Inicioarrow-rightÍndice de Fábrica Chinaarrow-rightobjetivo de sputtering de silicio fábricaarrow-rightlista de proveedores
Filtrar
Categoría
Más
Certificación de Gestión
Más
Capacidad de R&D
Ingresos Anuales
Más
Número de empleados
Provincia & Región
Más
sobre objetivo de sputtering de silicio
  • Innovación tecnológica
  • Cadenas de suministro confiables
  • Capacidades de fabricación sustanciales

objetivo de sputtering de silicio60+ fábricas verificadas

SUZHOU TECHNO-TEC PHOTOELECTRIC MATERIALS CO., LTD

Enviar Consulta
Objetivo cerámico de Poli-silicio para esputo Blanco/Solar Fotovoltaica

Objetivo cerámico de Poli-silicio para esputo Blanco/Solar Fotovoltaica

US$ 35,00-50,00
1 Kg(MOQ)
Objetivo de Silicio Monocristalino Mono-Si para Objetivo de Sputtering en Fotovoltaica Solar para Teléfonos Móviles

Objetivo de Silicio Monocristalino Mono-Si para Objetivo de Sputtering en Fotovoltaica Solar para Teléfonos Móviles

US$ 35,00-75,00
1 Kg(MOQ)
Objetivo de Selenio como Germanio Indio Silicio Objetivo Cerámico de Sputtering para Recubrimiento de Película Delgada Óptica

Objetivo de Selenio como Germanio Indio Silicio Objetivo Cerámico de Sputtering para Recubrimiento de Película Delgada Óptica

US$ 40,00
1 Kg(MOQ)
SiO2 Objetivo Cerámico de Sputtering Óxido de Silicio Objetivo Cerámico de Sputtering para Recubrimiento de Película PVD

SiO2 Objetivo Cerámico de Sputtering Óxido de Silicio Objetivo Cerámico de Sputtering para Recubrimiento de Película PVD

US$ 25,00-100,00
1 Kg(MOQ)
1/4

Changsha Xinkang Advanced Materials Co., Ltd.

Enviar Consulta
Objetivo de PVD Aleación de Titanio Silicio (TiSi) Objetivo de Tisi para Deposición de Películas Delgadas

Objetivo de PVD Aleación de Titanio Silicio (TiSi) Objetivo de Tisi para Deposición de Películas Delgadas

US$ 100,00-1.000,00
1 Pieza(MOQ)
Objetivos de sputtering de silicio y aluminio personalizados para aplicaciones avanzadas

Objetivos de sputtering de silicio y aluminio personalizados para aplicaciones avanzadas

US$ 75,00-90,00
1 Pieza(MOQ)
Objetivo de níquel cromo silicio Nicrsi para recubrimiento por PVD

Objetivo de níquel cromo silicio Nicrsi para recubrimiento por PVD

US$ 200,00-1.200,00
1 Pieza(MOQ)
99.5% Objetivos de Sputtering de Silicio de Titanio Tisi80/20at% Objetivo de Disco de Hoja para Recubrimiento Óptico

99.5% Objetivos de Sputtering de Silicio de Titanio Tisi80/20at% Objetivo de Disco de Hoja para Recubrimiento Óptico

US$ 75,00-85,00
1 Pieza(MOQ)
1/4

Lonwin Industry Group Limited

5.0
Enviar Consulta
Objetivo de sputtering de aleación de titanio, aluminio y silicio Tialsi para recubrimiento por magnetrón

Objetivo de sputtering de aleación de titanio, aluminio y silicio Tialsi para recubrimiento por magnetrón

US$ 17,00-55,00
1 Kg(MOQ)
99.999% Objetivos de Sputtering de Silicio Puro Mono y Policristalino

99.999% Objetivos de Sputtering de Silicio Puro Mono y Policristalino

US$ 17,00-55,00
1 Kg(MOQ)
Objetivo de Sputtering de Aleación de Cromo Silicio de Alta Pureza 99.99% para Uso en Semiconductores

Objetivo de Sputtering de Aleación de Cromo Silicio de Alta Pureza 99.99% para Uso en Semiconductores

US$ 17,00-55,00
1 Kg(MOQ)
3n5, 4n Alsi Aleación de Aluminio y Silicio Objetivo de Sputtering para Uso en Semiconductores

3n5, 4n Alsi Aleación de Aluminio y Silicio Objetivo de Sputtering para Uso en Semiconductores

US$ 17,00-55,00
1 Kg(MOQ)
1/4

Rheniumet Ltd.

