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objetivo de recubrimiento al vacío fábrica

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sobre objetivo de recubrimiento al vacío

Innovación tecnológica
Cadenas de suministro confiables
Capacidades de fabricación sustanciales

objetivo de recubrimiento al vacío200+ fábricas verificadas

Ningbo Galaxy International Trading Co., Ltd.

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99.9% Objetivo de recubrimiento al vacío de níquel, cromo y aluminio para el proceso PVD, objetivo de cromo y tantalio

99.9% Objetivo de recubrimiento al vacío de níquel, cromo y aluminio para el proceso PVD, objetivo de cromo y tantalio

Venta caliente Alta dureza Nueva placa de Zirconio de recubrimiento de vacío objetivo Para uso industrial

Venta caliente Alta dureza Nueva placa de Zirconio de recubrimiento de vacío objetivo Para uso industrial

Precio competitivo de materiales de recubrimiento al vacío objetivo de zirconio

Precio competitivo de materiales de recubrimiento al vacío objetivo de zirconio

Resistencia al calor y excelente estabilidad química objetivo de titanio para recubrimiento al vacío

Resistencia al calor y excelente estabilidad química objetivo de titanio para recubrimiento al vacío

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Dongguan Gravel Industries and Enterprise Company Limited

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Objetivo de cromo de alta pureza para recubrimiento en vacío/PVD

Objetivo de cromo de alta pureza para recubrimiento en vacío/PVD

US$ 1.000,00

Objetivo de Silicio de Alta Pureza para Recubrimiento por Vacío/PVD

Objetivo de Silicio de Alta Pureza para Recubrimiento por Vacío/PVD

US$ 6.200,00

99.99% Blanco de Sputtering de Aleación de Estaño de Oro de Alta Pureza

99.99% Blanco de Sputtering de Aleación de Estaño de Oro de Alta Pureza

US$ 265.000,00

Objetivo de Sputtering de Platino de Alta Calidad para Recubrimiento al Vacío

Objetivo de Sputtering de Platino de Alta Calidad para Recubrimiento al Vacío

US$ 850.000,00

1/4

Rheniumet Ltd.

·Empresa Comercial

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99.99% Objetivo de Sputtering de Paladio (Pd) de Pureza para Recubrimiento al Vacío

99.99% Objetivo de Sputtering de Paladio (Pd) de Pureza para Recubrimiento al Vacío

99.95% Objetivo de Tantalio, Recubrimiento al Vacío con Objetivo de Sputtering de Ta Procesamiento Personalizado

99.95% Objetivo de Tantalio, Recubrimiento al Vacío con Objetivo de Sputtering de Ta Procesamiento Personalizado

US$ 500,00-600,00

99.99% -99.9999% Placa de Sputtering de Titanio Ti Objetivo de Titanio para Recubrimiento al Vacío

99.99% -99.9999% Placa de Sputtering de Titanio Ti Objetivo de Titanio para Recubrimiento al Vacío

US$ 100,00-200,00

Objetivo de Sputtering de Osmio y Renio para Recubrimiento por Sputtering al Vacío

Objetivo de Sputtering de Osmio y Renio para Recubrimiento por Sputtering al Vacío

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Changsha Xinkang Advanced Materials Co., Ltd.

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Objetivo de recubrimiento de aleación de aluminio y zinc envasado al vacío

Objetivo de recubrimiento de aleación de aluminio y zinc envasado al vacío

US$ 75,00-85,00

Objetivo de Cerámica de Óxido Férrico Xinkang 99.9% Fe2o3 para Recubrimiento al Vacío

Objetivo de Cerámica de Óxido Férrico Xinkang 99.9% Fe2o3 para Recubrimiento al Vacío

US$ 110,00-120,00

Tamaño Personalizado Puro Znsn50wt% Objetivo de Recubrimiento por Sputtering en Paquete al Vacío

Tamaño Personalizado Puro Znsn50wt% Objetivo de Recubrimiento por Sputtering en Paquete al Vacío

US$ 75,00-85,00

Objetivo de Aluminio Magnesio Xinkang 99.99% Almg para recubrimiento al vacío

Objetivo de Aluminio Magnesio Xinkang 99.99% Almg para recubrimiento al vacío

1/4

Xiamen Tmax Battery Equipments Limited

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Objetivo de sputtering de magnetrón de alta pureza de hafnio/Hf de la marca TMAXCN para recubrimiento al vacío

