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sobre objetivo de sputtering de silicio
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objetivo de sputtering de silicio60+ fábricas verificadas

SUZHOU TECHNO-TEC PHOTOELECTRIC MATERIALS CO., LTD

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Objetivo cerámico de Poli-silicio para esputo Blanco/Solar Fotovoltaica

Objetivo cerámico de Poli-silicio para esputo Blanco/Solar Fotovoltaica

US$ 35,00-50,00
1 Kg(MOQ)
Objetivo de Silicio Monocristalino Mono-Si para Objetivo de Sputtering en Fotovoltaica Solar para Teléfonos Móviles

Objetivo de Silicio Monocristalino Mono-Si para Objetivo de Sputtering en Fotovoltaica Solar para Teléfonos Móviles

US$ 35,00-75,00
1 Kg(MOQ)
Objetivo de Selenio como Cerámica de Germanio y Silicio para Recubrimiento de Películas Ópticas

Objetivo de Selenio como Cerámica de Germanio y Silicio para Recubrimiento de Películas Ópticas

US$ 40,00
1 Kg(MOQ)
SiO2 Objetivo Cerámico de Sputtering Óxido de Silicio Objetivo Cerámico de Sputtering para Recubrimiento de Película PVD

SiO2 Objetivo Cerámico de Sputtering Óxido de Silicio Objetivo Cerámico de Sputtering para Recubrimiento de Película PVD

US$ 25,00-100,00
1 Kg(MOQ)
1/4

Changsha Xinkang Advanced Materials Co., Ltd.

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Xinkang 5n 99.999% Objetivo de Sputtering de Silicio de Alta Pureza para Recubrimiento PVD

Xinkang 5n 99.999% Objetivo de Sputtering de Silicio de Alta Pureza para Recubrimiento PVD

US$ 85,00-125,00
1 Pieza(MOQ)
99.99% Objetivo de Sputtering de Monóxido de Silicio de Alta Pureza para Deposición de Películas Finas, Empacado al Vacío

99.99% Objetivo de Sputtering de Monóxido de Silicio de Alta Pureza para Deposición de Películas Finas, Empacado al Vacío

US$ 110,00-120,00
1 Pieza(MOQ)
99.999% Objetivo de Sputtering de Silicio Policristalino para Máquina de Sputtering

99.999% Objetivo de Sputtering de Silicio Policristalino para Máquina de Sputtering

US$ 20,00-200,00
1 Pieza(MOQ)
Objetivos de Sputtering de Silicona de Titanio en Paquete al Vacío Premium para Aplicaciones Avanzadas de Películas Delgadas

Objetivos de Sputtering de Silicona de Titanio en Paquete al Vacío Premium para Aplicaciones Avanzadas de Películas Delgadas

US$ 75,00-85,00
1 Pieza(MOQ)
1/4

Lonwin Industry Group Limited

5.0
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99.99% Objetivos de Sputtering de Monóxido de Silicio Cerámico Sio para Depósito de Películas Delgadas

99.99% Objetivos de Sputtering de Monóxido de Silicio Cerámico Sio para Depósito de Películas Delgadas

US$ 17,00-55,00
1 Kg(MOQ)
99.9% Objetivo de aleación Alsicu de aluminio, silicio y cobre para sputtering

99.9% Objetivo de aleación Alsicu de aluminio, silicio y cobre para sputtering

US$ 17,00-55,00
1 Kg(MOQ)
Objetivo de sputtering de aleación de titanio, aluminio y silicio Tialsi para recubrimiento por magnetrón

Objetivo de sputtering de aleación de titanio, aluminio y silicio Tialsi para recubrimiento por magnetrón

US$ 17,00-55,00
1 Kg(MOQ)
Objetivo de aleación Nicrsi de níquel, cromo y silicio para recubrimiento por PVD

Objetivo de aleación Nicrsi de níquel, cromo y silicio para recubrimiento por PVD

US$ 17,00-55,00
1 Kg(MOQ)
1/4

Rheniumet Ltd.

