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sobre blanco de pulverización
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blanco de pulverización70+ fábricas verificadas

Beenine Shanke Technology Co., Ltd.

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Objetivo de Sputtering de Recubrimiento PVD Planar Redondo de Aluminio Al Fábrica

Objetivo de Sputtering de Recubrimiento PVD Planar Redondo de Aluminio Al Fábrica

US$ 80,00-500,00
1 Pieza(MOQ)
Objetivo de Sputtering de Aluminio Al Multi-PCS 99.99% Recubrimiento PVD puro de China

Objetivo de Sputtering de Aluminio Al Multi-PCS 99.99% Recubrimiento PVD puro de China

US$ 80,00-500,00
1 Pieza(MOQ)
Objetivo de sputtering de aleación de titanio y aluminio Ti/Al de construcción multi-PCS 99.99% puro

Objetivo de sputtering de aleación de titanio y aluminio Ti/Al de construcción multi-PCS 99.99% puro

US$ 80,00-500,00
1 Pieza(MOQ)
4n 99.99% Objetivo de Sputtering de Aluminio de Alta Pureza para Recubrimiento PVD

4n 99.99% Objetivo de Sputtering de Aluminio de Alta Pureza para Recubrimiento PVD

US$ 80,00-500,00
1 Pieza(MOQ)
1/4

Changsha Xinkang Advanced Materials Co., Ltd.

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4n 99.99% Objetivo de Sputtering de Aluminio de Alta Pureza para Recubrimiento PVD

4n 99.99% Objetivo de Sputtering de Aluminio de Alta Pureza para Recubrimiento PVD

US$ 55,00-135,00
1 Pieza(MOQ)
99.99% Objetivo de Sputtering de Aluminio Al Varilla de Metal Al Pellets Disco Placa

99.99% Objetivo de Sputtering de Aluminio Al Varilla de Metal Al Pellets Disco Placa

US$ 25,00-30,00
1 Pieza(MOQ)
Placa de Aluminio Puro Al 99.9% Metal Aluminio Objetivo de Sputtering para Proceso PVD

Placa de Aluminio Puro Al 99.9% Metal Aluminio Objetivo de Sputtering para Proceso PVD

US$ 70,00-80,00
1 Pieza(MOQ)
Nuevo Material 99.95% Materiales de Metal de Vanadio D6X6mm Pellets de Vanadio para Recubrimiento de Película PVD

Nuevo Material 99.95% Materiales de Metal de Vanadio D6X6mm Pellets de Vanadio para Recubrimiento de Película PVD

US$ 700,00-800,00
1 kilogram(MOQ)
1/4

Lonwin Industry Group Limited

5.0
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Objetivo de Cerámica de Carburo de Aluminio de Alta Calidad Al4c3

Objetivo de Cerámica de Carburo de Aluminio de Alta Calidad Al4c3

US$ 17,00-55,00
1 Kg(MOQ)
99.99% Blanco de Sputtering de Aluminio de Metal Puro para Recubrimiento PVD

99.99% Blanco de Sputtering de Aluminio de Metal Puro para Recubrimiento PVD

US$ 17,00-55,00
1 Kg(MOQ)
Objetivo de Sputtering de Hf Hafnio de Alta Pureza 99.95% para Recubrimiento PVD

Objetivo de Sputtering de Hf Hafnio de Alta Pureza 99.95% para Recubrimiento PVD

US$ 17,00-55,00
1 Kg(MOQ)
99.95% Cosi2 Objetivos de Sputtering Silicuro de Cobalto Objetivos Cerámicos de Sputtering

99.95% Cosi2 Objetivos de Sputtering Silicuro de Cobalto Objetivos Cerámicos de Sputtering

US$ 17,00-55,00
1 Kg(MOQ)
1/4

Zhengzhou Tainuo Film Materials Co., Ltd.