Enviar Consulta
Objetivo de sputtering de silicio de aluminio puro de alta pureza para la industria de películas delgadas

Objetivo de sputtering de silicio de aluminio puro de alta pureza para la industria de películas delgadas

US$ 50,00-1.500,00
1 Pieza(MOQ)
99.98%~99.998% Objetivo de Aluminio Al para Condensadores Electrolíticos

99.98%~99.998% Objetivo de Aluminio Al para Condensadores Electrolíticos

Negociable
1 Pieza(MOQ)
4inch 99.999% Objetivo de tungsteno para recubrimiento por pulverización

4inch 99.999% Objetivo de tungsteno para recubrimiento por pulverización

Negociable
1 Pieza(MOQ)
Objetivo de Sputtering de Tungsteno de Alta Pureza 99.999%, Objetivo de Sputtering de Metal de Tungsteno

Objetivo de Sputtering de Tungsteno de Alta Pureza 99.999%, Objetivo de Sputtering de Metal de Tungsteno

US$ 200,00-1.000,00
1 pieces(MOQ)
1/4

Baoji Taizehui Metal Technology Co., Ltd.

Enviar Consulta
Objetivo de Sputtering de Circonio 705 para Soluciones Metálicas Personalizadas de Alta Calidad

Objetivo de Sputtering de Circonio 705 para Soluciones Metálicas Personalizadas de Alta Calidad

Negociable
10 Kg(MOQ)
Objetivo de Sputtering de Zirconio de Alta Calidad 705 para Soluciones Personalizadas Hoy

Objetivo de Sputtering de Zirconio de Alta Calidad 705 para Soluciones Personalizadas Hoy

Negociable
10 Kg(MOQ)
Placa de objetivo de sputtering de metal hafnio de resistencia al desgaste fuerte y multifuncional al por mayor

Placa de objetivo de sputtering de metal hafnio de resistencia al desgaste fuerte y multifuncional al por mayor

Negociable
10 Kg(MOQ)
Placa de metal de hafnio puro mecanizable con resistencia a la corrosión personalizada de OEM

Placa de metal de hafnio puro mecanizable con resistencia a la corrosión personalizada de OEM

Negociable
10 Kg(MOQ)
1/4

Dongguan Gravel Industries and Enterprise Company Limited

Enviar Consulta
Material de objetivo de pulverización al vacío de aleación de silicio y aluminio de alta pureza

Material de objetivo de pulverización al vacío de aleación de silicio y aluminio de alta pureza

US$ 6.500,00
1 Pieza(MOQ)
Objetivo de Silicio de Alta Pureza para Recubrimiento por Vacío/PVD

Objetivo de Silicio de Alta Pureza para Recubrimiento por Vacío/PVD

US$ 6.200,00
1 Pieza(MOQ)
6n Objetivo de Si de alta pureza en forma de cuadrado, disponible respaldo y unión

6n Objetivo de Si de alta pureza en forma de cuadrado, disponible respaldo y unión

US$ 6.000,00
1 Pieza(MOQ)
1/4

Beenine Shanke Technology Co., Ltd.

Enviar Consulta
Sio2 Fabricación de Silicio para Objetivos de Sputtering

Sio2 Fabricación de Silicio para Objetivos de Sputtering

US$ 80,00-800,00
1 Pieza(MOQ)
Óxido de Silicio Sio2 Disco Personalizado Fábrica de China

Óxido de Silicio Sio2 Disco Personalizado Fábrica de China

US$ 80,00-800,00
1 Pieza(MOQ)
1/4

Inner Mongolia Pusheng Iron &Steel Co., Ltd.

