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sobre aplicación de objetivo que falla
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aplicación de objetivo que falla100+ fábricas verificadas

Changsha Xinkang Advanced Materials Co., Ltd.

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Aplicaciones de recubrimiento de iridio premium con 99 99% grado de investigación pura

Aplicaciones de recubrimiento de iridio premium con 99 99% grado de investigación pura

US$ 50,00-100,00
1 Pieza(MOQ)
99.95% Objetivo de Sputtering de Cromo Puro, Objetivo de Cromo de Alta Pureza para Recubrimiento PVD

99.95% Objetivo de Sputtering de Cromo Puro, Objetivo de Cromo de Alta Pureza para Recubrimiento PVD

US$ 30,00-1.000,00
1 Pieza(MOQ)
Objetivos de Sputtering de Aleación de Níquel de Alta Pureza Xinkang Níquel Vanadio Niv7%

Objetivos de Sputtering de Aleación de Níquel de Alta Pureza Xinkang Níquel Vanadio Niv7%

US$ 35,00-40,00
1 Pieza(MOQ)
Objetivo de pulverización de aleación de níquel y cromo de alta calidad para recubrimiento

Objetivo de pulverización de aleación de níquel y cromo de alta calidad para recubrimiento

US$ 35,00-40,00
1 Pieza(MOQ)
1/4

Sid Metal Co., Ltd

13 años
·Fabricante/Fábrica & Empresa Comercial
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Zr702 Zr705 Conductividad Térmica de Tubo de Circonio Alta Pureza Objetivo de Sputtering

Zr702 Zr705 Conductividad Térmica de Tubo de Circonio Alta Pureza Objetivo de Sputtering

US$ 1,00-3.000,00
1 Pieza(MOQ)
Hoja de objetivo de sputtering de zirconio de alta calidad Zr702 Zr705 para recubrimiento PVD disco de zirconio

Hoja de objetivo de sputtering de zirconio de alta calidad Zr702 Zr705 para recubrimiento PVD disco de zirconio

US$ 1,00-3.000,00
1 Pieza(MOQ)
Pellets de Titanio de Alta Pureza 99.995% para Recubrimiento por Evaporación Recubrimiento por Sputtering Objetivo de Titanio

Pellets de Titanio de Alta Pureza 99.995% para Recubrimiento por Evaporación Recubrimiento por Sputtering Objetivo de Titanio

US$ 140,00-200,00
1 Kg(MOQ)
Hoja de objetivo de zirconio Zr702 Zr705 para recubrimiento PVD disco de zirconio

Hoja de objetivo de zirconio Zr702 Zr705 para recubrimiento PVD disco de zirconio

US$ 1,00-3.000,00
1 Pieza(MOQ)
1/4

SUZHOU TECHNO-TEC PHOTOELECTRIC MATERIALS CO., LTD

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Objetivo de pulverización de CU/objetivo rotatorio de cobre para conductor/semiconductor recubierto de metal

Objetivo de pulverización de CU/objetivo rotatorio de cobre para conductor/semiconductor recubierto de metal

US$ 10,00-15,00
1 Kg(MOQ)
Objetivo cerámico de Poli-silicio para esputo Blanco/Solar Fotovoltaica

Objetivo cerámico de Poli-silicio para esputo Blanco/Solar Fotovoltaica

US$ 35,00-50,00
1 Kg(MOQ)
Objetivo de Silicio Monocristalino Mono-Si para Objetivo de Sputtering en Fotovoltaica Solar para Teléfonos Móviles

Objetivo de Silicio Monocristalino Mono-Si para Objetivo de Sputtering en Fotovoltaica Solar para Teléfonos Móviles

US$ 35,00-75,00
1 Kg(MOQ)
Aleación CuNiTi Target Cobre níquel Titanio aleación esputtering objetivo para LCD/panel táctil

Aleación CuNiTi Target Cobre níquel Titanio aleación esputtering objetivo para LCD/panel táctil

US$ 50,00
1 Kg(MOQ)
1/4

Rheniumet Ltd.

17 años
·Empresa Comercial
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3mm Blanco grueso de rutenio, blanco de sputtering de Ru

3mm Blanco grueso de rutenio, blanco de sputtering de Ru

Negociable
1 Pieza(MOQ)
Dia301.625mm Gran objetivo de tungsteno, 99.999% objetivo de metal wolframio W para sputtering

Dia301.625mm Gran objetivo de tungsteno, 99.999% objetivo de metal wolframio W para sputtering

US$ 2.800,00-3.000,00
1 pieces(MOQ)
5n Polvo de tungsteno, polvo de wolframio para objetivo de pulverización

5n Polvo de tungsteno, polvo de wolframio para objetivo de pulverización

US$ 80,00-100,00
10 Kg(MOQ)
99.95% Objetivo de metal precioso iridio para recubrimiento por pulverización al vacío

99.95% Objetivo de metal precioso iridio para recubrimiento por pulverización al vacío

US$ 45.000,00-80.000,00
1 Pieza(MOQ)
1/4

Zhengzhou Tainuo Film Materials Co., Ltd.

