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sobre Objetivo de estaño
  • Innovación tecnológica
  • Cadenas de suministro confiables
  • Capacidades de fabricación sustanciales

Objetivo de estaño400+ fábricas verificadas

SUZHOU TECHNO-TEC PHOTOELECTRIC MATERIALS CO., LTD

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SnO2 Objetivo de óxido de estaño cerámico para semiconductores

SnO2 Objetivo de óxido de estaño cerámico para semiconductores

US$ 100,00
1 Kg(MOQ)
Objetivo de SbSeSn Antimonio Selenio Estaño Cerámica Objetivo de Sputtering para Recubrimiento de Película Delgada Óptica

Objetivo de SbSeSn Antimonio Selenio Estaño Cerámica Objetivo de Sputtering para Recubrimiento de Película Delgada Óptica

US$ 40,00
1 Kg(MOQ)
Objetivo cerámico de pulverización de estaño para película óptica fina revestimiento/PVD Revestimiento

Objetivo cerámico de pulverización de estaño para película óptica fina revestimiento/PVD Revestimiento

US$ 25,00-100,00
1 Kg(MOQ)
Objetivo de aleación AuSn Aleación de oro y estaño (70: 30wt%) Objetivo de pulverización para componentes electrónicos chips

Objetivo de aleación AuSn Aleación de oro y estaño (70: 30wt%) Objetivo de pulverización para componentes electrónicos chips

US$ 45.200,00
1 Kg(MOQ)
1/4

Dongguan Gravel Industries and Enterprise Company Limited

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Estaño Plata Cobre Objetivo Sac Objetivo

Estaño Plata Cobre Objetivo Sac Objetivo

US$ 6.500,00
1 Pieza(MOQ)
99.99% Blanco de Sputtering de Aleación de Estaño de Oro de Alta Pureza

99.99% Blanco de Sputtering de Aleación de Estaño de Oro de Alta Pureza

US$ 265.000,00
10 Piezas(MOQ)
Objetivo de óxido de indio y estaño

Objetivo de óxido de indio y estaño

US$ 7.800,00
1 Pieza(MOQ)
Material de aleación de alta pureza de estaño, plata y cobre

Material de aleación de alta pureza de estaño, plata y cobre

US$ 25.500,00
1 Pieza(MOQ)
1/4

Beenine Shanke Technology Co., Ltd.

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Objetivo de Sputtering Planar Estaño Sn Estañón Metal Personalizado

Objetivo de Sputtering Planar Estaño Sn Estañón Metal Personalizado

US$ 60,00-100,00
1 Pieza(MOQ)
Objetivo de Sputtering de Placa Estaño Sn Metal para Máquina PVD

Objetivo de Sputtering de Placa Estaño Sn Metal para Máquina PVD

US$ 60,00-100,00
1 Pieza(MOQ)
Objetivo de Sputtering de Metal Estaño Stannum Sn Precio Económico

Objetivo de Sputtering de Metal Estaño Stannum Sn Precio Económico

US$ 60,00-100,00
1 Pieza(MOQ)
Fábrica de dianas de pulverización de estaño estannum Sn servicio de unión

Fábrica de dianas de pulverización de estaño estannum Sn servicio de unión

US$ 60,00-100,00
1 Pieza(MOQ)
1/4

Changsha Xinkang Advanced Materials Co., Ltd.

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ITO90/10wt% Objetivo de Sputtering de Óxido de Indio y Estaño con Placa de Respaldo de Cobre

ITO90/10wt% Objetivo de Sputtering de Óxido de Indio y Estaño con Placa de Respaldo de Cobre

Negociable
1 Pieza(MOQ)
Objetivo PVD Znsn Aleación de Metal de Zinc y Estaño Objetivo de Sputtering Magnetrón

Objetivo PVD Znsn Aleación de Metal de Zinc y Estaño Objetivo de Sputtering Magnetrón

US$ 30,00
1 Pieza(MOQ)
Objetivo de estaño de alta pureza para sputtering magnetrón

