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sobre al objetivo
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al objetivo400+ fábricas verificadas

Beenine Shanke Technology Co., Ltd.

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Objetivo de sputtering de aluminio de alta calidad, unión, precio en China

Objetivo de sputtering de aluminio de alta calidad, unión, precio en China

US$ 80,00-500,00
1 Pieza(MOQ)
Objetivo de Sputtering de Aluminio Al Multi-PCS 99.99% Recubrimiento PVD puro de China

Objetivo de Sputtering de Aluminio Al Multi-PCS 99.99% Recubrimiento PVD puro de China

US$ 80,00-500,00
1 Pieza(MOQ)
Objetivo de sputtering de aleación de titanio y aluminio Ti/Al de construcción multi-PCS 99.99% puro

Objetivo de sputtering de aleación de titanio y aluminio Ti/Al de construcción multi-PCS 99.99% puro

US$ 80,00-500,00
1 Pieza(MOQ)
Objetivo de sputtering tubular plano de aluminio de alta pureza a precio económico de fábrica

Objetivo de sputtering tubular plano de aluminio de alta pureza a precio económico de fábrica

US$ 80,00-500,00
1 Pieza(MOQ)
1/4

Changsha Xinkang Advanced Materials Co., Ltd.

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Objetivo de sputtering de aluminio de alta pureza con buen precio

Objetivo de sputtering de aluminio de alta pureza con buen precio

US$ 10,00-200,00
1 Pieza(MOQ)
Objetivo de Sputtering ZnO/Al de Alta Calidad Azo ZnO/Al2O3 a Precios Competitivos

Objetivo de Sputtering ZnO/Al de Alta Calidad Azo ZnO/Al2O3 a Precios Competitivos

US$ 50,00-299,00
1 Pieza(MOQ)
Xinkang 99.9995% Pureza Al Objetivo de Aluminio para Recubrimiento al Vacío Tamaños Personalizados

Xinkang 99.9995% Pureza Al Objetivo de Aluminio para Recubrimiento al Vacío Tamaños Personalizados

US$ 55,00-135,00
1 Pieza(MOQ)
Xinkang 99.99% Objetivo de Sputtering de Aluminio Objetivo de Al Tamaño Personalizado para Recubrimiento al Vacío

Xinkang 99.99% Objetivo de Sputtering de Aluminio Objetivo de Al Tamaño Personalizado para Recubrimiento al Vacío

US$ 55,00-135,00
1 Pieza(MOQ)
1/4

Lonwin Industry Group Limited

5.0
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99.99% Blanco de Sputtering de Aluminio de Metal Puro para Recubrimiento PVD

99.99% Blanco de Sputtering de Aluminio de Metal Puro para Recubrimiento PVD

US$ 17,00-55,00
1 Kg(MOQ)
Objetivo de Cerámica de Carburo de Aluminio de Alta Calidad Al4c3

Objetivo de Cerámica de Carburo de Aluminio de Alta Calidad Al4c3

US$ 17,00-55,00
1 Kg(MOQ)
99.99% Objetivo de Sputtering de Tungsteno Puro W Material de Tungsteno

99.99% Objetivo de Sputtering de Tungsteno Puro W Material de Tungsteno

US$ 17,00-55,00
1 Kg(MOQ)
99.9% Objetivo de Sputtering de Vanadio Objetivo de Sputtering de Metal de Vanadio Objetivo de Sputtering de Vanadio

99.9% Objetivo de Sputtering de Vanadio Objetivo de Sputtering de Metal de Vanadio Objetivo de Sputtering de Vanadio

US$ 17,00-55,00
1 Kg(MOQ)
1/4

Rheniumet Ltd.

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99.98%~99.998% Objetivo de Aluminio Al para Condensadores Electrolíticos

99.98%~99.998% Objetivo de Aluminio Al para Condensadores Electrolíticos

Negociable
1 Pieza(MOQ)
Objetivo de sputtering de silicio de aluminio puro de alta pureza para la industria de películas delgadas

Objetivo de sputtering de silicio de aluminio puro de alta pureza para la industria de películas delgadas

US$ 50,00-1.500,00
1 Pieza(MOQ)
3mm Blanco grueso de rutenio, blanco de sputtering de Ru

3mm Blanco grueso de rutenio, blanco de sputtering de Ru

Negociable
1 Pieza(MOQ)
Objetivo de Sputtering de Rhenio de Alta Pureza 99.99%, Objetivo Redondo de Metal Re

Objetivo de Sputtering de Rhenio de Alta Pureza 99.99%, Objetivo Redondo de Metal Re

US$ 1.000,00-4.000,00
1 Pieza(MOQ)
1/4

Zhengzhou Tainuo Film Materials Co., Ltd.