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Objetivo de sputtering de silicio de aluminio puro de alta pureza para la industria de películas delgadas

Objetivo de sputtering de silicio de aluminio puro de alta pureza para la industria de películas delgadas

US$ 50,00-1.500,00
1 Pieza(MOQ)
99.98%~99.998% Objetivo de Aluminio Al para Condensadores Electrolíticos

99.98%~99.998% Objetivo de Aluminio Al para Condensadores Electrolíticos

Negociable
1 Pieza(MOQ)
5n Objetivo de Sputtering de Tungsteno en Forma de Media Luna Personalizado

5n Objetivo de Sputtering de Tungsteno en Forma de Media Luna Personalizado

Negociable
1 Pieza(MOQ)
Rectángulo Tungsteno Titanio Wti10 Objetivo

Rectángulo Tungsteno Titanio Wti10 Objetivo

US$ 1.000,00-2.000,00
1 pieces(MOQ)
1/4

Baoji Taizehui Metal Technology Co., Ltd.

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Objetivo de Sputtering de Zirconio de Alta Calidad 705 para Soluciones Personalizadas Hoy

Objetivo de Sputtering de Zirconio de Alta Calidad 705 para Soluciones Personalizadas Hoy

Negociable
10 Kg(MOQ)
Objetivo de Sputtering de Circonio 705 para Soluciones Metálicas Personalizadas de Alta Calidad

Objetivo de Sputtering de Circonio 705 para Soluciones Metálicas Personalizadas de Alta Calidad

Negociable
10 Kg(MOQ)
Placa de objetivo de sputtering de metal hafnio de resistencia al desgaste fuerte y multifuncional al por mayor

Placa de objetivo de sputtering de metal hafnio de resistencia al desgaste fuerte y multifuncional al por mayor

Negociable
10 Kg(MOQ)
Hoja de Zirconio 705 Versátil para Aplicaciones Metálicas Personalizadas de Primera Calidad

Hoja de Zirconio 705 Versátil para Aplicaciones Metálicas Personalizadas de Primera Calidad

Negociable
10 Kg(MOQ)
1/4

Dongguan Gravel Industries and Enterprise Company Limited

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Material de objetivo de pulverización al vacío de aleación de silicio y aluminio de alta pureza

Material de objetivo de pulverización al vacío de aleación de silicio y aluminio de alta pureza

US$ 6.500,00
1 Pieza(MOQ)
Objetivo de Silicio de Alta Pureza para Recubrimiento por Vacío/PVD

Objetivo de Silicio de Alta Pureza para Recubrimiento por Vacío/PVD

US$ 6.200,00
1 Pieza(MOQ)
6n Objetivo de Si de alta pureza en forma de cuadrado, disponible respaldo y unión

6n Objetivo de Si de alta pureza en forma de cuadrado, disponible respaldo y unión

US$ 6.000,00
1 Pieza(MOQ)
1/4

Beenine Shanke Technology Co., Ltd.

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Sio2 Fabricación de Silicio para Objetivos de Sputtering

Sio2 Fabricación de Silicio para Objetivos de Sputtering

US$ 80,00-800,00
1 Pieza(MOQ)
Óxido de Silicio Sio2 Disco Personalizado Fábrica de China

Óxido de Silicio Sio2 Disco Personalizado Fábrica de China

US$ 80,00-800,00
1 Pieza(MOQ)
1/4

Inner Mongolia Pusheng Iron &Steel Co., Ltd.

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Silicio policristalino de alta pureza 99.999% objetivo de pulverización de polisilicio

Silicio policristalino de alta pureza 99.999% objetivo de pulverización de polisilicio

US$ 2.769,00-3.100,00
22 Montones(MOQ)
Materiales Primos Alta Pureza 99.7% Lingotes de Silicio Metálicos Objetivos de Silicio Puro Objetivos de Sputtering

Materiales Primos Alta Pureza 99.7% Lingotes de Silicio Metálicos Objetivos de Silicio Puro Objetivos de Sputtering

US$ 2.000,00-2.500,00
22 Montones(MOQ)
1/4

Yangzhou Jingge Semiconductor Technology Co., Ltd.

