Inicioarrow-rightÍndice de Fábrica Chinaarrow-rightobjetivo de sputtering de tungsteno fábricaarrow-rightlista de proveedores
Filtrar
Categoría
Más
Certificación de Gestión
Más
Capacidad de R&D
Ingresos Anuales
Más
Número de empleados
Provincia & Región
Más
sobre objetivo de sputtering de tungsteno
  • Innovación tecnológica
  • Cadenas de suministro confiables
  • Capacidades de fabricación sustanciales

objetivo de sputtering de tungsteno70+ fábricas verificadas

Rheniumet Ltd.

Enviar Consulta
Objetivo de Sputtering de Tungsteno de Alta Pureza 99.999%, Redondo, Escalonado, Objetivo Irregular o Recubrimiento de Película Delgada

Objetivo de Sputtering de Tungsteno de Alta Pureza 99.999%, Redondo, Escalonado, Objetivo Irregular o Recubrimiento de Película Delgada

Negociable
10 Piezas(MOQ)
4n Objetivo de Sputtering de Wolframio, 99.99% Objetivo de Tungsteno para Recubrimiento por Sputtering

4n Objetivo de Sputtering de Wolframio, 99.99% Objetivo de Tungsteno para Recubrimiento por Sputtering

Negociable
1 Pieza(MOQ)
Objetivo de sputtering de aleación de tungsteno rhenio de alta pureza

Objetivo de sputtering de aleación de tungsteno rhenio de alta pureza

US$ 2.000,00-5.000,00
1 Kg(MOQ)
99.95% Objetivo de Sputtering de Metal de Tantalio de Alta Pureza para Recubrimiento de Película Fina

99.95% Objetivo de Sputtering de Metal de Tantalio de Alta Pureza para Recubrimiento de Película Fina

US$ 700,00-1.000,00
1 Pieza(MOQ)
1/4

Zhuzhou Weilai New Materials Technology Co., Ltd.

8 años
·Fabricante/Fábrica & Empresa Comercial
Enviar Consulta
Objetivos de ánodo rotatorio de aleación de tungsteno, aleación de renio, aleación de molibdeno

Objetivos de ánodo rotatorio de aleación de tungsteno, aleación de renio, aleación de molibdeno

US$ 142,00-168,00
30 Piezas(MOQ)
Suministrar objetivo de sputtering de ánodo rotatorio de tungsteno rutenio negro

Suministrar objetivo de sputtering de ánodo rotatorio de tungsteno rutenio negro

US$ 142,00-168,00
30 Piezas(MOQ)
Aplicaciones de alta temperatura objetivo de pulverización rotativa de tungsteno rhenio para ánodo de rayos X

Aplicaciones de alta temperatura objetivo de pulverización rotativa de tungsteno rhenio para ánodo de rayos X

US$ 142,00-168,00
30 Piezas(MOQ)
Material de objetivo de molibdeno mejor precio objetivo de pulverización de tungsteno rutenio superficie de ánodo CT

Material de objetivo de molibdeno mejor precio objetivo de pulverización de tungsteno rutenio superficie de ánodo CT

US$ 142,00-168,00
30 Piezas(MOQ)
1/4

Changsha Xinkang Advanced Materials Co., Ltd.

Enviar Consulta
99.95% Material de Metal Tungsteno Puro 3n5 Objetivo de Sputtering de Tungsteno para Recubrimiento de Película Delgada

99.95% Material de Metal Tungsteno Puro 3n5 Objetivo de Sputtering de Tungsteno para Recubrimiento de Película Delgada

US$ 200,00-23.000,00
1 Pieza(MOQ)
Materiales de recubrimiento PVD Wti aleación de tungsteno y titanio objetivo de sputtering

Materiales de recubrimiento PVD Wti aleación de tungsteno y titanio objetivo de sputtering

US$ 30,00-50,00
1 Pieza(MOQ)
Objetivo de Sputtering de Aleación de Tungsteno Titanio de Alta Pureza 99.995%