9 años
·Fabricante/Fábrica
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Máquina de recubrimiento PVD por magnetrón de sputtering de vacío de doble objetivo para películas semiconductoras

Máquina de recubrimiento PVD por magnetrón de sputtering de vacío de doble objetivo para películas semiconductoras

US$ 26.500,00
1 Pieza(MOQ)
Revestidor de Sputtering Magnetrón PVD de Un Solo Objetivo de Laboratorio con Alimentación de Corriente Continua para Electrolitos Sólidos y OLED

Revestidor de Sputtering Magnetrón PVD de Un Solo Objetivo de Laboratorio con Alimentación de Corriente Continua para Electrolitos Sólidos y OLED

US$ 12.900,00-19.999,00
1 Pieza(MOQ)
Tres recubridores de magnetrón por sputtering de Target con 500W fuente de alimentación de corriente continua y 300W fuente de alimentación de radiofrecuencia

Tres recubridores de magnetrón por sputtering de Target con 500W fuente de alimentación de corriente continua y 300W fuente de alimentación de radiofrecuencia

US$ 39.500,00
1 Pieza(MOQ)
2 Recubridor de Sputtering al Vacío de Depósito de Vapor de Plasma de Doble Objetivo de 1 Pulgada para Au y PT

2 Recubridor de Sputtering al Vacío de Depósito de Vapor de Plasma de Doble Objetivo de 1 Pulgada para Au y PT

US$ 6.500,00-7.000,00
1 Pieza(MOQ)
1/4

Zhengzhou CY Scientific Instrument Co., Ltd.

13 años
·Fabricante/Fábrica & Empresa Comercial
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Revestidor de Sputtering Magnetrón de Aluminio de Escritorio para Deposición de Películas Finas de Un Solo Objetivo

Revestidor de Sputtering Magnetrón de Aluminio de Escritorio para Deposición de Películas Finas de Un Solo Objetivo

US$ 20.000,00-23.000,00
1 Pieza(MOQ)
Revestidor de Sputtering Magnetrón de Un Solo Objetivo para Preparación de Muestras en Laboratorio

Revestidor de Sputtering Magnetrón de Un Solo Objetivo para Preparación de Muestras en Laboratorio

US$ 18.900,00-23.500,00
1 Pieza(MOQ)
Revestidor de Sputtering Magnetrón de Un Solo Objetivo de Escritorio con Cavidad de Acero Inoxidable

Revestidor de Sputtering Magnetrón de Un Solo Objetivo de Escritorio con Cavidad de Acero Inoxidable

US$ 18.900,00-23.500,00
1 Pieza(MOQ)
Objetivo de Sputtering de Grafito Fuente de Sputtering Magnetrón Rectangular Máquina de Recubrimiento

Objetivo de Sputtering de Grafito Fuente de Sputtering Magnetrón Rectangular Máquina de Recubrimiento

US$ 23.500,00-39.000,00
1 Pieza(MOQ)
1/4

Zhengzhou Shibo Nonferrous Metals Products Co., Ltd.

21 años·5.0
·Fabricante/Fábrica & Empresa Comercial
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Objetivo de sputtering de molibdeno de alta pureza, disco de molibdeno

Objetivo de sputtering de molibdeno de alta pureza, disco de molibdeno

US$ 40,00
1 kg(MOQ)
Disco de molibdeno, disco de Mo, rebanada de molibdeno para objetivos de pulverización

Disco de molibdeno, disco de Mo, rebanada de molibdeno para objetivos de pulverización

US$ 45,00
1 kg(MOQ)
Barco de alta calidad de lantano de molibdeno para recocido de productos

Barco de alta calidad de lantano de molibdeno para recocido de productos

US$ 32,00-54,00
1 kg(MOQ)
Objetivo de Sputtering de Molibdeno Pulido (99.95% puro)

Objetivo de Sputtering de Molibdeno Pulido (99.95% puro)

US$ 40,00-60,00
1 Kg(MOQ)
1/2

Ganzhou Zhanhai New Material Technology Co., Ltd.