Objetivo de estaño de alta pureza para sputtering magnetrón

US$ 35,00-800,00
1 Pieza(MOQ)
99.95% Objetivo de aleación metálica Znsn Zinc Estaño para recubrimiento mediante sputtering

99.95% Objetivo de aleación metálica Znsn Zinc Estaño para recubrimiento mediante sputtering

Negociable
1 Pieza(MOQ)
1/4

Lonwin Industry Group Limited

5.0
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Objetivo de Sputtering de Óxido de Indio y Estaño (ITO) de Alta Pureza 99.99% para Recubrimiento PVD

Objetivo de Sputtering de Óxido de Indio y Estaño (ITO) de Alta Pureza 99.99% para Recubrimiento PVD

US$ 17,00-55,00
1 Kg(MOQ)
99.99% Objetivos de Sputtering de Estaño Metálico para Recubrimiento

99.99% Objetivos de Sputtering de Estaño Metálico para Recubrimiento

US$ 17,00-55,00
1 Kg(MOQ)
99.95% Blanco de Sputtering de Aleación de Metal Znsn Zinc Estaño

99.95% Blanco de Sputtering de Aleación de Metal Znsn Zinc Estaño

US$ 17,00-55,00
1 Kg(MOQ)
Objetivos cerámicos ATO de óxido de estaño dopado con antimonio para pulverización

Objetivos cerámicos ATO de óxido de estaño dopado con antimonio para pulverización

US$ 17,00-55,00
1 Kg(MOQ)
1/4

SHAOXING TIANLONG TIN MATERIALS CO., LTD.

29 años
·Fabricante/Fábrica & Empresa Comercial
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Materiales personalizables premium 2.5mm Sn10Zn90 para reventa

Materiales personalizables premium 2.5mm Sn10Zn90 para reventa

US$ 9,00-12,00
300 Kg(MOQ)
Alambre de estaño premium para usos creativos versátiles de material objetivo

Alambre de estaño premium para usos creativos versátiles de material objetivo

US$ 31,00-33,00
100 Kg(MOQ)
Alambre de aleación de estaño y zinc premium para un rendimiento superior de capacitores

Alambre de aleación de estaño y zinc premium para un rendimiento superior de capacitores

US$ 18,00-21,00
100 Kg(MOQ)
Alambre de Zinc de Ultra Alta Pureza 99.995% para Herramientas de Precisión

Alambre de Zinc de Ultra Alta Pureza 99.995% para Herramientas de Precisión

US$ 4,00-5,50
100 Kg(MOQ)
1/4

Rheniumet Ltd.

17 años
·Empresa Comercial
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Objetivo ITO para LCD, PDP, OLED, objetivo compuesto de estaño, indio y oxígeno

Objetivo ITO para LCD, PDP, OLED, objetivo compuesto de estaño, indio y oxígeno

Negociable
1 Pieza(MOQ)
3mm Blanco grueso de rutenio, blanco de sputtering de Ru

3mm Blanco grueso de rutenio, blanco de sputtering de Ru

Negociable
1 Pieza(MOQ)
Objetivo de Sputtering de Rhenio de Alta Pureza 99.99%, Objetivo Redondo de Metal Re

Objetivo de Sputtering de Rhenio de Alta Pureza 99.99%, Objetivo Redondo de Metal Re

US$ 1.000,00-4.000,00
1 Pieza(MOQ)
Objetivo de sputtering de rutenio Ru de alta pureza para la industria de películas delgadas

Objetivo de sputtering de rutenio Ru de alta pureza para la industria de películas delgadas

US$ 1.700,00
1 pieces(MOQ)
1/4

Jiangxi CNP New Chemical Materials Co., Ltd.