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6N tubo de silicio policristalino/tubo de silicio monocristalino/objetivo de espumación de magnetrón/anillo de silicio

6N tubo de silicio policristalino/tubo de silicio monocristalino/objetivo de espumación de magnetrón/anillo de silicio

US$ 10,00-999,00
1 Pieza(MOQ)
Objetivo rotatorio de Poly Si/girar tubos de silicio mono/objetivo de espumación para Magnetrón El escupitar

Objetivo rotatorio de Poly Si/girar tubos de silicio mono/objetivo de espumación para Magnetrón El escupitar

US$ 50,00-9.999,00
1 Pieza(MOQ)
6N objetivo de silicio Poly/Blanco de silicio Mono/Blanco de silicio de esputo/silicio redondo para Revestimiento PVD

6N objetivo de silicio Poly/Blanco de silicio Mono/Blanco de silicio de esputo/silicio redondo para Revestimiento PVD

US$ 10,00-99,00
1 Pieza(MOQ)
6N objetivo de silicio Poly/Blanco de silicio Mono/Blanco de silicio de esputo/silicio redondo para Revestimiento PVD

6N objetivo de silicio Poly/Blanco de silicio Mono/Blanco de silicio de esputo/silicio redondo para Revestimiento PVD

US$ 10,00-99,00
1 Pieza(MOQ)

Shanghai Zenkaah New Materials Technology Co., Ltd.

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Material de blanco de silicio de PVD (deposición física de vapor) de alta pureza para revestimiento de espumación de magnetrón, objetivo de dióxido de silicio (SiO2)

Material de blanco de silicio de PVD (deposición física de vapor) de alta pureza para revestimiento de espumación de magnetrón, objetivo de dióxido de silicio (SiO2)

Negociable
1 Pieza(MOQ)

Zhejiang Ruisheng New Materials Co., Ltd.

Empresa Comercial
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Objetivo de tungsteno pulido de alta pureza para aplicaciones avanzadas de bombardeo iónico

Objetivo de tungsteno pulido de alta pureza para aplicaciones avanzadas de bombardeo iónico

US$ 50,00-270,00
10 Kg(MOQ)
Objetivo de tungsteno rotativo premium para aplicaciones de sputtering eficientes

Objetivo de tungsteno rotativo premium para aplicaciones de sputtering eficientes

US$ 50,00-270,00
10 Kg(MOQ)
Objetivo de Molybdeno Puro Ultra Denso 99.9% 100mm Diámetro Recubrimiento de Película Delgada Opcional RoHS

Objetivo de Molybdeno Puro Ultra Denso 99.9% 100mm Diámetro Recubrimiento de Película Delgada Opcional RoHS

US$ 30,00-60,00
10 Kg(MOQ)
Objetivo de Molybdeno de Alta Pureza para Aplicaciones Industriales Avanzadas

Objetivo de Molybdeno de Alta Pureza para Aplicaciones Industriales Avanzadas

US$ 30,00-60,00
1 Kg(MOQ)
1/4

Xiangtan Hondson Coating Technology Co., Ltd.

5 años
·Fabricante/Fábrica & Empresa Comercial
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Objetivo de magnetrón cilíndrico para recubrimiento PVD en vacío de tubos de titanio, materiales en bruto para recubrimiento, cátodos

Objetivo de magnetrón cilíndrico para recubrimiento PVD en vacío de tubos de titanio, materiales en bruto para recubrimiento, cátodos

US$ 800,00-1.500,00
1 Pieza(MOQ)
Bloque de titanio de alta pureza personalizado, material de titanio, material de recubrimiento por ionización multi-arco, objetivo metálico

Bloque de titanio de alta pureza personalizado, material de titanio, material de recubrimiento por ionización multi-arco, objetivo metálico

US$ 500,00-1.000,00
1 Pieza(MOQ)
Pequeña máquina de recubrimiento PVD para sierras

Pequeña máquina de recubrimiento PVD para sierras

US$ 61.000,00
1 sets(MOQ)
Recubrimiento de vidrio con película de óxido de indio y estaño mediante sputtering por magnetrón en línea de sputtering por magnetrón

Recubrimiento de vidrio con película de óxido de indio y estaño mediante sputtering por magnetrón en línea de sputtering por magnetrón

US$ 1.500.000,00-2.500.000,00
1 Pieza(MOQ)
1/4

Ningbo Sen Ao Electronic Technology Co., Ltd

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El Fosfuro de destino de Fósforo El fósforo blanco de silicio SIP Objetivos

El Fosfuro de destino de Fósforo El fósforo blanco de silicio SIP Objetivos

Negociable
1 Pieza(MOQ)
N Tipo de silicio de la pureza del 99,99% de fósforo blanco de sputtering