Enviar Consulta
Silicio policristalino de alta pureza 99.999% objetivo de pulverización de polisilicio

Silicio policristalino de alta pureza 99.999% objetivo de pulverización de polisilicio

US$ 2.769,00-3.100,00
22 Montones(MOQ)
Materiales Primos Alta Pureza 99.7% Lingotes de Silicio Metálicos Objetivos de Silicio Puro Objetivos de Sputtering

Materiales Primos Alta Pureza 99.7% Lingotes de Silicio Metálicos Objetivos de Silicio Puro Objetivos de Sputtering

US$ 2.000,00-2.500,00
22 Montones(MOQ)
1/4

Yangzhou Jingge Semiconductor Technology Co., Ltd.

Enviar Consulta
6N objetivo de silicio Poly/Blanco de silicio Mono/Blanco de silicio de esputo/silicio redondo para Revestimiento PVD

6N objetivo de silicio Poly/Blanco de silicio Mono/Blanco de silicio de esputo/silicio redondo para Revestimiento PVD

US$ 10,00-99,00
1 Pieza(MOQ)
Objetivo rotatorio de Poly Si/girar tubos de silicio mono/objetivo de espumación para Magnetrón El escupitar

Objetivo rotatorio de Poly Si/girar tubos de silicio mono/objetivo de espumación para Magnetrón El escupitar

US$ 50,00-9.999,00
1 Pieza(MOQ)
Objetivo rotatorio de Poly Si/girar tubos de silicio mono/objetivo de espumación para Magnetrón El escupitar

Objetivo rotatorio de Poly Si/girar tubos de silicio mono/objetivo de espumación para Magnetrón El escupitar

US$ 50,00-9.999,00
1 Pieza(MOQ)
6N objetivo de silicio Poly/Blanco de silicio Mono/Blanco de silicio de esputo/silicio redondo para Revestimiento PVD

6N objetivo de silicio Poly/Blanco de silicio Mono/Blanco de silicio de esputo/silicio redondo para Revestimiento PVD

US$ 10,00-99,00
1 Pieza(MOQ)

Shanghai Zenkaah New Materials Technology Co., Ltd.

Enviar Consulta
Material de blanco de silicio de PVD (deposición física de vapor) de alta pureza para revestimiento de espumación de magnetrón, objetivo de dióxido de silicio (SiO2)

Material de blanco de silicio de PVD (deposición física de vapor) de alta pureza para revestimiento de espumación de magnetrón, objetivo de dióxido de silicio (SiO2)

Negociable
1 Pieza(MOQ)

Zhejiang Ruisheng New Materials Co., Ltd.

Empresa Comercial
Enviar Consulta
Objetivo de Molybdeno Puro Ultra Denso 99.9% 100mm Diámetro Recubrimiento de Película Delgada Opcional RoHS

Objetivo de Molybdeno Puro Ultra Denso 99.9% 100mm Diámetro Recubrimiento de Película Delgada Opcional RoHS

US$ 30,00-60,00
10 Kg(MOQ)
Objetivo de tungsteno rotativo premium para aplicaciones de sputtering eficientes

Objetivo de tungsteno rotativo premium para aplicaciones de sputtering eficientes

US$ 50,00-270,00
10 Kg(MOQ)
Objetivo de tungsteno pulido de alta pureza para aplicaciones avanzadas de bombardeo iónico

Objetivo de tungsteno pulido de alta pureza para aplicaciones avanzadas de bombardeo iónico

US$ 50,00-270,00
10 Kg(MOQ)
Objetivo de Molybdeno de Alta Pureza para Aplicaciones Industriales Avanzadas

Objetivo de Molybdeno de Alta Pureza para Aplicaciones Industriales Avanzadas

US$ 30,00-60,00
1 Kg(MOQ)
1/4

Xiangtan Hondson Coating Technology Co., Ltd.