US$ 78,00-90,00

Marca TMAXCN Alta Pureza 99.95% Cromo Cromo/Cr Objetivo de Sputtering Magnetrón PVD para Recubrimiento al Vacío

US$ 78,00-90,00

Equipo de recubrimiento por pulverización PVD de doble objetivo RF&DC&MF para películas multicapa conductoras

Equipo de recubrimiento por pulverización PVD de doble objetivo RF&DC&MF para películas multicapa conductoras

US$ 45.000,00

Máquina de recubrimiento por pulverización de plasma rotativo TMAXCN Marca VTC-16-3HD-LD 3 incluyendo 3 objetivos

US$ 8.000,00

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SUZHOU TECHNO-TEC PHOTOELECTRIC MATERIALS CO., LTD

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Objetivo de aleación de AlTi, objetivo de aleación de aluminio y titanio para recubrimiento por sputtering en circuitos integrados

Objetivo de aleación de AlTi, objetivo de aleación de aluminio y titanio para recubrimiento por sputtering en circuitos integrados

US$ 50,00-80,00

Objetivo de Sputtering de Titanio Ti / Objetivo Rotatorio de Titanio para Semiconductores / Sputtering de Recubrimiento al Vacío

Objetivo de Sputtering de Titanio Ti / Objetivo Rotatorio de Titanio para Semiconductores / Sputtering de Recubrimiento al Vacío

US$ 20,00-100,00

Objetivo de NdFeB Aleación de Neodimio Hierro Boro Objetivo de Sputtering para Accionamiento Magnético

Objetivo de NdFeB Aleación de Neodimio Hierro Boro Objetivo de Sputtering para Accionamiento Magnético

US$ 50,00-80,00

Objetivo de pulverización de CU/objetivo rotatorio de cobre para conductor/semiconductor recubierto de metal

Objetivo de pulverización de CU/objetivo rotatorio de cobre para conductor/semiconductor recubierto de metal

US$ 10,00-15,00

1/4

Lonwin Industry Group Limited

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99.9% Objetivo de Sputtering de Aleación de Zinc y Aluminio para Recubrimiento al Vacío

99.9% Objetivo de Sputtering de Aleación de Zinc y Aluminio para Recubrimiento al Vacío

US$ 17,00-55,00

Objetivo de sputtering de zirconio de alta pureza para recubrimiento al vacío

Objetivo de sputtering de zirconio de alta pureza para recubrimiento al vacío

US$ 17,00-55,00

Objetivo de Sputtering de Dióxido de Titanio Óxido de Titanio Cerámico de Aleación Tiox

Objetivo de Sputtering de Dióxido de Titanio Óxido de Titanio Cerámico de Aleación Tiox

US$ 17,00-55,00

99.99% Blanco de Sputtering de Magnesio Puro Mg para Recubrimiento

99.99% Blanco de Sputtering de Magnesio Puro Mg para Recubrimiento

US$ 17,00-55,00

1/4

Sid Metal Co., Ltd

·Fabricante/Fábrica & Empresa Comercial

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Objetivo de Sputtering de Titanio Ti / Objetivo Rotatorio de Titanio para Semiconductores / Sputtering de Recubrimiento al Vacío

Objetivo de Sputtering de Titanio Ti / Objetivo Rotatorio de Titanio para Semiconductores / Sputtering de Recubrimiento al Vacío

US$ 1,00-100,00

Objetivo de sputtering de titanio de alta pureza, planar para la industria de semiconductores, circuitos integrados, vidrio para construcción y automóviles

Objetivo de sputtering de titanio de alta pureza, planar para la industria de semiconductores, circuitos integrados, vidrio para construcción y automóviles

US$ 1,00-100,00

Precio de fábrica 99.95% Metal Tántalo puro objetivo de sputtering Ta objetivos planos de tantalio

Precio de fábrica 99.95% Metal Tántalo puro objetivo de sputtering Ta objetivos planos de tantalio

US$ 1,00-100,00

Objetivo de zirconio premium para una superior deposición de películas delgadas

Objetivo de zirconio premium para una superior deposición de películas delgadas

US$ 10,00-1.000,00

1/4

Ningbo Danko Vacuum Technology Co., Ltd.

