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sobre blancos de pulverización de tungsteno
  • Innovación tecnológica
  • Cadenas de suministro confiables
  • Capacidades de fabricación sustanciales

blancos de pulverización de tungsteno70+ fábricas verificadas

Rheniumet Ltd.

17 años
·Empresa Comercial
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99.999% Objetivo de tungsteno, objetivo de sputtering W

99.999% Objetivo de tungsteno, objetivo de sputtering W

Negociable
1 Pieza(MOQ)
Objetivo de sputtering de tungsteno, níquel y cromo

Objetivo de sputtering de tungsteno, níquel y cromo

Negociable
1 Pieza(MOQ)
99.99% Wti20 Objetivo de Sputtering de Tungsteno Titanio

99.99% Wti20 Objetivo de Sputtering de Tungsteno Titanio

Negociable
1 Pieza(MOQ)
Objetivos de pulverización de aleación de tungsteno y rhenio

Objetivos de pulverización de aleación de tungsteno y rhenio

US$ 1.500,00
1 Pieza(MOQ)
1/4

Changsha Xinkang Advanced Materials Co., Ltd.

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Xinkang 99.99% Pureza Wti10wt% Aleación de Tungsteno y Titanio para Objetivos de Sputtering

Xinkang 99.99% Pureza Wti10wt% Aleación de Tungsteno y Titanio para Objetivos de Sputtering

US$ 35,00-45,00
1 Pieza(MOQ)
Material compuesto de óxido de tungsteno Wo3 objetivo de sputtering para recubrimiento PVD

Material compuesto de óxido de tungsteno Wo3 objetivo de sputtering para recubrimiento PVD

US$ 100,00-1.200,00
1 Kg(MOQ)
Material de objetivo de sputtering de tungsteno rhenio premium 99 95% para aplicaciones de recubrimiento

Material de objetivo de sputtering de tungsteno rhenio premium 99 95% para aplicaciones de recubrimiento

US$ 1.000,00-5.000,00
1 Pieza(MOQ)
Barra de aleación de tantalio y tungsteno Taw90/10wt% objetivo de sputtering para proceso

Barra de aleación de tantalio y tungsteno Taw90/10wt% objetivo de sputtering para proceso

US$ 35,00-40,00
1 Pieza(MOQ)
1/4

Zhuzhou Weilai New Materials Technology Co., Ltd.

8 años
·Fabricante/Fábrica & Empresa Comercial
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Objetivos de ánodo rotatorio de aleación de tungsteno, aleación de renio, aleación de molibdeno

Objetivos de ánodo rotatorio de aleación de tungsteno, aleación de renio, aleación de molibdeno

US$ 142,00-168,00
30 Piezas(MOQ)
Objetivo de sputtering de ánodo rotatorio de molibdeno, renio y tungsteno

Objetivo de sputtering de ánodo rotatorio de molibdeno, renio y tungsteno

US$ 142,00-168,00
30 Piezas(MOQ)
Suministramos varios tipos de objetivos metálicos rotativos, objetivo de molibdeno para sputtering, objetivo de anodo de renio y objetivo de tungsteno para sputtering

Suministramos varios tipos de objetivos metálicos rotativos, objetivo de molibdeno para sputtering, objetivo de anodo de renio y objetivo de tungsteno para sputtering

US$ 142,00-168,00
30 Piezas(MOQ)
Suministrar objetivo de sputtering de ánodo rotatorio de tungsteno rutenio negro

Suministrar objetivo de sputtering de ánodo rotatorio de tungsteno rutenio negro

US$ 142,00-168,00
30 Piezas(MOQ)
1/4

Lonwin Industry Group Limited

5.0
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99.99% Objetivo de Sputtering de Tungsteno Puro W Material de Tungsteno

99.99% Objetivo de Sputtering de Tungsteno Puro W Material de Tungsteno

US$ 17,00-55,00
1 Kg(MOQ)
99.99% Wsi2 Objetivos de Cerámica Objetivos de Disiliciuro de Tungsteno para Sputtering

99.99% Wsi2 Objetivos de Cerámica Objetivos de Disiliciuro de Tungsteno para Sputtering

US$ 17,00-55,00
1 Kg(MOQ)
99.9% Objetivo de tungsteno de carburo de tungsteno para recubrimientos de DLC

99.9% Objetivo de tungsteno de carburo de tungsteno para recubrimientos de DLC

US$ 17,00-55,00
1 Kg(MOQ)
99.99% Objetivo de aleación de tungsteno y titanio Wti para recubrimiento PVD

99.99% Objetivo de aleación de tungsteno y titanio Wti para recubrimiento PVD

US$ 17,00-55,00
1 Kg(MOQ)
1/4

Zhejiang Ruisheng New Materials Co., Ltd.

