| Material: | 100% Poliéster |
|---|---|
| Uso: | Industrial, Dust Mask |
| Característica: | Respetuoso del Medio Ambiente, Respirable, Antibacteriano, Alta Tenacidad, Resistente a la Polilla, Easily Forming |
| Patrón: | Ligamento Tafetán |
| Estilo: | Plain |
| Técnica: | Perforado de Aguja |