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Recubrimiento al vacío de objetivo de titanio

Recubrimiento al vacío de objetivo de titanio

US$ 30,00-100,00

Línea de recubrimiento al vacío por ion de arco múltiple de China con bajo precio

Línea de recubrimiento al vacío por ion de arco múltiple de China con bajo precio

US$ 10.000,00-78.000,00

Máquina de recubrimiento al vacío de alta calidad con adquisición automática de color

Máquina de recubrimiento al vacío de alta calidad con adquisición automática de color

US$ 15.000,00-150.000,00

Máquina de recubrimiento PVD para todos los materiales: metal, vidrio, cerámica

Máquina de recubrimiento PVD para todos los materiales: metal, vidrio, cerámica

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Zhengzhou Tainuo Film Materials Co., Ltd.

·Fabricante/Fábrica

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Fuente de Sputtering Magnetrón de Alto Vacío para el Proceso de Recubrimiento PVD

Fuente de Sputtering Magnetrón de Alto Vacío para el Proceso de Recubrimiento PVD

US$ 1.800,00-2.000,00

Al, objetivo de sputtering de Cr para evaporación térmica y máquina de sputtering magnetrón

Al, objetivo de sputtering de Cr para evaporación térmica y máquina de sputtering magnetrón

US$ 30,00-200,00

Recubridor de Plasma de Triple Objetivo de Acero Inoxidable en Polvo con 150W Fuente de Alimentación de Alta Tensión de Corriente Continua para Instrumento Quirúrgico

Recubridor de Plasma de Triple Objetivo de Acero Inoxidable en Polvo con 150W Fuente de Alimentación de Alta Tensión de Corriente Continua para Instrumento Quirúrgico

US$ 12.000,00-13.000,00

Recubrimiento por sputtering de magnetrón de un solo, doble y triple objetivo con monitor de grosor de película

Recubrimiento por sputtering de magnetrón de un solo, doble y triple objetivo con monitor de grosor de película

US$ 60.000,00-61.200,00

1/4

Xiangtan Hondson Coating Technology Co., Ltd.

·Fabricante/Fábrica & Empresa Comercial

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Objetivo de magnetrón cilíndrico para recubrimiento PVD en vacío de tubos de titanio, materiales en bruto para recubrimiento, cátodos

Objetivo de magnetrón cilíndrico para recubrimiento PVD en vacío de tubos de titanio, materiales en bruto para recubrimiento, cátodos

US$ 800,00-1.500,00

Bloque de titanio de alta pureza personalizado, material de titanio, material de recubrimiento por ionización multi-arco, objetivo metálico

Bloque de titanio de alta pureza personalizado, material de titanio, material de recubrimiento por ionización multi-arco, objetivo metálico

US$ 500,00-1.000,00

Depósito de arco, pistola de recubrimiento por arco catódico, objetivo

Depósito de arco, pistola de recubrimiento por arco catódico, objetivo

US$ 2.500,00-2.600,00

5-200kw Fuente de Sputtering Típica para la Industria de Recubrimiento de Películas Delgadas Cátodo de Sputter Magnetrón Rotatorio Objetivo de Sputtering Rotatorio

5-200kw Fuente de Sputtering Típica para la Industria de Recubrimiento de Películas Delgadas Cátodo de Sputter Magnetrón Rotatorio Objetivo de Sputtering Rotatorio

US$ 6.900,00-7.000,00

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Jiangsu Cicel Vacuum Technology Co., Ltd.

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Objetivo de titanio por sputtering, objetivo de sputtering de titanio, recubrimiento al vacío, objetivo de titanio

Objetivo de titanio por sputtering, objetivo de sputtering de titanio, recubrimiento al vacío, objetivo de titanio

US$ 100,00-300,00

Objetivo de Titanio Puro Mejor Precio Gr2 Objetivo de Titanio para Sputtering al Vacío Recubrimiento con Objetivo de Titanio

Objetivo de Titanio Puro Mejor Precio Gr2 Objetivo de Titanio para Sputtering al Vacío Recubrimiento con Objetivo de Titanio

US$ 100,00-300,00

Objetivo de titanio por sputtering, objetivo de sputtering de titanio, recubrimiento al vacío, objetivo de titanio para máquina de recubrimiento al vacío por arco múltiple

Objetivo de titanio por sputtering, objetivo de sputtering de titanio, recubrimiento al vacío, objetivo de titanio para máquina de recubrimiento al vacío por arco múltiple