N Tipo de silicio de la pureza del 99,99% de fósforo blanco de sputtering

Negociable
1 Pieza(MOQ)
Esputo giratorio Target 4n 99,99 aluminio silicio SIP/Siboro Factory Direct Si objetivo de espumación de silicio

Esputo giratorio Target 4n 99,99 aluminio silicio SIP/Siboro Factory Direct Si objetivo de espumación de silicio

Negociable
1 Pieza(MOQ)
El tubo de aluminio 2n5-3n al objetivo de la alúmina aluminio blanco de Sputtering giratorio de aluminio blanco

El tubo de aluminio 2n5-3n al objetivo de la alúmina aluminio blanco de Sputtering giratorio de aluminio blanco

Negociable
1 Pieza(MOQ)

Uv Tech Material Ltd

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PVD de aluminio cilíndrica de destino al destino Sputter giratorio el 99,999% pureza 2n-5n disponible

PVD de aluminio cilíndrica de destino al destino Sputter giratorio el 99,999% pureza 2n-5n disponible

Negociable
1 Pieza(MOQ)
Cromo Cr PVD Planar destino pegado en la Cooper la placa de apoyo o metro.

Cromo Cr PVD Planar destino pegado en la Cooper la placa de apoyo o metro.

Negociable
1 Pieza(MOQ)
Se puede girar Tiox Sial Plata Sputtering meta el tubo de cátodos de alta calidad de pureza para la PVD Nano material de película delgada

Se puede girar Tiox Sial Plata Sputtering meta el tubo de cátodos de alta calidad de pureza para la PVD Nano material de película delgada

Negociable
1 Pieza(MOQ)
Azo Sputering Objetivo Material de recubrimiento cerámico blanco para la industria del vidrio de recubrimiento de película fina

Azo Sputering Objetivo Material de recubrimiento cerámico blanco para la industria del vidrio de recubrimiento de película fina

Negociable
1 Pieza(MOQ)

Shenzhen Canyuan Metal Material Co., Ltd.

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3n Objetivo de Sputtering de Silicio de Alta Pureza y Aluminio en Placa Plana / Objetivos de Aluminio Rotativos de Silicio

3n Objetivo de Sputtering de Silicio de Alta Pureza y Aluminio en Placa Plana / Objetivos de Aluminio Rotativos de Silicio

US$ 200,00-10.000,00
1 Pieza(MOQ)
99.999% Placa de objetivo de pulverización de silicio monocristalino de alta pureza / Objetivo de cerámica de silicio

99.999% Placa de objetivo de pulverización de silicio monocristalino de alta pureza / Objetivo de cerámica de silicio

US$ 200,00-10.000,00
1 Pieza(MOQ)
3n Objetivo de Sputtering de Silicio de Cromo de Alta Pureza Placa Plana / Objetivos Rotativos de Silicio de Cromo

3n Objetivo de Sputtering de Silicio de Cromo de Alta Pureza Placa Plana / Objetivos Rotativos de Silicio de Cromo

US$ 200,00-10.000,00
1 Pieza(MOQ)
Objetivos de Sputtering de Grafito de Carbono de Alta Pureza de Tamaño Personalizado 99.99% Objetivo de Cobre de Unión

Objetivos de Sputtering de Grafito de Carbono de Alta Pureza de Tamaño Personalizado 99.99% Objetivo de Cobre de Unión

US$ 200,00-10.000,00
1 Pieza(MOQ)

Tai'an Hongfei Carbon Fiber Products Co., Ltd.

4 años
·Fabricante/Fábrica & Empresa Comercial
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Objetivo de tubo de grafito de alta pureza y alto rendimiento con conductividad uniforme y bajo desgaste

Objetivo de tubo de grafito de alta pureza y alto rendimiento con conductividad uniforme y bajo desgaste

US$ 5,00-100,00
10 Piezas(MOQ)
Tubo objetivo de grafito de alta pureza y alto rendimiento personalizado

Tubo objetivo de grafito de alta pureza y alto rendimiento personalizado

US$ 5,00-100,00
10 Piezas(MOQ)
Accesorios de soporte para tubo de grafito infrarrojo y varilla calefactora

Accesorios de soporte para tubo de grafito infrarrojo y varilla calefactora

US$ 5,00-50,00
10 Piezas(MOQ)
Manga de grafito resistente a altas temperaturas para conductividad eléctrica

Manga de grafito resistente a altas temperaturas para conductividad eléctrica

US$ 10,00-50,00
10 Piezas(MOQ)
1/4

Jiangyin Entret Coating Technology Co., Ltd.

