Índice de Fábrica China

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Capacidad de R&D

OEMODMMarca PropiaOtros

Ingresos Anuales

Por debajo de US $ 1 Millón1 ~ 2,5 millones de dólares2,5 ~ 5 millones de dólares5 ~ 10 millones de dólares10 ~ 50 millones de dólares

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Número de empleados

Menos de 5 Personas5-50 Personas51-200 Personas201-500 Personas501-1000 Personas

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Provincia & Región

AnhuiBeijingChongqingFujianGuangdong

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Proveedores revisados por servicios de inspección.

sobre al objetivo

Innovación tecnológica
Cadenas de suministro confiables
Capacidades de fabricación sustanciales

al objetivo500+ fábricas verificadas

Beenine Shanke Technology Co., Ltd.

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Objetivo de sputtering de aleación de titanio y aluminio Ti/Al de construcción multi-PCS 99.99% puro

Objetivo de sputtering de aleación de titanio y aluminio Ti/Al de construcción multi-PCS 99.99% puro

US$ 80,00-500,00

Objetivo de sputtering de aluminio de alta calidad, unión, precio en China

Objetivo de sputtering de aluminio de alta calidad, unión, precio en China

US$ 80,00-500,00

Objetivo de Sputtering de Aluminio Al Multi-PCS 99.99% Recubrimiento PVD puro de China

Objetivo de Sputtering de Aluminio Al Multi-PCS 99.99% Recubrimiento PVD puro de China

US$ 80,00-500,00

99.999% Pureza 5n Fabricación de blanco de pulverización de aluminio Al en China

99.999% Pureza 5n Fabricación de blanco de pulverización de aluminio Al en China

US$ 80,00-500,00

1/4

Changsha Xinkang Advanced Materials Co., Ltd.

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Objetivo de sputtering de aluminio de alta pureza con buen precio

Objetivo de sputtering de aluminio de alta pureza con buen precio

US$ 10,00-200,00

99.99%-99.9999% Bloques de Metal de Aluminio Al Objetivo de Sputtering

99.99%-99.9999% Bloques de Metal de Aluminio Al Objetivo de Sputtering

US$ 70,00-80,00

Objetivo de Sputtering de Aluminio Disco de Aluminio Placa Hoja para Recubrimiento PVD

Objetivo de Sputtering de Aluminio Disco de Aluminio Placa Hoja para Recubrimiento PVD

US$ 70,00-80,00

Objetivo de Sputtering ZnO/Al de Alta Calidad Azo ZnO/Al2O3 a Precios Competitivos

Objetivo de Sputtering ZnO/Al de Alta Calidad Azo ZnO/Al2O3 a Precios Competitivos

US$ 50,00-299,00

1/4

Lonwin Industry Group Limited

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99.99% Blanco de Sputtering de Aluminio de Metal Puro para Recubrimiento PVD

99.99% Blanco de Sputtering de Aluminio de Metal Puro para Recubrimiento PVD

US$ 17,00-55,00

Objetivo de Cerámica de Carburo de Aluminio de Alta Calidad Al4c3

Objetivo de Cerámica de Carburo de Aluminio de Alta Calidad Al4c3

US$ 17,00-55,00

99.9% Nisi2 Objetivos de Cerámica Objetivos de Sputtering de Silicuro de Níquel

99.9% Nisi2 Objetivos de Cerámica Objetivos de Sputtering de Silicuro de Níquel

US$ 17,00-55,00

Alta Pureza 99.999% Puro Ge Germanio Objetivo de Sputtering Objetivo Magnetrón

Alta Pureza 99.999% Puro Ge Germanio Objetivo de Sputtering Objetivo Magnetrón

US$ 17,00-55,00

1/4

Rheniumet Ltd.

