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sobre aplicación de objetivo que falla
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aplicación de objetivo que falla100+ fábricas verificadas

Changsha Xinkang Advanced Materials Co., Ltd.

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Aplicaciones de recubrimiento de iridio premium con 99 99% grado de investigación pura

Aplicaciones de recubrimiento de iridio premium con 99 99% grado de investigación pura

US$ 50,00-100,00
1 Pieza(MOQ)
99.95% Objetivo de Sputtering de Cromo Puro, Objetivo de Cromo de Alta Pureza para Recubrimiento PVD

99.95% Objetivo de Sputtering de Cromo Puro, Objetivo de Cromo de Alta Pureza para Recubrimiento PVD

US$ 30,00-1.000,00
1 Pieza(MOQ)
Objetivos de Sputtering de Aleación de Níquel de Alta Pureza Xinkang Níquel Vanadio Niv7%

Objetivos de Sputtering de Aleación de Níquel de Alta Pureza Xinkang Níquel Vanadio Niv7%

US$ 35,00-40,00
1 Pieza(MOQ)
Objetivo de pulverización de aleación de níquel y cromo de alta calidad para recubrimiento

Objetivo de pulverización de aleación de níquel y cromo de alta calidad para recubrimiento

US$ 35,00-40,00
1 Pieza(MOQ)
1/4

SUZHOU TECHNO-TEC PHOTOELECTRIC MATERIALS CO., LTD

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Objetivo de pulverización de CU/objetivo rotatorio de cobre para conductor/semiconductor recubierto de metal

Objetivo de pulverización de CU/objetivo rotatorio de cobre para conductor/semiconductor recubierto de metal

US$ 10,00-15,00
1 Kg(MOQ)
Objetivo cerámico de Poli-silicio para esputo Blanco/Solar Fotovoltaica

Objetivo cerámico de Poli-silicio para esputo Blanco/Solar Fotovoltaica

US$ 35,00-50,00
1 Kg(MOQ)
Objetivo de Silicio Monocristalino Mono-Si para Objetivo de Sputtering en Fotovoltaica Solar para Teléfonos Móviles

Objetivo de Silicio Monocristalino Mono-Si para Objetivo de Sputtering en Fotovoltaica Solar para Teléfonos Móviles

US$ 35,00-75,00
1 Kg(MOQ)
Aleación CuNiTi Target Cobre níquel Titanio aleación esputtering objetivo para LCD/panel táctil

Aleación CuNiTi Target Cobre níquel Titanio aleación esputtering objetivo para LCD/panel táctil

US$ 50,00
1 Kg(MOQ)
1/4

Sid Metal Co., Ltd

13 años
·Fabricante/Fábrica & Empresa Comercial
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Zr702 Zr705 Conductividad Térmica de Tubo de Circonio Alta Pureza Objetivo de Sputtering

Zr702 Zr705 Conductividad Térmica de Tubo de Circonio Alta Pureza Objetivo de Sputtering

US$ 1,00-3.000,00
1 Pieza(MOQ)
Hoja de objetivo de zirconio Zr702 Zr705 para recubrimiento PVD disco de zirconio

Hoja de objetivo de zirconio Zr702 Zr705 para recubrimiento PVD disco de zirconio

US$ 1,00-3.000,00
1 Pieza(MOQ)
Objetivo de hoja de sputtering de circonio Zr702 Zr705 para recubrimiento PVD disco de circonio

Objetivo de hoja de sputtering de circonio Zr702 Zr705 para recubrimiento PVD disco de circonio

US$ 1,00-3.000,00
1 Pieza(MOQ)
Pellets de Titanio de Alta Pureza 99.995% para Recubrimiento por Evaporación Recubrimiento por Sputtering Objetivo de Titanio

Pellets de Titanio de Alta Pureza 99.995% para Recubrimiento por Evaporación Recubrimiento por Sputtering Objetivo de Titanio

US$ 140,00-200,00
1 Kg(MOQ)
1/4

Zhengzhou Tainuo Film Materials Co., Ltd.

