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sobre blanco de pulverización
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blanco de pulverización70+ fábricas verificadas

Beenine Shanke Technology Co., Ltd.

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Objetivo de Sputtering de Recubrimiento PVD Planar Redondo de Aluminio Al Fábrica

Objetivo de Sputtering de Recubrimiento PVD Planar Redondo de Aluminio Al Fábrica

US$ 80,00-500,00
1 Pieza(MOQ)
Objetivo de sputtering tubular plano de aluminio de alta pureza a precio económico de fábrica

Objetivo de sputtering tubular plano de aluminio de alta pureza a precio económico de fábrica

US$ 80,00-500,00
1 Pieza(MOQ)
Objetivo de sputtering de aleación de titanio y aluminio Ti/Al de construcción multi-PCS 99.99% puro

Objetivo de sputtering de aleación de titanio y aluminio Ti/Al de construcción multi-PCS 99.99% puro

US$ 80,00-500,00
1 Pieza(MOQ)
Objetivo de Sputtering de Aluminio Al Multi-PCS 99.99% Recubrimiento PVD puro de China

Objetivo de Sputtering de Aluminio Al Multi-PCS 99.99% Recubrimiento PVD puro de China

US$ 80,00-500,00
1 Pieza(MOQ)
1/4

Changsha Xinkang Advanced Materials Co., Ltd.

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Objetivo de sputtering tubular plano de aluminio premium para recubrimiento PVD

Objetivo de sputtering tubular plano de aluminio premium para recubrimiento PVD

US$ 55,00-135,00
1 Pieza(MOQ)
Xinkang 99.99% Objetivo de Sputtering de Aluminio Objetivo de Al Tamaño Personalizado para Recubrimiento al Vacío

Xinkang 99.99% Objetivo de Sputtering de Aluminio Objetivo de Al Tamaño Personalizado para Recubrimiento al Vacío

US$ 55,00-135,00
1 Pieza(MOQ)
Xinkang 5n5 99.9995% Objetivo de Sputtering de Aluminio de Alta Pureza para Recubrimiento por Vacío/PVD

Xinkang 5n5 99.9995% Objetivo de Sputtering de Aluminio de Alta Pureza para Recubrimiento por Vacío/PVD

US$ 55,00-135,00
1 Pieza(MOQ)
99.99%-99.9999% Bloques de Metal de Aluminio Al Objetivo de Sputtering

99.99%-99.9999% Bloques de Metal de Aluminio Al Objetivo de Sputtering

US$ 70,00-80,00
1 Pieza(MOQ)
1/4

Lonwin Industry Group Limited

5.0
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Objetivo de Cerámica de Carburo de Aluminio de Alta Calidad Al4c3

Objetivo de Cerámica de Carburo de Aluminio de Alta Calidad Al4c3

US$ 17,00-55,00
1 Kg(MOQ)
99.99% Blanco de Sputtering de Aluminio de Metal Puro para Recubrimiento PVD

99.99% Blanco de Sputtering de Aluminio de Metal Puro para Recubrimiento PVD

US$ 17,00-55,00
1 Kg(MOQ)
99.9% Blanco de aleación pura de zirconio y aluminio para sputtering

99.9% Blanco de aleación pura de zirconio y aluminio para sputtering

US$ 17,00-55,00
1 Kg(MOQ)
Aleación de Tizr de metal, objetivo de sputtering de titanio y circonio para recubrimiento

Aleación de Tizr de metal, objetivo de sputtering de titanio y circonio para recubrimiento

US$ 17,00-55,00
1 Kg(MOQ)
1/4

Zhengzhou Tainuo Film Materials Co., Ltd.