Objetivo de Sputtering de Aleación de Tungsteno Titanio de Alta Pureza 99.995%

US$ 70,00-80,00
1 Pieza(MOQ)
Objetivos de Sputtering de Tungsteno Puro para Soluciones de Fabricación Avanzadas

Objetivos de Sputtering de Tungsteno Puro para Soluciones de Fabricación Avanzadas

US$ 35,00-45,00
1 Pieza(MOQ)
1/4

Lonwin Industry Group Limited

5.0
Enviar Consulta
99.99% Objetivo de Sputtering de Tungsteno Puro W Material de Tungsteno

99.99% Objetivo de Sputtering de Tungsteno Puro W Material de Tungsteno

US$ 17,00-55,00
1 Kg(MOQ)
99.99% Wsi2 Objetivos de Cerámica Objetivos de Disiliciuro de Tungsteno para Sputtering

99.99% Wsi2 Objetivos de Cerámica Objetivos de Disiliciuro de Tungsteno para Sputtering

US$ 17,00-55,00
1 Kg(MOQ)
99.9% Objetivo de tungsteno de carburo de tungsteno para recubrimientos de DLC

99.9% Objetivo de tungsteno de carburo de tungsteno para recubrimientos de DLC

US$ 17,00-55,00
1 Kg(MOQ)
99.99% Objetivo de aleación de tungsteno y titanio Wti para recubrimiento PVD

99.99% Objetivo de aleación de tungsteno y titanio Wti para recubrimiento PVD

US$ 17,00-55,00
1 Kg(MOQ)
1/4

Zhejiang Ruisheng New Materials Co., Ltd.

Empresa Comercial
Enviar Consulta
Objetivo de tungsteno rotativo premium para aplicaciones de sputtering eficientes

Objetivo de tungsteno rotativo premium para aplicaciones de sputtering eficientes

US$ 50,00-270,00
10 Kg(MOQ)
Objetivo de Sputtering de Tungsteno de Alta Pureza 99.95% Deposición de Películas Finas de Semiconductores Personalizable Estándar ASTM

Objetivo de Sputtering de Tungsteno de Alta Pureza 99.95% Deposición de Películas Finas de Semiconductores Personalizable Estándar ASTM

US$ 60,00-100,00
1 Kg(MOQ)
Objetivo de Molybdeno Puro Ultra Denso 99.9% 100mm Diámetro Recubrimiento de Película Delgada Opcional RoHS

Objetivo de Molybdeno Puro Ultra Denso 99.9% 100mm Diámetro Recubrimiento de Película Delgada Opcional RoHS

US$ 30,00-60,00
10 Kg(MOQ)
Objetivo de Molybdeno de Alta Pureza para Aplicaciones Industriales Avanzadas

Objetivo de Molybdeno de Alta Pureza para Aplicaciones Industriales Avanzadas

US$ 30,00-60,00
1 Kg(MOQ)
1/4

Xiamen Tmax Battery Equipments Limited

5.0
Enviar Consulta
Marca TMAXCN 3n/4n/4n5 Materiales de recubrimiento PVD Wti Aleación de tungsteno y titanio Objetivo de sputtering

Marca TMAXCN 3n/4n/4n5 Materiales de recubrimiento PVD Wti Aleación de tungsteno y titanio Objetivo de sputtering

US$ 78,00-90,00
1 Pieza(MOQ)
Materiales de recubrimiento PVD de alta pureza de la marca TMAXCN Óxido de tungsteno Wo3 Objetivo de sputtering

Materiales de recubrimiento PVD de alta pureza de la marca TMAXCN Óxido de tungsteno Wo3 Objetivo de sputtering

US$ 78,00-90,00
1 Pieza(MOQ)
Marca TMAXCN Alta Pureza 99.95% Objetivo de Tungsteno Sputtering Proveedor de Fabricación de Objetivos

Marca TMAXCN Alta Pureza 99.95% Objetivo de Tungsteno Sputtering Proveedor de Fabricación de Objetivos

US$ 78,00-90,00
1 Pieza(MOQ)
Marca TMAXCN 3n5 99.95% Fabricante de Suministro de Objetivo de Tungsteno para Sputtering

Marca TMAXCN 3n5 99.95% Fabricante de Suministro de Objetivo de Tungsteno para Sputtering

US$ 78,00-90,00
1 Pieza(MOQ)
1/4

Luoyang Bless Tungsten & Molybdenum Materials Co., Ltd.

