluminio

Metalización al vacío de aleación de titanio y aluminio

US$ 30,00-100,00
1 Pieza(MOQ)
Máquina de ionización para joyería de acero inoxidable y latón

Máquina de ionización para joyería de acero inoxidable y latón

US$ 45.000,00-75.000,00
1 Pieza(MOQ)
Máquina de recubrimiento de oro en PVD de acero inoxidable y joyería de latón

Máquina de recubrimiento de oro en PVD de acero inoxidable y joyería de latón

US$ 45.000,00-85.000,00
1 Pieza(MOQ)
Máquina de recubrimiento al vacío PVD de oro para caja de reloj de acero inoxidable y latón

Máquina de recubrimiento al vacío PVD de oro para caja de reloj de acero inoxidable y latón

US$ 35.000,00-60.000,00
1 Pieza(MOQ)
1/4

LUOYANG COMBAT TUNGSTEN & MOLYBDENUM MATERIAL CO., LTD.

18 años·5.0
·Fabricante/Fábrica & Empresa Comercial
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Objetivo de Sputtering de Molybdeno de Alta Densidad de Combate 99.95%

Objetivo de Sputtering de Molybdeno de Alta Densidad de Combate 99.95%

US$ 55,00-59,00
1 Kg(MOQ)
Objetivo de Sputtering de Titanio Puro de Material de Titanio Hecho a Medida 99.6% en Venta

Objetivo de Sputtering de Titanio Puro de Material de Titanio Hecho a Medida 99.6% en Venta

US$ 35,00-40,00
5 Kg(MOQ)
Precio Competitivo ASTM 99.95% Placa de Tungsteno de Pureza

Precio Competitivo ASTM 99.95% Placa de Tungsteno de Pureza

US$ 74,00
1 Kg(MOQ)
Nueva personalización de aviación de combate de madera, precio de molibdeno ferro de China, forma específica de barco

Nueva personalización de aviación de combate de madera, precio de molibdeno ferro de China, forma específica de barco

US$ 64,00-66,00
1 Kg(MOQ)
1/4

Ningbo Galaxy International Trading Co., Ltd.

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Objetivo de Sputtering Redondo de Zirconio de Alta Fusión Zr702

Objetivo de Sputtering Redondo de Zirconio de Alta Fusión Zr702

US$ 15,00
1 pcs(MOQ)
Excelente estabilidad química y ductilidad objetivo redondo de titanio

Excelente estabilidad química y ductilidad objetivo redondo de titanio

US$ 10,00
1 pcs(MOQ)
Objetivo redondo de zirconio de alta precisión por máquina CNC

Objetivo redondo de zirconio de alta precisión por máquina CNC

US$ 36,00
10 Piezas(MOQ)
Objetivo Redondo de Zirconio con Ductilidad Colorida y Resistencia al Calor

Objetivo Redondo de Zirconio con Ductilidad Colorida y Resistencia al Calor

US$ 15,00
5 Piezas(MOQ)
1/4

CHANGSHA EASCHEM CO., LIMITED

5 años
·Empresa Comercial
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Precio de fábrica Vender alta calidad objetivo de sputtering ITO 4n In2o3 y Sno2

Precio de fábrica Vender alta calidad objetivo de sputtering ITO 4n In2o3 y Sno2

Negociable
1 Piece(MOQ)
Varilla de metal de samario granular CAS No 7440-19-9 Sm 3n 4n

Varilla de metal de samario granular CAS No 7440-19-9 Sm 3n 4n

Negociable
1 Piece(MOQ)
Precio de fábrica Vender bajo densidad 4n objetivo redondo pequeño ITO

Precio de fábrica Vender bajo densidad 4n objetivo redondo pequeño ITO

Negociable
1 Piece(MOQ)
Objetivo de sputtering de niobio de alta calidad con número CAS 7440-03-1

Objetivo de sputtering de niobio de alta calidad con número CAS 7440-03-1

Negociable
1 Piece(MOQ)
1/4

Zhuzhou Hongtong Tungsten Carbide Co., Ltd.

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Objetivos de sputtering de carburo de tungsteno para fabricar recubrimientos de DLC

Objetivos de sputtering de carburo de tungsteno para fabricar recubrimientos de DLC

US$ 38,00-45,00
10 Kg(MOQ)
Varios objetivos de tungsteno carburo en diferentes formas para recubrimientos de DLC

Varios objetivos de tungsteno carburo en diferentes formas para recubrimientos de DLC

US$ 38,00-45,00
10 Kg(MOQ)
Placa de Carburo de Tungsteno con un Lado Estriado

Placa de Carburo de Tungsteno con un Lado Estriado

US$ 38,00-45,00
10 Kg(MOQ)
Placa cuadrada de carburo de tungsteno en blanco para molde de estampado

Placa cuadrada de carburo de tungsteno en blanco para molde de estampado

US$ 38,00-45,00
10 Kg(MOQ)
1/4

Shandong Quansheng Material Technology Group Co., LTD

3 años
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Objetivos de tungsteno premium para procesos de recubrimiento al vacío

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US$ 56,00-61,00
5 Kg(MOQ)
Placa de Sputtering de Molybdeno de Ultra Alta Pureza 99.95% para Aplicaciones de Precisión

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US$ 61,00-69,00
1 Kg(MOQ)
Placa de Niobio de Alta Pureza 99.95% para Aplicaciones Industriales

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US$ 300,00-450,00
1 Kg(MOQ)
Hojas de molibdeno premium en varios grosores a la venta

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US$ 78,00-88,00
100 Kg(MOQ)
1/4

Zhuzhou M & J Import and Export Co., Ltd.

4.0
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Objetivo de Sputtering de Tungsteno Cementado de Alta Calidad

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US$ 5,00-20,00
20 Piezas(MOQ)
Proveedores de barra redonda de aleación de tungsteno puro

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US$ 10,00-20,00
100 Piezas(MOQ)
Placa de tungsteno con 99.95% W

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US$ 5,00-10,00
20 Piezas(MOQ)
1/4

Jinan Hengcheng Aluminum Co., Ltd.

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Objetivo de Sputtering de Aluminio Titanio Alloy/50 para Máquina de Recubrimiento PVD

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US$ 3.380,00
1 Tonelada(MOQ)
Bloques de aluminio metal para objetivo de sputtering de aluminio para investigación en laboratorio

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US$ 2.960,00
1 Tonelada(MOQ)
Objetivo de sputtering de aluminio y titanio, objetivo de sputtering de titanio y aluminio

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US$ 3.380,00
1 Tonelada(MOQ)
1/4

Baoji Taizehui Metal Technology Co., Ltd.

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Objetivo de Sputtering de Zirconio de Alta Calidad 705 para Soluciones Personalizadas Hoy

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Negociable
10 Kg(MOQ)
Objetivo de Sputtering de Circonio 705 para Soluciones Metálicas Personalizadas de Alta Calidad

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Negociable
10 Kg(MOQ)
Material de objetivo de pulverización para recubrimiento al vacío, objetivo curvado, proceso de alta pureza, placa de hafnio

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Negociable
2 Kg(MOQ)
Alta dureza, alta precisión dimensional, OEM, ODM, placa de zirconio personalizada

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Negociable
10 Kg(MOQ)
1/4
15
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