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sobre objetivo de pulverización de estaño
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objetivo de pulverización de estaño40+ fábricas verificadas

SUZHOU TECHNO-TEC PHOTOELECTRIC MATERIALS CO., LTD

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Objetivo de AgZnSnSe, objetivo cerámico de argento, zinc, estaño y selenio para recubrimiento de película delgada óptica

Objetivo de AgZnSnSe, objetivo cerámico de argento, zinc, estaño y selenio para recubrimiento de película delgada óptica

US$ 40,00
1 Kg(MOQ)
Objetivo de estaño de selenio para pulverización de cerámica para recubrimiento de película

Objetivo de estaño de selenio para pulverización de cerámica para recubrimiento de película

US$ 40,00
1 Kg(MOQ)
Objetivo cerámico de pulverización de estaño para película óptica fina revestimiento/PVD Revestimiento

Objetivo cerámico de pulverización de estaño para película óptica fina revestimiento/PVD Revestimiento

US$ 25,00-100,00
1 Kg(MOQ)
Objetivo de aleación AuSn Aleación de oro y estaño (70: 30wt%) Objetivo de pulverización para componentes electrónicos chips

Objetivo de aleación AuSn Aleación de oro y estaño (70: 30wt%) Objetivo de pulverización para componentes electrónicos chips

US$ 45.200,00
1 Kg(MOQ)
1/4

Beenine Shanke Technology Co., Ltd.

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Objetivo de Sputtering de Placa Estaño Sn Metal para Máquina PVD

Objetivo de Sputtering de Placa Estaño Sn Metal para Máquina PVD

US$ 60,00-100,00
1 Pieza(MOQ)
Objetivo de Sputtering Planar Estaño Sn Estañón Metal Personalizado

Objetivo de Sputtering Planar Estaño Sn Estañón Metal Personalizado

US$ 60,00-100,00
1 Pieza(MOQ)
Fábrica de dianas de pulverización de estaño estannum Sn servicio de unión

Fábrica de dianas de pulverización de estaño estannum Sn servicio de unión

US$ 60,00-100,00
1 Pieza(MOQ)
Objetivo de Sputtering de Metal Estaño Stannum Sn Precio Económico

Objetivo de Sputtering de Metal Estaño Stannum Sn Precio Económico

US$ 60,00-100,00
1 Pieza(MOQ)
1/4

Changsha Xinkang Advanced Materials Co., Ltd.

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99.99% Material de Objetivo Cerámico Puro Sno2 Material de Recubrimiento de Óxido de Estaño Objetivo de Sputtering

99.99% Material de Objetivo Cerámico Puro Sno2 Material de Recubrimiento de Óxido de Estaño Objetivo de Sputtering

US$ 110,00-120,00
1 Pieza(MOQ)
Objetivo de Sputtering de Titanio Nitruro para Recubrimiento de Película Delgada

Objetivo de Sputtering de Titanio Nitruro para Recubrimiento de Película Delgada

Negociable
1 Pieza(MOQ)
Objetivo de Compuesto PVD 99.5% Objetivo de Sputtering de Estaño Objetivo de Nitruro de Titanio

Objetivo de Compuesto PVD 99.5% Objetivo de Sputtering de Estaño Objetivo de Nitruro de Titanio

US$ 150,00
1 Pieza(MOQ)
Objetivo de aleación de aluminio y estaño Alsn90/10wt% Objetivo de sputtering de aluminio y estaño

Objetivo de aleación de aluminio y estaño Alsn90/10wt% Objetivo de sputtering de aluminio y estaño

US$ 70,00-80,00
1 Pieza(MOQ)
1/4

Lonwin Industry Group Limited

5.0
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Objetivo de cerámica Zto de óxido de zinc y estaño para recubrimiento de película delgada

Objetivo de cerámica Zto de óxido de zinc y estaño para recubrimiento de película delgada

US$ 17,00-55,00
1 Kg(MOQ)
99.99% Objetivos de Sputtering de Estaño Metálico para Recubrimiento

99.99% Objetivos de Sputtering de Estaño Metálico para Recubrimiento

US$ 17,00-55,00
1 Kg(MOQ)
Objetivo de Sputtering de Óxido de Indio y Estaño (ITO) de Alta Pureza 99.99% para Recubrimiento PVD

Objetivo de Sputtering de Óxido de Indio y Estaño (ITO) de Alta Pureza 99.99% para Recubrimiento PVD