12 años
·Empresa Comercial
Enviar Consulta
Objetivos de sputtering de molibdeno para ensamblaje complejo

Objetivos de sputtering de molibdeno para ensamblaje complejo

US$ 40,00-43,00
1 Kg(MOQ)
Doblado y Pliegue de Objetivos de Sputtering de Molibdeno

Doblado y Pliegue de Objetivos de Sputtering de Molibdeno

US$ 40,00-43,00
1 Kg(MOQ)
Objetivos de sputtering de molibdeno de alta calidad

Objetivos de sputtering de molibdeno de alta calidad

US$ 66,00-77,00
1 Kg(MOQ)
Material de alta pureza ultra molibdeno objetivos de pulverización

Material de alta pureza ultra molibdeno objetivos de pulverización

US$ 20,00-86,00
1 Pieza(MOQ)
1/1

LUOYANG COMBAT TUNGSTEN & MOLYBDENUM MATERIAL CO., LTD.

18 años·5.0
·Fabricante/Fábrica & Empresa Comercial
Enviar Consulta
Objetivo de Sputtering de Molybdeno de Alta Densidad de Combate 99.95%

Objetivo de Sputtering de Molybdeno de Alta Densidad de Combate 99.95%

US$ 55,00-59,00
1 Kg(MOQ)
Objetivo de Sputtering de Titanio Puro de Material de Titanio Hecho a Medida 99.6% en Venta

Objetivo de Sputtering de Titanio Puro de Material de Titanio Hecho a Medida 99.6% en Venta

US$ 35,00-40,00
5 Kg(MOQ)
Hoja de Foil de Tantalio Acepta Personalización del Cliente Electrónica Hoja Fina de Tantalio en Venta

Hoja de Foil de Tantalio Acepta Personalización del Cliente Electrónica Hoja Fina de Tantalio en Venta

US$ 456,80-500,20
1 Kg(MOQ)
Empaque estándar de exportación puro para electrónica de alto punto de fusión a la venta tantalio

Empaque estándar de exportación puro para electrónica de alto punto de fusión a la venta tantalio

US$ 588,95-602,26
3 Kg(MOQ)
1/4

ATM Material Co., Ltd.

Enviar Consulta
Objetivo de pulverización

Objetivo de pulverización

US$ 0,10-100,00
1.000 Piezas(MOQ)
Objetivo Wti / Objetivos de Sputtering / Alta Calidad Wti

Objetivo Wti / Objetivos de Sputtering / Alta Calidad Wti

US$ 1,00-100,00
1 Pieza(MOQ)
W Objetivo

W Objetivo

US$ 100,00
1 Pieza(MOQ)
Objetivo de molibdeno puro para recubrimientos, pantallas TFT-LCD

Objetivo de molibdeno puro para recubrimientos, pantallas TFT-LCD

US$ 1.000,00
1 Pieza(MOQ)
1/4

Zhuzhou Hongtong Tungsten Carbide Co., Ltd.

Enviar Consulta
Objetivos de sputtering de carburo de tungsteno para fabricar recubrimientos de DLC

Objetivos de sputtering de carburo de tungsteno para fabricar recubrimientos de DLC

US$ 38,00-45,00
10 Kg(MOQ)
Varios objetivos de tungsteno carburo en diferentes formas para recubrimientos de DLC

Varios objetivos de tungsteno carburo en diferentes formas para recubrimientos de DLC

US$ 38,00-45,00
10 Kg(MOQ)
Placa de Carburo de Tungsteno con un Lado Estriado

Placa de Carburo de Tungsteno con un Lado Estriado

US$ 38,00-45,00
10 Kg(MOQ)
Placas de Carburo de Tungsteno para Máquina de Corte por Electrodo de Alambre

Placas de Carburo de Tungsteno para Máquina de Corte por Electrodo de Alambre

US$ 38,00-45,00
10 Kg(MOQ)
1/4

Beenine Shanke Technology Co., Ltd.

