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Tipo de producción completamente automática de la cavidad única capa de sistema de deposición atómica

Tipo de producción completamente automática de la cavidad única capa de sistema de deposición atómica pictures & photos

Tipo:	Línea de Producción de Revestimiento
Revestimiento:	Revestimiento de Vacío
Certificación:	CE
Condición:	Nueva
Wafer Dimension:	8 Inch and Below
Wafer Temperature:	Rt-500c,Controlling Precision +-0.1c

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