Material: | 100% Poliéster |
---|---|
Uso: | Industrial, Dust Mask |
Característica: | Respetuoso del Medio Ambiente, Respirable, Antibacteriano, Alta Tenacidad, Resistente a la Polilla, Easily Forming |
Patrón: | Ligamento Tafetán |
Estilo: | Plain |
Técnica: | Perforado de Aguja |