Empresa Comercial
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Objetivo de tungsteno rotativo premium para aplicaciones de sputtering eficientes

Objetivo de tungsteno rotativo premium para aplicaciones de sputtering eficientes

US$ 50,00-270,00
10 Kg(MOQ)
Objetivo de Sputtering de Tungsteno de Alta Pureza 99.95% Deposición de Películas Finas de Semiconductores Personalizable Estándar ASTM

Objetivo de Sputtering de Tungsteno de Alta Pureza 99.95% Deposición de Películas Finas de Semiconductores Personalizable Estándar ASTM

US$ 60,00-100,00
1 Kg(MOQ)
Objetivo de tungsteno pulido de alta pureza para aplicaciones avanzadas de bombardeo iónico

Objetivo de tungsteno pulido de alta pureza para aplicaciones avanzadas de bombardeo iónico

US$ 50,00-270,00
10 Kg(MOQ)
Objetivo de Molybdeno Puro Ultra Denso 99.9% 100mm Diámetro Recubrimiento de Película Delgada Opcional RoHS

Objetivo de Molybdeno Puro Ultra Denso 99.9% 100mm Diámetro Recubrimiento de Película Delgada Opcional RoHS

US$ 30,00-60,00
10 Kg(MOQ)
1/4

Xiamen Tmax Battery Equipments Limited

5.0
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Marca TMAXCN 3n/4n/4n5 Materiales de recubrimiento PVD Wti Aleación de tungsteno y titanio Objetivo de sputtering

Marca TMAXCN 3n/4n/4n5 Materiales de recubrimiento PVD Wti Aleación de tungsteno y titanio Objetivo de sputtering

US$ 78,00-90,00
1 Pieza(MOQ)
Materiales de recubrimiento PVD de alta pureza de la marca TMAXCN Óxido de tungsteno Wo3 Objetivo de sputtering

Materiales de recubrimiento PVD de alta pureza de la marca TMAXCN Óxido de tungsteno Wo3 Objetivo de sputtering

US$ 78,00-90,00
1 Pieza(MOQ)
Marca TMAXCN 3n5 99.95% Fabricante de Suministro de Objetivo de Tungsteno para Sputtering

Marca TMAXCN 3n5 99.95% Fabricante de Suministro de Objetivo de Tungsteno para Sputtering

US$ 78,00-90,00
1 Pieza(MOQ)
Marca TMAXCN Alta Pureza 99.95% Objetivo de Tungsteno Sputtering Proveedor de Fabricación de Objetivos

Marca TMAXCN Alta Pureza 99.95% Objetivo de Tungsteno Sputtering Proveedor de Fabricación de Objetivos

US$ 78,00-90,00
1 Pieza(MOQ)
1/4

Luoyang Modi Tungsten & Molybdenum Material Co., Ltd.

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Ta-Mo Alloy Plate Tantalum Molybdenum Sputtering Target

Ta-Mo Alloy Plate Tantalum Molybdenum Sputtering Target

US$ 57,00-72,00
1 Kg(MOQ)
Tzm Molybdenum Alloy Plate Sputtering Targets Price

Tzm Molybdenum Alloy Plate Sputtering Targets Price

US$ 75,00-95,00
1 Kg(MOQ)
Molybdenum Target Niobium Sputtering Target for Electronic Semiconductor

Molybdenum Target Niobium Sputtering Target for Electronic Semiconductor

US$ 57,00-72,00
1 Kg(MOQ)
Mo1 Molybdenum Sputtering Target Molybdenum Target Price

Mo1 Molybdenum Sputtering Target Molybdenum Target Price

US$ 57,00-72,00
1 Kg(MOQ)
1/4

Luoyang Bless Tungsten & Molybdenum Materials Co., Ltd.

