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al Objetivo
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Xinkang aluminio al Planar Fluorescente tubular objetivo para recubrimiento PVD Precio de valor

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Metal de aluminio de alta pureza al objetivo de Sputtering con buen precio.

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ACETRON 5N5 99,9995% High PURITY al Rotary sputtering Target for Revestimiento PVD
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ACRITRON 5N5 99,9995% de alta pureza de aleación de al esputtering objetivo para Revestimiento de vacío/PVD
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Xinkang aluminio espumante objetivo 99,99% al Cono de aluminio para la eporación Fuente

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ACETRON 4N 99,99% Alta pureza Si+al esputtering Target para vacío/PVD Revestimiento
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Xinkang 3n-5n5 99,9995% pureza Metal al aluminio al vacío Metalizing Planar Objetivo

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Xinkang objetivo de aluminio al de alta pureza vacío Magnetron objetivo de espumación

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ACETRON 3N 99,9% High PURITY TI+al Round Target para vacío/PVD Revestimiento
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Objetivo de arco de aluminio Xinkang 99,999% Metal al objetivo de esputo de aluminio Para revestimiento

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ACETRON 5N5 99,9995% de alta pureza aleación de al objetivo de esputo planar Para revestimiento de vacío/PVD
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Al Target de aluminio de esputo de objetivo / aluminio de objetivo rotatorio para circuitos integrados / LCD
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Suzhou Techno-Tec Photoelectric Materials Co., Ltd
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4n 99,99% de la rotación de aluminio de alta pureza al objetivo de Sputtering PVD satinado

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ACETRON 5N 99,999% Alta pureza al Rotable esputtering objetivo para Revestimiento PVD
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Pure Aluminium Plate al 99,9% Metal aluminio espumante objetivo para Proceso PVD

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ACETRON 99,6% High PURITY TI+al Round Target para recubrimiento de vacío/PVD
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De aluminio de alta pureza Al Sputtering meta para el recubrimiento PVD

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ACETRON 3N 99,9% High Purity TI+al sputtering Target para vacío/PVD Revestimiento
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Xinkang 5n5 99,9995% de alta pureza al aluminio espumante objetivo para Revestimiento de vacío/PVD

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99,998%~99,98% de aluminio al Target para condensadores electrolíticos
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Rheniumet Ltd.
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Precio competitivo aleación de cromo de aluminio objetivo Alcr objetivo para el vacío Revestimiento

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Aluminum Chromium Alloy Targets
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ACETRON 4N 99,99% Alta pureza al rotación de esputo objetivo para Revestimiento PVD
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Xinkang 99,9%-99,999% Metal aluminio esputante Target Metal al aluminio para Semiconductor

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Objetivo de silicio objetivo de titanio objetivo de cobre óxido y aluminio objetivo

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CE
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50*20*20
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Objetivo giratorio de aleación de metal Si+al 4N 99,99% DE ALTA pureza DE ACETRON Para revestimiento de vacío/PVD
Precio FOB de Referencia: US$ 99,00-99.999,00 / Pieza
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99,99% Pura de aluminio placa de aluminio esputo de aluminio objetivo de China Fabricante

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Bloques de aluminio Metal aluminio espumante objetivo para Investigación de Laboratorio

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7606910000
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Xinkang suministro Cono de aluminio de alta pureza 99,999% de aluminio espumante objetivo

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Chapa de aluminio Chapa metálica esputo de aluminio objetivo para revestimiento PVD

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Lista de Precios de al Objetivo

Se encuentran 13279 de productos al Objetivo,de los cuales alrededor del 8% pertenecen a la lista Material Objetivo,El 20% a la lista Aleacióny el 1% a la lista Titanio.Puede filtrar productos por múltiples atributos, como Tipo De Producto, Tipo, Forma, Certificación.
Hay 20913 proveedores de al Objetivo de China, aproximadamente el 56% de estos son fabricantes / fábricas de al Objetivo.

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