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Objetivo de circonio

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ACETRON 99,60% Zirconio de alta pureza objetivo tubular para recubrimiento de vacío/PVD

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99.60% Zirconium
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Objetivo de tubo de circonio DE alta pureza ACETRON 99,60% para recubrimiento de vacío/PVD

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Tubería de circonio DE alta pureza ACETRON 99,60% Target para recubrimiento de vacío/PVD

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ACETRON 99,60% Zirconio de alta pureza objetivo giratorio para recubrimiento de vacío/PVD

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ACETRON 99,60% Zirconio de alta pureza objetivo giratorio para recubrimiento de vacío/PVD

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ACETRON 99,60% Zirconio de alta pureza objetivo rotatorio/objetivo de pulverización para vacío/PVD Revestimiento

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ACETRON 99,60% objetivo tubular ZR de alta pureza para recubrimiento de vacío/PVD

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Objetivo giratorio de 99,60% de alta pureza de ACETRON ZR para recubrimiento de vacío/PVD

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ACETRON 99,60% High PURITY ZR Rotable Target para recubrimiento de vacío/PVD

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ACETRON 99,60% objetivo giratorio de alta pureza ZR/objetivo de pulverización para vacío/PVD Revestimiento

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Objetivo de tubo ZR 99,60% de alta pureza PARA recubrimiento de vacío/PVD

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ACETRON 99,60% tubo ZR de alta pureza objetivo para recubrimiento de vacío/PVD

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Objetivo del tubo de zirconio, puro Metal circonio objetivo para el magnetrón Sputtering

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Zr giratorio de Sputtering meta, sin Mis-Connect extruido, magnetrón Sputtering Meta, circonio Sputtering meta

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China

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Zro2 utilizado en Recubrimiento giratorio Zrox vacío, Destino, ZRO2 Objetivo para el magnetrón Sputtering, el objetivo de óxido de zirconio

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Objetivo de cerámica
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Material de Metal Puro circonio objetivo para el magnetrón Sputtering, de alta pureza circonio Sputtering Meta, Meta Zr

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ACETRON 4N 99,99% Personalización de la muestra Cu Rotary sputtering Target

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99.99% Cuprum
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ACETRON 5N 99,999% Cuprum/Cu/Cobre de alta pureza objetivo giratorio para PVD Revestimiento

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99.999% Cuprum
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ACETRON 4N 99,99% Cuprum/Cu/Cobre de alta pureza objetivo giratorio para PVD Revestimiento

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99.99% Cuprum
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ACETRON 4N 99,99% Cuprum/Cu/Cobre de alta pureza objetivo rotable para PVD Revestimiento

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ACETRON 3N7 99,97% de alta pureza Cuprum/Cu/Cobre esputtering Rotary Target for Revestimiento PVD

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99.97% Cuprum
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ACETRON 4N 99,99% tubería de Cuprum/Cu/Cobre de alta pureza objetivo para PVD Revestimiento

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ACETRON 3N7 99,97% Cuprum/Cu/Cobre de alta pureza objetivo rotable para PVD Revestimiento

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ACETRON 4N 99,99% Cuprum/Cu/Copper objetivo tubular de alta pureza para PVD Revestimiento

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ACETRON 3N7 99,97% de alta pureza Cuprum/Cu/Cobre espumante tubular objetivo para Revestimiento PVD

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ACETRON 5N 99,999% tubo de Cuprum/Cu/Cobre de alta pureza objetivo para PVD Revestimiento

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ACETRON 5N 99,999% tubería de Cuprum/Cu/Cobre de alta pureza objetivo para PVD Revestimiento

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ACETRON 3N7 99,97% de alta pureza Cuprum/espumación de cobre Rotary Target for Revestimiento PVD

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ACETRON 5N 99,999% Cuprum/Cu/Cobre de alta pureza objetivo rotable para PVD Revestimiento

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99.999% Cuprum
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ACETRON 5N 99,999% Cuprum/Cu/Copper objetivo tubular de alta pureza para PVD Revestimiento

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