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Óxido de estaño (SnO2) Material de evaporación en forma de pellet 1-10mm Pureza 99.99% Objetivo de pulverización

Óxido de estaño (SnO2) Material de evaporación en forma de pellet 1-10mm Pureza 99.99% Objetivo de pulverización

US$ 200,00
1 Kg(MOQ)
1/4

Shenzhen Hongchen New Materials Co., Ltd

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Fábrica de Guangdong placa de cobre de óxido de estaño indio ITO Sputtering Objetivos

Fábrica de Guangdong placa de cobre de óxido de estaño indio ITO Sputtering Objetivos

US$ 10,00-15,00
1 Kg(MOQ)
Tubo de cobre sin oxígeno de alta pureza de fábrica con pulverización pureza de material objetivo 99,98% Semiconductor

Tubo de cobre sin oxígeno de alta pureza de fábrica con pulverización pureza de material objetivo 99,98% Semiconductor

US$ 10,00-15,00
1 Kg(MOQ)
Cobre objetivo de pulverización de múltiples arcos de placas de cobre de revestimiento PVD de fábrica Semiconductor rotativo

Cobre objetivo de pulverización de múltiples arcos de placas de cobre de revestimiento PVD de fábrica Semiconductor rotativo

US$ 10,00-15,00
1 Kg(MOQ)
Comercio al por mayor de Sputtering meta las fábricas de materiales para la industria de semiconductores

Comercio al por mayor de Sputtering meta las fábricas de materiales para la industria de semiconductores

US$ 10,00-15,00
1 Kg(MOQ)

Shanghai Zenkaah New Materials Technology Co., Ltd.

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Objetivos de esputo de PVD (deposición física de vapor) de alta pureza: Objetivo de titanio (TI), objetivo de dióxido de titanio (TiO2), objetivo de nitruro de titanio (TIN) y Titaniu

Objetivos de esputo de PVD (deposición física de vapor) de alta pureza: Objetivo de titanio (TI), objetivo de dióxido de titanio (TiO2), objetivo de nitruro de titanio (TIN) y Titaniu

Negociable
1 Pieza(MOQ)
Material objetivo DE ITO (óxido de estaño de Indium), película conductiva transparente de Indium Tin Oxide Semiconductor, objetivo de espumación de Magnetron, Especificaciones personalizadas

Material objetivo DE ITO (óxido de estaño de Indium), película conductiva transparente de Indium Tin Oxide Semiconductor, objetivo de espumación de Magnetron, Especificaciones personalizadas

Negociable
1 Pieza(MOQ)

Suzhou Zhongzhina Semiconductor Technology Co., Ltd.

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Objetivos de esputo de PVD (deposición física de vapor) de alta pureza: Objetivo de titanio (TI), objetivo de dióxido de titanio (TiO2), objetivo de nitruro de titanio (TIN),

Objetivos de esputo de PVD (deposición física de vapor) de alta pureza: Objetivo de titanio (TI), objetivo de dióxido de titanio (TiO2), objetivo de nitruro de titanio (TIN),

Negociable
1 Pieza(MOQ)
Material objetivo DE ITO (óxido de estaño de Indium), película conductiva transparente de Indium Tin Oxide Semiconductor, objetivo de espumación de Magnetron

Material objetivo DE ITO (óxido de estaño de Indium), película conductiva transparente de Indium Tin Oxide Semiconductor, objetivo de espumación de Magnetron

Negociable
1 Pieza(MOQ)

Mount Laser (Changzhou) Instrument Co., Ltd.

5 años·5.0
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Venta Caliente 3m Hoja Reflectante Objetivo para Estudio de Estación Total

Venta Caliente 3m Hoja Reflectante Objetivo para Estudio de Estación Total

US$ 0,80-1,00
10 Piezas(MOQ)
Objetivo Reflectante con 3m 60mm Hoja y Sistema de Liberación Rápida

Objetivo Reflectante con 3m 60mm Hoja y Sistema de Liberación Rápida

US$ 6,50-9,00
20 Piezas(MOQ)
Rt110 60mm Objetivo Reflectante con 1.2m Poste

Rt110 60mm Objetivo Reflectante con 1.2m Poste

US$ 35,00-45,00
10 Piezas(MOQ)
Rt106 Objetivo de Aluminio con 3m 40*40mm Hoja y M8 Hilo

Rt106 Objetivo de Aluminio con 3m 40*40mm Hoja y M8 Hilo

US$ 21,00-36,00
20 Piezas(MOQ)
1/4

Commander Group Ltd.