9 años
·Fabricante/Fábrica
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Al, objetivo de sputtering de Cr para evaporación térmica y máquina de sputtering magnetrón

Al, objetivo de sputtering de Cr para evaporación térmica y máquina de sputtering magnetrón

US$ 30,00-200,00
1 Pieza(MOQ)
Dos pistolas hacia arriba recubridor de magnetrón por sputtering

Dos pistolas hacia arriba recubridor de magnetrón por sputtering

US$ 26.500,00
1 Pieza(MOQ)
Revestidor de plasma por pulverización de triple objetivo con etapa de calentamiento rotativa para recubrimiento de metal Al Mg Li

Revestidor de plasma por pulverización de triple objetivo con etapa de calentamiento rotativa para recubrimiento de metal Al Mg Li

US$ 10.000,00-11.500,00
1 Pieza(MOQ)
Recubridor de Plasma por Sputtering de Doble Objetivo Estándar de Laboratorio para Recubrimiento de Películas de Metales Ligeros Al Mg Li

Recubridor de Plasma por Sputtering de Doble Objetivo Estándar de Laboratorio para Recubrimiento de Películas de Metales Ligeros Al Mg Li

US$ 6.200,00-7.200,00
1 Pieza(MOQ)
1/4

Xiamen Tmax Battery Equipments Limited

5.0
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Marca TMAXCN 4" Diámetro X 0.25" 4n Objetivo de Sputtering de Alta Pureza de Aluminio (Al)

Marca TMAXCN 4" Diámetro X 0.25" 4n Objetivo de Sputtering de Alta Pureza de Aluminio (Al)

US$ 78,00-90,00
1 Pieza(MOQ)
Máquina de recubrimiento por pulverización de plasma rotativo TMAXCN Marca VTC-16-3HD-LD 3 incluyendo 3 objetivos

Máquina de recubrimiento por pulverización de plasma rotativo TMAXCN Marca VTC-16-3HD-LD 3 incluyendo 3 objetivos

US$ 8.000,00
1 Pieza(MOQ)
Sistema de Sputtering Magnetrón de Múltiples Objetivos en Alto Vacío

Sistema de Sputtering Magnetrón de Múltiples Objetivos en Alto Vacío

US$ 50.000,00
1 Pieza(MOQ)
Sistema de equipo de máquina de recubrimiento por sputtering magnetrón de múltiples objetivos para deposición de películas delgadas compuestas

Sistema de equipo de máquina de recubrimiento por sputtering magnetrón de múltiples objetivos para deposición de películas delgadas compuestas

US$ 50.000,00
1 Pieza(MOQ)
1/4

Xiangtan Hondson Coating Technology Co., Ltd.

6 años
·Fabricante/Fábrica & Empresa Comercial
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Bloque de titanio de alta pureza personalizado, material de titanio, material de recubrimiento por ionización multi-arco, objetivo metálico

Bloque de titanio de alta pureza personalizado, material de titanio, material de recubrimiento por ionización multi-arco, objetivo metálico

US$ 500,00-1.000,00
1 Pieza(MOQ)
Objetivo de magnetrón cilíndrico para recubrimiento PVD en vacío de tubos de titanio, materiales en bruto para recubrimiento, cátodos

Objetivo de magnetrón cilíndrico para recubrimiento PVD en vacío de tubos de titanio, materiales en bruto para recubrimiento, cátodos

US$ 800,00-1.500,00
1 Pieza(MOQ)
Máquina de recubrimiento al vacío de tubos de vidrio para calentador solar

Máquina de recubrimiento al vacío de tubos de vidrio para calentador solar

US$ 55.000,00-120.000,00
1 Pieza(MOQ)
Cámara de recubrimiento de vidrio máquina de deposición de aluminio en línea

Cámara de recubrimiento de vidrio máquina de deposición de aluminio en línea

US$ 1.000.000,00-1.500.000,00
1 Pieza(MOQ)
1/4

Rheniumet Ltd.