·Empresa Comercial

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99.98%~99.998% Objetivo de Aluminio Al para Condensadores Electrolíticos

99.98%~99.998% Objetivo de Aluminio Al para Condensadores Electrolíticos

Objetivo de sputtering de silicio de aluminio puro de alta pureza para la industria de películas delgadas

Objetivo de sputtering de silicio de aluminio puro de alta pureza para la industria de películas delgadas

US$ 50,00-1.500,00

3mm Blanco grueso de rutenio, blanco de sputtering de Ru

3mm Blanco grueso de rutenio, blanco de sputtering de Ru

Objetivo de Sputtering de Rhenio de Alta Pureza 99.99%, Objetivo Redondo de Metal Re

Objetivo de Sputtering de Rhenio de Alta Pureza 99.99%, Objetivo Redondo de Metal Re

US$ 1.000,00-4.000,00

1/4

Zhengzhou Tainuo Film Materials Co., Ltd.

·Fabricante/Fábrica

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Al, objetivo de sputtering de Cr para evaporación térmica y máquina de sputtering magnetrón

Al, objetivo de sputtering de Cr para evaporación térmica y máquina de sputtering magnetrón

US$ 30,00-200,00

Dos pistolas hacia arriba recubridor de magnetrón por sputtering

Dos pistolas hacia arriba recubridor de magnetrón por sputtering

US$ 26.500,00

Recubridor de Plasma por Sputtering de Doble Objetivo Estándar de Laboratorio para Recubrimiento de Películas de Metales Ligeros Al Mg Li

Recubridor de Plasma por Sputtering de Doble Objetivo Estándar de Laboratorio para Recubrimiento de Películas de Metales Ligeros Al Mg Li

US$ 6.200,00-7.200,00

Revestidor de plasma por pulverización de triple objetivo con etapa de calentamiento rotativa para recubrimiento de metal Al Mg Li

Revestidor de plasma por pulverización de triple objetivo con etapa de calentamiento rotativa para recubrimiento de metal Al Mg Li

US$ 10.000,00-11.500,00

1/4

Xiamen Tmax Battery Equipments Limited

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Marca TMAXCN 4" Diámetro X 0.25" 4n Objetivo de Sputtering de Alta Pureza de Aluminio (Al)

US$ 78,00-90,00

Máquina de recubrimiento por pulverización de plasma rotativo TMAXCN Marca VTC-16-3HD-LD 3 incluyendo 3 objetivos

US$ 8.000,00

Sistema de evaporación térmica de alto vacío para la deposición de películas metálicas de alta pureza

Sistema de evaporación térmica de alto vacío para la deposición de películas metálicas de alta pureza

US$ 6.000,00

Sistema de Deposición por Sputtering PVD de Metal de Múltiples Modos en Glovebox 4-Target para I+D

Sistema de Deposición por Sputtering PVD de Metal de Múltiples Modos en Glovebox 4-Target para I+D

US$ 50.000,00

1/4

Xiangtan Hondson Coating Technology Co., Ltd.

·Fabricante/Fábrica & Empresa Comercial

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Bloque de titanio de alta pureza personalizado, material de titanio, material de recubrimiento por ionización multi-arco, objetivo metálico

Bloque de titanio de alta pureza personalizado, material de titanio, material de recubrimiento por ionización multi-arco, objetivo metálico

US$ 500,00-1.000,00

Objetivo de magnetrón cilíndrico para recubrimiento PVD en vacío de tubos de titanio, materiales en bruto para recubrimiento, cátodos

Objetivo de magnetrón cilíndrico para recubrimiento PVD en vacío de tubos de titanio, materiales en bruto para recubrimiento, cátodos

US$ 800,00-1.500,00

Cámara de recubrimiento de vidrio máquina de deposición de aluminio en línea

Cámara de recubrimiento de vidrio máquina de deposición de aluminio en línea

US$ 1.000.000,00-1.500.000,00

Sistema Metalizador Al Vacío PARA Plástico

Sistema Metalizador Al Vacío PARA Plástico

US$ 30.000,00-48.000,00

1/4

Shaanxi Mingsheng Guangpu Metal Materials Co., Ltd.