9 años
·Fabricante/Fábrica
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Al, objetivo de sputtering de Cr para evaporación térmica y máquina de sputtering magnetrón

Al, objetivo de sputtering de Cr para evaporación térmica y máquina de sputtering magnetrón

US$ 30,00-200,00
1 Pieza(MOQ)
Dos pistolas hacia arriba recubridor de magnetrón por sputtering

Dos pistolas hacia arriba recubridor de magnetrón por sputtering

US$ 26.500,00
1 Pieza(MOQ)
Revestidor de plasma por pulverización de triple objetivo con etapa de calentamiento rotativa para recubrimiento de metal Al Mg Li

Revestidor de plasma por pulverización de triple objetivo con etapa de calentamiento rotativa para recubrimiento de metal Al Mg Li

US$ 10.000,00-11.500,00
1 Pieza(MOQ)
Recubridor de Plasma por Sputtering de Doble Objetivo Estándar de Laboratorio para Recubrimiento de Películas de Metales Ligeros Al Mg Li

Recubridor de Plasma por Sputtering de Doble Objetivo Estándar de Laboratorio para Recubrimiento de Películas de Metales Ligeros Al Mg Li

US$ 6.200,00-7.200,00
1 Pieza(MOQ)
1/4

Xiamen Tmax Battery Equipments Limited

5.0
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Marca TMAXCN 4" Diámetro X 0.25" 4n Objetivo de Sputtering de Alta Pureza de Aluminio (Al)

Marca TMAXCN 4" Diámetro X 0.25" 4n Objetivo de Sputtering de Alta Pureza de Aluminio (Al)

US$ 78,00-90,00
1 Pieza(MOQ)
Máquina de recubrimiento por pulverización de plasma rotativo TMAXCN Marca VTC-16-3HD-LD 3 incluyendo 3 objetivos

Máquina de recubrimiento por pulverización de plasma rotativo TMAXCN Marca VTC-16-3HD-LD 3 incluyendo 3 objetivos

US$ 8.000,00
1 Pieza(MOQ)
Marca TMAXCN - VTC-600-3HD-LD Máquina de recubrimiento por pulverización de alta vacuidad DC/RF 3 Cabezal 2 Recubridor por pulverización de plasma magnetrón

Marca TMAXCN - VTC-600-3HD-LD Máquina de recubrimiento por pulverización de alta vacuidad DC/RF 3 Cabezal 2 Recubridor por pulverización de plasma magnetrón

US$ 18.000,00
1 Pieza(MOQ)
Sistema de Deposición por Sputtering Magnetrón Automático para la Fabricación de Películas Delgadas de Semiconductores y MEMS

Sistema de Deposición por Sputtering Magnetrón Automático para la Fabricación de Películas Delgadas de Semiconductores y MEMS

US$ 45.000,00
1 Pieza(MOQ)
1/4

Xiangtan Hondson Coating Technology Co., Ltd.

5 años
·Fabricante/Fábrica & Empresa Comercial
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Bloque de titanio de alta pureza personalizado, material de titanio, material de recubrimiento por ionización multi-arco, objetivo metálico

Bloque de titanio de alta pureza personalizado, material de titanio, material de recubrimiento por ionización multi-arco, objetivo metálico

US$ 500,00-1.000,00
1 Pieza(MOQ)
Objetivo de magnetrón cilíndrico para recubrimiento PVD en vacío de tubos de titanio, materiales en bruto para recubrimiento, cátodos

Objetivo de magnetrón cilíndrico para recubrimiento PVD en vacío de tubos de titanio, materiales en bruto para recubrimiento, cátodos

US$ 800,00-1.500,00
1 Pieza(MOQ)
Sistema Metalizador Al Vacío PARA Plástico

Sistema Metalizador Al Vacío PARA Plástico

US$ 30.000,00-48.000,00
1 Pieza(MOQ)
Cámara de recubrimiento de vidrio máquina de deposición de aluminio en línea

Cámara de recubrimiento de vidrio máquina de deposición de aluminio en línea

US$ 1.000.000,00-1.500.000,00
1 Pieza(MOQ)
1/4

Ningbo Galaxy International Trading Co., Ltd.