9 años
·Fabricante/Fábrica
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Máquina de recubrimiento PVD por magnetrón de sputtering de vacío de doble objetivo para películas semiconductoras

Máquina de recubrimiento PVD por magnetrón de sputtering de vacío de doble objetivo para películas semiconductoras

US$ 26.500,00
1 Pieza(MOQ)
Recubridor de plasma por pulverización de doble objetivo con pantalla táctil de escritorio para laboratorio

Recubridor de plasma por pulverización de doble objetivo con pantalla táctil de escritorio para laboratorio

US$ 6.500,00-7.300,00
1 Pieza(MOQ)
Tres cabezales de metal PVD de tres objetivos para recubrimiento por sputtering de plasma DC para películas ópticas

Tres cabezales de metal PVD de tres objetivos para recubrimiento por sputtering de plasma DC para películas ópticas

US$ 7.900,00-8.100,00
1 Pieza(MOQ)
Compacto Mini Mejorado Triple Objetivo Plasma Sputtering Coater para Oro

Compacto Mini Mejorado Triple Objetivo Plasma Sputtering Coater para Oro

US$ 11.500,00-12.500,00
1 Pieza(MOQ)
1/4

Rheniumet Ltd.

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3mm Blanco grueso de rutenio, blanco de sputtering de Ru

3mm Blanco grueso de rutenio, blanco de sputtering de Ru

Negociable
1 Pieza(MOQ)
Objetivo de Sputtering de Titanio Tungsteno Wti10 99.99%

Objetivo de Sputtering de Titanio Tungsteno Wti10 99.99%

US$ 200,00-1.000,00
1 Pieza(MOQ)
Dia76.2mm Objetivo de Sputtering de Rutenio, 99.95% Objetivo de Ru para Recubrimiento de Sputtering de Memoria

Dia76.2mm Objetivo de Sputtering de Rutenio, 99.95% Objetivo de Ru para Recubrimiento de Sputtering de Memoria

US$ 4.000,00-6.000,00
1 Pieza(MOQ)
Objetivo de Sputtering de Iridio de Alta Pureza 99.95% Personalizado 1-3mm Grueso

Objetivo de Sputtering de Iridio de Alta Pureza 99.95% Personalizado 1-3mm Grueso

US$ 56.000,00-120.000,00
1 Pieza(MOQ)
1/4

Zhengzhou CY Scientific Instrument Co., Ltd.

13 años
·Fabricante/Fábrica & Empresa Comercial
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Revestidor de Sputtering Magnetrón de Aluminio de Escritorio para Deposición de Películas Finas de Un Solo Objetivo

Revestidor de Sputtering Magnetrón de Aluminio de Escritorio para Deposición de Películas Finas de Un Solo Objetivo

US$ 20.000,00-23.000,00
1 Pieza(MOQ)
Equipo de recubrimiento por sputtering de magnetrón de doble objetivo con medidor de flujo másico de dos canales

Equipo de recubrimiento por sputtering de magnetrón de doble objetivo con medidor de flujo másico de dos canales

US$ 20.900,00-42.100,00
1 Pieza(MOQ)
Aparato de recubrimiento por sputtering de magnetrón de un solo objetivo de acero inoxidable de escritorio

Aparato de recubrimiento por sputtering de magnetrón de un solo objetivo de acero inoxidable de escritorio

US$ 8.730,00-8.900,00
1 Pieza(MOQ)
Máquina de Magnetrón de Sputtering al Vacío con 3 Precio de Descuento en el Objetivo de Sputtering

Máquina de Magnetrón de Sputtering al Vacío con 3 Precio de Descuento en el Objetivo de Sputtering

US$ 28.500,00-41.000,00
1 Pieza(MOQ)
1/4

Zhengzhou Shibo Nonferrous Metals Products Co., Ltd.

21 años·5.0
·Fabricante/Fábrica & Empresa Comercial
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Objetivo de sputtering de molibdeno de alta pureza, disco de molibdeno

Objetivo de sputtering de molibdeno de alta pureza, disco de molibdeno

US$ 40,00
1 kg(MOQ)
Placa Redonda de Molibdeno de Alta Pureza Mo1 para Sputtering

Placa Redonda de Molibdeno de Alta Pureza Mo1 para Sputtering

US$ 40,00-88,00
1 kg(MOQ)
Disco de molibdeno para recubrimiento por pulverización al vacío

Disco de molibdeno para recubrimiento por pulverización al vacío

US$ 40,00
1 Kg(MOQ)
Mo1 Precio del objetivo de molibdeno para sputtering

Mo1 Precio del objetivo de molibdeno para sputtering

US$ 40,00-88,00
1 kg(MOQ)
1/2

Ningbo Danko Vacuum Technology Co., Ltd.