12 años
·Empresa Comercial
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Objetivos de sputtering de molibdeno de alta calidad

Objetivos de sputtering de molibdeno de alta calidad

US$ 66,00-77,00
1 Kg(MOQ)
Material de alta pureza ultra molibdeno objetivos de pulverización

Material de alta pureza ultra molibdeno objetivos de pulverización

US$ 20,00-86,00
1 Pieza(MOQ)
Objetivos de sputtering de molibdeno para ensamblaje complejo

Objetivos de sputtering de molibdeno para ensamblaje complejo

US$ 40,00-43,00
1 Kg(MOQ)
Doblado y Pliegue de Objetivos de Sputtering de Molibdeno

Doblado y Pliegue de Objetivos de Sputtering de Molibdeno

US$ 40,00-43,00
1 Kg(MOQ)
1/1

LUOYANG COMBAT TUNGSTEN & MOLYBDENUM MATERIAL CO., LTD.

18 años·5.0
·Fabricante/Fábrica & Empresa Comercial
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Objetivo de Sputtering de Molybdeno de Alta Densidad de Combate 99.95%

Objetivo de Sputtering de Molybdeno de Alta Densidad de Combate 99.95%

US$ 55,00-59,00
1 Kg(MOQ)
Objetivo de Sputtering de Titanio Puro de Material de Titanio Hecho a Medida 99.6% en Venta

Objetivo de Sputtering de Titanio Puro de Material de Titanio Hecho a Medida 99.6% en Venta

US$ 35,00-40,00
5 Kg(MOQ)
Hoja de Foil de Tantalio Acepta Personalización del Cliente Electrónica Hoja Fina de Tantalio en Venta

Hoja de Foil de Tantalio Acepta Personalización del Cliente Electrónica Hoja Fina de Tantalio en Venta

US$ 456,80-500,20
1 Kg(MOQ)
Alta Capacitancia Resistencia a la Corrosión Estándar Embalaje de Exportación Piezas Tubo de Tántalo

Alta Capacitancia Resistencia a la Corrosión Estándar Embalaje de Exportación Piezas Tubo de Tántalo

US$ 588,95-602,26
3 Kg(MOQ)
1/4

ATM Material Co., Ltd.

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Objetivo de pulverización

Objetivo de pulverización

US$ 0,10-100,00
1.000 Piezas(MOQ)
Objetivo Wti / Objetivos de Sputtering / Alta Calidad Wti

Objetivo Wti / Objetivos de Sputtering / Alta Calidad Wti

US$ 1,00-100,00
1 Pieza(MOQ)
W Objetivo

W Objetivo

US$ 100,00
1 Pieza(MOQ)
Objetivo de molibdeno puro para recubrimientos, pantallas TFT-LCD

Objetivo de molibdeno puro para recubrimientos, pantallas TFT-LCD

US$ 1.000,00
1 Pieza(MOQ)
1/4

Zhuzhou Hongtong Tungsten Carbide Co., Ltd.

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Varios objetivos de tungsteno carburo en diferentes formas para recubrimientos de DLC

Varios objetivos de tungsteno carburo en diferentes formas para recubrimientos de DLC

US$ 38,00-45,00
10 Kg(MOQ)
Objetivos de sputtering de carburo de tungsteno para fabricar recubrimientos de DLC

Objetivos de sputtering de carburo de tungsteno para fabricar recubrimientos de DLC

US$ 38,00-45,00
10 Kg(MOQ)
Placa de Carburo de Tungsteno con un Lado Estriado

Placa de Carburo de Tungsteno con un Lado Estriado

US$ 38,00-45,00
10 Kg(MOQ)
Placa de carburo de tungsteno no estándar con un lado estriado

Placa de carburo de tungsteno no estándar con un lado estriado

US$ 38,00-45,00
10 Kg(MOQ)
1/4

Shandong Quansheng Material Technology Group Co., LTD

3 años
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Objetivos de tungsteno premium para procesos de recubrimiento al vacío

Objetivos de tungsteno premium para procesos de recubrimiento al vacío

US$ 56,00-61,00
5 Kg(MOQ)
Tubería de Aleación de Tantalio de Alta Pureza Ta1 Resistente a Altas Temperaturas Industrial

Tubería de Aleación de Tantalio de Alta Pureza Ta1 Resistente a Altas Temperaturas Industrial

US$ 350,00-510,00
1 Kg(MOQ)
Tubo de tantalio resistente a ácidos fuertes y álcalis para tuberías petroquímicas con grosor de pared personalizable

Tubo de tantalio resistente a ácidos fuertes y álcalis para tuberías petroquímicas con grosor de pared personalizable

US$ 350,00-510,00
1 Kg(MOQ)
Tubo de Tántalo Ta1ta2 de Alta Pureza Resistente a la Corrosión para Equipos Químicos Especificaciones Personalizables

Tubo de Tántalo Ta1ta2 de Alta Pureza Resistente a la Corrosión para Equipos Químicos Especificaciones Personalizables

US$ 350,00-510,00
1 Kg(MOQ)
1/4

Beenine Shanke Technology Co., Ltd.