Enviar Consulta
Objetivo de Sputtering de Recubrimiento PVD Plano Redondo de Titanio Tungsteno Ti/W Fábrica

Objetivo de Sputtering de Recubrimiento PVD Plano Redondo de Titanio Tungsteno Ti/W Fábrica

US$ 300,00-1.000,00
1 Pieza(MOQ)
99.99% Pureza 4n Fabricación de blanco de sputtering de titanio tungsteno en China

99.99% Pureza 4n Fabricación de blanco de sputtering de titanio tungsteno en China

US$ 300,00-1.000,00
1 Pieza(MOQ)
Objetivo de sputtering tubular plano de Ti/W tungsteno para recubrimiento PVD a precio competitivo

Objetivo de sputtering tubular plano de Ti/W tungsteno para recubrimiento PVD a precio competitivo

US$ 300,00-1.000,00
1 Pieza(MOQ)
1/4

Zhuzhou M & J Import and Export Co., Ltd.

4.0
Enviar Consulta
Objetivo de Sputtering de Tungsteno Cementado de Alta Calidad

Objetivo de Sputtering de Tungsteno Cementado de Alta Calidad

US$ 5,00-20,00
20 Piezas(MOQ)
Proveedores de barra redonda de aleación de tungsteno puro

Proveedores de barra redonda de aleación de tungsteno puro

US$ 10,00-20,00
100 Piezas(MOQ)
Placa de tungsteno con 99.95% W

Placa de tungsteno con 99.95% W

US$ 5,00-10,00
20 Piezas(MOQ)
1/4

SUZHOU TECHNO-TEC PHOTOELECTRIC MATERIALS CO., LTD

Enviar Consulta
W Target Tungsteno esputtering Target para semiconductores /chips de memoria

W Target Tungsteno esputtering Target para semiconductores /chips de memoria

US$ 45,00-350,00
1 Kg(MOQ)
Blanco de aleación de tungsteno Blanco de esputo de aleación de titanio para semiconductores /Chips de memoria

Blanco de aleación de tungsteno Blanco de esputo de aleación de titanio para semiconductores /Chips de memoria

US$ 270,00
1 Kg(MOQ)
1/4

Hubei Fotma Machinery Co., Ltd.

Enviar Consulta
Producto personalizado de tungsteno, blanco de sputtering de tungsteno puro

Producto personalizado de tungsteno, blanco de sputtering de tungsteno puro

US$ 40,00-50,00
1 Kg(MOQ)
99.95% Placas de tungsteno negro mecanizadas y rectificadas en puro tungsteno

99.95% Placas de tungsteno negro mecanizadas y rectificadas en puro tungsteno

US$ 1,00-20,00
1 Pieza(MOQ)
1/4

Hebei Zhongyi Import and Export Co., Ltd.

2 años
·Empresa Comercial
Enviar Consulta
Recubrimiento cerámico de disulfuro de tungsteno puro Ws2 para un recubrimiento de alta calidad mediante pulverización

Recubrimiento cerámico de disulfuro de tungsteno puro Ws2 para un recubrimiento de alta calidad mediante pulverización

US$ 9,00-12,00
10 Kg(MOQ)
Objetivo de Sputtering de Disulfuro de Tungsteno de Alta Pureza Ws2 para Aplicaciones de Recubrimiento

Objetivo de Sputtering de Disulfuro de Tungsteno de Alta Pureza Ws2 para Aplicaciones de Recubrimiento

US$ 9,00-12,00
10 Kg(MOQ)
1/4

Dongguan Gravel Industries and Enterprise Company Limited

Enviar Consulta
4n Objetivo de Sputtering de Tungsteno de Alta Precisión

4n Objetivo de Sputtering de Tungsteno de Alta Precisión

US$ 3.500,00
1 Pieza(MOQ)
1/4

Ningbo Galaxy International Trading Co., Ltd.