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Objetivo de aluminio y circonio CIP versátil con composición de cromo

Objetivo de aluminio y circonio CIP versátil con composición de cromo

US$ 85,00-95,00

Cubierta Protectora Personalizada de Molibdeno Mo1/M2 para Dispositivos Electrónicos

Cubierta Protectora Personalizada de Molibdeno Mo1/M2 para Dispositivos Electrónicos

US$ 50,00-65,00

Foil de Molibdeno de Alta Pureza 99.95%+ Laminado de Precisión para Componentes Electrónicos de Semiconductores Tamaño Personalizado Disponible

Foil de Molibdeno de Alta Pureza 99.95%+ Laminado de Precisión para Componentes Electrónicos de Semiconductores Tamaño Personalizado Disponible

US$ 90,00-200,00

Hoja de aleación de titanio para estructuras de aeronaves

Hoja de aleación de titanio para estructuras de aeronaves

US$ 28,00-35,00

50 kilograms(MOQ)

1/4

Ningbo Galaxy International Trading Co., Ltd.

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Tubo de titanio y aluminio de alta calidad sin costuras para ingeniería petroquímica

Tubo de titanio y aluminio de alta calidad sin costuras para ingeniería petroquímica

Objetivo de sputtering redondo de aluminio de titanio de alta calidad

Objetivo de sputtering redondo de aluminio de titanio de alta calidad

99.9% Objetivo de recubrimiento al vacío de níquel, cromo y aluminio para el proceso PVD, objetivo de cromo y tantalio

99.9% Objetivo de recubrimiento al vacío de níquel, cromo y aluminio para el proceso PVD, objetivo de cromo y tantalio

Objetivo Redondo de Zirconio con Ductilidad Colorida y Resistencia al Calor

Objetivo Redondo de Zirconio con Ductilidad Colorida y Resistencia al Calor

1/4

CHANGSHA EASCHEM CO., LIMITED

·Empresa Comercial

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Precio de fábrica para vender objetivo de aleación de aluminio y itrio Y de Easchem

Precio de fábrica para vender objetivo de aleación de aluminio y itrio Y de Easchem

Varilla de metal de escandio objetivo granular CAS No 7440-20-2 Sc 3n 4n 5n

Varilla de metal de escandio objetivo granular CAS No 7440-20-2 Sc 3n 4n 5n

Varilla de metal de samario granular CAS No 7440-19-9 Sm 3n 4n

Varilla de metal de samario granular CAS No 7440-19-9 Sm 3n 4n

Varilla de metal de europio granular CAS No 7440-53-1 UE 3n 4n

Varilla de metal de europio granular CAS No 7440-53-1 UE 3n 4n

1/4

Junsion Precision Hardware Co., Ltd.

·Fabricante/Fábrica & Empresa Comercial

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Objetivo de pulverización de titanio, aluminio, cobre, cromo, níquel, tubo de magnetrón, recubrimiento PVD rotativo

Objetivo de pulverización de titanio, aluminio, cobre, cromo, níquel, tubo de magnetrón, recubrimiento PVD rotativo

US$ 0,50-10,00

Piezas de torneado de aluminio anodizado de maquinaria de precisión

Piezas de torneado de aluminio anodizado de maquinaria de precisión

US$ 0,50-10,00

1/4

Sid Metal Co., Ltd

·Fabricante/Fábrica & Empresa Comercial

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Pellets de Aluminio de Alta Pureza 99.995% para Recubrimiento por Evaporación Objetivo de Aluminio por Sputtering

Pellets de Aluminio de Alta Pureza 99.995% para Recubrimiento por Evaporación Objetivo de Aluminio por Sputtering

US$ 100,00-200,00

Alta Pureza Zr702 Zr705 Objetivo de Zirconio Conductividad Térmica Objetivo de Sputtering

Alta Pureza Zr702 Zr705 Objetivo de Zirconio Conductividad Térmica Objetivo de Sputtering

US$ 0,05-100,00

1/4

SUZHOU TECHNO-TEC PHOTOELECTRIC MATERIALS CO., LTD

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Al Target de aluminio de esputo de objetivo / aluminio de objetivo rotatorio para circuitos integrados / LCD

Al Target de aluminio de esputo de objetivo / aluminio de objetivo rotatorio para circuitos integrados / LCD

US$ 1,00-10,00

1/4

Jiangsu Cicel Vacuum Technology Co., Ltd.