9 años
·Fabricante/Fábrica
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Al, objetivo de sputtering de Cr para evaporación térmica y máquina de sputtering magnetrón

Al, objetivo de sputtering de Cr para evaporación térmica y máquina de sputtering magnetrón

US$ 30,00-200,00
1 Pieza(MOQ)
Dos pistolas hacia arriba recubridor de magnetrón por sputtering

Dos pistolas hacia arriba recubridor de magnetrón por sputtering

US$ 26.500,00
1 Pieza(MOQ)
Recubridor de Plasma por Sputtering de Doble Objetivo Estándar de Laboratorio para Recubrimiento de Películas de Metales Ligeros Al Mg Li

Recubridor de Plasma por Sputtering de Doble Objetivo Estándar de Laboratorio para Recubrimiento de Películas de Metales Ligeros Al Mg Li

US$ 6.200,00-7.200,00
1 Pieza(MOQ)
Revestidor de plasma por pulverización de triple objetivo con etapa de calentamiento rotativa para recubrimiento de metal Al Mg Li

Revestidor de plasma por pulverización de triple objetivo con etapa de calentamiento rotativa para recubrimiento de metal Al Mg Li

US$ 10.000,00-11.500,00
1 Pieza(MOQ)
1/4

Xiamen Tmax Battery Equipments Limited

5.0
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Marca TMAXCN 4" Diámetro X 0.25" 4n Objetivo de Sputtering de Alta Pureza de Aluminio (Al)

Marca TMAXCN 4" Diámetro X 0.25" 4n Objetivo de Sputtering de Alta Pureza de Aluminio (Al)

US$ 78,00-90,00
1 Pieza(MOQ)
Máquina de recubrimiento por pulverización de plasma rotativo TMAXCN Marca VTC-16-3HD-LD 3 incluyendo 3 objetivos

Máquina de recubrimiento por pulverización de plasma rotativo TMAXCN Marca VTC-16-3HD-LD 3 incluyendo 3 objetivos

US$ 8.000,00
1 Pieza(MOQ)
Máquina de recubrimiento de carbono por sputtering magnetrón PVD y evaporación térmica

Máquina de recubrimiento de carbono por sputtering magnetrón PVD y evaporación térmica

US$ 5.000,00
1 Pieza(MOQ)
Máquina de recubrimiento de alta potencia TMAXCN VTC-16-SM con coater de magnetrón de corriente continua, etapa rotativa y enfriador de agua

Máquina de recubrimiento de alta potencia TMAXCN VTC-16-SM con coater de magnetrón de corriente continua, etapa rotativa y enfriador de agua

US$ 6.000,00
1 Pieza(MOQ)
1/4

Xiangtan Hondson Coating Technology Co., Ltd.

6 años
·Fabricante/Fábrica & Empresa Comercial
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Objetivo de magnetrón cilíndrico para recubrimiento PVD en vacío de tubos de titanio, materiales en bruto para recubrimiento, cátodos

Objetivo de magnetrón cilíndrico para recubrimiento PVD en vacío de tubos de titanio, materiales en bruto para recubrimiento, cátodos

US$ 800,00-1.500,00
1 Pieza(MOQ)
Bloque de titanio de alta pureza personalizado, material de titanio, material de recubrimiento por ionización multi-arco, objetivo metálico

Bloque de titanio de alta pureza personalizado, material de titanio, material de recubrimiento por ionización multi-arco, objetivo metálico

US$ 500,00-1.000,00
1 Pieza(MOQ)
Sistema de rociado de tecnología de plasma innovadora en cámara de vacío

Sistema de rociado de tecnología de plasma innovadora en cámara de vacío

US$ 78.900,00
1 sets(MOQ)
Precio competitivo máquina de pulverización PVD de grado industrial que ofrece un proceso de recubrimiento al vacío fiable y eficiente

Precio competitivo máquina de pulverización PVD de grado industrial que ofrece un proceso de recubrimiento al vacío fiable y eficiente

US$ 848.000,00
1 sets(MOQ)
1/4

Rheniumet Ltd.