5 años
·Fabricante/Fábrica & Empresa Comercial
Enviar Consulta
Bloque de titanio de alta pureza personalizado, material de titanio, material de recubrimiento por ionización multi-arco, objetivo metálico

Bloque de titanio de alta pureza personalizado, material de titanio, material de recubrimiento por ionización multi-arco, objetivo metálico

US$ 500,00-1.000,00
1 Pieza(MOQ)
Objetivo de magnetrón cilíndrico para recubrimiento PVD en vacío de tubos de titanio, materiales en bruto para recubrimiento, cátodos

Objetivo de magnetrón cilíndrico para recubrimiento PVD en vacío de tubos de titanio, materiales en bruto para recubrimiento, cátodos

US$ 800,00-1.500,00
1 Pieza(MOQ)
Múltiples Cámaras de Sputtering de Vacío Máquina de Recubrimiento PVD de Vidrio Conductivo ITO

Múltiples Cámaras de Sputtering de Vacío Máquina de Recubrimiento PVD de Vidrio Conductivo ITO

US$ 2.000.000,00
1 sets(MOQ)
Máquina de recubrimiento por pulverización catódica magnetrón para recubrimiento de películas delgadas en vacío

Máquina de recubrimiento por pulverización catódica magnetrón para recubrimiento de películas delgadas en vacío

US$ 800.000,00-1.050.000,00
1 Pieza(MOQ)
1/4

Uv Tech Material Ltd

Enviar Consulta
Uvtm blancos en la exposición de recubrimiento de Sputtering Vicky13249153016

Uvtm blancos en la exposición de recubrimiento de Sputtering Vicky13249153016

Negociable
1 Pieza(MOQ)
Rotary indio Blanco en blanco de sputtering

Rotary indio Blanco en blanco de sputtering

Negociable
1 Pieza(MOQ)
Azo Sputering Objetivo Material de recubrimiento cerámico blanco para la industria del vidrio de recubrimiento de película fina

Azo Sputering Objetivo Material de recubrimiento cerámico blanco para la industria del vidrio de recubrimiento de película fina

Negociable
1 Pieza(MOQ)
Si se puede girar de forma cilíndrica de cátodos de destino de silicio de alta calidad Monilithic rectas y de forma Dogbone

Si se puede girar de forma cilíndrica de cátodos de destino de silicio de alta calidad Monilithic rectas y de forma Dogbone

Negociable
1 Pieza(MOQ)

Ningbo Sen Ao Electronic Technology Co., Ltd

Enviar Consulta
N Tipo de silicio de la pureza del 99,99% de fósforo blanco de sputtering

N Tipo de silicio de la pureza del 99,99% de fósforo blanco de sputtering

Negociable
1 Pieza(MOQ)
El Fosfuro de destino de Fósforo El fósforo blanco de silicio SIP Objetivos

El Fosfuro de destino de Fósforo El fósforo blanco de silicio SIP Objetivos

Negociable
1 Pieza(MOQ)
La pureza del 99,99% de óxido de niobio Nbox objetivo giratorio Ouch Material de recubrimiento Panel giratorios giratorios de Sputtering meta

La pureza del 99,99% de óxido de niobio Nbox objetivo giratorio Ouch Material de recubrimiento Panel giratorios giratorios de Sputtering meta

Negociable
1 Pieza(MOQ)
5N 99,999% Cu Cuprum Cu Tamaño personalizado Rotatorio de destino Objetivo de pulverización de cobre

5N 99,999% Cu Cuprum Cu Tamaño personalizado Rotatorio de destino Objetivo de pulverización de cobre

Negociable
1 Pieza(MOQ)

Shenzhen Canyuan Metal Material Co., Ltd.

Enviar Consulta
99.999% Placa de objetivo de pulverización de silicio monocristalino de alta pureza / Objetivo de cerámica de silicio

99.999% Placa de objetivo de pulverización de silicio monocristalino de alta pureza / Objetivo de cerámica de silicio

US$ 200,00-10.000,00
1 Pieza(MOQ)
3n Objetivo de Sputtering de Silicio de Alta Pureza y Aluminio en Placa Plana / Objetivos de Aluminio Rotativos de Silicio

3n Objetivo de Sputtering de Silicio de Alta Pureza y Aluminio en Placa Plana / Objetivos de Aluminio Rotativos de Silicio

US$ 200,00-10.000,00
1 Pieza(MOQ)
3n Objetivo de Sputtering de Silicio de Cromo de Alta Pureza Placa Plana / Objetivos Rotativos de Silicio de Cromo