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Recubridor PVD de magnetrón de frecuencia media de múltiples objetivos

Recubridor PVD de magnetrón de frecuencia media de múltiples objetivos

US$ 65.000,00-160.000,00
1 Pieza(MOQ)
Equipo de recubrimiento por sputtering de magnetrón con objetivos planos o cilíndricos

Equipo de recubrimiento por sputtering de magnetrón con objetivos planos o cilíndricos

US$ 15.000,00-150.000,00
1 Pieza(MOQ)
Máquina de metalización al vacío con película resistente al desgaste de larga duración

Máquina de metalización al vacío con película resistente al desgaste de larga duración

US$ 120.000,00-190.000,00
1 Pieza(MOQ)
Máquina de recubrimiento al vacío por sputtering PVD de magnetrón con objetivo planar

Máquina de recubrimiento al vacío por sputtering PVD de magnetrón con objetivo planar

US$ 15.000,00-160.000,00
1 Pieza(MOQ)
1/4

Ganzhou Zhanhai New Material Technology Co., Ltd.

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Óxido de Yttrio de Tierra Rara Y2o3 en polvo para objetivo de sputtering cerámico

Óxido de Yttrio de Tierra Rara Y2o3 en polvo para objetivo de sputtering cerámico

US$ 50,00-70,00
1 Kg(MOQ)
Fábrica China 4n-5n Óxido de Ytrio Y2o3 Soporte de Catalizador de Objetivo de Sputtering Cerámico

Fábrica China 4n-5n Óxido de Ytrio Y2o3 Soporte de Catalizador de Objetivo de Sputtering Cerámico

US$ 50,00-70,00
1 Kg(MOQ)
Polvo de Tierras Raras de Alta Pureza 99.995% Y2o3 Gránulo para Objetivo de Sputtering Cerámico

Polvo de Tierras Raras de Alta Pureza 99.995% Y2o3 Gránulo para Objetivo de Sputtering Cerámico

US$ 50,00-65,00
25 Kg(MOQ)
99.999% Óxido de Yttrio de Tierra Rara Y2o3 CAS 1314-36-9, Material de Producto de Circonia Premium

99.999% Óxido de Yttrio de Tierra Rara Y2o3 CAS 1314-36-9, Material de Producto de Circonia Premium

US$ 50,00-65,00
25 Kg(MOQ)
1/4

Zhuzhou Hongtong Tungsten Carbide Co., Ltd.

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Varios objetivos de tungsteno carburo en diferentes formas para recubrimientos de DLC

Varios objetivos de tungsteno carburo en diferentes formas para recubrimientos de DLC

US$ 38,00-45,00
10 Kg(MOQ)
Objetivos de sputtering de carburo de tungsteno para fabricar recubrimientos de DLC

Objetivos de sputtering de carburo de tungsteno para fabricar recubrimientos de DLC

US$ 38,00-45,00
10 Kg(MOQ)
Placa de Carburo de Tungsteno con un Lado Estriado

Placa de Carburo de Tungsteno con un Lado Estriado

US$ 38,00-45,00
10 Kg(MOQ)
Placa de desgaste sólida de carburo de tungsteno de material de cobalto SGS

Placa de desgaste sólida de carburo de tungsteno de material de cobalto SGS

US$ 38,00-45,00
10 Kg(MOQ)
1/4

Baoji Taizehui Metal Technology Co., Ltd.

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Placa de objetivo de sputtering de metal hafnio de resistencia al desgaste fuerte y multifuncional al por mayor

Placa de objetivo de sputtering de metal hafnio de resistencia al desgaste fuerte y multifuncional al por mayor

Negociable
10 Kg(MOQ)
Objetivo de Sputtering de Circonio 705 para Soluciones Metálicas Personalizadas de Alta Calidad

Objetivo de Sputtering de Circonio 705 para Soluciones Metálicas Personalizadas de Alta Calidad

Negociable
10 Kg(MOQ)
Objetivo de Sputtering de Zirconio de Alta Calidad 705 para Soluciones Personalizadas Hoy

Objetivo de Sputtering de Zirconio de Alta Calidad 705 para Soluciones Personalizadas Hoy

Negociable
10 Kg(MOQ)
Entorno de alta abrasión, alta planitud, OEM ODM, superficie brillante personalizada de placa de circonio

Entorno de alta abrasión, alta planitud, OEM ODM, superficie brillante personalizada de placa de circonio

Negociable
10 Kg(MOQ)
1/4

Shandong Quansheng Material Technology Group Co., LTD

3 años
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Placa de tungsteno de gran tamaño para recubrimiento al vacío y objetivos de pulverización