17 años
·Empresa Comercial
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Objetivo de sputtering de silicio de aluminio puro de alta pureza para la industria de películas delgadas

Objetivo de sputtering de silicio de aluminio puro de alta pureza para la industria de películas delgadas

US$ 50,00-1.500,00
1 Pieza(MOQ)
99.98%~99.998% Objetivo de Aluminio Al para Condensadores Electrolíticos

99.98%~99.998% Objetivo de Aluminio Al para Condensadores Electrolíticos

Negociable
1 Pieza(MOQ)
3mm Blanco grueso de rutenio, blanco de sputtering de Ru

3mm Blanco grueso de rutenio, blanco de sputtering de Ru

Negociable
1 Pieza(MOQ)
Objetivo de Sputtering de Rhenio de Alta Pureza 99.99%, Objetivo Redondo de Metal Re

Objetivo de Sputtering de Rhenio de Alta Pureza 99.99%, Objetivo Redondo de Metal Re

US$ 1.000,00-4.000,00
1 Pieza(MOQ)
1/4

Shaanxi Mingsheng Guangpu Metal Materials Co., Ltd.

3 años·5.0
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Objetivo de aluminio y circonio CIP versátil con composición de cromo

Objetivo de aluminio y circonio CIP versátil con composición de cromo

US$ 85,00-95,00
1 Pieza(MOQ)
Cubierta Protectora Personalizada de Molibdeno Mo1/M2 para Dispositivos Electrónicos

Cubierta Protectora Personalizada de Molibdeno Mo1/M2 para Dispositivos Electrónicos

US$ 50,00-65,00
10 Kg(MOQ)
1/4

Sid Metal Co., Ltd

13 años
·Fabricante/Fábrica & Empresa Comercial
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Pellets de Aluminio de Alta Pureza 99.995% para Recubrimiento por Evaporación Objetivo de Aluminio por Sputtering

Pellets de Aluminio de Alta Pureza 99.995% para Recubrimiento por Evaporación Objetivo de Aluminio por Sputtering

US$ 100,00-200,00
1 Kg(MOQ)
Alta Pureza Zr702 Zr705 Objetivo de Zirconio Conductividad Térmica Objetivo de Sputtering

Alta Pureza Zr702 Zr705 Objetivo de Zirconio Conductividad Térmica Objetivo de Sputtering

US$ 0,05-100,00
1 Pieza(MOQ)
1/4

Junsion Precision Hardware Co., Ltd.

7 años
·Fabricante/Fábrica & Empresa Comercial
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Objetivo de pulverización de titanio, aluminio, cobre, cromo, níquel, tubo de magnetrón, recubrimiento PVD rotativo

Objetivo de pulverización de titanio, aluminio, cobre, cromo, níquel, tubo de magnetrón, recubrimiento PVD rotativo

US$ 0,50-10,00
10 Piezas(MOQ)
1/4

SUZHOU TECHNO-TEC PHOTOELECTRIC MATERIALS CO., LTD

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Al Target de aluminio de esputo de objetivo / aluminio de objetivo rotatorio para circuitos integrados / LCD

Al Target de aluminio de esputo de objetivo / aluminio de objetivo rotatorio para circuitos integrados / LCD

US$ 1,00-10,00
1 Kg(MOQ)
1/4

Ningbo Galaxy International Trading Co., Ltd.

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Objetivo de sputtering redondo de aluminio de titanio de alta calidad

Objetivo de sputtering redondo de aluminio de titanio de alta calidad

US$ 20,00
50 Piezas(MOQ)
Tubo de titanio y aluminio de alta calidad sin costuras para ingeniería petroquímica

Tubo de titanio y aluminio de alta calidad sin costuras para ingeniería petroquímica

US$ 50,00
3 Piezas(MOQ)
99.9% Objetivo de recubrimiento al vacío de níquel, cromo y aluminio para el proceso PVD, objetivo de cromo y tantalio

99.9% Objetivo de recubrimiento al vacío de níquel, cromo y aluminio para el proceso PVD, objetivo de cromo y tantalio

US$ 55,00
1 Pieza(MOQ)
Excelente estabilidad química y ductilidad objetivo redondo de titanio

Excelente estabilidad química y ductilidad objetivo redondo de titanio

US$ 10,00
1 pcs(MOQ)
1/4

Jiangsu Cicel Vacuum Technology Co., Ltd.