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Objetivo de titanio por sputtering, objetivo de sputtering de titanio, recubrimiento al vacío, objetivo de titanio

Objetivo de titanio por sputtering, objetivo de sputtering de titanio, recubrimiento al vacío, objetivo de titanio

US$ 100,00-300,00

Objetivo de Sputtering de Cromo PVD Objetivo de Cromo/Objetivo de Sputtering de Cr

Objetivo de Sputtering de Cromo PVD Objetivo de Cromo/Objetivo de Sputtering de Cr

US$ 130,00-300,00

Precio de objetivos de titanio de alta pureza para recubrimiento PVD/objetivo de titanio por pulverización, objetivo redondo de titanio en venta

Precio de objetivos de titanio de alta pureza para recubrimiento PVD/objetivo de titanio por pulverización, objetivo redondo de titanio en venta

US$ 80,00-300,00

Objetivos de PVD de aleación de aluminio y titanio, objetivos de sputtering de titanio, objetivo de aleación de Tial para recubrimiento

Objetivos de PVD de aleación de aluminio y titanio, objetivos de sputtering de titanio, objetivo de aleación de Tial para recubrimiento

US$ 80,00-300,00

1/4

Uv Tech Material Ltd

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PVD de aluminio cilíndrica de destino al destino Sputter giratorio el 99,999% pureza 2n-5n disponible

PVD de aluminio cilíndrica de destino al destino Sputter giratorio el 99,999% pureza 2n-5n disponible

Shanghai Zenkaah New Materials Technology Co., Ltd.

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Aluminio de alta pureza al objetivo, material objetivo de alúmina, PVD (deposición física de vapor) material de revestimiento, Magnetron esputtering aluminio objetivo, y soldadura

Aluminio de alta pureza al objetivo, material objetivo de alúmina, PVD (deposición física de vapor) material de revestimiento, Magnetron esputtering aluminio objetivo, y soldadura

Changsha Zishan Trading Co., Ltd.

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99,99% de alta pureza al aluminio espumante objetivo para el magnetrón de laboratorio Investigación de recubrimiento de esputos

99,99% de alta pureza al aluminio espumante objetivo para el magnetrón de laboratorio Investigación de recubrimiento de esputos

US$ 38,00-42,00

Geomaster Group

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152mm Estilo Suizo 3D Objetivo de Escáner Láser y Objetivo de Encuesta (Parte Trasera Negra) para Estaciones de Escaneo, Lidar

152mm Estilo Suizo 3D Objetivo de Escáner Láser y Objetivo de Encuesta (Parte Trasera Negra) para Estaciones de Escaneo, Lidar

US$ 77,75-78,95

152mm Estilo Suizo 3D Objetivo de Escáner Láser y Objetivo de Encuesta (Parte Posterior Fluorescente Amarilla) para Estaciones de Escaneo, Multiestaciones, Lidar

152mm Estilo Suizo 3D Objetivo de Escáner Láser y Objetivo de Encuesta (Parte Posterior Fluorescente Amarilla) para Estaciones de Escaneo, Multiestaciones, Lidar

US$ 79,95-81,45

115mm Estilo Suizo 3D Objetivo de Escáner Láser y Objetivo de Encuesta (Parte Trasera Negra) para Estaciones de Escaneo y Lidar

115mm Estilo Suizo 3D Objetivo de Escáner Láser y Objetivo de Encuesta (Parte Trasera Negra) para Estaciones de Escaneo y Lidar

US$ 64,95-66,75

115mm Estilo Suizo 3D Objetivo de Escáner Láser y Objetivo de Encuesta (Fondo Fluorescente Amarillo) para Estaciones de Escaneo, Multiestaciones, Lidar

115mm Estilo Suizo 3D Objetivo de Escáner Láser y Objetivo de Encuesta (Fondo Fluorescente Amarillo) para Estaciones de Escaneo, Multiestaciones, Lidar

US$ 66,65-67,95

1/4

Ningbo Danko Vacuum Technology Co., Ltd.