3n Objetivo de Sputtering de Silicio de Cromo de Alta Pureza Placa Plana / Objetivos Rotativos de Silicio de Cromo

US$ 200,00-10.000,00
1 Pieza(MOQ)
Objetivos de Sputtering de Grafito de Carbono de Alta Pureza de Tamaño Personalizado 99.99% Objetivo de Cobre de Unión

Objetivos de Sputtering de Grafito de Carbono de Alta Pureza de Tamaño Personalizado 99.99% Objetivo de Cobre de Unión

US$ 200,00-10.000,00
1 Pieza(MOQ)

Tai'an Hongfei Carbon Fiber Products Co., Ltd.

4 años
·Fabricante/Fábrica & Empresa Comercial
Enviar Consulta
Tubo objetivo de grafito de alta pureza y alto rendimiento personalizado

Tubo objetivo de grafito de alta pureza y alto rendimiento personalizado

US$ 5,00-100,00
10 Piezas(MOQ)
Objetivo de tubo de grafito de alta pureza y alto rendimiento con conductividad uniforme y bajo desgaste

Objetivo de tubo de grafito de alta pureza y alto rendimiento con conductividad uniforme y bajo desgaste

US$ 5,00-100,00
10 Piezas(MOQ)
Varilla de grafito de ultra alta densidad para una mayor conductividad eléctrica y estabilidad

Varilla de grafito de ultra alta densidad para una mayor conductividad eléctrica y estabilidad

US$ 10,00-50,00
10 Piezas(MOQ)
Bujes de calefacción premium para aplicaciones versátiles de rodillos de grafito

Bujes de calefacción premium para aplicaciones versátiles de rodillos de grafito

US$ 5,00-50,00
10 Piezas(MOQ)
1/4

UV Tech Material Co., Ltd.

Enviar Consulta
El 99,99% de la Pureza de aleación de aluminio giratorio Alsi destino Silicon blanco de sputtering

El 99,99% de la Pureza de aleación de aluminio giratorio Alsi destino Silicon blanco de sputtering

Negociable
2 Piezas(MOQ)
Tubo de aleación de acero de alta pureza rotatoria y plana objetivo de pulverización Para recubrimiento de vacío fuera de línea Use para PV de vidrio de baja energía Campo solar

Tubo de aleación de acero de alta pureza rotatoria y plana objetivo de pulverización Para recubrimiento de vacío fuera de línea Use para PV de vidrio de baja energía Campo solar

Negociable
1 Pieza(MOQ)
Se puede girar Sial 90: 10, 92: 8, 94: 6, 95: 5, 98: 2 Objetivo de aleación, principalmente para la aplicación de revestimiento de película Solar, el magnetrón Sputtering Meta, meta de aluminio de silicio

Se puede girar Sial 90: 10, 92: 8, 94: 6, 95: 5, 98: 2 Objetivo de aleación, principalmente para la aplicación de revestimiento de película Solar, el magnetrón Sputtering Meta, meta de aluminio de silicio

Negociable
1 Pieza(MOQ)
Si objetivo de Planar PVD satinado, de película delgada de silicio tipo P blanco de Sputtering Planar

Si objetivo de Planar PVD satinado, de película delgada de silicio tipo P blanco de Sputtering Planar

Negociable
1 Pieza(MOQ)

Jiangyin Entret Coating Technology Co., Ltd.

Enviar Consulta
Silicon blanco de Sputtering giratorio de aluminio de alta calidad (sputtering meta)

Silicon blanco de Sputtering giratorio de aluminio de alta calidad (sputtering meta)

US$ 200,00-300,00
2 Piezas(MOQ)
Planar de titanio de alta pureza Sputtering meta de 2n6 a 4n, 4n5, 5n

Planar de titanio de alta pureza Sputtering meta de 2n6 a 4n, 4n5, 5n

US$ 30,00-50,00
1 Pieza(MOQ)
El 99,99% de pureza de Sputtering meta de aluminio de alta calidad, objetivo de aluminio

El 99,99% de pureza de Sputtering meta de aluminio de alta calidad, objetivo de aluminio

US$ 10,00
1 Pieza(MOQ)
Alta calidad de Sputtering Meta Proveedor en China

Alta calidad de Sputtering Meta Proveedor en China

US$ 20,00-50,00
1 Pieza(MOQ)

Luoyang Bless Tungsten & Molybdenum Materials Co., Ltd.