Placa de tungsteno de gran tamaño para recubrimiento al vacío y objetivos de pulverización

US$ 56,00-61,00
1 Kg(MOQ)
Placa de Molibdeno Perforada 1mm 2mm 3mm con 2mm 3mm Agujeros para Objetivo de Sputtering Iónico

Placa de Molibdeno Perforada 1mm 2mm 3mm con 2mm 3mm Agujeros para Objetivo de Sputtering Iónico

US$ 78,00-88,00
100 Kg(MOQ)
Placa de Molibdeno de Alta Pureza Premium - 99.95% Calidad Pura

Placa de Molibdeno de Alta Pureza Premium - 99.95% Calidad Pura

US$ 78,00-88,00
100 Kg(MOQ)
Placa de Molibdeno Premium 10.2g/cm3 para Calor Extremo Resistance4.

Placa de Molibdeno Premium 10.2g/cm3 para Calor Extremo Resistance4.

US$ 61,00-69,00
1 Kg(MOQ)
1/4

Inner Mongolia Rongtai Rhenium New Materials Co., Ltd.

5.0
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Objetivo de Sputtering de Titanio Avanzado para una Eficiencia de Producción Óptima

Objetivo de Sputtering de Titanio Avanzado para una Eficiencia de Producción Óptima

US$ 55,00-85,00
1 Pieza(MOQ)
Disco de objetivo de sputtering de metal de gadolinio premium 99.9% pureza

Disco de objetivo de sputtering de metal de gadolinio premium 99.9% pureza

US$ 55,00-85,00
1 Pieza(MOQ)
Objetivo de metal de sputtering de itrio premium para aplicaciones ópticas

Objetivo de metal de sputtering de itrio premium para aplicaciones ópticas

US$ 115,00-130,00
1 Pieza(MOQ)
Objetivo de Sputtering de Gadolinio Negro Premium para la Fabricación de Electrónica

Objetivo de Sputtering de Gadolinio Negro Premium para la Fabricación de Electrónica

US$ 55,00-85,00
1 Pieza(MOQ)
1/4

Luoyang Tongchang Tungsten & Molybdenum Material Co., Ltd.

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Barra de tungsteno puro de alta calidad, varilla de tungsteno para objetivo de pulverización

Barra de tungsteno puro de alta calidad, varilla de tungsteno para objetivo de pulverización

US$ 60,00
1 Kg(MOQ)
99.95% W1 Hoja de tungsteno puro Placa de tungsteno

99.95% W1 Hoja de tungsteno puro Placa de tungsteno

US$ 55,00
1 Kg(MOQ)
Crucible de barco de molibdeno de alta calidad Mo1

Crucible de barco de molibdeno de alta calidad Mo1

Negociable
1 Pieza(MOQ)
Resistencia al desgaste Lavado W1 Placa de tungsteno puro laminado en frío

Resistencia al desgaste Lavado W1 Placa de tungsteno puro laminado en frío

US$ 55,00
1 Kg(MOQ)
1/4

Shaanxi Mingsheng Guangpu Metal Materials Co., Ltd.

3 años
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Objetivos de Sputtering de Níquel de Alta Densidad Msgp - Perfectamente Adecuados para Aplicaciones de Recubrimiento de Dispositivos Médicos

Objetivos de Sputtering de Níquel de Alta Densidad Msgp - Perfectamente Adecuados para Aplicaciones de Recubrimiento de Dispositivos Médicos

US$ 260,00-280,00
50 kilograms(MOQ)
Objetivos de Sputtering de Níquel Puro Msgp para la Fabricación de Sensores Garantía Central

Objetivos de Sputtering de Níquel Puro Msgp para la Fabricación de Sensores Garantía Central

US$ 160,00-200,00
50 kilograms(MOQ)
Objetivo de Sputtering de Cromo en Forma de Rectángulo con Maquinado de Agujeros para Recubrimiento Metálico de Precisión

Objetivo de Sputtering de Cromo en Forma de Rectángulo con Maquinado de Agujeros para Recubrimiento Metálico de Precisión

US$ 99,00-180,00
1 Pieza(MOQ)
Objetivo de Sputtering de Cromo para Electrónica de Precisión y Moldes