US$ 17,00-55,00
1 Kg(MOQ)
99.95% Blanco de Sputtering de Aleación de Metal Znsn Zinc Estaño

99.95% Blanco de Sputtering de Aleación de Metal Znsn Zinc Estaño

US$ 17,00-55,00
1 Kg(MOQ)
1/4

Dongguan Gravel Industries and Enterprise Company Limited

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99.99% Blanco de Sputtering de Aleación de Estaño de Oro de Alta Pureza

99.99% Blanco de Sputtering de Aleación de Estaño de Oro de Alta Pureza

US$ 265.000,00
10 Piezas(MOQ)
Objetivo de Óxido de Indio y Estaño ITO para Sputtering al Vacío PVD Objetivo Creen

Objetivo de Óxido de Indio y Estaño ITO para Sputtering al Vacío PVD Objetivo Creen

US$ 4.600,00
1 Pieza(MOQ)
Material de aleación de alta pureza de estaño, plata y cobre

Material de aleación de alta pureza de estaño, plata y cobre

US$ 25.500,00
1 Pieza(MOQ)
1/4

Jiangxi CNP New Chemical Materials Co., Ltd.

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Óxido de estaño (SnO2) Material de evaporación en forma de pellet 1-10mm Pureza 99.99% Objetivo de pulverización

Óxido de estaño (SnO2) Material de evaporación en forma de pellet 1-10mm Pureza 99.99% Objetivo de pulverización

US$ 200,00
1 Kg(MOQ)
1/4

Rheniumet Ltd.

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Objetivo ITO para LCD, PDP, OLED, objetivo compuesto de estaño, indio y oxígeno

Objetivo ITO para LCD, PDP, OLED, objetivo compuesto de estaño, indio y oxígeno

Negociable
1 Pieza(MOQ)
3mm Blanco grueso de rutenio, blanco de sputtering de Ru

3mm Blanco grueso de rutenio, blanco de sputtering de Ru

Negociable
1 Pieza(MOQ)
Objetivo de Sputtering de Rhenio de Alta Pureza 99.99%, Objetivo Redondo de Metal Re

Objetivo de Sputtering de Rhenio de Alta Pureza 99.99%, Objetivo Redondo de Metal Re

US$ 1.000,00-4.000,00
1 Pieza(MOQ)
Objetivo de Osmio, Objetivo de Sputtering de OS

Objetivo de Osmio, Objetivo de Sputtering de OS

Negociable
1 Pieza(MOQ)
1/4

Shenzhen Hongchen New Materials Co., Ltd

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Fábrica de Guangdong placa de cobre de óxido de estaño indio ITO Sputtering Objetivos

Fábrica de Guangdong placa de cobre de óxido de estaño indio ITO Sputtering Objetivos

US$ 10,00-15,00
1 Kg(MOQ)
Comercio al por mayor de Sputtering meta las fábricas de materiales para la industria de semiconductores

Comercio al por mayor de Sputtering meta las fábricas de materiales para la industria de semiconductores

US$ 10,00-15,00
1 Kg(MOQ)
Tubo de cobre sin oxígeno de alta pureza de fábrica con pulverización pureza de material objetivo 99,98% Semiconductor

Tubo de cobre sin oxígeno de alta pureza de fábrica con pulverización pureza de material objetivo 99,98% Semiconductor

US$ 10,00-15,00
1 Kg(MOQ)
Cobre objetivo de pulverización de múltiples arcos de placas de cobre de revestimiento PVD de fábrica Semiconductor rotativo

Cobre objetivo de pulverización de múltiples arcos de placas de cobre de revestimiento PVD de fábrica Semiconductor rotativo

US$ 10,00-15,00
1 Kg(MOQ)

Shanghai Zenkaah New Materials Technology Co., Ltd.

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Objetivos de esputo de PVD (deposición física de vapor) de alta pureza: Objetivo de titanio (TI), objetivo de dióxido de titanio (TiO2), objetivo de nitruro de titanio (TIN) y Titaniu

Objetivos de esputo de PVD (deposición física de vapor) de alta pureza: Objetivo de titanio (TI), objetivo de dióxido de titanio (TiO2), objetivo de nitruro de titanio (TIN) y Titaniu

Negociable
1 Pieza(MOQ)
Material objetivo DE ITO (óxido de estaño de Indium), película conductiva transparente de Indium Tin Oxide Semiconductor, objetivo de espumación de Magnetron, Especificaciones personalizadas

Material objetivo DE ITO (óxido de estaño de Indium), película conductiva transparente de Indium Tin Oxide Semiconductor, objetivo de espumación de Magnetron, Especificaciones personalizadas

Negociable
1 Pieza(MOQ)

Suzhou Zhongzhina Semiconductor Technology Co., Ltd.