12 años·5.0
·Empresa Comercial
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Gzt21 114mm Escaneando objetivos sin base

Gzt21 114mm Escaneando objetivos sin base

US$ 51,00-52,00
1 Pieza(MOQ)
Objetivo rotatorio para accesorios de topografía

Objetivo rotatorio para accesorios de topografía

US$ 13,00-15,00
1 Pieza(MOQ)
Placa de objetivo con cinta reflectante y rosca

Placa de objetivo con cinta reflectante y rosca

US$ 3,50-3,70
1 Pieza(MOQ)
Escaneando objetivos sin base

Escaneando objetivos sin base

US$ 53,50-55,00
1 Pieza(MOQ)
1/4

Shenzhen Silver Technologies Ltd

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Ventas Directas de Fábrica de 99.99% - 99.999% Material de Objetivo de Sputtering de Oro

Ventas Directas de Fábrica de 99.99% - 99.999% Material de Objetivo de Sputtering de Oro

US$ 200,00
100 g(MOQ)
Objetivo de Sputtering de Oro 99.99% Objetivo de Alta Calidad Au Objetivo de Oro Puro

Objetivo de Sputtering de Oro 99.99% Objetivo de Alta Calidad Au Objetivo de Oro Puro

US$ 200,00
100 g(MOQ)
Material de objetivo de pulverización de oro de alta pureza procesamiento personalizado

Material de objetivo de pulverización de oro de alta pureza procesamiento personalizado

US$ 200,00
100 g(MOQ)
Material de metal de alta pureza, objetivo de partículas de oro, resistencia a la corrosión para semiconductores

Material de metal de alta pureza, objetivo de partículas de oro, resistencia a la corrosión para semiconductores

US$ 200,00
100 g(MOQ)
1/4

Sid Metal Co., Ltd

13 años
·Fabricante/Fábrica & Empresa Comercial
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Objetivo de Sputtering de Titanio Ti / Objetivo Rotatorio de Titanio para Semiconductores / Sputtering de Recubrimiento al Vacío

Objetivo de Sputtering de Titanio Ti / Objetivo Rotatorio de Titanio para Semiconductores / Sputtering de Recubrimiento al Vacío

US$ 1,00-100,00
1 Pieza(MOQ)
Objetivo de sputtering de titanio de alta pureza, planar para la industria de semiconductores, circuitos integrados, vidrio para construcción y automóviles

Objetivo de sputtering de titanio de alta pureza, planar para la industria de semiconductores, circuitos integrados, vidrio para construcción y automóviles

US$ 1,00-100,00
1 Pieza(MOQ)
Precio de fábrica 99.95% Metal Tántalo puro objetivo de sputtering Ta objetivos planos de tantalio

Precio de fábrica 99.95% Metal Tántalo puro objetivo de sputtering Ta objetivos planos de tantalio

US$ 1,00-100,00
1 Pieza(MOQ)
Objetivo de fabricante de titanio, objetivo de pulverización de titanio, disco de metal de titanio para recubrimiento decorativo

Objetivo de fabricante de titanio, objetivo de pulverización de titanio, disco de metal de titanio para recubrimiento decorativo

US$ 1,00-100,00
1 Pieza(MOQ)
1/4

Uv Tech Material Ltd

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Se puede girar Tiox Sial Plata Sputtering meta el tubo de cátodos de alta calidad de pureza para la PVD Nano material de película delgada

Se puede girar Tiox Sial Plata Sputtering meta el tubo de cátodos de alta calidad de pureza para la PVD Nano material de película delgada

Negociable
1 Pieza(MOQ)
Fábrica Uvtm Sputtering Meta fabricante en China de 18 años para Msvd Experiece y PVD continua vacío recubrimiento sputter Vicky 13249153016 la línea de producción

Fábrica Uvtm Sputtering Meta fabricante en China de 18 años para Msvd Experiece y PVD continua vacío recubrimiento sputter Vicky 13249153016 la línea de producción

Negociable
1 Pieza(MOQ)
Objetivos de recubrimiento de vidrio Msvd contenedor de carga para la exportación Vicky-Chan@Uvtm. COM

Objetivos de recubrimiento de vidrio Msvd contenedor de carga para la exportación Vicky-Chan@Uvtm. COM

Negociable
1 Pieza(MOQ)
Cromo Cr PVD Planar destino pegado en la Cooper la placa de apoyo o metro.