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Óxido de Yttrio de Tierra Rara Y2o3 en polvo para objetivo de sputtering cerámico

Óxido de Yttrio de Tierra Rara Y2o3 en polvo para objetivo de sputtering cerámico

US$ 50,00-70,00
1 Kg(MOQ)
Polvo de Tierras Raras de Alta Pureza 99.995% Y2o3 Gránulo para Objetivo de Sputtering Cerámico

Polvo de Tierras Raras de Alta Pureza 99.995% Y2o3 Gránulo para Objetivo de Sputtering Cerámico

US$ 50,00-65,00
25 Kg(MOQ)
Fábrica China 4n-5n Óxido de Ytrio Y2o3 Soporte de Catalizador de Objetivo de Sputtering Cerámico

Fábrica China 4n-5n Óxido de Ytrio Y2o3 Soporte de Catalizador de Objetivo de Sputtering Cerámico

US$ 50,00-70,00
1 Kg(MOQ)
99.999% Óxido de Yttrio de Tierra Rara Y2o3 CAS 1314-36-9, Material de Producto de Circonia Premium

99.999% Óxido de Yttrio de Tierra Rara Y2o3 CAS 1314-36-9, Material de Producto de Circonia Premium

US$ 50,00-65,00
25 Kg(MOQ)
1/4

Ningbo Danko Vacuum Technology Co., Ltd.

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Equipo de recubrimiento por sputtering de magnetrón con objetivos planos o cilíndricos

Equipo de recubrimiento por sputtering de magnetrón con objetivos planos o cilíndricos

US$ 15.000,00-150.000,00
1 Pieza(MOQ)
Recubridor PVD de magnetrón de frecuencia media de múltiples objetivos

Recubridor PVD de magnetrón de frecuencia media de múltiples objetivos

US$ 65.000,00-160.000,00
1 Pieza(MOQ)
Máquina de recubrimiento al vacío por sputtering PVD de magnetrón con objetivo planar

Máquina de recubrimiento al vacío por sputtering PVD de magnetrón con objetivo planar

US$ 15.000,00-160.000,00
1 Pieza(MOQ)
Máquina de metalización al vacío con película resistente al desgaste de larga duración

Máquina de metalización al vacío con película resistente al desgaste de larga duración

US$ 120.000,00-190.000,00
1 Pieza(MOQ)
1/4

Baoji Taizehui Metal Technology Co., Ltd.

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Placa de objetivo de sputtering de metal hafnio de resistencia al desgaste fuerte y multifuncional al por mayor

Placa de objetivo de sputtering de metal hafnio de resistencia al desgaste fuerte y multifuncional al por mayor

Negociable
10 Kg(MOQ)
Objetivo de Sputtering de Zirconio de Alta Calidad 705 para Soluciones Personalizadas Hoy

Objetivo de Sputtering de Zirconio de Alta Calidad 705 para Soluciones Personalizadas Hoy

Negociable
10 Kg(MOQ)
Objetivo de Sputtering de Circonio 705 para Soluciones Metálicas Personalizadas de Alta Calidad

Objetivo de Sputtering de Circonio 705 para Soluciones Metálicas Personalizadas de Alta Calidad

Negociable
10 Kg(MOQ)
Hoja de Zirconio 705 Versátil para Aplicaciones Metálicas Personalizadas de Primera Calidad

Hoja de Zirconio 705 Versátil para Aplicaciones Metálicas Personalizadas de Primera Calidad

Negociable
10 Kg(MOQ)
1/4

Luoyang Tongchang Tungsten & Molybdenum Material Co., Ltd.

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Barra de tungsteno puro profesional W1 para objetivo de sputtering

Barra de tungsteno puro profesional W1 para objetivo de sputtering

US$ 60,00
1 Kg(MOQ)
Carburo de tungsteno, hoja de tungsteno, placa de tungsteno

Carburo de tungsteno, hoja de tungsteno, placa de tungsteno

US$ 55,00
1 Kg(MOQ)
Crucible de barco de molibdeno de alta calidad Mo1

Crucible de barco de molibdeno de alta calidad Mo1

Negociable
1 Pieza(MOQ)
Resistencia al desgaste Lavado W1 Placa de tungsteno puro laminado en frío

Resistencia al desgaste Lavado W1 Placa de tungsteno puro laminado en frío

US$ 55,00
1 Kg(MOQ)
1/4

Inner Mongolia Rongtai Rhenium New Materials Co., Ltd.