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Objetivos de esputo de PVD (deposición física de vapor) de alta pureza: Objetivo de titanio (TI), objetivo de dióxido de titanio (TiO2), objetivo de nitruro de titanio (TIN),

Objetivos de esputo de PVD (deposición física de vapor) de alta pureza: Objetivo de titanio (TI), objetivo de dióxido de titanio (TiO2), objetivo de nitruro de titanio (TIN),

Negociable
1 Pieza(MOQ)
Material objetivo DE ITO (óxido de estaño de Indium), película conductiva transparente de Indium Tin Oxide Semiconductor, objetivo de espumación de Magnetron

Material objetivo DE ITO (óxido de estaño de Indium), película conductiva transparente de Indium Tin Oxide Semiconductor, objetivo de espumación de Magnetron

Negociable
1 Pieza(MOQ)

Shenzhen Silver Technologies Ltd

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99.99% Objetivo de Sputtering de Oro de Alta Pureza, Objetivo de Au

99.99% Objetivo de Sputtering de Oro de Alta Pureza, Objetivo de Au

US$ 200,00
100 g(MOQ)
4n Objetivo de Sputtering de Oro de Alta Pureza

4n Objetivo de Sputtering de Oro de Alta Pureza

US$ 200,00
10 g(MOQ)
Objetivo de Sputtering de Oro Puro Premium 99.99% para Aplicaciones Avanzadas

Objetivo de Sputtering de Oro Puro Premium 99.99% para Aplicaciones Avanzadas

US$ 200,00
10 g(MOQ)
99.99% Objetivo de Sputtering de Oro de Alta Calidad Au

99.99% Objetivo de Sputtering de Oro de Alta Calidad Au

US$ 200,00
10 g(MOQ)
1/4

Sid Metal Co., Ltd

13 años
·Fabricante/Fábrica & Empresa Comercial
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Objetivo de Sputtering de Titanio Ti / Objetivo Rotatorio de Titanio para Semiconductores / Sputtering de Recubrimiento al Vacío

Objetivo de Sputtering de Titanio Ti / Objetivo Rotatorio de Titanio para Semiconductores / Sputtering de Recubrimiento al Vacío

US$ 1,00-100,00
1 Pieza(MOQ)
Precio de fábrica 99.95% Metal Tántalo puro objetivo de sputtering Ta objetivos planos de tantalio

Precio de fábrica 99.95% Metal Tántalo puro objetivo de sputtering Ta objetivos planos de tantalio

US$ 1,00-100,00
1 Pieza(MOQ)
Objetivo de sputtering de titanio de alta pureza, planar para la industria de semiconductores, circuitos integrados, vidrio para construcción y automóviles

Objetivo de sputtering de titanio de alta pureza, planar para la industria de semiconductores, circuitos integrados, vidrio para construcción y automóviles

US$ 1,00-100,00
1 Pieza(MOQ)
Objetivo de fabricante de titanio, objetivo de pulverización de titanio, disco de metal de titanio para recubrimiento decorativo

Objetivo de fabricante de titanio, objetivo de pulverización de titanio, disco de metal de titanio para recubrimiento decorativo

US$ 1,00-100,00
1 Pieza(MOQ)
1/4

Uv Tech Material Ltd

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Si se puede girar de forma cilíndrica de cátodos de destino de silicio de alta calidad Monilithic rectas y de forma Dogbone

Si se puede girar de forma cilíndrica de cátodos de destino de silicio de alta calidad Monilithic rectas y de forma Dogbone

Negociable
1 Pieza(MOQ)
Uvtm blancos en la exposición de recubrimiento de Sputtering Vicky13249153016

Uvtm blancos en la exposición de recubrimiento de Sputtering Vicky13249153016

Negociable
1 Pieza(MOQ)
PVD de aluminio cilíndrica de destino al destino Sputter giratorio el 99,999% pureza 2n-5n disponible

PVD de aluminio cilíndrica de destino al destino Sputter giratorio el 99,999% pureza 2n-5n disponible

Negociable
1 Pieza(MOQ)
Azo Sputering Objetivo Material de recubrimiento cerámico blanco para la industria del vidrio de recubrimiento de película fina

Azo Sputering Objetivo Material de recubrimiento cerámico blanco para la industria del vidrio de recubrimiento de película fina