Objetivo de Sputtering de Cromo para Electrónica de Precisión y Moldes

US$ 90,00-110,00
2 Piezas(MOQ)
1/4

Luoyang Kunsheng Instrument Equipment Co.,Ltd

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Revestidor de Sputtering Magnetrón de Doble Fuente DC/RF de Alto Vacío con 2" Objetivos

Revestidor de Sputtering Magnetrón de Doble Fuente DC/RF de Alto Vacío con 2" Objetivos

US$ 62.860,00-65.680,00
1 Pieza(MOQ)
Revestidor de Sputtering Magnetrón de Doble Objetivo para Deposición Avanzada de Películas Delgadas

Revestidor de Sputtering Magnetrón de Doble Objetivo para Deposición Avanzada de Películas Delgadas

US$ 32.800,00-45.860,00
1 Pieza(MOQ)
Máquina de recubrimiento de objetivos de magnetrón de plasma de vacío automático DC

Máquina de recubrimiento de objetivos de magnetrón de plasma de vacío automático DC

US$ 4.900,00-6.500,00
1 Pieza(MOQ)
Sistema de Sputtering Magnetrón de Doble Fuente DC/RF Compacto para Depósito de Películas Delgadas

Sistema de Sputtering Magnetrón de Doble Fuente DC/RF Compacto para Depósito de Películas Delgadas

US$ 51.860,00-58.680,00
1 Pieza(MOQ)
1/4

Zhejiang Ruisheng New Materials Co., Ltd.

Empresa Comercial
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Objetivo de sputtering de molibdeno personalizable con alta densidad para aplicaciones de recubrimiento de semiconductores y vidrio

Objetivo de sputtering de molibdeno personalizable con alta densidad para aplicaciones de recubrimiento de semiconductores y vidrio

US$ 30,00-80,00
10 Kg(MOQ)
Objetivo de molibdeno de alta pureza para sputtering magnetrón en la deposición de películas delgadas en semiconductores

Objetivo de molibdeno de alta pureza para sputtering magnetrón en la deposición de películas delgadas en semiconductores

US$ 30,00-60,00
1 Kg(MOQ)
Objetivo de tungsteno rotativo premium para aplicaciones de sputtering eficientes

Objetivo de tungsteno rotativo premium para aplicaciones de sputtering eficientes

US$ 50,00-270,00
10 Kg(MOQ)
Discos de molibdeno de alta pureza y resistencia al calor para objetivos de sputtering fiables

Discos de molibdeno de alta pureza y resistencia al calor para objetivos de sputtering fiables

US$ 40,00-80,00
10 Kg(MOQ)
1/4

LUOYANG MOPEI TUNGSTEN & MOLYBDENUM MATERIAL CO., LTD.

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Buena Planitud Recocido 99.95% Estribo de Molibdeno Puro para la Producción de Objetivos de Sputtering

Buena Planitud Recocido 99.95% Estribo de Molibdeno Puro para la Producción de Objetivos de Sputtering

Negociable
1 Kg(MOQ)
Placa de tungsteno pulido puro 99.95% en tungsteno para fabricar objetivo de sputtering

Placa de tungsteno pulido puro 99.95% en tungsteno para fabricar objetivo de sputtering

US$ 65,00-85,00
1 Kg(MOQ)
Objetivo de sputtering de tantalio, crisol de tantalio, proveedor de tantalio de China

Objetivo de sputtering de tantalio, crisol de tantalio, proveedor de tantalio de China

US$ 450,00-550,00
1 Kg(MOQ)
99.95% Hoja de tungsteno molibdeno y hoja brillante de tungsteno molibdeno en horno de alta temperatura

99.95% Hoja de tungsteno molibdeno y hoja brillante de tungsteno molibdeno en horno de alta temperatura

US$ 68,00
1 Kg(MOQ)
1/4

Xiamen Wintrustek Advanced Materials Co., Ltd.

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Objetivo de Sputtering de Cerámica de Hexaburó de Lantano Lab6 para Recubrimiento de Película Delgada PVD

Objetivo de Sputtering de Cerámica de Hexaburó de Lantano Lab6 para Recubrimiento de Película Delgada PVD

US$ 50,00-200,00
1 Pieza(MOQ)
Disco de Cerámica de Hexaburó de Lantano Lab6 para Sputtering

Disco de Cerámica de Hexaburó de Lantano Lab6 para Sputtering

US$ 50,00-200,00
1 Pieza(MOQ)
Disco Cerámico de Boruro de Lantano para Objetivo de Sputtering Lab6

Disco Cerámico de Boruro de Lantano para Objetivo de Sputtering Lab6

US$ 50,00-200,00
1 Pieza(MOQ)
Material de cátodo de hexaburido de lantano avanzado Lab6 tubo cerámico

Material de cátodo de hexaburido de lantano avanzado Lab6 tubo cerámico

US$ 50,00-200,00
1 Pieza(MOQ)
1/4

Qingdao Hesiway Industrial Co., Ltd.