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Objetivo de titanio por sputtering, objetivo de sputtering de titanio, recubrimiento al vacío, objetivo de titanio

Objetivo de titanio por sputtering, objetivo de sputtering de titanio, recubrimiento al vacío, objetivo de titanio

US$ 100,00-300,00
1 Pieza(MOQ)
Objetivo de Sputtering de Cromo PVD Objetivo de Cromo/Objetivo de Sputtering de Cr

Objetivo de Sputtering de Cromo PVD Objetivo de Cromo/Objetivo de Sputtering de Cr

US$ 130,00-300,00
1 Pieza(MOQ)
Precio de objetivos de titanio de alta pureza para recubrimiento PVD/objetivo de titanio por pulverización, objetivo redondo de titanio en venta

Precio de objetivos de titanio de alta pureza para recubrimiento PVD/objetivo de titanio por pulverización, objetivo redondo de titanio en venta

US$ 80,00-300,00
1 Pieza(MOQ)
Revestimiento de Titanio Target/Gr2 Objetivo de Titanio Objetivo de Sputtering de Titanio

Revestimiento de Titanio Target/Gr2 Objetivo de Titanio Objetivo de Sputtering de Titanio

US$ 100,00-300,00
1 Pieza(MOQ)
1/4

Shanghai Zenkaah New Materials Technology Co., Ltd.

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Aluminio de alta pureza al objetivo, material objetivo de alúmina, PVD (deposición física de vapor) material de revestimiento, Magnetron esputtering aluminio objetivo, y soldadura

Aluminio de alta pureza al objetivo, material objetivo de alúmina, PVD (deposición física de vapor) material de revestimiento, Magnetron esputtering aluminio objetivo, y soldadura

Negociable
1 Pieza(MOQ)

Changsha Zishan Trading Co., Ltd.

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99,99% de alta pureza al aluminio espumante objetivo para el magnetrón de laboratorio Investigación de recubrimiento de esputos

99,99% de alta pureza al aluminio espumante objetivo para el magnetrón de laboratorio Investigación de recubrimiento de esputos

US$ 38,00-42,00
1 Pieza(MOQ)

Ningbo Danko Vacuum Technology Co., Ltd.

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Metalización al vacío de aleación de titanio y aluminio

Metalización al vacío de aleación de titanio y aluminio

US$ 30,00-100,00
1 Pieza(MOQ)
Material objetivo cromo para máquina de recubrimiento al vacío

Material objetivo cromo para máquina de recubrimiento al vacío

US$ 30,00-100,00
1 Pieza(MOQ)
Recubrimiento al vacío de objetivo de titanio

Recubrimiento al vacío de objetivo de titanio

US$ 30,00-100,00
1 Pieza(MOQ)
Metalización al vacío de objetivo de circonio

Metalización al vacío de objetivo de circonio

US$ 30,00-100,00
1 Pieza(MOQ)
1/4

Inner Mongolia Rongtai Rhenium New Materials Co., Ltd.

5.0
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Objetivos de Sputtering de Titanio y Aluminio Avanzados para Aplicaciones de Precisión

Objetivos de Sputtering de Titanio y Aluminio Avanzados para Aplicaciones de Precisión

US$ 190,00-199,00
1 Pieza(MOQ)
Personalizado OEM Blanco Raro Tierra Premium Sputtering Metal Ytterbio Objetivo

Personalizado OEM Blanco Raro Tierra Premium Sputtering Metal Ytterbio Objetivo

US$ 190,00-199,00
1 Pieza(MOQ)
Objetivo de tubo circular de alta pureza para la fabricación de semiconductores

Objetivo de tubo circular de alta pureza para la fabricación de semiconductores

US$ 115,00-130,00
1 Pieza(MOQ)
Objetivo de Sputtering de Ytterbio Avanzado para Soluciones Ópticas Superiores

Objetivo de Sputtering de Ytterbio Avanzado para Soluciones Ópticas Superiores

US$ 190,00-199,00
1 Pieza(MOQ)
1/4

Zhonghe Steel (Tianjin) Co., Ltd.