Enviar Consulta
Objetivo redondo de zirconio de alta precisión por máquina CNC

Objetivo redondo de zirconio de alta precisión por máquina CNC

US$ 36,00
10 Piezas(MOQ)
Objetivo redondo de níquel preventivo de corrosión de alta calidad

Objetivo redondo de níquel preventivo de corrosión de alta calidad

US$ 10,00
5 Piezas(MOQ)
Objetivo de sputtering redondo de aluminio de titanio de alta calidad

Objetivo de sputtering redondo de aluminio de titanio de alta calidad

US$ 20,00
50 Piezas(MOQ)
Superficie pulida de alta dureza y objetivo de tubo de níquel de mayor pureza

Superficie pulida de alta dureza y objetivo de tubo de níquel de mayor pureza

US$ 30,00
10 Piezas(MOQ)
1/4

Zhengzhou Tainuo Film Materials Co., Ltd.

9 años
·Fabricante/Fábrica
Enviar Consulta
Al, objetivo de sputtering de Cr para evaporación térmica y máquina de sputtering magnetrón

Al, objetivo de sputtering de Cr para evaporación térmica y máquina de sputtering magnetrón

US$ 30,00-200,00
1 Pieza(MOQ)
Revestidor compuesto de magnetrón de doble objetivo con pulverización y evaporación térmica con potencia de CD y RF

Revestidor compuesto de magnetrón de doble objetivo con pulverización y evaporación térmica con potencia de CD y RF

US$ 51.000,00-59.999,00
1 Pieza(MOQ)
Revestidor PVD compuesto de sputtering magnetrón de doble objetivo y evaporación térmica con suministro de energía de corriente continua y de radiofrecuencia

Revestidor PVD compuesto de sputtering magnetrón de doble objetivo y evaporación térmica con suministro de energía de corriente continua y de radiofrecuencia

US$ 28.000,00-31.000,00
1 Pieza(MOQ)
Máquina de recubrimiento PVD

Máquina de recubrimiento PVD

US$ 3.000,00-40.000,00
1 Pieza(MOQ)
1/4

Hunan Ultra Minor Metals Ltd

Enviar Consulta
Tungsteno de alta pureza níquel cromo/níquel cromo/ tungsteno níquel esputante objetivo Para la industria de películas delgadas

Tungsteno de alta pureza níquel cromo/níquel cromo/ tungsteno níquel esputante objetivo Para la industria de películas delgadas

Negociable
1 Pieza(MOQ)
La pureza del 5n el 99,999% de Tungsteno de Sputtering meta para la industria de película fina

La pureza del 5n el 99,999% de Tungsteno de Sputtering meta para la industria de película fina

Negociable
1 Pieza(MOQ)
La pureza del 4n blanco de titanio de tungsteno, el 99,99% de Wti10 Wti20 Sputtering meta

La pureza del 4n blanco de titanio de tungsteno, el 99,99% de Wti10 Wti20 Sputtering meta

Negociable
1 Pieza(MOQ)

Hunan Radiance Material Co., Ltd

Enviar Consulta
Objetivos de tungsteno de alta pureza para el esputo de PVD

Objetivos de tungsteno de alta pureza para el esputo de PVD

Negociable
1 Pieza(MOQ)

Luoyang Kewei Molybdenum&Tungsten Co., Ltd.

Enviar Consulta
Material de destino de pulverización de molibdeno

Material de destino de pulverización de molibdeno

US$ 1.000,00-30.000,00
1 Pieza(MOQ)

Matvey New Materials Technology Co, . Ltd

Enviar Consulta
Objetivo de tungsteno

Objetivo de tungsteno

US$ 90,00-100,00
1 Kg(MOQ)

Zhengzhou Shibo Nonferrous Metals Products Co., Ltd.