17 años
·Empresa Comercial
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Objetivo de sputtering de silicio de aluminio puro de alta pureza para la industria de películas delgadas

Objetivo de sputtering de silicio de aluminio puro de alta pureza para la industria de películas delgadas

US$ 50,00-1.500,00
1 Pieza(MOQ)
99.98%~99.998% Objetivo de Aluminio Al para Condensadores Electrolíticos

99.98%~99.998% Objetivo de Aluminio Al para Condensadores Electrolíticos

Negociable
1 Pieza(MOQ)
3mm Blanco grueso de rutenio, blanco de sputtering de Ru

3mm Blanco grueso de rutenio, blanco de sputtering de Ru

Negociable
1 Pieza(MOQ)
Objetivo de Sputtering de Rhenio de Alta Pureza 99.99%, Objetivo Redondo de Metal Re

Objetivo de Sputtering de Rhenio de Alta Pureza 99.99%, Objetivo Redondo de Metal Re

US$ 1.000,00-4.000,00
1 Pieza(MOQ)
1/4

Shaanxi Mingsheng Guangpu Metal Materials Co., Ltd.

3 años·5.0
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Objetivo de aluminio y circonio CIP versátil con composición de cromo

Objetivo de aluminio y circonio CIP versátil con composición de cromo

US$ 85,00-95,00
1 Pieza(MOQ)
Cubierta Protectora Personalizada de Molibdeno Mo1/M2 para Dispositivos Electrónicos

Cubierta Protectora Personalizada de Molibdeno Mo1/M2 para Dispositivos Electrónicos

US$ 50,00-65,00
10 Kg(MOQ)
1/4

Sid Metal Co., Ltd

13 años
·Fabricante/Fábrica & Empresa Comercial
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Pellets de Aluminio de Alta Pureza 99.995% para Recubrimiento por Evaporación Objetivo de Aluminio por Sputtering

Pellets de Aluminio de Alta Pureza 99.995% para Recubrimiento por Evaporación Objetivo de Aluminio por Sputtering

US$ 100,00-200,00
1 Kg(MOQ)
Alta Pureza Zr702 Zr705 Objetivo de Zirconio Conductividad Térmica Objetivo de Sputtering

Alta Pureza Zr702 Zr705 Objetivo de Zirconio Conductividad Térmica Objetivo de Sputtering

US$ 0,05-100,00
1 Pieza(MOQ)
1/4

SUZHOU TECHNO-TEC PHOTOELECTRIC MATERIALS CO., LTD

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Al Target de aluminio de esputo de objetivo / aluminio de objetivo rotatorio para circuitos integrados / LCD

Al Target de aluminio de esputo de objetivo / aluminio de objetivo rotatorio para circuitos integrados / LCD

US$ 1,00-10,00
1 Kg(MOQ)
1/4

Junsion Precision Hardware Co., Ltd.

7 años
·Fabricante/Fábrica & Empresa Comercial
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Objetivo de pulverización de titanio, aluminio, cobre, cromo, níquel, tubo de magnetrón, recubrimiento PVD rotativo

Objetivo de pulverización de titanio, aluminio, cobre, cromo, níquel, tubo de magnetrón, recubrimiento PVD rotativo

US$ 0,50-10,00
10 Piezas(MOQ)
1/4

Ningbo Galaxy International Trading Co., Ltd.

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Objetivo de sputtering redondo de aluminio de titanio de alta calidad

Objetivo de sputtering redondo de aluminio de titanio de alta calidad

US$ 20,00
50 Piezas(MOQ)
Tubo de titanio y aluminio de alta calidad sin costuras para ingeniería petroquímica

Tubo de titanio y aluminio de alta calidad sin costuras para ingeniería petroquímica

US$ 50,00
3 Piezas(MOQ)
99.9% Objetivo de recubrimiento al vacío de níquel, cromo y aluminio para el proceso PVD, objetivo de cromo y tantalio

99.9% Objetivo de recubrimiento al vacío de níquel, cromo y aluminio para el proceso PVD, objetivo de cromo y tantalio

US$ 55,00
1 Pieza(MOQ)
Objetivo redondo de zirconio gris claro resistente al calor para máquina CNC

Objetivo redondo de zirconio gris claro resistente al calor para máquina CNC

US$ 6,00
5 Piezas(MOQ)
1/4

Jiangsu Cicel Vacuum Technology Co., Ltd.