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Tubo de titanio y aluminio de alta calidad sin costuras para ingeniería petroquímica

Tubo de titanio y aluminio de alta calidad sin costuras para ingeniería petroquímica

US$ 50,00
3 Piezas(MOQ)
Objetivo de sputtering redondo de aluminio de titanio de alta calidad

Objetivo de sputtering redondo de aluminio de titanio de alta calidad

US$ 20,00
50 Piezas(MOQ)
99.9% Objetivo de recubrimiento al vacío de níquel, cromo y aluminio para el proceso PVD, objetivo de cromo y tantalio

99.9% Objetivo de recubrimiento al vacío de níquel, cromo y aluminio para el proceso PVD, objetivo de cromo y tantalio

US$ 55,00
1 Pieza(MOQ)
Buena conductividad térmica y eléctrica objetivo de lámina de titanio

Buena conductividad térmica y eléctrica objetivo de lámina de titanio

US$ 20,00
1 Pieza(MOQ)
1/4

CHANGSHA EASCHEM CO., LIMITED

5 años
·Empresa Comercial
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Precio de fábrica para vender objetivo de aleación de aluminio y itrio Y de Easchem

Precio de fábrica para vender objetivo de aleación de aluminio y itrio Y de Easchem

Negociable
1 Piece(MOQ)
Varilla de metal de europio granular CAS No 7440-53-1 UE 3n 4n

Varilla de metal de europio granular CAS No 7440-53-1 UE 3n 4n

Negociable
1 Piece(MOQ)
Varilla de metal de terbio objetivo granular CAS No 7440-27-9 Tb 3n 4n

Varilla de metal de terbio objetivo granular CAS No 7440-27-9 Tb 3n 4n

Negociable
1 Piece(MOQ)
Varilla de metal de holmio objetivo granular CAS No 7440-60-0 Ho 3n 4n

Varilla de metal de holmio objetivo granular CAS No 7440-60-0 Ho 3n 4n

Negociable
1 Piece(MOQ)
1/4

Shaanxi Mingsheng Guangpu Metal Materials Co., Ltd.

3 años
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Objetivo de aluminio y circonio CIP versátil con composición de cromo

Objetivo de aluminio y circonio CIP versátil con composición de cromo

US$ 85,00-95,00
1 Pieza(MOQ)
Hoja de aleación de titanio para estructuras de aeronaves

Hoja de aleación de titanio para estructuras de aeronaves

US$ 28,00-35,00
50 kilograms(MOQ)
1/4

Sid Metal Co., Ltd

13 años
·Fabricante/Fábrica & Empresa Comercial
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Pellets de Aluminio de Alta Pureza 99.995% para Recubrimiento por Evaporación Objetivo de Aluminio por Sputtering

Pellets de Aluminio de Alta Pureza 99.995% para Recubrimiento por Evaporación Objetivo de Aluminio por Sputtering

US$ 100,00-200,00
1 Kg(MOQ)
Alta Pureza Zr702 Zr705 Objetivo de Zirconio Conductividad Térmica Objetivo de Sputtering

Alta Pureza Zr702 Zr705 Objetivo de Zirconio Conductividad Térmica Objetivo de Sputtering

US$ 0,05-100,00
1 Pieza(MOQ)
1/4

SUZHOU TECHNO-TEC PHOTOELECTRIC MATERIALS CO., LTD

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Al Target de aluminio de esputo de objetivo / aluminio de objetivo rotatorio para circuitos integrados / LCD

Al Target de aluminio de esputo de objetivo / aluminio de objetivo rotatorio para circuitos integrados / LCD

US$ 1,00-10,00
1 Kg(MOQ)
1/4

Jiangsu Cicel Vacuum Technology Co., Ltd.