5.0
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Polvo de tungsteno de alta pureza para objetivos de sputtering electrónico (asegura un recubrimiento uniforme)

Polvo de tungsteno de alta pureza para objetivos de sputtering electrónico (asegura un recubrimiento uniforme)

US$ 41,00-48,00
10 Kg(MOQ)
Polvo de cromo de alta pureza resistente al calor para objetivos de pulverización

Polvo de cromo de alta pureza resistente al calor para objetivos de pulverización

US$ 11,90-12,50
10 Kg(MOQ)
Polvo de molibdeno con distribución de tamaño de partícula controlada para objetivos de pulverización

Polvo de molibdeno con distribución de tamaño de partícula controlada para objetivos de pulverización

US$ 68,00-71,00
1 Kg(MOQ)
Polvo de cromo puro de alta pureza 99.95% metal de cromo de alta calidad para objetivos de sputtering

Polvo de cromo puro de alta pureza 99.95% metal de cromo de alta calidad para objetivos de sputtering

US$ 10,80-12,50
100 Kg(MOQ)
1/4

Beenine Shanke Technology Co., Ltd.

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Objetivo de sputtering de titanio de alta calidad para recubrimiento PVD

Objetivo de sputtering de titanio de alta calidad para recubrimiento PVD

US$ 65,00-100,00
1 Pieza(MOQ)
Objetivo de pulverización de recubrimiento PVD plano redondo de cromo fábrica

Objetivo de pulverización de recubrimiento PVD plano redondo de cromo fábrica

US$ 50,00-300,00
1 Pieza(MOQ)
Cobre T2 Rojo Cu Multi-PCS Blanco de Sputtering 99.99% Puro

Cobre T2 Rojo Cu Multi-PCS Blanco de Sputtering 99.99% Puro

US$ 100,00-500,00
1 Kg(MOQ)
Fábrica de dianas de zinc Zn Servicio de unión

Fábrica de dianas de zinc Zn Servicio de unión

US$ 50,00-100,00
1 Pieza(MOQ)
1/4

Zhuzhou Weilai New Materials Technology Co., Ltd.

8 años
·Fabricante/Fábrica & Empresa Comercial
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Objetivo de sputtering de ánodo rotatorio de molibdeno, renio y tungsteno

Objetivo de sputtering de ánodo rotatorio de molibdeno, renio y tungsteno

US$ 142,00-168,00
30 Piezas(MOQ)
Inserto de tubo de rayos X de dispositivo médico, ánodo rotatorio de TC, objetivo de sputtering de Mo

Inserto de tubo de rayos X de dispositivo médico, ánodo rotatorio de TC, objetivo de sputtering de Mo

US$ 142,00-168,00
30 Piezas(MOQ)
Objetivo de Sputtering de Mo de Alta Pureza para Anodo Rotatorio CT

Objetivo de Sputtering de Mo de Alta Pureza para Anodo Rotatorio CT

US$ 142,00-168,00
30 Piezas(MOQ)
Suministramos varios tipos de objetivos de ánodo rotatorio, chorro de arena, objetivos de sputtering de ánodo rotatorio ennegrecido

Suministramos varios tipos de objetivos de ánodo rotatorio, chorro de arena, objetivos de sputtering de ánodo rotatorio ennegrecido

US$ 142,00-168,00
30 Piezas(MOQ)
1/4

Xiamen Tmax Battery Equipments Limited

5.0
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Sistema de recubrimiento por pulverización iónica de triple objetivo pequeño

Sistema de recubrimiento por pulverización iónica de triple objetivo pequeño

US$ 5.000,00
1 Pieza(MOQ)
Marca TMAXCN Alta Pureza 99.95% Cromo Cromo/Cr Objetivo de Sputtering Magnetrón PVD para Recubrimiento al Vacío

Marca TMAXCN Alta Pureza 99.95% Cromo Cromo/Cr Objetivo de Sputtering Magnetrón PVD para Recubrimiento al Vacío

US$ 78,00-90,00
1 Pieza(MOQ)
Precio competitivo de la marca TMAXCN, alta pureza en lámina de objetivo de sputtering de indio

Precio competitivo de la marca TMAXCN, alta pureza en lámina de objetivo de sputtering de indio

US$ 78,00-90,00
1 Pieza(MOQ)
Sistema de recubrimiento por deposición de película por sputtering de magnetrón compuesto de múltiples objetivos

Sistema de recubrimiento por deposición de película por sputtering de magnetrón compuesto de múltiples objetivos

US$ 45.000,00
1 Pieza(MOQ)
1/4

Xiangtan Hondson Coating Technology Co., Ltd.