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Metalización al vacío de aleación de titanio y aluminio

Metalización al vacío de aleación de titanio y aluminio

US$ 30,00-100,00

Material objetivo cromo para máquina de recubrimiento al vacío

Material objetivo cromo para máquina de recubrimiento al vacío

US$ 30,00-100,00

Fabricante Proveedor de Objetivos de Titanio

Fabricante Proveedor de Objetivos de Titanio

US$ 30,00-100,00

Recubrimiento al vacío de objetivo de titanio

Recubrimiento al vacío de objetivo de titanio

US$ 30,00-100,00

1/4

Zhonghe Steel (Tianjin) Co., Ltd.

·Empresa Comercial

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Objetivo de Sputtering de Titanio de Alta Pureza Gr1 Gr2 para PVD

Objetivo de Sputtering de Titanio de Alta Pureza Gr1 Gr2 para PVD

US$ 10,00-25,00

Objetivos de PVD de aleación de aluminio y titanio, objetivos de sputtering de titanio, objetivo de aleación de Tial para recubrimiento

Objetivos de PVD de aleación de aluminio y titanio, objetivos de sputtering de titanio, objetivo de aleación de Tial para recubrimiento

US$ 10,00-25,00

Precio del objetivo de sputtering de titanio PVD personalizado

Precio del objetivo de sputtering de titanio PVD personalizado

US$ 10,00-25,00

Objetivo de Titanio de Alta Pureza 99.99% para Máquina de Recubrimiento por Vacío / PVD

Objetivo de Titanio de Alta Pureza 99.99% para Máquina de Recubrimiento por Vacío / PVD

US$ 10,00-25,00

1/4

Inner Mongolia Rongtai Rhenium New Materials Co., Ltd.

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Objetivo de Sputtering de Ytrio Premium para Soluciones Avanzadas de Recubrimiento Metálico

Objetivo de Sputtering de Ytrio Premium para Soluciones Avanzadas de Recubrimiento Metálico

US$ 115,00-130,00

Objetivo de tubo circular de alta pureza para la fabricación de semiconductores

Objetivo de tubo circular de alta pureza para la fabricación de semiconductores

US$ 115,00-130,00

99.9% Objetivo de Sputtering de Tierra Rara Yitrio Metal Y Disco de Yitrio para Semiconductores

99.9% Objetivo de Sputtering de Tierra Rara Yitrio Metal Y Disco de Yitrio para Semiconductores

US$ 115,00-130,00

Objetivo de Sputtering de Ytterbio Avanzado para Soluciones Ópticas Superiores

Objetivo de Sputtering de Ytterbio Avanzado para Soluciones Ópticas Superiores

US$ 190,00-199,00

1/4

Tianjin Rui Yuan Electric Material Co., Ltd.

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Fábrica china de alta pureza 6n cobre (Cu) 99.9999% objetivo de sputtering

Fábrica china de alta pureza 6n cobre (Cu) 99.9999% objetivo de sputtering

US$ 89,00-180,00

1.000 kilograms(MOQ)

Objetivos de Cobre de Ultra Pureza 99.9999% 7n5

Objetivos de Cobre de Ultra Pureza 99.9999% 7n5

US$ 26,99-53,03

1.000 kilograms(MOQ)

C110/C10100/Tu00 5n Objetivo de Sputtering de Alta Pureza Cobre 99.999% para Recubrimiento Óptico

C110/C10100/Tu00 5n Objetivo de Sputtering de Alta Pureza Cobre 99.999% para Recubrimiento Óptico

99.9999% 6n Placas de respaldo de objetivos de sputtering de cobre de alta pureza

99.9999% 6n Placas de respaldo de objetivos de sputtering de cobre de alta pureza

US$ 335,00-350,00

1/4

Zhengzhou Shibo Nonferrous Metals Products Co., Ltd.