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Silicon blanco de Sputtering giratorio de aluminio de alta calidad (sputtering meta)

Silicon blanco de Sputtering giratorio de aluminio de alta calidad (sputtering meta)

US$ 200,00-300,00
2 Piezas(MOQ)
El titanio de Sputtering meta en la Pureza

El titanio de Sputtering meta en la Pureza

US$ 30,00-50,00
1 Pieza(MOQ)
El 99,99% de pureza de Sputtering meta de aluminio de alta calidad, objetivo de aluminio

El 99,99% de pureza de Sputtering meta de aluminio de alta calidad, objetivo de aluminio

US$ 10,00
1 Pieza(MOQ)
Alta calidad de Sputtering Meta Proveedor en China

Alta calidad de Sputtering Meta Proveedor en China

US$ 20,00-50,00
1 Pieza(MOQ)

UV Tech Material Co., Ltd.

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El 99,99% de la Pureza de aleación de aluminio giratorio Alsi destino Silicon blanco de sputtering

El 99,99% de la Pureza de aleación de aluminio giratorio Alsi destino Silicon blanco de sputtering

Negociable
2 Piezas(MOQ)
Tubo de aleación de acero de alta pureza rotatoria y plana objetivo de pulverización Para recubrimiento de vacío fuera de línea Use para PV de vidrio de baja energía Campo solar

Tubo de aleación de acero de alta pureza rotatoria y plana objetivo de pulverización Para recubrimiento de vacío fuera de línea Use para PV de vidrio de baja energía Campo solar

Negociable
1 Pieza(MOQ)
Se puede girar Sial de destino de aleación de alta calidad de Sputtering meta

Se puede girar Sial de destino de aleación de alta calidad de Sputtering meta

Negociable
2 Piezas(MOQ)
Si objetivo de Planar PVD satinado, de película delgada de silicio tipo P blanco de Sputtering Planar

Si objetivo de Planar PVD satinado, de película delgada de silicio tipo P blanco de Sputtering Planar

Negociable
1 Pieza(MOQ)

Luoyang Bless Tungsten & Molybdenum Materials Co., Ltd.

12 años
·Empresa Comercial
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Discos de molibdeno de alta calidad

Discos de molibdeno de alta calidad

US$ 63,00-66,00
1 Kg(MOQ)
Crucible de molibdeno de alto rendimiento para metalurgia de polvos

Crucible de molibdeno de alto rendimiento para metalurgia de polvos

US$ 65,00-68,00
1 Kg(MOQ)
Tubería de molibdeno y tubo de molibdeno

Tubería de molibdeno y tubo de molibdeno

US$ 49,00-72,00
1 Kg(MOQ)
Crisol de molibdeno según el dibujo de aduanas

Crisol de molibdeno según el dibujo de aduanas

US$ 65,00-68,00
1 Kg(MOQ)
1/1

Xiamen U-Spring Technology Co., Ltd

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Objetivo de Silicio/Silicio Planar U-Spring para Sputtering y Recubrimiento al Vacío mediante Sputtering Magnetrón

Objetivo de Silicio/Silicio Planar U-Spring para Sputtering y Recubrimiento al Vacío mediante Sputtering Magnetrón

US$ 2.000,00
1 Pcs(MOQ)
Objetivo rotatorio U-Spring Si / Objetivo de pulverización para pulverización magnetrónica y recubrimiento al vacío

Objetivo rotatorio U-Spring Si / Objetivo de pulverización para pulverización magnetrónica y recubrimiento al vacío

US$ 2.000,00
1 Pcs(MOQ)
Objetivo rotatorio U-Spring Sial / objetivo de pulverización para pulverización magnetrónica y recubrimiento al vacío

Objetivo rotatorio U-Spring Sial / objetivo de pulverización para pulverización magnetrónica y recubrimiento al vacío

US$ 2.000,00
1 Pcs(MOQ)
1/2

Huita Opto-Electronic Materials Co., Ltd

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Cromo silicio (CRSI) objetivo

Cromo silicio (CRSI) objetivo

Negociable
5 Piezas(MOQ)
Rotación de destino de silicio

Rotación de destino de silicio

Negociable
5 Conjuntos(MOQ)

China Leadmat Advanced Materials Co., Ltd.