5 años
·Empresa Comercial
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Precio del objetivo de sputtering de titanio PVD personalizado

Precio del objetivo de sputtering de titanio PVD personalizado

US$ 10,00-25,00
1 Pieza(MOQ)
Objetivo de Sputtering de Titanio de Alta Pureza Gr1 Gr2 para PVD

Objetivo de Sputtering de Titanio de Alta Pureza Gr1 Gr2 para PVD

US$ 10,00-25,00
1 Pieza(MOQ)
Objetivo de Titanio de Alta Pureza 99.99% para Máquina de Recubrimiento por Vacío / PVD

Objetivo de Titanio de Alta Pureza 99.99% para Máquina de Recubrimiento por Vacío / PVD

US$ 10,00-25,00
1 Pieza(MOQ)
Personalización de objetivo de sputtering de titanio para necesidades de recubrimiento especializadas

Personalización de objetivo de sputtering de titanio para necesidades de recubrimiento especializadas

US$ 10,00-25,00
1 Pieza(MOQ)
1/4

Tianjin Rui Yuan Electric Material Co., Ltd.

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Objetivos de Cobre de Ultra Pureza 99.9999% 7n5

Objetivos de Cobre de Ultra Pureza 99.9999% 7n5

US$ 26,99-53,03
1.000 kilograms(MOQ)
Fábrica china de alta pureza 6n cobre (Cu) 99.9999% objetivo de sputtering

Fábrica china de alta pureza 6n cobre (Cu) 99.9999% objetivo de sputtering

US$ 89,00-180,00
1.000 kilograms(MOQ)
C110/C10100/Tu00 5n Objetivo de Sputtering de Alta Pureza Cobre 99.999% para Recubrimiento Óptico

C110/C10100/Tu00 5n Objetivo de Sputtering de Alta Pureza Cobre 99.999% para Recubrimiento Óptico

US$ 79,99
50 Kg(MOQ)
99.9999% 6n Placas de respaldo de objetivos de sputtering de cobre de alta pureza

99.9999% 6n Placas de respaldo de objetivos de sputtering de cobre de alta pureza

US$ 335,00-350,00
100 Kg(MOQ)
1/4

Zhengzhou Shibo Nonferrous Metals Products Co., Ltd.

21 años·5.0
·Fabricante/Fábrica & Empresa Comercial
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Objetivo de Sputtering de Molibdeno Pulido (99.95% puro)

Objetivo de Sputtering de Molibdeno Pulido (99.95% puro)

US$ 40,00-60,00
1 Kg(MOQ)
Objetivo de molibdeno para recubrimiento por pulverización al vacío

Objetivo de molibdeno para recubrimiento por pulverización al vacío

US$ 45,00
1 kg(MOQ)
Objetivo de sputtering de molibdeno de alta pureza, disco de molibdeno

Objetivo de sputtering de molibdeno de alta pureza, disco de molibdeno

US$ 40,00
1 kg(MOQ)
99.95% Placa de Molybdeno de Pureza, Hoja de Mo para Horno de Recocido al Vacío

99.95% Placa de Molybdeno de Pureza, Hoja de Mo para Horno de Recocido al Vacío

US$ 40,00-90,00
1 Kg(MOQ)
1/2

Zhengzhou CY Scientific Instrument Co., Ltd.