·Fabricante/Fábrica & Empresa Comercial

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Objetivo de Sputtering de Molibdeno Pulido (99.95% puro)

Objetivo de Sputtering de Molibdeno Pulido (99.95% puro)

US$ 40,00-60,00

Objetivo de molibdeno para recubrimiento por pulverización al vacío

Objetivo de molibdeno para recubrimiento por pulverización al vacío

Objetivo de sputtering de molibdeno de alta pureza, disco de molibdeno

Objetivo de sputtering de molibdeno de alta pureza, disco de molibdeno

Venta de fábrica de lámina de molibdeno puro con superficie brillante laminada en frío

Venta de fábrica de lámina de molibdeno puro con superficie brillante laminada en frío

1/2

Shanghai Tankii Alloy Material Co., Ltd.

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Objetivo de tubo de molibdeno para batería solar

Objetivo de tubo de molibdeno para batería solar

US$ 65,00-80,00

Objetivo de tubo de molibdeno de alta pureza

Objetivo de tubo de molibdeno de alta pureza

Ni Span C902 alambre de aleación de hierro níquel cromo (Ni42CrTiAl)

Ni Span C902 alambre de aleación de hierro níquel cromo (Ni42CrTiAl)

US$ 20,00-100,00

Placa de aleación de níquel Ni Span C 902, hoja, tubo, tubería, tira, bobina

Placa de aleación de níquel Ni Span C 902, hoja, tubo, tubería, tira, bobina

US$ 26,00-30,00

100 kilograms(MOQ)

1/4

ATM Material Co., Ltd.

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Objetivo de Cr con alta calidad

Objetivo de Cr con alta calidad

US$ 0,10-100,00

1.000 Piezas(MOQ)

W Objetivo

W Objetivo

Servicio de Prensado Isostático en Calor / Alta Temperatura Alta Presión / Servicios de Reprocesamiento de Piezas Hip / Consolidación de Polvo por Difusión de Densificación

Servicio de Prensado Isostático en Calor / Alta Temperatura Alta Presión / Servicios de Reprocesamiento de Piezas Hip / Consolidación de Polvo por Difusión de Densificación

Productos de Prensado Isostático en Caliente / Piezas de Prensado Isostático en Caliente / Equipos HIP de Alta Calidad / Alta Temperatura Alta Presión

Productos de Prensado Isostático en Caliente / Piezas de Prensado Isostático en Caliente / Equipos HIP de Alta Calidad / Alta Temperatura Alta Presión

1/4

SHAOXING TIANLONG TIN MATERIALS CO., LTD.

·Fabricante/Fábrica & Empresa Comercial

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Materiales personalizables premium 2.5mm Sn10Zn90 para reventa

Materiales personalizables premium 2.5mm Sn10Zn90 para reventa

US$ 9,00-12,00

Alambre de estaño premium para usos creativos versátiles de material objetivo

Alambre de estaño premium para usos creativos versátiles de material objetivo

US$ 31,00-33,00

Alambre de Zinc de Alta Pureza para Aplicaciones Avanzadas de Sputtering

Alambre de Zinc de Alta Pureza para Aplicaciones Avanzadas de Sputtering

US$ 4,00-5,50

Alambre de Zinc de Ultra Alta Pureza 99.995% para Herramientas de Precisión

Alambre de Zinc de Ultra Alta Pureza 99.995% para Herramientas de Precisión

US$ 4,00-5,50

1/4

Zhengzhou CY Scientific Instrument Co., Ltd.