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Objetivo de titanio por sputtering, objetivo de sputtering de titanio, recubrimiento al vacío, objetivo de titanio

Objetivo de titanio por sputtering, objetivo de sputtering de titanio, recubrimiento al vacío, objetivo de titanio

US$ 100,00-300,00
1 Pieza(MOQ)
Revestimiento de Titanio Target/Gr2 Objetivo de Titanio Objetivo de Sputtering de Titanio

Revestimiento de Titanio Target/Gr2 Objetivo de Titanio Objetivo de Sputtering de Titanio

US$ 100,00-300,00
1 Pieza(MOQ)
Objetivos de PVD de aleación de aluminio y titanio, objetivos de sputtering de titanio, objetivo de aleación de Tial para recubrimiento

Objetivos de PVD de aleación de aluminio y titanio, objetivos de sputtering de titanio, objetivo de aleación de Tial para recubrimiento

US$ 80,00-300,00
1 Pieza(MOQ)
Precio de objetivos de titanio de alta pureza para recubrimiento PVD/objetivo de titanio por pulverización, objetivo redondo de titanio en venta

Precio de objetivos de titanio de alta pureza para recubrimiento PVD/objetivo de titanio por pulverización, objetivo redondo de titanio en venta

US$ 80,00-300,00
1 Pieza(MOQ)
1/4

Shanghai Zenkaah New Materials Technology Co., Ltd.

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Aluminio de alta pureza al objetivo, material objetivo de alúmina, PVD (deposición física de vapor) material de revestimiento, Magnetron esputtering aluminio objetivo, y soldadura

Aluminio de alta pureza al objetivo, material objetivo de alúmina, PVD (deposición física de vapor) material de revestimiento, Magnetron esputtering aluminio objetivo, y soldadura

Negociable
1 Pieza(MOQ)

Changsha Zishan Trading Co., Ltd.

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99,99% de alta pureza al aluminio espumante objetivo para el magnetrón de laboratorio Investigación de recubrimiento de esputos

99,99% de alta pureza al aluminio espumante objetivo para el magnetrón de laboratorio Investigación de recubrimiento de esputos

US$ 38,00-42,00
1 Pieza(MOQ)

Ningbo Danko Vacuum Technology Co., Ltd.

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Metalización al vacío de aleación de titanio y aluminio

Metalización al vacío de aleación de titanio y aluminio

US$ 30,00-100,00
1 Pieza(MOQ)
Recubrimiento al vacío de objetivo de titanio

Recubrimiento al vacío de objetivo de titanio

US$ 30,00-100,00
1 Pieza(MOQ)
Metalización al vacío de objetivo de circonio

Metalización al vacío de objetivo de circonio

US$ 30,00-100,00
1 Pieza(MOQ)
Depósito por sputtering de Ti de alta pureza

Depósito por sputtering de Ti de alta pureza

US$ 30,00-100,00
1 Pieza(MOQ)
1/4

Inner Mongolia Rongtai Rhenium New Materials Co., Ltd.

5.0
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Objetivo de Sputtering de Metal de Ytterbio de Alta Pureza para Aplicaciones Avanzadas

Objetivo de Sputtering de Metal de Ytterbio de Alta Pureza para Aplicaciones Avanzadas

US$ 190,00-199,00
1 Pieza(MOQ)
Disco de objetivo de sputtering de itrio premium para soluciones avanzadas de recubrimiento

Disco de objetivo de sputtering de itrio premium para soluciones avanzadas de recubrimiento

US$ 115,00-130,00
1 Pieza(MOQ)
Disco de objetivo de itrio avanzado para aplicaciones semiconductoras de precisión

Disco de objetivo de itrio avanzado para aplicaciones semiconductoras de precisión

US$ 115,00-130,00
1 Pieza(MOQ)
99.9% Objetivo de Sputtering de Tierra Rara Yitrio Metal Y Disco de Yitrio para Semiconductores

99.9% Objetivo de Sputtering de Tierra Rara Yitrio Metal Y Disco de Yitrio para Semiconductores

US$ 115,00-130,00
1 Pieza(MOQ)
1/4

Zhonghe Steel (Tianjin) Co., Ltd.