Cromo Cr PVD Planar destino pegado en la Cooper la placa de apoyo o metro.

Negociable
1 Pieza(MOQ)

Suzhou Zeland Electronic Technology Co., Ltd.

5.0
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Pequeño objetivo reflectante de encuesta inclinada con hoja reflectante

Pequeño objetivo reflectante de encuesta inclinada con hoja reflectante

US$ 6,50-6,90
10 Piezas(MOQ)
Accesorios de Encuesta Diámetro 80mm Mini Reflector Objetivo

Accesorios de Encuesta Diámetro 80mm Mini Reflector Objetivo

US$ 12,50-69,50
1 Pieza(MOQ)
Cargador de Alta Calidad Bc-10 para Estación Total Hi-Target Zts-120r Instrumento de Topografía

Cargador de Alta Calidad Bc-10 para Estación Total Hi-Target Zts-120r Instrumento de Topografía

US$ 17,00-18,00
1 Pieza(MOQ)
Bl10000 Batería Externa de Polo GPS 12V 10000mAh para Instrumento de Topografía Trimble GPS

Bl10000 Batería Externa de Polo GPS 12V 10000mAh para Instrumento de Topografía Trimble GPS

US$ 99,00-105,00
1 Pieza(MOQ)
1/4

CHANGSHA EASCHEM CO., LIMITED

5 años
·Empresa Comercial
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Precio de fábrica Vender alta calidad objetivo de sputtering ITO 4n In2o3 y Sno2

Precio de fábrica Vender alta calidad objetivo de sputtering ITO 4n In2o3 y Sno2

Negociable
1 Piece(MOQ)
Precio de fábrica Vender bajo densidad 4n objetivo redondo pequeño ITO

Precio de fábrica Vender bajo densidad 4n objetivo redondo pequeño ITO

Negociable
1 Piece(MOQ)
Precio de fábrica Vender alta pureza objetivo ITO para Rpd 4n

Precio de fábrica Vender alta pureza objetivo ITO para Rpd 4n

Negociable
1 Piece(MOQ)
Precio de fábrica Vender objetivo redondo pequeño de óxido de indio y estaño ITO de alta densidad 4n

Precio de fábrica Vender objetivo redondo pequeño de óxido de indio y estaño ITO de alta densidad 4n

Negociable
1 Piece(MOQ)
1/4

Zhengzhou CY Scientific Instrument Co., Ltd.

13 años
·Fabricante/Fábrica & Empresa Comercial
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Objetivo de cobre, objetivo de recubrimiento al vacío

Objetivo de cobre, objetivo de recubrimiento al vacío

US$ 692,00
10 Piezas(MOQ)
Recubridor de iones de arco múltiple, recubrimiento de iones de arco para el recubrimiento de películas protectoras duras como el estaño

Recubridor de iones de arco múltiple, recubrimiento de iones de arco para el recubrimiento de películas protectoras duras como el estaño

US$ 38.000,00-45.000,00
1 Pieza(MOQ)
1.5kw Recubridor de PVD por Sputtering Magnetrón en Vacío para Investigación de Películas Nano de Estaño

1.5kw Recubridor de PVD por Sputtering Magnetrón en Vacío para Investigación de Películas Nano de Estaño

US$ 20.500,00-39.000,00
1 Pieza(MOQ)
Revestidor de Sputtering Magnetrón de Aluminio de Escritorio para Deposición de Películas Finas de Un Solo Objetivo

Revestidor de Sputtering Magnetrón de Aluminio de Escritorio para Deposición de Películas Finas de Un Solo Objetivo