4.5
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Objetivo de titanio por sputtering, objetivo de sputtering de titanio, recubrimiento al vacío, objetivo de titanio

Objetivo de titanio por sputtering, objetivo de sputtering de titanio, recubrimiento al vacío, objetivo de titanio

US$ 100,00-300,00
1 Pieza(MOQ)
Objetivo de Sputtering de Cromo PVD Objetivo de Cromo/Objetivo de Sputtering de Cr

Objetivo de Sputtering de Cromo PVD Objetivo de Cromo/Objetivo de Sputtering de Cr

US$ 130,00-300,00
1 Pieza(MOQ)
Precio de objetivos de titanio de alta pureza para recubrimiento PVD/objetivo de titanio por pulverización, objetivo redondo de titanio en venta

Precio de objetivos de titanio de alta pureza para recubrimiento PVD/objetivo de titanio por pulverización, objetivo redondo de titanio en venta

US$ 80,00-300,00
1 Pieza(MOQ)
Objetivos de PVD de aleación de aluminio y titanio, objetivos de sputtering de titanio, objetivo de aleación de Tial para recubrimiento

Objetivos de PVD de aleación de aluminio y titanio, objetivos de sputtering de titanio, objetivo de aleación de Tial para recubrimiento

US$ 80,00-300,00
1 Pieza(MOQ)
1/4

Uv Tech Material Ltd

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PVD de aluminio cilíndrica de destino al destino Sputter giratorio el 99,999% pureza 2n-5n disponible

PVD de aluminio cilíndrica de destino al destino Sputter giratorio el 99,999% pureza 2n-5n disponible

Negociable
1 Pieza(MOQ)

Shanghai Zenkaah New Materials Technology Co., Ltd.

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Aluminio de alta pureza al objetivo, material objetivo de alúmina, PVD (deposición física de vapor) material de revestimiento, Magnetron esputtering aluminio objetivo, y soldadura

Aluminio de alta pureza al objetivo, material objetivo de alúmina, PVD (deposición física de vapor) material de revestimiento, Magnetron esputtering aluminio objetivo, y soldadura

Negociable
1 Pieza(MOQ)

Changsha Zishan Trading Co., Ltd.

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99,99% de alta pureza al aluminio espumante objetivo para el magnetrón de laboratorio Investigación de recubrimiento de esputos

99,99% de alta pureza al aluminio espumante objetivo para el magnetrón de laboratorio Investigación de recubrimiento de esputos

US$ 38,00-42,00
1 Pieza(MOQ)

Ningbo Danko Vacuum Technology Co., Ltd.

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Metalización al vacío de aleación de titanio y aluminio

Metalización al vacío de aleación de titanio y aluminio

US$ 30,00-100,00
1 Pieza(MOQ)
Fabricante Proveedor de Objetivos de Titanio

Fabricante Proveedor de Objetivos de Titanio

US$ 30,00-100,00
1 Pieza(MOQ)
Metalización al vacío de objetivo de circonio

Metalización al vacío de objetivo de circonio

US$ 30,00-100,00
1 Pieza(MOQ)
Recubrimiento al vacío de objetivo de titanio

Recubrimiento al vacío de objetivo de titanio

US$ 30,00-100,00
1 Pieza(MOQ)
1/4

Zhonghe Steel (Tianjin) Co., Ltd.

5 años
·Empresa Comercial
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Personalización de objetivo de sputtering de titanio para necesidades de recubrimiento especializadas

Personalización de objetivo de sputtering de titanio para necesidades de recubrimiento especializadas

US$ 10,00-25,00
1 Pieza(MOQ)
Objetivos de PVD de aleación de aluminio y titanio, objetivos de sputtering de titanio, objetivo de aleación de Tial para recubrimiento

Objetivos de PVD de aleación de aluminio y titanio, objetivos de sputtering de titanio, objetivo de aleación de Tial para recubrimiento

US$ 10,00-25,00
1 Pieza(MOQ)
Objetivo de Titanio de Alta Pureza 99.99% para Máquina de Recubrimiento por Vacío / PVD

Objetivo de Titanio de Alta Pureza 99.99% para Máquina de Recubrimiento por Vacío / PVD

US$ 10,00-25,00
1 Pieza(MOQ)
Alta Pureza 99.6% PVD M86 Objetivo de Titanio Od 98X40mm Objetivo de Titanio

Alta Pureza 99.6% PVD M86 Objetivo de Titanio Od 98X40mm Objetivo de Titanio

US$ 10,00-25,00
1 Pieza(MOQ)
1/4

Inner Mongolia Rongtai Rhenium New Materials Co., Ltd.