5 años
·Fabricante/Fábrica & Empresa Comercial
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5-200kw Fuente de Sputtering Típica para la Industria de Recubrimiento de Películas Delgadas Cátodo de Sputter Magnetrón Rotatorio Objetivo de Sputtering Rotatorio

5-200kw Fuente de Sputtering Típica para la Industria de Recubrimiento de Películas Delgadas Cátodo de Sputter Magnetrón Rotatorio Objetivo de Sputtering Rotatorio

US$ 6.900,00-7.000,00
2 sets(MOQ)
Objetivo de magnetrón cilíndrico para recubrimiento PVD en vacío de tubos de titanio, materiales en bruto para recubrimiento, cátodos

Objetivo de magnetrón cilíndrico para recubrimiento PVD en vacío de tubos de titanio, materiales en bruto para recubrimiento, cátodos

US$ 800,00-1.500,00
1 Pieza(MOQ)
Bloque de titanio de alta pureza personalizado, material de titanio, material de recubrimiento por ionización multi-arco, objetivo metálico

Bloque de titanio de alta pureza personalizado, material de titanio, material de recubrimiento por ionización multi-arco, objetivo metálico

US$ 500,00-1.000,00
1 Pieza(MOQ)
Sistema de recubrimiento de película delgada por magnetrón en línea al vacío para sustratos de vidrio

Sistema de recubrimiento de película delgada por magnetrón en línea al vacío para sustratos de vidrio

Negociable
1 Set(MOQ)
1/4

Tianjin Rui Yuan Electric Material Co., Ltd.

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Fábrica china de alta pureza 6n cobre (Cu) 99.9999% objetivo de sputtering

Fábrica china de alta pureza 6n cobre (Cu) 99.9999% objetivo de sputtering

US$ 89,00-180,00
1.000 kilograms(MOQ)
99.9999% 6n Placas de respaldo de objetivos de sputtering de cobre de alta pureza

99.9999% 6n Placas de respaldo de objetivos de sputtering de cobre de alta pureza

US$ 335,00-350,00
100 Kg(MOQ)
C110/C10100/Tu00 5n Objetivo de Sputtering de Alta Pureza Cobre 99.999% para Recubrimiento Óptico

C110/C10100/Tu00 5n Objetivo de Sputtering de Alta Pureza Cobre 99.999% para Recubrimiento Óptico

US$ 79,99
50 Kg(MOQ)
Ingot de Cobre Grueso de Ultra Pureza 99.9999% 77X6mm para Objetivo de Sputtering

Ingot de Cobre Grueso de Ultra Pureza 99.9999% 77X6mm para Objetivo de Sputtering

US$ 39,99
50 Kg(MOQ)
1/4

Lonwin Industry Group Limited

5.0
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99.999% Objetivos de Sputtering de Silicio Puro Mono y Policristalino

99.999% Objetivos de Sputtering de Silicio Puro Mono y Policristalino

US$ 17,00-55,00
1 Kg(MOQ)
Objetivos de aleación de níquel de alta pureza Niv objetivo de sputtering de níquel y vanadio

Objetivos de aleación de níquel de alta pureza Niv objetivo de sputtering de níquel y vanadio

US$ 17,00-55,00
1 Kg(MOQ)
99.95% Mosi2 Objetivos de Sputtering de Disiliciuro de Molibdeno Cerámico

99.95% Mosi2 Objetivos de Sputtering de Disiliciuro de Molibdeno Cerámico

US$ 17,00-55,00
1 Kg(MOQ)
Cuo-In2o3 Objetivos Cerámicos Óxido de Cobre - Objetivo de Sputtering Óxido de Indio

Cuo-In2o3 Objetivos Cerámicos Óxido de Cobre - Objetivo de Sputtering Óxido de Indio

US$ 17,00-55,00
1 Kg(MOQ)
1/4

Luoyang Bless Tungsten & Molybdenum Materials Co., Ltd.