US$ 20.000,00-23.000,00
1 Pieza(MOQ)
1/4

Enam Optoelectronic Material Co., Ltd

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ATO, Destino, ventana de infrarrojos Film ATO, el antimonio de óxido de estaño blanco

ATO, Destino, ventana de infrarrojos Film ATO, el antimonio de óxido de estaño blanco

Negociable
1 Pieza(MOQ)
Objetivo de ITO, OLED / LED / Tp destino ITO, Ito de semiconductores LED Slug

Objetivo de ITO, OLED / LED / Tp destino ITO, Ito de semiconductores LED Slug

Negociable
1 Pieza(MOQ)
Objetivo de ITO, Ito, Tp objetivo giratorio TFT-LCD STN Tn ITO blanco

Objetivo de ITO, Ito, Tp objetivo giratorio TFT-LCD STN Tn ITO blanco

Negociable
1 Pieza(MOQ)
ITO, ITO blanco de Sputtering Planar película de vidrio, Tp/tn/STN/TFT-LCD Meta ITO

ITO, ITO blanco de Sputtering Planar película de vidrio, Tp/tn/STN/TFT-LCD Meta ITO

Negociable
1 Pieza(MOQ)

Xi'an Kefeng Powder Metallurgy Co., Ltd.

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99.95% Tungsteno Puro: Su Proveedor de Confianza Desde China

99.95% Tungsteno Puro: Su Proveedor de Confianza Desde China

US$ 50,00-500,00
10 Kg(MOQ)
Foil de tungsteno de alta calidad Kefeng con un grosor de 0.001inches (0.025mm) a 0.08 pulgadas (2 mm)

Foil de tungsteno de alta calidad Kefeng con un grosor de 0.001inches (0.025mm) a 0.08 pulgadas (2 mm)

US$ 50,00-500,00
10 Kg(MOQ)
Bote de tungsteno de alta densidad y alto punto de fusión 99.95% piezas mecanizadas

Bote de tungsteno de alta densidad y alto punto de fusión 99.95% piezas mecanizadas

US$ 50,00-500,00
10 Kg(MOQ)
Billetes 99.95% Material de tungsteno con estándar ASTM B760

Billetes 99.95% Material de tungsteno con estándar ASTM B760

US$ 50,00-500,00
10 Kg(MOQ)
1/4

UV Tech Material Co., Ltd.

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Unión ITO placa de destino Indio Tin Oxide esputtering Target 99,99% 4n Ceramic Target.

Unión ITO placa de destino Indio Tin Oxide esputtering Target 99,99% 4n Ceramic Target.

Negociable
1 Pieza(MOQ)
99,99% ITO objetivo 97: 3 95: 5 90: 10 Indium Tin Oxide esputtering objetivo para película conductiva

99,99% ITO objetivo 97: 3 95: 5 90: 10 Indium Tin Oxide esputtering objetivo para película conductiva

Negociable
1 Pieza(MOQ)
ITO Sputtering Meta con alta densidad de óxido de estaño indio y la pureza

ITO Sputtering Meta con alta densidad de óxido de estaño indio y la pureza

Negociable
2 Piezas(MOQ)
La pureza en2o3 de óxido de indio en polvo, se utiliza para producir ITO Sputtering Meta, óxido de indio en trióxido de polvo2o3

La pureza en2o3 de óxido de indio en polvo, se utiliza para producir ITO Sputtering Meta, óxido de indio en trióxido de polvo2o3

Negociable
50 Kg(MOQ)

Yancheng Oddly Machinery Co., Ltd.

5.0
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Placa de Objetivo para Alineador de Ruedas - 3D Accesorio para Máquina de Alineación de Ruedas para Reparación de Automóviles

Placa de Objetivo para Alineador de Ruedas - 3D Accesorio para Máquina de Alineación de Ruedas para Reparación de Automóviles

US$ 100,00-200,00
1 Set(MOQ)
3D Sistema de Alineación de Ruedas con Placas de Objetivo para Precisión

3D Sistema de Alineación de Ruedas con Placas de Objetivo para Precisión

US$ 100,00-200,00
1 Set(MOQ)
3D Alineación de Ruedas 8 Placas de Objetivo en Pulgadas

3D Alineación de Ruedas 8 Placas de Objetivo en Pulgadas

US$ 100,00-200,00
1 Set(MOQ)
Placas de objetivo delanteras y traseras para alineación de ruedas

Placas de objetivo delanteras y traseras para alineación de ruedas

US$ 100,00-200,00
1 Set(MOQ)
1/4

Fuzhou Nuoxin Advanced Material Co. Ltd.