·Fabricante/Fábrica & Empresa Comercial

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Objetivo de Sputtering de Plasma de Alta Pureza

Objetivo de Sputtering de Plasma de Alta Pureza

Recubridor de deposición por sputtering magnetrón PVD personalizable para películas de Ti y Al

Recubridor de deposición por sputtering magnetrón PVD personalizable para películas de Ti y Al

US$ 25.900,00-40.200,00

Mini recubridor de plasma por pulverización para recubrir metales ligeros Al Mg Li

Mini recubridor de plasma por pulverización para recubrir metales ligeros Al Mg Li

US$ 6.500,00-8.100,00

Revestidor de Sputtering Magnetrón de Aluminio de Escritorio para Deposición de Películas Finas de Un Solo Objetivo

Revestidor de Sputtering Magnetrón de Aluminio de Escritorio para Deposición de Películas Finas de Un Solo Objetivo

US$ 20.000,00-23.000,00

1/4

Inner Mongolia Pusheng Iron &Steel Co., Ltd.

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Materiales Primos Alta Pureza 99.7% Lingotes de Silicio Metálicos Objetivos de Silicio Puro Objetivos de Sputtering

Materiales Primos Alta Pureza 99.7% Lingotes de Silicio Metálicos Objetivos de Silicio Puro Objetivos de Sputtering

US$ 2.000,00-2.500,00

22 Montones(MOQ)

Silicio policristalino de alta pureza 99.999% objetivo de pulverización de polisilicio

Silicio policristalino de alta pureza 99.999% objetivo de pulverización de polisilicio

US$ 2.769,00-3.100,00

22 Montones(MOQ)

Materiales Primos Metales de Silicio de Alta Pureza Objetivos de Silicio Puro

Materiales Primos Metales de Silicio de Alta Pureza Objetivos de Silicio Puro

US$ 2.769,00-3.100,00

22 Montones(MOQ)

Suministro de Materiales de Objetivo China -325 Malla Mo Polvo de Metal de Molibdeno de Alta Calidad

Suministro de Materiales de Objetivo China -325 Malla Mo Polvo de Metal de Molibdeno de Alta Calidad

US$ 270,00-300,00

1/4

FUJIAN ACETRON NEW MATERIALS CO., LTD.

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ACETRON 5N5 99.9995% Objetivo de Sputtering de Al de Alta Pureza para Recubrimiento PVD

ACETRON 5N5 99.9995% Objetivo de Sputtering de Al de Alta Pureza para Recubrimiento PVD

US$ 99,00-9.999,00

ACETRON 4N 99.99% Objetivo de Sputtering de Aluminio de Alta Pureza Rotatable para Recubrimiento PVD

ACETRON 4N 99.99% Objetivo de Sputtering de Aluminio de Alta Pureza Rotatable para Recubrimiento PVD

US$ 99,00-99.999,00

ACETRON 3N 99.9% Blanco de Sputtering de Ti+Al de Alta Pureza para Recubrimiento en Vacío/PVD

ACETRON 3N 99.9% Blanco de Sputtering de Ti+Al de Alta Pureza para Recubrimiento en Vacío/PVD

US$ 99,00-99.999,00

ACETRON 99.6% Blanco redondo de Ti+Al de alta pureza para recubrimiento en vacío/PVD

ACETRON 99.6% Blanco redondo de Ti+Al de alta pureza para recubrimiento en vacío/PVD

US$ 99,00-99.999,00

Jiangyin Entret Coating Technology Co., Ltd.

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Ti-Al aluminio blanco de titanio El titanio aluminio blanco de sputtering

Ti-Al aluminio blanco de titanio El titanio aluminio blanco de sputtering

US$ 30,00-50,00

Silicon blanco de Sputtering giratorio de aluminio de alta calidad (sputtering meta)

Silicon blanco de Sputtering giratorio de aluminio de alta calidad (sputtering meta)

US$ 200,00-300,00

La norma ISO aprobó Sputtering meta para el 90% de silicio y aluminio de 10%

La norma ISO aprobó Sputtering meta para el 90% de silicio y aluminio de 10%

US$ 2.500,00

Silicio de alta calidad de Sputtering meta

Silicio de alta calidad de Sputtering meta

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