US$ 35,00-50,00

Objetivos de PVD de aleación de aluminio y titanio, objetivos de sputtering de titanio, objetivo de aleación de Tial para recubrimiento

Objetivos de PVD de aleación de aluminio y titanio, objetivos de sputtering de titanio, objetivo de aleación de Tial para recubrimiento

US$ 80,00-300,00

1/4

Shandong Quansheng Material Technology Group Co., LTD

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Alta Calidad 15mm Objetivo Redondo de Tantalio para Recubrimiento al Vacío

Alta Calidad 15mm Objetivo Redondo de Tantalio para Recubrimiento al Vacío

US$ 351,00-601,00

Objetivos de tungsteno premium para procesos de recubrimiento al vacío

Objetivos de tungsteno premium para procesos de recubrimiento al vacío

US$ 56,00-61,00

Hojas de Molybdeno de Alta Pureza para Recubrimiento al Vacío Avanzado

Hojas de Molybdeno de Alta Pureza para Recubrimiento al Vacío Avanzado

US$ 78,00-88,00

Hoja de tungsteno pulido con acabado espejo para recubrimiento de rayos X

Hoja de tungsteno pulido con acabado espejo para recubrimiento de rayos X

US$ 55,00-60,00

1/4

Zhengzhou Shibo Nonferrous Metals Products Co., Ltd.

·Fabricante/Fábrica & Empresa Comercial

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Objetivo de molibdeno para recubrimiento por pulverización al vacío

Objetivo de molibdeno para recubrimiento por pulverización al vacío

Objetivo de sputtering de molibdeno de alta pureza, disco de molibdeno

Objetivo de sputtering de molibdeno de alta pureza, disco de molibdeno

Placa de molibdeno de alta calidad

Placa de molibdeno de alta calidad

US$ 40,00-88,00

Molibdeno material objetivo mejor Precio Mo Tagret

Molibdeno material objetivo mejor Precio Mo Tagret

US$ 40,00-88,00

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Shaanxi Mingsheng Guangpu Metal Materials Co., Ltd.

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Placa de objetivo de titanio de alta pureza para una resistencia y durabilidad superiores

Placa de objetivo de titanio de alta pureza para una resistencia y durabilidad superiores

US$ 190,00-198,00

Objetivos de Titanio de Formas Múltiples para Soluciones Industriales y Químicas

Objetivos de Titanio de Formas Múltiples para Soluciones Industriales y Químicas

US$ 190,00-198,00

Objetivo de Titanio de Alta Pureza Gr1 para Industrias de Alta Tecnología

Objetivo de Titanio de Alta Pureza Gr1 para Industrias de Alta Tecnología

US$ 190,00-198,00

Objetivos redondos de titanio de alta pureza biocompatibles para necesidades industriales

Objetivos redondos de titanio de alta pureza biocompatibles para necesidades industriales

US$ 190,00-198,00

1/4

Beenine Shanke Technology Co., Ltd.

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Fábrica de dianas de pulverización de estaño estannum Sn servicio de unión

Fábrica de dianas de pulverización de estaño estannum Sn servicio de unión

US$ 60,00-100,00

Valor de fabricación precio objetivo de pulverización de zinc Zn China

Valor de fabricación precio objetivo de pulverización de zinc Zn China

US$ 50,00-100,00

Objetivo de Sputtering de Zinc Zn de Alta Pureza 99.995%

Objetivo de Sputtering de Zinc Zn de Alta Pureza 99.995%

US$ 50,00-100,00

Objetivo de Sputtering de Cobre T2 Rojo Cu Fabricación a Precio Económico

Objetivo de Sputtering de Cobre T2 Rojo Cu Fabricación a Precio Económico

US$ 100,00-500,00

1/4

Zhengzhou CY Scientific Instrument Co., Ltd.

·Fabricante/Fábrica & Empresa Comercial

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Objetivo de cobre, objetivo de recubrimiento al vacío

Objetivo de cobre, objetivo de recubrimiento al vacío

Máquina de recubrimiento por pulverización de plasma de doble objetivo para película de AG Pd

Máquina de recubrimiento por pulverización de plasma de doble objetivo para película de AG Pd

US$ 3.000,00-5.000,00

Aparato de recubrimiento por sputtering de magnetrón de un solo objetivo de acero inoxidable de escritorio

Aparato de recubrimiento por sputtering de magnetrón de un solo objetivo de acero inoxidable de escritorio

US$ 8.730,00-8.900,00

Depósito por Sputtering de Magnetrón de Doble Objetivo de CC y RF para Películas Delgadas de Metal y Óxido

Depósito por Sputtering de Magnetrón de Doble Objetivo de CC y RF para Películas Delgadas de Metal y Óxido

US$ 21.000,00-26.000,00

1/4

Baoji Taizehui Metal Technology Co., Ltd.