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Esputo Target ITO Indium Tin Oxide 4n 99,99% para Optico Revestimiento

Esputo Target ITO Indium Tin Oxide 4n 99,99% para Optico Revestimiento

Negociable
1 Pieza(MOQ)
Tin Sn esputtering Target con pureza de barrera del 99,99%

Tin Sn esputtering Target con pureza de barrera del 99,99%

Negociable
1 Pieza(MOQ)

Shenzhen Canyuan Metal Material Co., Ltd.

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4N Alta pureza estaño Sn Tin esputtering Target Plate /Sn Tin Objetivo de metal

4N Alta pureza estaño Sn Tin esputtering Target Plate /Sn Tin Objetivo de metal

US$ 200,00-10.000,00
1 Pieza(MOQ)
99.99% Gránulos de Estaño Puro Pellets de Evaporación Sn

99.99% Gránulos de Estaño Puro Pellets de Evaporación Sn

US$ 200,00-10.000,00
1 Kg(MOQ)

Ningbo Sen Ao Electronic Technology Co., Ltd

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El 99,9% de la fábrica de destino de pulverización Znsn el suministro de zinc de alta pureza Znsn magnético giratorio de estaño de Sputtering meta de pulverización

El 99,9% de la fábrica de destino de pulverización Znsn el suministro de zinc de alta pureza Znsn magnético giratorio de estaño de Sputtering meta de pulverización

Negociable
1 Pieza(MOQ)
ITO Tamaño personalizable el 99,99% de óxido de estaño indio gira ITO blanco de Sputtering cerámica

ITO Tamaño personalizable el 99,99% de óxido de estaño indio gira ITO blanco de Sputtering cerámica

Negociable
1 Pieza(MOQ)

China Leadmat Advanced Materials Co., Ltd.

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Objetivo de Sputtering de Aluminio

Objetivo de Sputtering de Aluminio

US$ 15,00
1 Pieza(MOQ)
Los objetivos de sputtering

Los objetivos de sputtering

US$ 60,00
1 Pieza(MOQ)

Jiangxi He Quan Chem Co., Ltd

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El 99,99% de óxido de estaño indio ITO Sputtering meta con la placa de cobre

El 99,99% de óxido de estaño indio ITO Sputtering meta con la placa de cobre

US$ 99,00-169,00
1 Piece(MOQ)

Beijing Loyaltarget Technology Co, Limited

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De ITO Target / In2O3: SnO2 = 90: 10% en peso / de ITO planar Blanco de sputtering

De ITO Target / In2O3: SnO2 = 90: 10% en peso / de ITO planar Blanco de sputtering

Negociable
1 Pieza(MOQ)

China Rare Metal Material Co., Ltd.

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Los objetivos de Sputtering cerámica

Los objetivos de Sputtering cerámica

US$ 100,00
1 Pieza(MOQ)
116
Productos Populares
Usb De China
Memoria Usb
Almacenamiento Usb
Unidad Flash Usb
Unidad Flash Usb
Memoria Usb
Unidad De Memoria Usb
Unidad Usb
Fabricantes relacionados & Proveedor
Fábrica De Memoria Usb
Fábrica De Plata Estaño Objetivo
Fábrica De Objetivo De Pulverización De Estaño
Fábrica De Unidad Flash Usb
Fabricantes De Objetivo De Indio Y Estaño
Fabricantes De Objetivo De Sputtering De Óxido De Indio Y Estaño
Fabricantes De Memoria Flash Usb
Fabricantes De Memoria Usb
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