12 años
·Empresa Comercial
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Material de alta pureza ultra molibdeno objetivos de pulverización

Material de alta pureza ultra molibdeno objetivos de pulverización

US$ 20,00-86,00
1 Pieza(MOQ)
Objetivos de sputtering de molibdeno de alta calidad

Objetivos de sputtering de molibdeno de alta calidad

US$ 66,00-77,00
1 Kg(MOQ)
Cuerpos de calor de varilla de molibdeno en hornos de alta temperatura, utilizados en blanco de pulverización

Cuerpos de calor de varilla de molibdeno en hornos de alta temperatura, utilizados en blanco de pulverización

US$ 55,00-58,00
1 Kg(MOQ)
Objetivos de sputtering de molibdeno para ensamblaje complejo

Objetivos de sputtering de molibdeno para ensamblaje complejo

US$ 40,00-43,00
1 Kg(MOQ)
1/1

SHAOXING TIANLONG TIN MATERIALS CO., LTD.

29 años
·Fabricante/Fábrica & Empresa Comercial
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Alambre de objetivo de pulverización de aleación de zinc y estaño de alta calidad Sn47Zn53

Alambre de objetivo de pulverización de aleación de zinc y estaño de alta calidad Sn47Zn53

US$ 16,00-19,00
100 Kg(MOQ)
Alambre de Zinc Aluminio para Pulverización Térmica Recubrimiento Protector Anticorrosión, Zn85Al15 aleación

Alambre de Zinc Aluminio para Pulverización Térmica Recubrimiento Protector Anticorrosión, Zn85Al15 aleación

US$ 4,00-5,00
100 Kg(MOQ)
Alambre de Zinc de Alta Pureza para Aplicaciones Avanzadas de Sputtering

Alambre de Zinc de Alta Pureza para Aplicaciones Avanzadas de Sputtering

US$ 4,00-5,50
100 Kg(MOQ)
Alambre de aluminio de alta calidad y precisión para soluciones de recubrimiento global

Alambre de aluminio de alta calidad y precisión para soluciones de recubrimiento global

US$ 4,00-6,00
100 Kg(MOQ)
1/4

LUOYANG COMBAT TUNGSTEN & MOLYBDENUM MATERIAL CO., LTD.

18 años·5.0
·Fabricante/Fábrica & Empresa Comercial
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Objetivo de Sputtering de Molybdeno de Alta Densidad de Combate 99.95%

Objetivo de Sputtering de Molybdeno de Alta Densidad de Combate 99.95%

US$ 55,00-59,00
1 Kg(MOQ)
Comportamiento Eléctrico Estable Bajo Peso Embalaje Estándar de Exportación Comprar Tantalio

Comportamiento Eléctrico Estable Bajo Peso Embalaje Estándar de Exportación Comprar Tantalio

US$ 588,95-602,26
3 Kg(MOQ)
Tubo de Tántalo de Alta Pureza

Tubo de Tántalo de Alta Pureza

US$ 588,95-602,26
3 Kg(MOQ)
Resistencia a la corrosión Alta temperatura de fusión Proveedores Comprar tubo de tantalio

Resistencia a la corrosión Alta temperatura de fusión Proveedores Comprar tubo de tantalio

US$ 588,95-602,26
3 Kg(MOQ)
1/4

Henan Zktherm Furnace Co., Ltd

1 años
·Empresa Comercial
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Objetivos de Sputtering de Molibdeno 99.95% Placa de Molibdeno para Proceso Industrial

Objetivos de Sputtering de Molibdeno 99.95% Placa de Molibdeno para Proceso Industrial

US$ 75,00-79,00
1 Kg(MOQ)
Placa y hoja de molibdeno puro pulido de tamaño personalizado de alto costo efectivo 99.95%

Placa y hoja de molibdeno puro pulido de tamaño personalizado de alto costo efectivo 99.95%

US$ 75,00-79,00
1 Kg(MOQ)
Hoja y placa de molibdeno de calidad, laminado en frío

Hoja y placa de molibdeno de calidad, laminado en frío

US$ 75,00-79,00
1 Kg(MOQ)
1.0mm Hoja de Molybdeno Gruesa, Hoja de Molybdeno de Alta Pureza

1.0mm Hoja de Molybdeno Gruesa, Hoja de Molybdeno de Alta Pureza

US$ 75,00-79,00
1 Kg(MOQ)
1/4
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