5.0
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Disco de objetivo de pulverización de óxido de cobre, bario y itrio de alta calidad para electrónica

Disco de objetivo de pulverización de óxido de cobre, bario y itrio de alta calidad para electrónica

US$ 190,00-199,00
1 Pieza(MOQ)
Objetivo de Sputtering de Metal de Gadolinio de Alta Pureza para Aplicaciones de PVD

Objetivo de Sputtering de Metal de Gadolinio de Alta Pureza para Aplicaciones de PVD

US$ 55,00-85,00
1 Pieza(MOQ)
Objetivo de Sputtering de Metal de Ytterbio de Alta Pureza para Aplicaciones Avanzadas

Objetivo de Sputtering de Metal de Ytterbio de Alta Pureza para Aplicaciones Avanzadas

US$ 190,00-199,00
1 Pieza(MOQ)
Objetivo de sputtering de níquel, cobalto y itrio de alta pureza para recubrimientos ópticos avanzados

Objetivo de sputtering de níquel, cobalto y itrio de alta pureza para recubrimientos ópticos avanzados

US$ 115,00-130,00
1 Pieza(MOQ)
1/4

Shaanxi Mingsheng Guangpu Metal Materials Co., Ltd.

3 años·5.0
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Objetivo de Sputtering de Cromo para Electrónica de Precisión y Moldes

Objetivo de Sputtering de Cromo para Electrónica de Precisión y Moldes

US$ 90,00-110,00
2 Piezas(MOQ)
Objetivo de Sputtering de Cromo en Forma de Rectángulo con Maquinado de Agujeros para Recubrimiento Metálico de Precisión

Objetivo de Sputtering de Cromo en Forma de Rectángulo con Maquinado de Agujeros para Recubrimiento Metálico de Precisión

US$ 99,00-180,00
1 Pieza(MOQ)
Objetivos de Sputtering de Níquel Personalizados Msgp - Ideales para Aplicaciones de Deposición de Películas Delgadas

Objetivos de Sputtering de Níquel Personalizados Msgp - Ideales para Aplicaciones de Deposición de Películas Delgadas

US$ 100,00-120,00
50 kilograms(MOQ)
Objetivos de sputtering de níquel de alta pureza en forma tubular - Personalizables para células solares fotovoltaicas

Objetivos de sputtering de níquel de alta pureza en forma tubular - Personalizables para células solares fotovoltaicas

US$ 200,00-220,00
50 kilograms(MOQ)
1/4

Luoyang Kunsheng Instrument Equipment Co.,Ltd

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Máquina de recubrimiento de objetivos de magnetrón de plasma de vacío automático DC

Máquina de recubrimiento de objetivos de magnetrón de plasma de vacío automático DC

US$ 4.900,00-6.500,00
1 Pieza(MOQ)
Revestidor de Sputtering Magnetrón de Doble Objetivo para Deposición Avanzada de Películas Delgadas

Revestidor de Sputtering Magnetrón de Doble Objetivo para Deposición Avanzada de Películas Delgadas

US$ 32.800,00-45.860,00
1 Pieza(MOQ)
Revestidor de Sputtering Magnetrón de Doble Fuente DC/RF de Alto Vacío con 2" Objetivos

Revestidor de Sputtering Magnetrón de Doble Fuente DC/RF de Alto Vacío con 2" Objetivos

US$ 62.860,00-65.680,00
1 Pieza(MOQ)
Sistema de Sputtering Magnetrón de Triple Objetivo para Deposición de Películas Delgadas de Alto Rendimiento

Sistema de Sputtering Magnetrón de Triple Objetivo para Deposición de Películas Delgadas de Alto Rendimiento

US$ 62.860,00-65.680,00
1 Pieza(MOQ)
1/4

Zhejiang Ruisheng New Materials Co., Ltd.

Empresa Comercial
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Objetivo de Sputtering de Tungsteno de Alta Pureza 99.95% Deposición de Películas Finas de Semiconductores Personalizable Estándar ASTM

Objetivo de Sputtering de Tungsteno de Alta Pureza 99.95% Deposición de Películas Finas de Semiconductores Personalizable Estándar ASTM

US$ 60,00-100,00
1 Kg(MOQ)
Objetivo de tungsteno rotativo premium para aplicaciones de sputtering eficientes

Objetivo de tungsteno rotativo premium para aplicaciones de sputtering eficientes

US$ 50,00-270,00
10 Kg(MOQ)
Objetivo de sputtering de molibdeno personalizable con alta densidad para aplicaciones de recubrimiento de semiconductores y vidrio

Objetivo de sputtering de molibdeno personalizable con alta densidad para aplicaciones de recubrimiento de semiconductores y vidrio

US$ 30,00-80,00
10 Kg(MOQ)
Objetivo de molibdeno de alta pureza para sputtering magnetrón en la deposición de películas delgadas en semiconductores

Objetivo de molibdeno de alta pureza para sputtering magnetrón en la deposición de películas delgadas en semiconductores

US$ 30,00-60,00
1 Kg(MOQ)
1/4

LUOYANG MOPEI TUNGSTEN & MOLYBDENUM MATERIAL CO., LTD.