Negociable
1 Pieza(MOQ)

CHANGSHA EASCHEM CO., LIMITED

5 años
·Empresa Comercial
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Precio de fábrica Vender alta calidad objetivo de sputtering ITO 4n In2o3 y Sno2

Precio de fábrica Vender alta calidad objetivo de sputtering ITO 4n In2o3 y Sno2

Negociable
1 Piece(MOQ)
Precio de fábrica Vender bajo densidad 4n objetivo redondo pequeño ITO

Precio de fábrica Vender bajo densidad 4n objetivo redondo pequeño ITO

Negociable
1 Piece(MOQ)
Precio de fábrica Vender alta pureza objetivo ITO para Rpd 4n

Precio de fábrica Vender alta pureza objetivo ITO para Rpd 4n

Negociable
1 Piece(MOQ)
Precio de fábrica Vender alta calidad Izo Metal Target In2o3 y ZnO Indio Trióxido y Óxido de Zinc

Precio de fábrica Vender alta calidad Izo Metal Target In2o3 y ZnO Indio Trióxido y Óxido de Zinc

Negociable
1 Piece(MOQ)
1/4

Enam Optoelectronic Material Co., Ltd

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Objetivo de ITO, Ito, Tp objetivo giratorio TFT-LCD STN Tn ITO blanco

Objetivo de ITO, Ito, Tp objetivo giratorio TFT-LCD STN Tn ITO blanco

Negociable
1 Pieza(MOQ)
ATO, Destino, ventana de infrarrojos Film ATO, el antimonio de óxido de estaño blanco

ATO, Destino, ventana de infrarrojos Film ATO, el antimonio de óxido de estaño blanco

Negociable
1 Pieza(MOQ)
Objetivo de ITO, OLED / LED / Tp destino ITO, Ito de semiconductores LED Slug

Objetivo de ITO, OLED / LED / Tp destino ITO, Ito de semiconductores LED Slug

Negociable
1 Pieza(MOQ)
ITO, ITO blanco de Sputtering Planar película de vidrio, Tp/tn/STN/TFT-LCD Meta ITO

ITO, ITO blanco de Sputtering Planar película de vidrio, Tp/tn/STN/TFT-LCD Meta ITO

Negociable
1 Pieza(MOQ)

Xi'an Kefeng Powder Metallurgy Co., Ltd.

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Foil de tungsteno de alta calidad Kefeng con un grosor de 0.001inches (0.025mm) a 0.08 pulgadas (2 mm)

Foil de tungsteno de alta calidad Kefeng con un grosor de 0.001inches (0.025mm) a 0.08 pulgadas (2 mm)

US$ 50,00-500,00
10 Kg(MOQ)
99.95% Tungsteno Puro: Su Proveedor de Confianza Desde China

99.95% Tungsteno Puro: Su Proveedor de Confianza Desde China

US$ 50,00-500,00
10 Kg(MOQ)
Barras de tungsteno, hojas, lingotes 99.95% Material de tungsteno ASTM B760 Estándar

Barras de tungsteno, hojas, lingotes 99.95% Material de tungsteno ASTM B760 Estándar

US$ 50,00-500,00
10 Kg(MOQ)
Placa de tungsteno en industrias de hornos de alta temperatura

Placa de tungsteno en industrias de hornos de alta temperatura

US$ 50,00-500,00
10 Kg(MOQ)
1/4

UV Tech Material Co., Ltd.

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Unión ITO placa de destino Indio Tin Oxide esputtering Target 99,99% 4n Ceramic Target.

Unión ITO placa de destino Indio Tin Oxide esputtering Target 99,99% 4n Ceramic Target.

Negociable
1 Pieza(MOQ)
99,99% ITO objetivo 97: 3 95: 5 90: 10 Indium Tin Oxide esputtering objetivo para película conductiva

99,99% ITO objetivo 97: 3 95: 5 90: 10 Indium Tin Oxide esputtering objetivo para película conductiva

Negociable
1 Pieza(MOQ)
ITO Sputtering Meta con alta densidad de óxido de estaño indio y la pureza

ITO Sputtering Meta con alta densidad de óxido de estaño indio y la pureza

Negociable
2 Piezas(MOQ)
La pureza en2o3 de óxido de indio en polvo, se utiliza para producir ITO Sputtering Meta, óxido de indio en trióxido de polvo2o3

La pureza en2o3 de óxido de indio en polvo, se utiliza para producir ITO Sputtering Meta, óxido de indio en trióxido de polvo2o3

Negociable
50 Kg(MOQ)

Fuzhou Nuoxin Advanced Material Co. Ltd.