21 años·5.0
·Fabricante/Fábrica & Empresa Comercial
Enviar Consulta
Mo1 Precio del objetivo de molibdeno para sputtering

Mo1 Precio del objetivo de molibdeno para sputtering

US$ 40,00-88,00
1 kg(MOQ)
Molibdeno material objetivo mejor Precio Mo Tagret

Molibdeno material objetivo mejor Precio Mo Tagret

US$ 40,00-88,00
1 kg(MOQ)
Placa Redonda de Molibdeno de Alta Pureza Mo1 para Sputtering

Placa Redonda de Molibdeno de Alta Pureza Mo1 para Sputtering

US$ 40,00-88,00
1 kg(MOQ)
Objetivo de molibdeno para recubrimiento por pulverización al vacío

Objetivo de molibdeno para recubrimiento por pulverización al vacío

US$ 45,00
1 kg(MOQ)
1/2

Sid Metal Co., Ltd

13 años
·Fabricante/Fábrica & Empresa Comercial
Enviar Consulta
Objetivo de Sputtering de Titanio Ti / Objetivo Rotatorio de Titanio para Semiconductores / Sputtering de Recubrimiento al Vacío

Objetivo de Sputtering de Titanio Ti / Objetivo Rotatorio de Titanio para Semiconductores / Sputtering de Recubrimiento al Vacío

US$ 1,00-100,00
1 Pieza(MOQ)
Alta Pureza Zr702 Zr705 Objetivo de Zirconio Conductividad Térmica Objetivo de Sputtering

Alta Pureza Zr702 Zr705 Objetivo de Zirconio Conductividad Térmica Objetivo de Sputtering

US$ 0,05-100,00
1 Pieza(MOQ)
Precio de fábrica 99.95% Metal Tántalo puro objetivo de sputtering Ta objetivos planos de tantalio

Precio de fábrica 99.95% Metal Tántalo puro objetivo de sputtering Ta objetivos planos de tantalio

US$ 1,00-100,00
1 Pieza(MOQ)
Objetivo de sputtering de titanio de alta pureza, planar para la industria de semiconductores, circuitos integrados, vidrio para construcción y automóviles

Objetivo de sputtering de titanio de alta pureza, planar para la industria de semiconductores, circuitos integrados, vidrio para construcción y automóviles

US$ 1,00-100,00
1 Pieza(MOQ)
1/4

Shaanxi Mingsheng Guangpu Metal Materials Co., Ltd.

3 años·5.0
Enviar Consulta
Objetivo de Sputtering de Cromo para Electrónica de Precisión y Moldes

Objetivo de Sputtering de Cromo para Electrónica de Precisión y Moldes

US$ 90,00-110,00
2 Piezas(MOQ)
Objetivo de zirconio de alta pureza directo de fábrica para aplicaciones ópticas

Objetivo de zirconio de alta pureza directo de fábrica para aplicaciones ópticas

US$ 90,00-99,00
10 Kg(MOQ)
Objetivo de aluminio y circonio CIP versátil con composición de cromo

Objetivo de aluminio y circonio CIP versátil con composición de cromo

US$ 85,00-95,00
1 Pieza(MOQ)
Objetivo de Sputtering de Cromo en Forma de Rectángulo con Maquinado de Agujeros para Recubrimiento Metálico de Precisión

Objetivo de Sputtering de Cromo en Forma de Rectángulo con Maquinado de Agujeros para Recubrimiento Metálico de Precisión

US$ 99,00-180,00
1 Pieza(MOQ)
1/4

Xi'an Kefeng Powder Metallurgy Co., Ltd.

Enviar Consulta
99.95% Tungsteno Puro: Su Proveedor de Confianza Desde China

99.95% Tungsteno Puro: Su Proveedor de Confianza Desde China

US$ 50,00-500,00
10 Kg(MOQ)
Hojas y Placas de Molibdeno

Hojas y Placas de Molibdeno

US$ 100,00-500,00
10 Kg(MOQ)
Foil de tungsteno de alta calidad Kefeng con un grosor de 0.001inches (0.025mm) a 0.08 pulgadas (2 mm)

Foil de tungsteno de alta calidad Kefeng con un grosor de 0.001inches (0.025mm) a 0.08 pulgadas (2 mm)

US$ 50,00-500,00
10 Kg(MOQ)
Bote de tungsteno de alta densidad y alto punto de fusión 99.95% piezas mecanizadas

Bote de tungsteno de alta densidad y alto punto de fusión 99.95% piezas mecanizadas

US$ 50,00-500,00
10 Kg(MOQ)
1/4

Luoyang Kaitong Molybdenum &Tungsten Co., Ltd.