5.0
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Personalizado OEM Blanco Raro Tierra Premium Sputtering Metal Ytterbio Objetivo

Personalizado OEM Blanco Raro Tierra Premium Sputtering Metal Ytterbio Objetivo

US$ 190,00-199,00
1 Pieza(MOQ)
Objetivo de metal de sputtering de alta pureza Yb negro redondo para pantalla plana

Objetivo de metal de sputtering de alta pureza Yb negro redondo para pantalla plana

US$ 190,00-199,00
1 Pieza(MOQ)
Objetivo de Sputtering de Metal de Ytterbio Avanzado para la Industria Electrónica

Objetivo de Sputtering de Metal de Ytterbio Avanzado para la Industria Electrónica

US$ 190,00-199,00
1 Pieza(MOQ)
Objetivo de sputtering de aleación de titanio de ytterbio de alta pureza para recubrimientos avanzados

Objetivo de sputtering de aleación de titanio de ytterbio de alta pureza para recubrimientos avanzados

US$ 190,00-199,00
1 Pieza(MOQ)
1/4

Tianjin Rui Yuan Electric Material Co., Ltd.

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Fábrica china de alta pureza 6n cobre (Cu) 99.9999% objetivo de sputtering

Fábrica china de alta pureza 6n cobre (Cu) 99.9999% objetivo de sputtering

US$ 89,00-180,00
1.000 kilograms(MOQ)
Objetivos de Cobre de Ultra Pureza 99.9999% 7n5

Objetivos de Cobre de Ultra Pureza 99.9999% 7n5

US$ 26,99-53,03
1.000 kilograms(MOQ)
C110/C10100/Tu00 5n Objetivo de Sputtering de Alta Pureza Cobre 99.999% para Recubrimiento Óptico

C110/C10100/Tu00 5n Objetivo de Sputtering de Alta Pureza Cobre 99.999% para Recubrimiento Óptico

US$ 79,99
50 Kg(MOQ)
99.9999% 6n Placas de respaldo de objetivos de sputtering de cobre de alta pureza

99.9999% 6n Placas de respaldo de objetivos de sputtering de cobre de alta pureza

US$ 335,00-350,00
100 Kg(MOQ)
1/4

Zhengzhou Shibo Nonferrous Metals Products Co., Ltd.

21 años·5.0
·Fabricante/Fábrica & Empresa Comercial
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Objetivo de molibdeno para recubrimiento por pulverización al vacío

Objetivo de molibdeno para recubrimiento por pulverización al vacío

US$ 45,00
1 kg(MOQ)
Objetivo de Sputtering de Molibdeno Pulido (99.95% puro)

Objetivo de Sputtering de Molibdeno Pulido (99.95% puro)

US$ 40,00-60,00
1 Kg(MOQ)
Objetivo de sputtering de molibdeno de alta pureza, disco de molibdeno

Objetivo de sputtering de molibdeno de alta pureza, disco de molibdeno

US$ 40,00
1 kg(MOQ)
Disco de molibdeno para objetivo de recubrimiento por sputtering al vacío

Disco de molibdeno para objetivo de recubrimiento por sputtering al vacío

US$ 40,00
1 Kg(MOQ)
1/2

Shanghai Tankii Alloy Material Co., Ltd.

5.0
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Objetivo de tubo de molibdeno de alta pureza

Objetivo de tubo de molibdeno de alta pureza

US$ 80,00
1 kg(MOQ)
Objetivo de tubo de molibdeno para batería solar

Objetivo de tubo de molibdeno para batería solar

US$ 65,00-80,00
1 kg(MOQ)
Ni Span C902 alambre de aleación de hierro níquel cromo (Ni42CrTiAl)

Ni Span C902 alambre de aleación de hierro níquel cromo (Ni42CrTiAl)

US$ 20,00-100,00
20 Kg(MOQ)
Ni Span C902 alambre de aleación de hierro níquel cromo (Ni42CrTiAl) (UNS N09902)

Ni Span C902 alambre de aleación de hierro níquel cromo (Ni42CrTiAl) (UNS N09902)

US$ 20,00-100,00
20 Kg(MOQ)
1/4

ATM Material Co., Ltd.