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Esputo Target ITO Indium Tin Oxide 4n 99,99% para Optico Revestimiento

Esputo Target ITO Indium Tin Oxide 4n 99,99% para Optico Revestimiento

Negociable
1 Pieza(MOQ)
Tin Sn esputtering Target con pureza de barrera del 99,99%

Tin Sn esputtering Target con pureza de barrera del 99,99%

Negociable
1 Pieza(MOQ)

Ningbo Sen Ao Electronic Technology Co., Ltd

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ITO Tamaño personalizable el 99,99% de óxido de estaño indio gira ITO blanco de Sputtering cerámica

ITO Tamaño personalizable el 99,99% de óxido de estaño indio gira ITO blanco de Sputtering cerámica

Negociable
1 Pieza(MOQ)
El 99,9% de la fábrica de destino de pulverización Znsn el suministro de zinc de alta pureza Znsn magnético giratorio de estaño de Sputtering meta de pulverización

El 99,9% de la fábrica de destino de pulverización Znsn el suministro de zinc de alta pureza Znsn magnético giratorio de estaño de Sputtering meta de pulverización

Negociable
1 Pieza(MOQ)

China Leadmat Advanced Materials Co., Ltd.

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Objetivo de Sputtering de Aluminio

Objetivo de Sputtering de Aluminio

US$ 15,00
1 Pieza(MOQ)
Los objetivos de sputtering

Los objetivos de sputtering

US$ 60,00
1 Pieza(MOQ)

Shenzhen Canyuan Metal Material Co., Ltd.

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4N Alta pureza estaño Sn Tin esputtering Target Plate /Sn Tin Objetivo de metal

4N Alta pureza estaño Sn Tin esputtering Target Plate /Sn Tin Objetivo de metal

US$ 200,00-10.000,00
1 Pieza(MOQ)

Jiangxi He Quan Chem Co., Ltd

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El 99,99% de óxido de estaño indio ITO Sputtering meta con la placa de cobre

El 99,99% de óxido de estaño indio ITO Sputtering meta con la placa de cobre

US$ 99,00-169,00
1 Piece(MOQ)

China Rare Metal Material Co., Ltd.

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Los objetivos de Sputtering cerámica

Los objetivos de Sputtering cerámica

US$ 100,00
1 Pieza(MOQ)

Beijing Loyaltarget Technology Co, Limited

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De ITO Target / In2O3: SnO2 = 90: 10% en peso / de ITO planar Blanco de sputtering

De ITO Target / In2O3: SnO2 = 90: 10% en peso / de ITO planar Blanco de sputtering

Negociable
1 Pieza(MOQ)

Jiangyin Entret Coating Technology Co., Ltd.

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El titanio de Sputtering meta en la Pureza

El titanio de Sputtering meta en la Pureza

US$ 30,00-50,00
1 Pieza(MOQ)
Ti-Al aluminio blanco de titanio El titanio aluminio blanco de sputtering

Ti-Al aluminio blanco de titanio El titanio aluminio blanco de sputtering

US$ 30,00-50,00
1 Pieza(MOQ)
Planar de titanio de alta pureza Sputtering meta de 2n6 a 4n, 4n5, 5n

Planar de titanio de alta pureza Sputtering meta de 2n6 a 4n, 4n5, 5n

US$ 30,00-50,00
1 Pieza(MOQ)
Sputtering Meta: Titanium Sputtering / arco blanco con diferentes materiales.

Sputtering Meta: Titanium Sputtering / arco blanco con diferentes materiales.

US$ 50,00
1 Pieza(MOQ)

SHAOXING TIANLONG TIN MATERIALS CO., LTD.

29 años
·Fabricante/Fábrica & Empresa Comercial
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Alambre de Zinc de Alta Pureza para Aplicaciones Avanzadas de Sputtering

Alambre de Zinc de Alta Pureza para Aplicaciones Avanzadas de Sputtering

US$ 4,00-5,50
100 Kg(MOQ)
Alambre de estaño premium para usos creativos versátiles de material objetivo

Alambre de estaño premium para usos creativos versátiles de material objetivo

US$ 31,00-33,00
100 Kg(MOQ)
Alambre de objetivo de pulverización de aleación de zinc y estaño de alta calidad Sn47Zn53

Alambre de objetivo de pulverización de aleación de zinc y estaño de alta calidad Sn47Zn53

US$ 16,00-19,00
100 Kg(MOQ)
Alambre de Zinc Aluminio para Pulverización Térmica Recubrimiento Protector Anticorrosión, Zn85Al15 aleación

Alambre de Zinc Aluminio para Pulverización Térmica Recubrimiento Protector Anticorrosión, Zn85Al15 aleación

US$ 4,00-5,00
100 Kg(MOQ)
1/4

EHW APPLIED MATERIALS CO., LTD.