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Material de objetivo de pulverización para recubrimiento al vacío, objetivo curvado, proceso de alta pureza, placa de hafnio

Material de objetivo de pulverización para recubrimiento al vacío, objetivo curvado, proceso de alta pureza, placa de hafnio

Placa de objetivo de tantalio de alta pureza para aplicaciones aeroespaciales y de defensa

Placa de objetivo de tantalio de alta pureza para aplicaciones aeroespaciales y de defensa

Objetivo de tablero de tantalio para mecanizado de precisión y aplicaciones avanzadas

Objetivo de tablero de tantalio para mecanizado de precisión y aplicaciones avanzadas

Objetivo de tablero de tantalio para aplicaciones avanzadas en ciencia de materiales e investigación

Objetivo de tablero de tantalio para aplicaciones avanzadas en ciencia de materiales e investigación

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Shenzhen Silver Technologies Ltd

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Objetivo de Oro Puro para Recubrimiento por Sputtering al Vacío

Objetivo de Oro Puro para Recubrimiento por Sputtering al Vacío

Materiales de recubrimiento al vacío de alta pureza Acetron pellets de cobre

Materiales de recubrimiento al vacío de alta pureza Acetron pellets de cobre

1/4

Zhonghe Steel (Tianjin) Co., Ltd.

·Empresa Comercial

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Objetivo de Titanio de Alta Pureza 99.99% para Máquina de Recubrimiento por Vacío / PVD

Objetivo de Titanio de Alta Pureza 99.99% para Máquina de Recubrimiento por Vacío / PVD

US$ 10,00-25,00

1/4

Xiamen HiuGong Machinery Co., Ltd.

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Objetivo de Sputtering Rotatorio 4n-5n Sial Nicr Znal Znsn Tiox Nbox

Objetivo de Sputtering Rotatorio 4n-5n Sial Nicr Znal Znsn Tiox Nbox

US$ 1.000,00

Objetivo de Sputtering Magnetrón Zrox Si Cr Nb Cu Cr AG

Objetivo de Sputtering Magnetrón Zrox Si Cr Nb Cu Cr AG

99.99% Objetivo de Sputtering de Óxido de Galio Objetivo Plano Ga2o3 Objetivo

99.99% Objetivo de Sputtering de Óxido de Galio Objetivo Plano Ga2o3 Objetivo

Equipo de recubrimiento por pulverización de plasma, antiadherente, resistente al desgaste, silicio, aluminio, alúmina, circonio

Equipo de recubrimiento por pulverización de plasma, antiadherente, resistente al desgaste, silicio, aluminio, alúmina, circonio

US$ 35.000,00

1/4

Luoyang Bless Tungsten & Molybdenum Materials Co., Ltd.

·Empresa Comercial

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Doblado y Pliegue de Objetivos de Sputtering de Molibdeno

Doblado y Pliegue de Objetivos de Sputtering de Molibdeno

US$ 40,00-43,00

Objetivos de sputtering de molibdeno para ensamblaje complejo

Objetivos de sputtering de molibdeno para ensamblaje complejo

US$ 40,00-43,00

Material de alta pureza ultra molibdeno objetivos de pulverización

Material de alta pureza ultra molibdeno objetivos de pulverización

US$ 20,00-86,00

Objetivos de sputtering de molibdeno de alta calidad

Objetivos de sputtering de molibdeno de alta calidad

US$ 66,00-77,00

1/1

Zhejiang Ruisheng New Materials Co., Ltd.