12 años
·Empresa Comercial
Enviar Consulta
Discos de molibdeno de alta calidad

Discos de molibdeno de alta calidad

US$ 63,00-66,00
1 Kg(MOQ)
Tubería de molibdeno y tubo de molibdeno

Tubería de molibdeno y tubo de molibdeno

US$ 49,00-72,00
1 Kg(MOQ)
Crisol de molibdeno según el dibujo de aduanas

Crisol de molibdeno según el dibujo de aduanas

US$ 65,00-68,00
1 Kg(MOQ)
Crucible de molibdeno de alto rendimiento para metalurgia de polvos

Crucible de molibdeno de alto rendimiento para metalurgia de polvos

US$ 65,00-68,00
1 Kg(MOQ)
1/1

Xiamen U-Spring Technology Co., Ltd

Enviar Consulta
Objetivo de Silicio/Silicio Planar U-Spring para Sputtering y Recubrimiento al Vacío mediante Sputtering Magnetrón

Objetivo de Silicio/Silicio Planar U-Spring para Sputtering y Recubrimiento al Vacío mediante Sputtering Magnetrón

US$ 2.000,00
1 Pcs(MOQ)
Objetivo rotatorio U-Spring Si / Objetivo de pulverización para pulverización magnetrónica y recubrimiento al vacío

Objetivo rotatorio U-Spring Si / Objetivo de pulverización para pulverización magnetrónica y recubrimiento al vacío

US$ 2.000,00
1 Pcs(MOQ)
Objetivo rotatorio U-Spring Sial / objetivo de pulverización para pulverización magnetrónica y recubrimiento al vacío

Objetivo rotatorio U-Spring Sial / objetivo de pulverización para pulverización magnetrónica y recubrimiento al vacío

US$ 2.000,00
1 Pcs(MOQ)
1/2

Beijing Loyaltarget Technology Co, Limited

Enviar Consulta
Si diana en la industria de pantalla plana

Si diana en la industria de pantalla plana

Negociable
1 Pieza(MOQ)
Al2O3 blanco de Sputtering cerámica

Al2O3 blanco de Sputtering cerámica

Negociable
1 Pieza(MOQ)

China Leadmat Advanced Materials Co., Ltd.

Enviar Consulta
sputtering

sputtering

US$ 18,00-20,00
1 Pieza(MOQ)
Objetivo de Sputtering de Aluminio

Objetivo de Sputtering de Aluminio

US$ 15,00
1 Pieza(MOQ)

Huita Opto-Electronic Materials Co., Ltd

Enviar Consulta
Rotación de destino de silicio

Rotación de destino de silicio

Negociable
5 Conjuntos(MOQ)
Cromo silicio (CRSI) objetivo

Cromo silicio (CRSI) objetivo

Negociable
5 Piezas(MOQ)

Shenzhen Hongchen New Materials Co., Ltd

Enviar Consulta
Personalización esputo Target Titanium OLED ITO 99,99% silicio electrónico de cobre Componentes

Personalización esputo Target Titanium OLED ITO 99,99% silicio electrónico de cobre Componentes

US$ 10,00-15,00
1 Kg(MOQ)
PVD Deposición de película fina cátodos de arco de cobre recubrimiento de vacío superficial Objetivos que se están espitando

PVD Deposición de película fina cátodos de arco de cobre recubrimiento de vacío superficial Objetivos que se están espitando

US$ 10,00-15,00
1 Kg(MOQ)

Changsha Xinkang Advanced Materials Co, Ltd

Enviar Consulta
Blanco de la farfulla del silicio

Blanco de la farfulla del silicio

Negociable
1 Pieza(MOQ)

Able Target Limited

Enviar Consulta
Sputtering Meta,Ceramica,Destino revestimiento PVD

Sputtering Meta,Ceramica,Destino revestimiento PVD

Negociable
1 Pieza(MOQ)

Beijing Founde Star Science & Technology Co., Ltd.