Enviar Consulta
Objetivos de pulverización de molibdeno

Objetivos de pulverización de molibdeno

Negociable
1 Kg(MOQ)
Productos de molibdeno

Productos de molibdeno

Negociable
1 Kg(MOQ)
Electrodos de molibdeno

Electrodos de molibdeno

Negociable
1 Kg(MOQ)
Objetivos de pulverización de tungsteno

Objetivos de pulverización de tungsteno

Negociable
1 Kg(MOQ)

Able Target Limited

Enviar Consulta
Sputtering Meta,Ceramica,Destino revestimiento PVD

Sputtering Meta,Ceramica,Destino revestimiento PVD

Negociable
1 Pieza(MOQ)
Sputtering Meta, Al2O3/Óxido de aluminio, Al2O3/ZnO/Azo de óxido de zinc aluminio

Sputtering Meta, Al2O3/Óxido de aluminio, Al2O3/ZnO/Azo de óxido de zinc aluminio

Negociable
1 Pieza(MOQ)
Sputtering meta

Sputtering meta

Negociable
1 Pieza(MOQ)

China Leadmat Advanced Materials Co., Ltd.

Enviar Consulta
Objetivo de Sputtering de Aluminio

Objetivo de Sputtering de Aluminio

US$ 15,00
1 Pieza(MOQ)
sputtering

sputtering

US$ 18,00-20,00
1 Pieza(MOQ)

Shenzhen Canyuan Metal Material Co., Ltd.

Enviar Consulta
3n Objetivo de Sputtering de Tungsteno de Alta Pureza en Cromo, Placa Plana / Objetivos Rotativos

3n Objetivo de Sputtering de Tungsteno de Alta Pureza en Cromo, Placa Plana / Objetivos Rotativos

US$ 200,00-10.000,00
1 Pieza(MOQ)
3n5 Placa de objetivo de sputtering de tungsteno W de alta pureza / objetivo de metal de tungsteno W

3n5 Placa de objetivo de sputtering de tungsteno W de alta pureza / objetivo de metal de tungsteno W

US$ 200,00-10.000,00
1 Pieza(MOQ)
13
Productos Populares
Silicio De China
Tungsteno De China
Con Objetivo
Molibdeno De China
Metales De Alta Pureza
Placa De Tungsteno
Alambre De Tungsteno
Alambre De Molibdeno
Fabricantes relacionados & Proveedor
Fábrica De Tubos De Aleación De Tungsteno
Fábrica De Objetivo De Sputtering De Metal
Fábrica De Objetivo De Sputtering De Oro
Fábrica De Objetivo De Sputtering De Circonio
Fabricantes De Objetivo De Sputtering De Aluminio
Fabricantes De Objetivo De Pulverización
Fabricantes De Horno De Fusión De Vidrio
Fabricantes De Barra Redonda De Tungsteno
Sobre Nosotros Declaración Acuerdo del usuario Política de privacidad Contactar a Made-in-China.com Productos Rápidos Perspectivas
Opciones de Idioma: English 简体中文 繁體中文 日本語 Français Español Deutsch Português Italiano Русский язык 한국어 العربية Nederlands हिन्दी ภาษาไทย Türkçe Tiếng Việt Bahasa Indonesia
Copyright ©2026 Focus Technology Co., Ltd. Todos los derechos reservados.
Focus no está responsable de la diferencia entre la versión en inglés y versiones en otros idiomas del sitio web. Si hay algún conflicto, la versión en inglés prevalecerá. Su uso de este sitio web está sujeto a, y constituye el reconocimiento y la aceptación de nuestros Términos y Condiciones.