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Objetivo de Sputtering de Recubrimiento PVD Plano Redondo de Titanio Tungsteno Ti/W Fábrica

Objetivo de Sputtering de Recubrimiento PVD Plano Redondo de Titanio Tungsteno Ti/W Fábrica

US$ 300,00-1.000,00
1 Pieza(MOQ)
99.99% Pureza 4n Fabricación de blanco de sputtering de titanio tungsteno en China

99.99% Pureza 4n Fabricación de blanco de sputtering de titanio tungsteno en China

US$ 300,00-1.000,00
1 Pieza(MOQ)
Objetivo de sputtering tubular plano de Ti/W tungsteno para recubrimiento PVD a precio competitivo

Objetivo de sputtering tubular plano de Ti/W tungsteno para recubrimiento PVD a precio competitivo

US$ 300,00-1.000,00
1 Pieza(MOQ)
1/4

Zhuzhou M & J Import and Export Co., Ltd.

4.0
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Objetivo de Sputtering de Tungsteno Cementado de Alta Calidad

Objetivo de Sputtering de Tungsteno Cementado de Alta Calidad

US$ 5,00-20,00
20 Piezas(MOQ)
Placa de tungsteno con 99.95% W

Placa de tungsteno con 99.95% W

US$ 5,00-10,00
20 Piezas(MOQ)
Proveedores de barra redonda de aleación de tungsteno puro

Proveedores de barra redonda de aleación de tungsteno puro

US$ 10,00-20,00
100 Piezas(MOQ)
1/4

SUZHOU TECHNO-TEC PHOTOELECTRIC MATERIALS CO., LTD

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W Target Tungsteno esputtering Target para semiconductores /chips de memoria

W Target Tungsteno esputtering Target para semiconductores /chips de memoria

US$ 45,00-350,00
1 Kg(MOQ)
Blanco de aleación de tungsteno Blanco de esputo de aleación de titanio para semiconductores /Chips de memoria

Blanco de aleación de tungsteno Blanco de esputo de aleación de titanio para semiconductores /Chips de memoria

US$ 270,00
1 Kg(MOQ)
1/4

Hubei Fotma Machinery Co., Ltd.

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Producto personalizado de tungsteno, blanco de sputtering de tungsteno puro

Producto personalizado de tungsteno, blanco de sputtering de tungsteno puro

US$ 40,00-50,00
1 Kg(MOQ)
99.95% Placas de tungsteno negro mecanizadas y rectificadas en puro tungsteno

99.95% Placas de tungsteno negro mecanizadas y rectificadas en puro tungsteno

US$ 1,00-20,00
1 Pieza(MOQ)
1/4

Hebei Zhongyi Import and Export Co., Ltd.

3 años
·Empresa Comercial
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Recubrimiento cerámico de disulfuro de tungsteno puro Ws2 para un recubrimiento de alta calidad mediante pulverización

Recubrimiento cerámico de disulfuro de tungsteno puro Ws2 para un recubrimiento de alta calidad mediante pulverización

US$ 9,00-12,00
10 Kg(MOQ)
Objetivo de Sputtering de Disulfuro de Tungsteno de Alta Pureza Ws2 para Aplicaciones de Recubrimiento

Objetivo de Sputtering de Disulfuro de Tungsteno de Alta Pureza Ws2 para Aplicaciones de Recubrimiento

US$ 9,00-12,00
10 Kg(MOQ)
1/4

Dongguan Gravel Industries and Enterprise Company Limited

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4n Objetivo de Sputtering de Tungsteno de Alta Precisión

4n Objetivo de Sputtering de Tungsteno de Alta Precisión

US$ 3.500,00
1 Pieza(MOQ)
1/4

Ningbo Galaxy International Trading Co., Ltd.