5 años
·Empresa Comercial
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Objetivo de Sputtering de Titanio de Alta Pureza Gr1 Gr2 para PVD

Objetivo de Sputtering de Titanio de Alta Pureza Gr1 Gr2 para PVD

US$ 10,00-25,00
1 Pieza(MOQ)
Objetivos de PVD de aleación de aluminio y titanio, objetivos de sputtering de titanio, objetivo de aleación de Tial para recubrimiento

Objetivos de PVD de aleación de aluminio y titanio, objetivos de sputtering de titanio, objetivo de aleación de Tial para recubrimiento

US$ 10,00-25,00
1 Pieza(MOQ)
Objetivo de Titanio de Alta Pureza 99.99% para Máquina de Recubrimiento por Vacío / PVD

Objetivo de Titanio de Alta Pureza 99.99% para Máquina de Recubrimiento por Vacío / PVD

US$ 10,00-25,00
1 Pieza(MOQ)
Alta Pureza 99.6% PVD M86 Objetivo de Titanio Od 98X40mm Objetivo de Titanio

Alta Pureza 99.6% PVD M86 Objetivo de Titanio Od 98X40mm Objetivo de Titanio

US$ 10,00-25,00
1 Pieza(MOQ)
1/4

Zhengzhou Shibo Nonferrous Metals Products Co., Ltd.

21 años·5.0
·Fabricante/Fábrica & Empresa Comercial
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Objetivo de molibdeno para recubrimiento por pulverización al vacío

Objetivo de molibdeno para recubrimiento por pulverización al vacío

US$ 45,00
1 kg(MOQ)
Objetivo de Sputtering de Molibdeno Pulido (99.95% puro)

Objetivo de Sputtering de Molibdeno Pulido (99.95% puro)

US$ 40,00-60,00
1 Kg(MOQ)
Objetivo de sputtering de molibdeno de alta pureza, disco de molibdeno

Objetivo de sputtering de molibdeno de alta pureza, disco de molibdeno

US$ 40,00
1 kg(MOQ)
0.3mm, 0.5mm Hoja de Moly para Horno de Sinterización al Vacío

0.3mm, 0.5mm Hoja de Moly para Horno de Sinterización al Vacío

US$ 40,00-50,00
1 Kg(MOQ)
1/2

Zhengzhou CY Scientific Instrument Co., Ltd.

13 años
·Fabricante/Fábrica & Empresa Comercial
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Objetivo de Sputtering de Plasma de Alta Pureza

Objetivo de Sputtering de Plasma de Alta Pureza

US$ 65,00
1 Set(MOQ)
Recubridor de deposición por sputtering magnetrón PVD personalizable para películas de Ti y Al

Recubridor de deposición por sputtering magnetrón PVD personalizable para películas de Ti y Al

US$ 25.900,00-40.200,00
1 Pieza(MOQ)
Mini recubridor de plasma por pulverización para recubrir metales ligeros Al Mg Li

Mini recubridor de plasma por pulverización para recubrir metales ligeros Al Mg Li

US$ 6.500,00-8.100,00
1 Pieza(MOQ)
Revestidor de Sputtering Magnetrón de Aluminio de Escritorio para Deposición de Películas Finas de Un Solo Objetivo

Revestidor de Sputtering Magnetrón de Aluminio de Escritorio para Deposición de Películas Finas de Un Solo Objetivo

US$ 20.000,00-23.000,00
1 Pieza(MOQ)
1/4

CHANGSHA EASCHEM CO., LIMITED

5 años
·Empresa Comercial
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Varilla de metal de samario granular CAS No 7440-19-9 Sm 3n 4n