Empresa Comercial

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Objetivo de tungsteno rotativo premium para aplicaciones de sputtering eficientes

Objetivo de tungsteno rotativo premium para aplicaciones de sputtering eficientes

US$ 50,00-270,00

Objetivo de tungsteno pulido de alta pureza para aplicaciones avanzadas de bombardeo iónico

Objetivo de tungsteno pulido de alta pureza para aplicaciones avanzadas de bombardeo iónico

US$ 50,00-270,00

Fuente de evaporación de tungsteno de alta pureza 99.95% para recubrimiento al vacío personalizable ISO9001

Fuente de evaporación de tungsteno de alta pureza 99.95% para recubrimiento al vacío personalizable ISO9001

US$ 10,00-85,00

Barco de molibdeno personalizable con alta resistencia a la temperatura y a la corrosión para aplicaciones de recubrimiento por evaporación y vacío

Barco de molibdeno personalizable con alta resistencia a la temperatura y a la corrosión para aplicaciones de recubrimiento por evaporación y vacío

US$ 30,00-70,00

1/4

Zhuzhou Hongtong Tungsten Carbide Co., Ltd.

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Varios objetivos de tungsteno carburo en diferentes formas para recubrimientos de DLC

Varios objetivos de tungsteno carburo en diferentes formas para recubrimientos de DLC

US$ 38,00-45,00

Objetivos de sputtering de carburo de tungsteno para fabricar recubrimientos de DLC

Objetivos de sputtering de carburo de tungsteno para fabricar recubrimientos de DLC

US$ 38,00-45,00

Placa de Carburo de Tungsteno con un Lado Estriado

Placa de Carburo de Tungsteno con un Lado Estriado

US$ 38,00-45,00

Placas de tungsteno carburo resistentes al desgaste

Placas de tungsteno carburo resistentes al desgaste

US$ 38,00-45,00

1/4

Uv Tech Material Ltd

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Fábrica Uvtm Sputtering Meta fabricante en China de 18 años para Msvd Experiece y PVD continua vacío recubrimiento sputter Vicky 13249153016 la línea de producción

Fábrica Uvtm Sputtering Meta fabricante en China de 18 años para Msvd Experiece y PVD continua vacío recubrimiento sputter Vicky 13249153016 la línea de producción

Azo Sputering Objetivo Material de recubrimiento cerámico blanco para la industria del vidrio de recubrimiento de película fina

Azo Sputering Objetivo Material de recubrimiento cerámico blanco para la industria del vidrio de recubrimiento de película fina

Uvtm blancos en la exposición de recubrimiento de Sputtering Vicky13249153016

Uvtm blancos en la exposición de recubrimiento de Sputtering Vicky13249153016

Cromo Cr PVD Planar destino pegado en la Cooper la placa de apoyo o metro.

Cromo Cr PVD Planar destino pegado en la Cooper la placa de apoyo o metro.

Shenzhen Hongchen New Materials Co., Ltd

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Aluminio redondo personalizado Titanium Magnetron sputtering aleación objetivo para el vacío Revestimiento

Aluminio redondo personalizado Titanium Magnetron sputtering aleación objetivo para el vacío Revestimiento

US$ 10,00-15,00

PVD de alta pureza de la placa de revestimiento de vacío de ITO empalmado pegado magnetrón Sputtering Objetivos

PVD de alta pureza de la placa de revestimiento de vacío de ITO empalmado pegado magnetrón Sputtering Objetivos

US$ 10,00-15,00

Vacío de alta pureza de los componentes electrónicos recubierto de titanio con objetivos de sputtering

Vacío de alta pureza de los componentes electrónicos recubierto de titanio con objetivos de sputtering

US$ 10,00-15,00

PVD Deposición de película fina cátodos de arco de cobre recubrimiento de vacío superficial Objetivos que se están espitando

PVD Deposición de película fina cátodos de arco de cobre recubrimiento de vacío superficial Objetivos que se están espitando

US$ 10,00-15,00

Taizhou ATS Optical Material Co., Ltd.

·Fabricante/Fábrica & Empresa Comercial

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Material de recubrimiento óptico al vacío granulado de silicio Si

Material de recubrimiento óptico al vacío granulado de silicio Si

US$ 97,50-100,00

99.99% Gránulo de silicio Si para recubrimiento óptico al vacío

99.99% Gránulo de silicio Si para recubrimiento óptico al vacío

US$ 97,50-100,00

Objetivo de silicio pieza de polisilicio

Objetivo de silicio pieza de polisilicio

US$ 26,00-28,00

Objetivo de silicio, oblea de silicio, pieza de silicio monocristalino

Objetivo de silicio, oblea de silicio, pieza de silicio monocristalino

US$ 4,00-5,00

1/4

Suzhou Zhongzhina Semiconductor Technology Co., Ltd.