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Objetivo redondo de tantalio puro pulido para la fabricación de capacitores de tantalio

Objetivo redondo de tantalio puro pulido para la fabricación de capacitores de tantalio

US$ 30,00
10 Piezas(MOQ)
Hoja de tántalo de alta pureza, gris, con ductilidad para recubrimiento al vacío

Hoja de tántalo de alta pureza, gris, con ductilidad para recubrimiento al vacío

US$ 73,00
1 Pieza(MOQ)
Superficie pulida de alta dureza y objetivo de tubo de níquel de mayor pureza

Superficie pulida de alta dureza y objetivo de tubo de níquel de mayor pureza

US$ 30,00
10 Piezas(MOQ)
Objetivo redondo de níquel preventivo de corrosión de alta calidad

Objetivo redondo de níquel preventivo de corrosión de alta calidad

US$ 10,00
5 Piezas(MOQ)
1/4

Zhengzhou Tainuo Film Materials Co., Ltd.

9 años
·Fabricante/Fábrica
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Al, objetivo de sputtering de Cr para evaporación térmica y máquina de sputtering magnetrón

Al, objetivo de sputtering de Cr para evaporación térmica y máquina de sputtering magnetrón

US$ 30,00-200,00
1 Pieza(MOQ)
Revestidor PVD compuesto de sputtering magnetrón de doble objetivo y evaporación térmica con suministro de energía de corriente continua y de radiofrecuencia

Revestidor PVD compuesto de sputtering magnetrón de doble objetivo y evaporación térmica con suministro de energía de corriente continua y de radiofrecuencia

US$ 28.000,00-31.000,00
1 Pieza(MOQ)
Revestidor compuesto de magnetrón de doble objetivo con pulverización y evaporación térmica con potencia de CD y RF

Revestidor compuesto de magnetrón de doble objetivo con pulverización y evaporación térmica con potencia de CD y RF

US$ 51.000,00-59.999,00
1 Pieza(MOQ)
Investigación de laboratorio recubridor de evaporación térmica al vacío para depositar películas metálicas

Investigación de laboratorio recubridor de evaporación térmica al vacío para depositar películas metálicas

US$ 5.300,00-6.900,00
1 Pieza(MOQ)
1/4

Hunan Ultra Minor Metals Ltd

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La pureza del 5n el 99,999% de Tungsteno de Sputtering meta para la industria de película fina

La pureza del 5n el 99,999% de Tungsteno de Sputtering meta para la industria de película fina

Negociable
1 Pieza(MOQ)
La pureza del 4n blanco de titanio de tungsteno, el 99,99% de Wti10 Wti20 Sputtering meta

La pureza del 4n blanco de titanio de tungsteno, el 99,99% de Wti10 Wti20 Sputtering meta

Negociable
1 Pieza(MOQ)
Tungsteno de alta pureza níquel cromo/níquel cromo/ tungsteno níquel esputante objetivo Para la industria de películas delgadas

Tungsteno de alta pureza níquel cromo/níquel cromo/ tungsteno níquel esputante objetivo Para la industria de películas delgadas

Negociable
1 Pieza(MOQ)

Hunan Radiance Material Co., Ltd

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Objetivos de tungsteno de alta pureza para el esputo de PVD

Objetivos de tungsteno de alta pureza para el esputo de PVD

Negociable
1 Pieza(MOQ)

Matvey New Materials Technology Co, . Ltd

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Objetivo de tungsteno

Objetivo de tungsteno

US$ 90,00-100,00
1 Kg(MOQ)

Luoyang Kewei Molybdenum&Tungsten Co., Ltd.

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Material de destino de pulverización de molibdeno

Material de destino de pulverización de molibdeno

US$ 1.000,00-30.000,00
1 Pieza(MOQ)

Sid Metal Co., Ltd

13 años
·Fabricante/Fábrica & Empresa Comercial
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Precio de fábrica 99.95% Metal Tántalo puro objetivo de sputtering Ta objetivos planos de tantalio

Precio de fábrica 99.95% Metal Tántalo puro objetivo de sputtering Ta objetivos planos de tantalio

US$ 1,00-100,00
1 Pieza(MOQ)
Objetivo de sputtering de titanio de alta pureza, planar para la industria de semiconductores, circuitos integrados, vidrio para construcción y automóviles

Objetivo de sputtering de titanio de alta pureza, planar para la industria de semiconductores, circuitos integrados, vidrio para construcción y automóviles

US$ 1,00-100,00
1 Pieza(MOQ)
Objetivo de Sputtering de Titanio Ti / Objetivo Rotatorio de Titanio para Semiconductores / Sputtering de Recubrimiento al Vacío

Objetivo de Sputtering de Titanio Ti / Objetivo Rotatorio de Titanio para Semiconductores / Sputtering de Recubrimiento al Vacío

US$ 1,00-100,00
1 Pieza(MOQ)
Alta Pureza Zr702 Zr705 Objetivo de Zirconio Conductividad Térmica Objetivo de Sputtering

Alta Pureza Zr702 Zr705 Objetivo de Zirconio Conductividad Térmica Objetivo de Sputtering

US$ 0,05-100,00
1 Pieza(MOQ)
1/4

Zhengzhou Shibo Nonferrous Metals Products Co., Ltd.