Varilla de metal de samario granular CAS No 7440-19-9 Sm 3n 4n

Negociable
1 Piece(MOQ)
Objetivo de Sputtering de Metal Niobio con No CAS 7440-03-1 y Nb

Objetivo de Sputtering de Metal Niobio con No CAS 7440-03-1 y Nb

Negociable
1 Piece(MOQ)
Precio de fábrica Comprar objetivo de sputtering de metal niobio con número CAS 7440-03-1

Precio de fábrica Comprar objetivo de sputtering de metal niobio con número CAS 7440-03-1

Negociable
1 Piece(MOQ)
Precio de fábrica Vender Insn48 Barra de aleación de indio y estaño

Precio de fábrica Vender Insn48 Barra de aleación de indio y estaño

Negociable
1 Piece(MOQ)
1/4

FUJIAN ACETRON NEW MATERIALS CO., LTD.

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ACETRON 5N5 99.9995% Objetivo de Sputtering de Al de Alta Pureza para Recubrimiento PVD

ACETRON 5N5 99.9995% Objetivo de Sputtering de Al de Alta Pureza para Recubrimiento PVD

US$ 99,00-9.999,00
1 Pieza(MOQ)
ACETRON 4N 99.99% Blanco de aleación de aluminio de alta pureza para sputtering en vacío/revestimiento PVD

ACETRON 4N 99.99% Blanco de aleación de aluminio de alta pureza para sputtering en vacío/revestimiento PVD

US$ 99,00-99.999,00
1 Pieza(MOQ)
ACETRON 4N 99.99% Objetivo de Sputtering de Si+Al de Alta Pureza para Recubrimiento en Vacío/PVD

ACETRON 4N 99.99% Objetivo de Sputtering de Si+Al de Alta Pureza para Recubrimiento en Vacío/PVD

US$ 99,00-99.999,00
1 Pieza(MOQ)
ACETRON 5N 99.999% Blanco de aleación de aluminio de alta pureza para recubrimiento por vacío/PVD

ACETRON 5N 99.999% Blanco de aleación de aluminio de alta pureza para recubrimiento por vacío/PVD

US$ 99,00-99.999,00
1 Pieza(MOQ)

Jiangyin Entret Coating Technology Co., Ltd.

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Ti-Al aluminio blanco de titanio El titanio aluminio blanco de sputtering

Ti-Al aluminio blanco de titanio El titanio aluminio blanco de sputtering

US$ 30,00-50,00
1 Pieza(MOQ)
Silicon blanco de Sputtering giratorio de aluminio de alta calidad (sputtering meta)

Silicon blanco de Sputtering giratorio de aluminio de alta calidad (sputtering meta)

US$ 200,00-300,00
2 Piezas(MOQ)
La alta calidad Znal blanco de Sputtering giratorio de aluminio cinc

La alta calidad Znal blanco de Sputtering giratorio de aluminio cinc

US$ 200,00-300,00
1 Pieza(MOQ)
Si: el 90% en peso Al: 10% en peso silicio giratorio de aluminio blanco de sputtering

Si: el 90% en peso Al: 10% en peso silicio giratorio de aluminio blanco de sputtering

US$ 200,00-500,00
2 Piezas(MOQ)

Tianjin Rui Yuan Electric Material Co., Ltd.

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C110/C10100/Tu00 5n Objetivo de Sputtering de Alta Pureza Cobre 99.999% para Recubrimiento Óptico

C110/C10100/Tu00 5n Objetivo de Sputtering de Alta Pureza Cobre 99.999% para Recubrimiento Óptico

US$ 79,99
50 Kg(MOQ)
Ingot de Cobre Grueso de Ultra Pureza 99.9999% 77X6mm para Objetivo de Sputtering

Ingot de Cobre Grueso de Ultra Pureza 99.9999% 77X6mm para Objetivo de Sputtering

US$ 39,99
50 Kg(MOQ)
Alta Conductividad C110/C10100/Tu00 99.9999% 6n5 0.8mm Barra de Cobre Libre de Oxígeno de Alta Pureza

Alta Conductividad C110/C10100/Tu00 99.9999% 6n5 0.8mm Barra de Cobre Libre de Oxígeno de Alta Pureza

US$ 19,99
50 Kg(MOQ)
1/4

Xiamen HiuGong Machinery Co., Ltd.