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ITO de alta calidad de Sputtering meta para la máquina y el revestimiento de vacío (90/10)

ITO de alta calidad de Sputtering meta para la máquina y el revestimiento de vacío (90/10)

US$ 10,00-5.000,00
1 Pieza(MOQ)
La calidad de alta pureza y disco de ito de Sputtering meta para el revestimiento de vacío y la máquina

La calidad de alta pureza y disco de ito de Sputtering meta para el revestimiento de vacío y la máquina

US$ 10,00-5.000,00
30 Piezas(MOQ)
La pureza y calidad ito de Sputtering meta para la máquina y el revestimiento de vacío (95/5)

La pureza y calidad ito de Sputtering meta para la máquina y el revestimiento de vacío (95/5)

US$ 10,00-1.000,00
1 Pieza(MOQ)

Wuxi Taixie Metal Material Co., Ltd.

17 años
·Empresa Comercial
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Óxido de galio Galio Partícula de galio Lingote de galio

Óxido de galio Galio Partícula de galio Lingote de galio

US$ 500,00
100 Kg(MOQ)
Ingot de aleación de niobio de hierro niobio barra de niobio niobio fundido

Ingot de aleación de niobio de hierro niobio barra de niobio niobio fundido

US$ 35.000,00
1 Kg(MOQ)
1/4

Guangdong Huicheng Vacuum Technology Co., Ltd.

20 años
·Fabricante/Fábrica & Empresa Comercial
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Máquina de recubrimiento de vidrio con película de óxido de indio y estaño mediante sputtering magnetrón

Máquina de recubrimiento de vidrio con película de óxido de indio y estaño mediante sputtering magnetrón

US$ 1.500.000,00-5.000.000,00
1 Set(MOQ)
Máquina de recubrimiento de óxido de indio y estaño Hcvac, recubridor por sputtering magnetrón PVD

Máquina de recubrimiento de óxido de indio y estaño Hcvac, recubridor por sputtering magnetrón PVD

US$ 150.000,00-500.000,00
1 Set(MOQ)
Sistema de máquina de sputtering en línea Hcvac para diapositivas de vidrio recubiertas de óxido de indio y estaño

Sistema de máquina de sputtering en línea Hcvac para diapositivas de vidrio recubiertas de óxido de indio y estaño

US$ 150.000,00-500.000,00
1 Set(MOQ)
Máquina de recubrimiento PVD de oro por magnetrón para joyería de acero inoxidable

Máquina de recubrimiento PVD de oro por magnetrón para joyería de acero inoxidable

US$ 60.000,00-300.000,00
1 Set(MOQ)
1/4

Xiangtan Hondson Coating Technology Co., Ltd.

5 años
·Fabricante/Fábrica & Empresa Comercial
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Soplado de ITO (Óxido de Indio y Estaño) Soplado Continuo para Sistema de Recubrimiento Uniforme

Soplado de ITO (Óxido de Indio y Estaño) Soplado Continuo para Sistema de Recubrimiento Uniforme

US$ 2.000.000,00
1 sets(MOQ)
Máquina de recubrimiento por sputtering magnetrón PVD de TiN/TiAlN resistente al desgaste para piezas de relojes de lujo

Máquina de recubrimiento por sputtering magnetrón PVD de TiN/TiAlN resistente al desgaste para piezas de relojes de lujo

US$ 80.000,00-180.000,00
1 Set(MOQ)
Recubrimiento de vidrio con película de óxido de indio y estaño mediante sputtering por magnetrón en línea de sputtering por magnetrón

Recubrimiento de vidrio con película de óxido de indio y estaño mediante sputtering por magnetrón en línea de sputtering por magnetrón

US$ 1.500.000,00-2.500.000,00
1 Pieza(MOQ)
Máquina de recubrimiento de vidrio con película de óxido de indio y estaño mediante sputtering magnetrón

Máquina de recubrimiento de vidrio con película de óxido de indio y estaño mediante sputtering magnetrón

US$ 1.500.000,00
1 Set(MOQ)
1/4
12
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