21 años·5.0
·Fabricante/Fábrica & Empresa Comercial
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Placa Redonda de Molibdeno de Alta Pureza Mo1 para Sputtering

Placa Redonda de Molibdeno de Alta Pureza Mo1 para Sputtering

US$ 40,00-88,00
1 kg(MOQ)
Objetivo de molibdeno para recubrimiento por pulverización al vacío

Objetivo de molibdeno para recubrimiento por pulverización al vacío

US$ 45,00
1 kg(MOQ)
Molibdeno material objetivo mejor Precio Mo Tagret

Molibdeno material objetivo mejor Precio Mo Tagret

US$ 40,00-88,00
1 kg(MOQ)
Placa de molibdeno de alta calidad

Placa de molibdeno de alta calidad

US$ 40,00-88,00
1 kg(MOQ)
1/2

Shaanxi Mingsheng Guangpu Metal Materials Co., Ltd.

3 años·5.0
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Objetivo de aluminio y circonio CIP versátil con composición de cromo

Objetivo de aluminio y circonio CIP versátil con composición de cromo

US$ 85,00-95,00
1 Pieza(MOQ)
Objetivo de Sputtering de Cromo en Forma de Rectángulo con Maquinado de Agujeros para Recubrimiento Metálico de Precisión

Objetivo de Sputtering de Cromo en Forma de Rectángulo con Maquinado de Agujeros para Recubrimiento Metálico de Precisión

US$ 99,00-180,00
1 Pieza(MOQ)
Objetivo de zirconio de alta pureza directo de fábrica para aplicaciones ópticas

Objetivo de zirconio de alta pureza directo de fábrica para aplicaciones ópticas

US$ 90,00-99,00
10 Kg(MOQ)
Objetivo de Sputtering de Cromo para Electrónica de Precisión y Moldes

Objetivo de Sputtering de Cromo para Electrónica de Precisión y Moldes

US$ 90,00-110,00
2 Piezas(MOQ)
1/4

Xi'an Kefeng Powder Metallurgy Co., Ltd.

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Hojas y Placas de Molibdeno

Hojas y Placas de Molibdeno

US$ 100,00-500,00
10 Kg(MOQ)
99.95% Tungsteno Puro: Su Proveedor de Confianza Desde China

99.95% Tungsteno Puro: Su Proveedor de Confianza Desde China

US$ 50,00-500,00
10 Kg(MOQ)
Foil de tungsteno de alta calidad Kefeng con un grosor de 0.001inches (0.025mm) a 0.08 pulgadas (2 mm)

Foil de tungsteno de alta calidad Kefeng con un grosor de 0.001inches (0.025mm) a 0.08 pulgadas (2 mm)

US$ 50,00-500,00
10 Kg(MOQ)
Billetes 99.95% Material de tungsteno con estándar ASTM B760

Billetes 99.95% Material de tungsteno con estándar ASTM B760

US$ 50,00-500,00
10 Kg(MOQ)
1/4

Luoyang Kaitong Molybdenum &Tungsten Co., Ltd.

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Objetivos de pulverización de molibdeno

Objetivos de pulverización de molibdeno

Negociable
1 Kg(MOQ)
Electrodos de molibdeno

Electrodos de molibdeno

Negociable
1 Kg(MOQ)
Productos de molibdeno

Productos de molibdeno

Negociable
1 Kg(MOQ)
Objetivos de pulverización de tungsteno

Objetivos de pulverización de tungsteno

Negociable
1 Kg(MOQ)

Able Target Limited

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Sputtering Meta,Ceramica,Destino revestimiento PVD

Sputtering Meta,Ceramica,Destino revestimiento PVD

Negociable
1 Pieza(MOQ)
Sputtering meta

Sputtering meta

Negociable
1 Pieza(MOQ)
Sputtering Meta, Al2O3/Óxido de aluminio, Al2O3/ZnO/Azo de óxido de zinc aluminio

Sputtering Meta, Al2O3/Óxido de aluminio, Al2O3/ZnO/Azo de óxido de zinc aluminio

Negociable
1 Pieza(MOQ)
13
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