13 años
·Fabricante/Fábrica & Empresa Comercial
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Objetivo de Sputtering de Plasma de Alta Pureza

Objetivo de Sputtering de Plasma de Alta Pureza

US$ 65,00
1 Set(MOQ)
Mini recubridor de plasma por pulverización para recubrir metales ligeros Al Mg Li

Mini recubridor de plasma por pulverización para recubrir metales ligeros Al Mg Li

US$ 6.500,00-8.100,00
1 Pieza(MOQ)
Recubridor de deposición por sputtering magnetrón PVD personalizable para películas de Ti y Al

Recubridor de deposición por sputtering magnetrón PVD personalizable para películas de Ti y Al

US$ 25.900,00-40.200,00
1 Pieza(MOQ)
Revestidor de Sputtering Magnetrón de Aluminio de Escritorio para Deposición de Películas Finas de Un Solo Objetivo

Revestidor de Sputtering Magnetrón de Aluminio de Escritorio para Deposición de Películas Finas de Un Solo Objetivo

US$ 20.000,00-23.000,00
1 Pieza(MOQ)
1/4

CHANGSHA EASCHEM CO., LIMITED

5 años
·Empresa Comercial
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Varilla de metal de samario granular CAS No 7440-19-9 Sm 3n 4n

Varilla de metal de samario granular CAS No 7440-19-9 Sm 3n 4n

Negociable
1 Piece(MOQ)
Objetivo de Sputtering de Metal Niobio con No CAS 7440-03-1 y Nb

Objetivo de Sputtering de Metal Niobio con No CAS 7440-03-1 y Nb

Negociable
1 Piece(MOQ)
Precio de fábrica Comprar objetivo de sputtering de metal niobio con número CAS 7440-03-1

Precio de fábrica Comprar objetivo de sputtering de metal niobio con número CAS 7440-03-1

Negociable
1 Piece(MOQ)
Polvo de Nitruro de Neodimio con número CAS 25764-11-8 y ND N 2n5 3n 3n5

Polvo de Nitruro de Neodimio con número CAS 25764-11-8 y ND N 2n5 3n 3n5

Negociable
1 Piece(MOQ)
1/4

FUJIAN ACETRON NEW MATERIALS CO., LTD.

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ACETRON 5N5 99.9995% Objetivo de Sputtering de Al de Alta Pureza para Recubrimiento PVD

ACETRON 5N5 99.9995% Objetivo de Sputtering de Al de Alta Pureza para Recubrimiento PVD

US$ 99,00-9.999,00
1 Pieza(MOQ)
ACETRON 5N 99.999% Blanco de aluminio de alta pureza para recubrimiento PVD

ACETRON 5N 99.999% Blanco de aluminio de alta pureza para recubrimiento PVD

US$ 99,00-99.999,00
1 Pieza(MOQ)
ACETRON 99.6% Blanco de Sputtering de Ti+Al de Alta Pureza para Recubrimiento en Vacío/PVD

ACETRON 99.6% Blanco de Sputtering de Ti+Al de Alta Pureza para Recubrimiento en Vacío/PVD

US$ 99,00-99.999,00
1 Pieza(MOQ)
ACETRON 4N 99.99% Objetivo de Sputtering de Aluminio Escandio de Alta Pureza para Recubrimiento en Vacío/PVD

ACETRON 4N 99.99% Objetivo de Sputtering de Aluminio Escandio de Alta Pureza para Recubrimiento en Vacío/PVD

US$ 99,00-99.999,00
1 Pieza(MOQ)

Jiangyin Entret Coating Technology Co., Ltd.

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Ti-Al aluminio blanco de titanio El titanio aluminio blanco de sputtering

Ti-Al aluminio blanco de titanio El titanio aluminio blanco de sputtering

US$ 30,00-50,00
1 Pieza(MOQ)
Silicon blanco de Sputtering giratorio de aluminio de alta calidad (sputtering meta)

Silicon blanco de Sputtering giratorio de aluminio de alta calidad (sputtering meta)

US$ 200,00-300,00
2 Piezas(MOQ)
Sial (silicio y aluminio) Rotary Sputtering meta para la venta

Sial (silicio y aluminio) Rotary Sputtering meta para la venta

US$ 200,00-300,00
2 Piezas(MOQ)
El objetivo de Sputtering de silicio de alta pureza

El objetivo de Sputtering de silicio de alta pureza

US$ 50,00
1 Pieza(MOQ)

Xiamen HiuGong Machinery Co., Ltd.