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99.99% Objetivo de Sputtering de Óxido de Galio Objetivo Plano Ga2o3 Objetivo

99.99% Objetivo de Sputtering de Óxido de Galio Objetivo Plano Ga2o3 Objetivo

US$ 300,00
1 Pieza(MOQ)
Objetivo de Sputtering Magnetrón Zrox Si Cr Nb Cu Cr AG

Objetivo de Sputtering Magnetrón Zrox Si Cr Nb Cu Cr AG

US$ 500,00
1 Pieza(MOQ)
1/4

ATM Material Co., Ltd.

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Objetivo de Cr con alta calidad

Objetivo de Cr con alta calidad

US$ 0,10-100,00
1.000 Piezas(MOQ)
W Objetivo

W Objetivo

US$ 100,00
1 Pieza(MOQ)
1/4

Hubei Fotma Machinery Co., Ltd.

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99.95% Tubo de Molienda Objetivo de Sputtering Objetivo de Molibdeno

99.95% Tubo de Molienda Objetivo de Sputtering Objetivo de Molibdeno

US$ 5,00-200,00
1 Kilogram(MOQ)
Tubo de molibdeno para objetivo de pulverización 99.95% Tubo de molibdeno puro

Tubo de molibdeno para objetivo de pulverización 99.95% Tubo de molibdeno puro

US$ 40,00-50,00
1 Kg(MOQ)
1/4

Hebei Zhongyi Import and Export Co., Ltd.

3 años
·Empresa Comercial
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Recubrimiento cerámico de disulfuro de tungsteno puro Ws2 para un recubrimiento de alta calidad mediante pulverización

Recubrimiento cerámico de disulfuro de tungsteno puro Ws2 para un recubrimiento de alta calidad mediante pulverización

US$ 9,00-12,00
10 Kg(MOQ)
Objetivo de Sputtering de Disulfuro de Tungsteno de Alta Pureza Ws2 para Aplicaciones de Recubrimiento

Objetivo de Sputtering de Disulfuro de Tungsteno de Alta Pureza Ws2 para Aplicaciones de Recubrimiento

US$ 9,00-12,00
10 Kg(MOQ)
1/4

Inner Mongolia Pusheng Iron &Steel Co., Ltd.

5.0
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Materiales Primos Alta Pureza 99.7% Lingotes de Silicio Metálicos Objetivos de Silicio Puro Objetivos de Sputtering

Materiales Primos Alta Pureza 99.7% Lingotes de Silicio Metálicos Objetivos de Silicio Puro Objetivos de Sputtering

US$ 2.000,00-2.500,00
22 Montones(MOQ)
Silicio policristalino de alta pureza 99.999% objetivo de pulverización de polisilicio

Silicio policristalino de alta pureza 99.999% objetivo de pulverización de polisilicio

US$ 2.769,00-3.100,00
22 Montones(MOQ)
1/4

Xiamen U-Spring Technology Co., Ltd

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Objetivo plano de aleación de aluminio U-Spring / objetivo de pulverización para pulverización magnetrónica y recubrimiento al vacío

Objetivo plano de aleación de aluminio U-Spring / objetivo de pulverización para pulverización magnetrónica y recubrimiento al vacío

US$ 2.000,00
1 Pcs(MOQ)
Objetivo de arco de aluminio / cátodos de aluminio / objetivo de pulverización para pulverización magnetrónica y recubrimiento al vacío

Objetivo de arco de aluminio / cátodos de aluminio / objetivo de pulverización para pulverización magnetrónica y recubrimiento al vacío

US$ 2.000,00
1 Pcs(MOQ)
1/2
13
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