Enviar Consulta
El silicio de Sputtering meta

El silicio de Sputtering meta

Negociable

Zhengzhou CY Scientific Instrument Co., Ltd.

13 años
·Fabricante/Fábrica & Empresa Comercial
Enviar Consulta
Máquina de recubrimiento por evaporación de electrones de películas delgadas de semiconductores

Máquina de recubrimiento por evaporación de electrones de películas delgadas de semiconductores

US$ 103.200,00-285.000,00
1 Pieza(MOQ)
La fuente de ion mejora la máquina de recubrimiento por evaporación de haz de electrones

La fuente de ion mejora la máquina de recubrimiento por evaporación de haz de electrones

US$ 103.200,00-285.000,00
1 Pieza(MOQ)
350 Sistema de Recubrimiento por Evaporación Térmica de Fuentes Orgánicas Inorgánicas Tipo Cuatro

350 Sistema de Recubrimiento por Evaporación Térmica de Fuentes Orgánicas Inorgánicas Tipo Cuatro

US$ 39.500,00-64.900,00
1 Pieza(MOQ)
Sistema de recubrimiento por evaporación orgánico inorgánico combinado

Sistema de recubrimiento por evaporación orgánico inorgánico combinado

US$ 39.500,00-64.900,00
1 Pieza(MOQ)
1/4

Zhengzhou Tainuo Film Materials Co., Ltd.

9 años
·Fabricante/Fábrica
Enviar Consulta
3 Cabezas Compactas de Escritorio 2" Recubridor de Sputtering Magnetrón

3 Cabezas Compactas de Escritorio 2" Recubridor de Sputtering Magnetrón

US$ 28.000,00-28.999,00
1 Pieza(MOQ)
Revestidor de Sputtering Magnetrón de Un Solo Objetivo para Recubrimiento de Películas en Wafer de Silicio

Revestidor de Sputtering Magnetrón de Un Solo Objetivo para Recubrimiento de Películas en Wafer de Silicio

US$ 25.000,00-26.500,00
1 set(MOQ)
1/4

Suzhou Zhongzhina Semiconductor Technology Co., Ltd.

Enviar Consulta
Material de silicio objetivo para revestimiento de espumación de magnetrón, objetivo de dióxido de silicio, objetivo de silicio-germanio y objetivo de aleación de nitruro de silicio.

Material de silicio objetivo para revestimiento de espumación de magnetrón, objetivo de dióxido de silicio, objetivo de silicio-germanio y objetivo de aleación de nitruro de silicio.

Negociable
1 Pieza(MOQ)
13
Productos Populares
Tanque De Agua
Calentador De Agua
Sistema De Agua Caliente Solar
Tubo De Calentador De Agua
Sistema De Calentador Solar
Calentador De Agua Solar
Agua Caliente Solar
Calentador De Agua Solar De Alta Presión
Fabricantes relacionados & Proveedor
Fábrica De Blanco De Pulverización
Fábrica De Objetivo De Silicio
Fábrica De Ito
Fábrica De Objetivo De Pulverización De Aleación
Fabricantes De Calentador De Agua Solar A Presión
Fabricantes De Tubo De Vacío Para Calentador De Agua
Fabricantes De Calentador De Agua Solar Presurizado
Fabricantes De Calentadores De Agua Solares De Tubo De Vacío
Sobre Nosotros Declaración Acuerdo del usuario Política de privacidad Contactar a Made-in-China.com Productos Rápidos Perspectivas
Opciones de Idioma: English 简体中文 繁體中文 日本語 Français Español Deutsch Português Italiano Русский язык 한국어 العربية Nederlands हिन्दी ภาษาไทย Türkçe Tiếng Việt Bahasa Indonesia
Copyright ©2025 Focus Technology Co., Ltd. Todos los derechos reservados.
Focus no está responsable de la diferencia entre la versión en inglés y versiones en otros idiomas del sitio web. Si hay algún conflicto, la versión en inglés prevalecerá. Su uso de este sitio web está sujeto a, y constituye el reconocimiento y la aceptación de nuestros Términos y Condiciones.