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Objetivo de Sputtering Magnetrón Zrox Si Cr Nb Cu Cr AG

Objetivo de Sputtering Magnetrón Zrox Si Cr Nb Cu Cr AG

US$ 500,00
1 Pieza(MOQ)
99.99% Objetivo de Sputtering de Óxido de Galio Objetivo Plano Ga2o3 Objetivo

99.99% Objetivo de Sputtering de Óxido de Galio Objetivo Plano Ga2o3 Objetivo

US$ 300,00
1 Pieza(MOQ)
1/4

ATM Material Co., Ltd.

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Objetivo de Cr con alta calidad

Objetivo de Cr con alta calidad

US$ 0,10-100,00
1.000 Piezas(MOQ)
W Objetivo

W Objetivo

US$ 100,00
1 Pieza(MOQ)
1/4

Hubei Fotma Machinery Co., Ltd.

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99.95% Tubo de Molienda Objetivo de Sputtering Objetivo de Molibdeno

99.95% Tubo de Molienda Objetivo de Sputtering Objetivo de Molibdeno

US$ 5,00-200,00
1 Kilogram(MOQ)
Tubo de molibdeno para objetivo de pulverización 99.95% Tubo de molibdeno puro

Tubo de molibdeno para objetivo de pulverización 99.95% Tubo de molibdeno puro

US$ 40,00-50,00
1 Kg(MOQ)
1/4

Hebei Zhongyi Import and Export Co., Ltd.

3 años
·Empresa Comercial
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Objetivo de Sputtering de Disulfuro de Tungsteno de Alta Pureza Ws2 para Aplicaciones de Recubrimiento

Objetivo de Sputtering de Disulfuro de Tungsteno de Alta Pureza Ws2 para Aplicaciones de Recubrimiento

US$ 9,00-12,00
10 Kg(MOQ)
Recubrimiento cerámico de disulfuro de tungsteno puro Ws2 para un recubrimiento de alta calidad mediante pulverización

Recubrimiento cerámico de disulfuro de tungsteno puro Ws2 para un recubrimiento de alta calidad mediante pulverización

US$ 9,00-12,00
10 Kg(MOQ)
1/4

Inner Mongolia Pusheng Iron &Steel Co., Ltd.

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Materiales Primos Alta Pureza 99.7% Lingotes de Silicio Metálicos Objetivos de Silicio Puro Objetivos de Sputtering

Materiales Primos Alta Pureza 99.7% Lingotes de Silicio Metálicos Objetivos de Silicio Puro Objetivos de Sputtering

US$ 2.000,00-2.500,00
22 Montones(MOQ)
Silicio policristalino de alta pureza 99.999% objetivo de pulverización de polisilicio

Silicio policristalino de alta pureza 99.999% objetivo de pulverización de polisilicio

US$ 2.769,00-3.100,00
22 Montones(MOQ)
1/4

Xiamen U-Spring Technology Co., Ltd

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Objetivo plano de aleación de aluminio U-Spring / objetivo de pulverización para pulverización magnetrónica y recubrimiento al vacío

Objetivo plano de aleación de aluminio U-Spring / objetivo de pulverización para pulverización magnetrónica y recubrimiento al vacío

US$ 2.000,00
1 Pcs(MOQ)
Objetivo de arco de aluminio / cátodos de aluminio / objetivo de pulverización para pulverización magnetrónica y recubrimiento al vacío

Objetivo de arco de aluminio / cátodos de aluminio / objetivo de pulverización para pulverización magnetrónica y recubrimiento al vacío

US$ 2.000,00
1 Pcs(MOQ)
1/2
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