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Objetivo de Cr con alta calidad

Objetivo de Cr con alta calidad

US$ 0,10-100,00
1.000 Piezas(MOQ)
W Objetivo

W Objetivo

US$ 100,00
1 Pieza(MOQ)
Servicio de Prensado Isostático en Calor / Alta Temperatura Alta Presión / Servicios de Reprocesamiento de Piezas Hip / Consolidación de Polvo por Difusión de Densificación

Servicio de Prensado Isostático en Calor / Alta Temperatura Alta Presión / Servicios de Reprocesamiento de Piezas Hip / Consolidación de Polvo por Difusión de Densificación

US$ 100,00
1 Set(MOQ)
Productos de Prensado Isostático en Caliente / Piezas de Prensado Isostático en Caliente / Equipos HIP de Alta Calidad / Alta Temperatura Alta Presión

Productos de Prensado Isostático en Caliente / Piezas de Prensado Isostático en Caliente / Equipos HIP de Alta Calidad / Alta Temperatura Alta Presión

US$ 100,00
1 Pieza(MOQ)
1/4

SHAOXING TIANLONG TIN MATERIALS CO., LTD.

29 años
·Fabricante/Fábrica & Empresa Comercial
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Materiales personalizables premium 2.5mm Sn10Zn90 para reventa

Materiales personalizables premium 2.5mm Sn10Zn90 para reventa

US$ 9,00-12,00
300 Kg(MOQ)
Alambre de estaño premium para usos creativos versátiles de material objetivo

Alambre de estaño premium para usos creativos versátiles de material objetivo

US$ 31,00-33,00
100 Kg(MOQ)
Alambre de Zinc de Alta Pureza para Aplicaciones Avanzadas de Sputtering

Alambre de Zinc de Alta Pureza para Aplicaciones Avanzadas de Sputtering

US$ 4,00-5,50
100 Kg(MOQ)
Alambre de Zinc de Alta Pureza 99.995% para Aplicaciones de Rotación de Precisión

Alambre de Zinc de Alta Pureza 99.995% para Aplicaciones de Rotación de Precisión

US$ 4,00-5,50
100 Kg(MOQ)
1/4

Zhengzhou CY Scientific Instrument Co., Ltd.

13 años
·Fabricante/Fábrica & Empresa Comercial
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Objetivo de Sputtering de Plasma de Alta Pureza

Objetivo de Sputtering de Plasma de Alta Pureza

US$ 65,00
1 Set(MOQ)
Mini recubridor de plasma por pulverización para recubrir metales ligeros Al Mg Li

Mini recubridor de plasma por pulverización para recubrir metales ligeros Al Mg Li

US$ 6.500,00-8.100,00
1 Pieza(MOQ)
Recubridor de deposición por sputtering magnetrón PVD personalizable para películas de Ti y Al

Recubridor de deposición por sputtering magnetrón PVD personalizable para películas de Ti y Al

US$ 25.900,00-40.200,00
1 Pieza(MOQ)
Revestidor de Sputtering Magnetrón de Aluminio de Escritorio para Deposición de Películas Finas de Un Solo Objetivo

Revestidor de Sputtering Magnetrón de Aluminio de Escritorio para Deposición de Películas Finas de Un Solo Objetivo

US$ 20.000,00-23.000,00
1 Pieza(MOQ)
1/4

Geomaster Group

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152mm Estilo Suizo 3D Objetivo de Escáner Láser y Objetivo de Encuesta (Parte Trasera Negra) para Estaciones de Escaneo, Lidar

152mm Estilo Suizo 3D Objetivo de Escáner Láser y Objetivo de Encuesta (Parte Trasera Negra) para Estaciones de Escaneo, Lidar

US$ 72,75
24 Piezas(MOQ)
115mm Estilo Suizo 3D Objetivo de Escáner Láser y Objetivo de Encuesta (Parte Trasera Negra) para Estaciones de Escaneo y Lidar

115mm Estilo Suizo 3D Objetivo de Escáner Láser y Objetivo de Encuesta (Parte Trasera Negra) para Estaciones de Escaneo y Lidar

Negociable
50 Piezas(MOQ)
Geomaster -30/0mm Soporte y objetivo de prisma Premier de metal completo estilo Seco (Naranja brillante, 6"× 9") para fijar prismas de topografía y reflectores de prisma de monitoreo

Geomaster -30/0mm Soporte y objetivo de prisma Premier de metal completo estilo Seco (Naranja brillante, 6"× 9") para fijar prismas de topografía y reflectores de prisma de monitoreo

Negociable
100 Piezas(MOQ)
Geomaster -30/0mm Soporte y objetivo de prisma Premier de metal completo Seco Style (Naranja brillante, 6"× 9") para fijar prismas de topografía y reflectores de prisma de monitoreo

Geomaster -30/0mm Soporte y objetivo de prisma Premier de metal completo Seco Style (Naranja brillante, 6"× 9") para fijar prismas de topografía y reflectores de prisma de monitoreo

Negociable
100 Piezas(MOQ)
1/4

Inner Mongolia Pusheng Iron &Steel Co., Ltd.