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Objetivo de Hafnio HF de alta pureza, objetivo de dióxido de Hafnio Hfo2, objetivo Hfzro2, objetivo de recubrimiento de vacío de magnetrón PVD

Objetivo de Hafnio HF de alta pureza, objetivo de dióxido de Hafnio Hfo2, objetivo Hfzro2, objetivo de recubrimiento de vacío de magnetrón PVD

Cromo (cromo) Metal de alta pureza objetivo para PVD Magnetron esputtering recubrimiento de vacío, tamaño de partículas personalizable, con servicio de unión de placas de apoyo

Cromo (cromo) Metal de alta pureza objetivo para PVD Magnetron esputtering recubrimiento de vacío, tamaño de partículas personalizable, con servicio de unión de placas de apoyo

Platino de metal precioso de alta pureza Target, material de destino de platino de recubrimiento de vacío de pulverización y partículas de revestimiento de evaporación de tubo/Crucible de aleación de platino

Platino de metal precioso de alta pureza Target, material de destino de platino de recubrimiento de vacío de pulverización y partículas de revestimiento de evaporación de tubo/Crucible de aleación de platino

Material objetivo DE ITO (óxido de estaño de Indium), película conductiva transparente de Indium Tin Oxide Semiconductor, objetivo de espumación de Magnetron

Material objetivo DE ITO (óxido de estaño de Indium), película conductiva transparente de Indium Tin Oxide Semiconductor, objetivo de espumación de Magnetron

Guangdong Huicheng Vacuum Technology Co., Ltd.

·Fabricante/Fábrica & Empresa Comercial

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Máquina de recubrimiento al vacío PVD, filtro de tubo de medidor de objetivo, tubo de objetivo de zirconio

Máquina de recubrimiento al vacío PVD, filtro de tubo de medidor de objetivo, tubo de objetivo de zirconio

Máquina de recubrimiento por evaporación PVD en vacío de plástico y aluminio Hcvac

Máquina de recubrimiento por evaporación PVD en vacío de plástico y aluminio Hcvac

US$ 60.000,00-300.000,00

Línea de producción de máquina de recubrimiento al vacío PVD en línea continua para paneles solares Hcvac

Línea de producción de máquina de recubrimiento al vacío PVD en línea continua para paneles solares Hcvac

US$ 500.000,00-5.000.000,00

Máquina de recubrimiento al vacío Hcvac PVD para acero inoxidable, cerámica, vidrio y plástico

Máquina de recubrimiento al vacío Hcvac PVD para acero inoxidable, cerámica, vidrio y plástico

US$ 50.000,00-300.000,00

1/4

Shanghai Zenkaah New Materials Technology Co., Ltd.

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Objetivo de Hafnio HF de alta pureza, objetivo de dióxido de Hafnio Hfo2, objetivo Hfzro2, objetivo de recubrimiento de vacío de magnetrón PVD, Tamaño personalizable

Objetivo de Hafnio HF de alta pureza, objetivo de dióxido de Hafnio Hfo2, objetivo Hfzro2, objetivo de recubrimiento de vacío de magnetrón PVD, Tamaño personalizable

Material objetivo de níquel de alta pureza, objetivo de recubrimiento de vacío de PVD de níquel, objetivo de aleación derretida al vacío, objetivo de aleación de níquel-vanadio

Material objetivo de níquel de alta pureza, objetivo de recubrimiento de vacío de PVD de níquel, objetivo de aleación derretida al vacío, objetivo de aleación de níquel-vanadio

Cromo (cromo) Metal de alta pureza objetivo para PVD Magnetron esputtering recubrimiento de vacío, tamaño de partículas personalizable, con servicio de unión de placas de apoyo

Cromo (cromo) Metal de alta pureza objetivo para PVD Magnetron esputtering recubrimiento de vacío, tamaño de partículas personalizable, con servicio de unión de placas de apoyo

Objetivo de hierro metálico de alta pureza, objetivo Fe2O3 (óxido de hierro), objetivo de recubrimiento de vacío PVD Magnetron con tamaño personalizable, unión de placa trasera

Objetivo de hierro metálico de alta pureza, objetivo Fe2O3 (óxido de hierro), objetivo de recubrimiento de vacío PVD Magnetron con tamaño personalizable, unión de placa trasera

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