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Objetivo de Sputtering de Aluminio

Objetivo de Sputtering de Aluminio

US$ 15,00
1 Pieza(MOQ)
sputtering

sputtering

US$ 18,00-20,00
1 Pieza(MOQ)

Beijing Loyaltarget Technology Co, Limited

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Al2O3 blanco de Sputtering cerámica

Al2O3 blanco de Sputtering cerámica

Negociable
1 Pieza(MOQ)
Si diana en la industria de pantalla plana

Si diana en la industria de pantalla plana

Negociable
1 Pieza(MOQ)

Shenzhen Hongchen New Materials Co., Ltd

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Personalización esputo Target Titanium OLED ITO 99,99% silicio electrónico de cobre Componentes

Personalización esputo Target Titanium OLED ITO 99,99% silicio electrónico de cobre Componentes

US$ 10,00-15,00
1 Kg(MOQ)
PVD Deposición de película fina cátodos de arco de cobre recubrimiento de vacío superficial Objetivos que se están espitando

PVD Deposición de película fina cátodos de arco de cobre recubrimiento de vacío superficial Objetivos que se están espitando

US$ 10,00-15,00
1 Kg(MOQ)

Able Target Limited

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Sputtering Meta,Ceramica,Destino revestimiento PVD

Sputtering Meta,Ceramica,Destino revestimiento PVD

Negociable
1 Pieza(MOQ)

Changsha Xinkang Advanced Materials Co, Ltd

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Blanco de la farfulla del silicio

Blanco de la farfulla del silicio

Negociable
1 Pieza(MOQ)

Beijing Founde Star Science & Technology Co., Ltd.

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El silicio de Sputtering meta

El silicio de Sputtering meta

Negociable

Zhengzhou CY Scientific Instrument Co., Ltd.

13 años
·Fabricante/Fábrica & Empresa Comercial
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La fuente de ion mejora la máquina de recubrimiento por evaporación de haz de electrones

La fuente de ion mejora la máquina de recubrimiento por evaporación de haz de electrones

US$ 103.200,00-285.000,00
1 Pieza(MOQ)
Máquina de recubrimiento por evaporación de electrones de películas delgadas de semiconductores

Máquina de recubrimiento por evaporación de electrones de películas delgadas de semiconductores

US$ 103.200,00-285.000,00
1 Pieza(MOQ)
Sistema de recubrimiento por evaporación de múltiples fuentes de sustrato de rotación con grosor de película uniforme orgánica e inorgánica

Sistema de recubrimiento por evaporación de múltiples fuentes de sustrato de rotación con grosor de película uniforme orgánica e inorgánica

US$ 39.500,00-64.900,00
1 Pieza(MOQ)
Sistema de recubrimiento por evaporación orgánico inorgánico combinado

Sistema de recubrimiento por evaporación orgánico inorgánico combinado

US$ 39.500,00-64.900,00
1 Pieza(MOQ)
1/4

Zhengzhou Tainuo Film Materials Co., Ltd.

9 años
·Fabricante/Fábrica
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3 Cabezas Compactas de Escritorio 2" Recubridor de Sputtering Magnetrón

3 Cabezas Compactas de Escritorio 2" Recubridor de Sputtering Magnetrón

US$ 28.000,00-28.999,00
1 Pieza(MOQ)
Revestidor de Sputtering Magnetrón de Un Solo Objetivo para Recubrimiento de Películas en Wafer de Silicio

Revestidor de Sputtering Magnetrón de Un Solo Objetivo para Recubrimiento de Películas en Wafer de Silicio

US$ 25.000,00-26.500,00
1 set(MOQ)
1/4

Suzhou Zhongzhina Semiconductor Technology Co., Ltd.

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Material de silicio objetivo para revestimiento de espumación de magnetrón, objetivo de dióxido de silicio, objetivo de silicio-germanio y objetivo de aleación de nitruro de silicio.

Material de silicio objetivo para revestimiento de espumación de magnetrón, objetivo de dióxido de silicio, objetivo de silicio-germanio y objetivo de aleación de nitruro de silicio.

Negociable
1 Pieza(MOQ)
13
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