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Silicio policristalino de alta pureza 99.999% objetivo de pulverización de polisilicio

Silicio policristalino de alta pureza 99.999% objetivo de pulverización de polisilicio

US$ 2.769,00-3.100,00
22 Montones(MOQ)
Materiales Primos Metales de Silicio de Alta Pureza Objetivos de Silicio Puro

Materiales Primos Metales de Silicio de Alta Pureza Objetivos de Silicio Puro

US$ 2.769,00-3.100,00
22 Montones(MOQ)
Suministro de Materiales de Objetivo China -325 Malla Mo Polvo de Metal de Molibdeno de Alta Calidad

Suministro de Materiales de Objetivo China -325 Malla Mo Polvo de Metal de Molibdeno de Alta Calidad

US$ 270,00-300,00
3.000 Kg(MOQ)
Materiales Primos Alta Pureza 99.7% Lingotes de Silicio Metálicos Objetivos de Silicio Puro Objetivos de Sputtering

Materiales Primos Alta Pureza 99.7% Lingotes de Silicio Metálicos Objetivos de Silicio Puro Objetivos de Sputtering

US$ 2.000,00-2.500,00
22 Montones(MOQ)
1/4

FUJIAN ACETRON NEW MATERIALS CO., LTD.

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ACETRON 5N5 99.9995% Objetivo de Sputtering de Al de Alta Pureza para Recubrimiento PVD

ACETRON 5N5 99.9995% Objetivo de Sputtering de Al de Alta Pureza para Recubrimiento PVD

US$ 99,00-9.999,00
1 Pieza(MOQ)
ACETRON 4N 99.99% Objetivo de Sputtering Tubular de Aluminio de Alta Pureza

ACETRON 4N 99.99% Objetivo de Sputtering Tubular de Aluminio de Alta Pureza

US$ 99,00-99.999,00
1 Pieza(MOQ)
Material de evaporación de granulos de aluminio de alta pureza ACETRON, objetivo de pulverización

Material de evaporación de granulos de aluminio de alta pureza ACETRON, objetivo de pulverización

US$ 10,00-2.999,00
1 Kg(MOQ)
ACETRON 4N 99.99% Blanco de aleación de aluminio de alta pureza para recubrimiento por vacío/PVD

ACETRON 4N 99.99% Blanco de aleación de aluminio de alta pureza para recubrimiento por vacío/PVD

US$ 99,00-99.999,00
1 Pieza(MOQ)

Jiangyin Entret Coating Technology Co., Ltd.

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Ti-Al aluminio blanco de titanio El titanio aluminio blanco de sputtering

Ti-Al aluminio blanco de titanio El titanio aluminio blanco de sputtering

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Silicon blanco de Sputtering giratorio de aluminio de alta calidad (sputtering meta)

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Sial (silicio y aluminio blanco de Sputtering giratorio)

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Sial (silicio y aluminio) Rotary Sputtering meta para la venta

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Aerospace Long March Arimt Technology Co., Ltd.

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Tubo CrAl ARIMT Objetivos (D56*1000) para el revestimiento de vacío/PVD Revestimiento decorativo y funcional la fabricación de precios baratos de películas

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Objetivos de ARIMT Cral Planar (D100*32) para recubrimiento de vacío/recubrimiento PVD in Películas decorativas/funcionales Precio barato Fabricación

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ARIMT 2N8 D105% objetivos de pulverización planar tial (15*99,8) para vacío Recubrimiento/recubrimiento PVD en películas decorativas/funcionales Precio barato Fabricación

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US$ 99,00-99.999,00
1 Pieza(MOQ)
ARIMT 2N8 de 99,8% Tubo TiAl Sputtering objetivos (D56*1050) para el Vacío Recubrimiento/revestimiento PVD/funcional películas decorativas precio barato fabricar

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