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Buena Planitud Recocido 99.95% Estribo de Molibdeno Puro para la Producción de Objetivos de Sputtering

Buena Planitud Recocido 99.95% Estribo de Molibdeno Puro para la Producción de Objetivos de Sputtering

Negociable
1 Kg(MOQ)
Objetivo de sputtering de tantalio, crisol de tantalio, proveedor de tantalio de China

Objetivo de sputtering de tantalio, crisol de tantalio, proveedor de tantalio de China

US$ 450,00-550,00
1 Kg(MOQ)
Placa de tungsteno pulido puro 99.95% en tungsteno para fabricar objetivo de sputtering

Placa de tungsteno pulido puro 99.95% en tungsteno para fabricar objetivo de sputtering

US$ 65,00-85,00
1 Kg(MOQ)
99.95% Hoja de tungsteno molibdeno y hoja brillante de tungsteno molibdeno en horno de alta temperatura

99.95% Hoja de tungsteno molibdeno y hoja brillante de tungsteno molibdeno en horno de alta temperatura

US$ 68,00
1 Kg(MOQ)
1/4

Xiamen Wintrustek Advanced Materials Co., Ltd.

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Objetivo de Sputtering de Cerámica de Hexaburó de Lantano Lab6 para Recubrimiento de Película Delgada PVD

Objetivo de Sputtering de Cerámica de Hexaburó de Lantano Lab6 para Recubrimiento de Película Delgada PVD

US$ 50,00-200,00
1 Pieza(MOQ)
Disco Cerámico de Boruro de Lantano para Objetivo de Sputtering Lab6

Disco Cerámico de Boruro de Lantano para Objetivo de Sputtering Lab6

US$ 50,00-200,00
1 Pieza(MOQ)
Disco de Cerámica de Hexaburó de Lantano Lab6 para Sputtering

Disco de Cerámica de Hexaburó de Lantano Lab6 para Sputtering

US$ 50,00-200,00
1 Pieza(MOQ)
Cerámica de Hexaboruro de Lantano de Alta Pureza Lab6 para Aplicaciones a Alta Temperatura

Cerámica de Hexaboruro de Lantano de Alta Pureza Lab6 para Aplicaciones a Alta Temperatura

US$ 50,00-200,00
1 Pieza(MOQ)
1/4

Beenine Shanke Technology Co., Ltd.

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Objetivo de Sputtering de Placa de Zinc Zn Metal para Máquina PVD

Objetivo de Sputtering de Placa de Zinc Zn Metal para Máquina PVD

US$ 50,00-100,00
1 Pieza(MOQ)
99.999% Pureza 5n Fabricación de blanco de pulverización de aluminio Al en China

99.999% Pureza 5n Fabricación de blanco de pulverización de aluminio Al en China

US$ 80,00-500,00
1 Pieza(MOQ)
Fábrica de dianas de pulverización de estibio, servicio de unión

Fábrica de dianas de pulverización de estibio, servicio de unión

US$ 180,00-250,00
1 Pieza(MOQ)
Objetivo de sputtering de aleación de titanio de Wolframio recubrimiento PVD fábrica de China

Objetivo de sputtering de aleación de titanio de Wolframio recubrimiento PVD fábrica de China

US$ 300,00-1.000,00
1 Pieza(MOQ)
1/4

Zhuzhou Hongtong Tungsten Carbide Co., Ltd.

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Varios objetivos de tungsteno carburo en diferentes formas para recubrimientos de DLC

Varios objetivos de tungsteno carburo en diferentes formas para recubrimientos de DLC

US$ 38,00-45,00
10 Kg(MOQ)
Objetivos de sputtering de carburo de tungsteno para fabricar recubrimientos de DLC

Objetivos de sputtering de carburo de tungsteno para fabricar recubrimientos de DLC

US$ 38,00-45,00
10 Kg(MOQ)
Placa de Carburo de Tungsteno con un Lado Estriado

Placa de Carburo de Tungsteno con un Lado Estriado

US$ 38,00-45,00
10 Kg(MOQ)
Placas de material de carburo de tungsteno en forma de cuadrado para punzones de forma especial

Placas de material de carburo de tungsteno en forma de cuadrado para punzones de forma especial

US$ 38,00-45,00
10 Kg(MOQ)
1/4

Qingdao Hesiway Industrial Co., Ltd.

5.0
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Polvo de cromo puro de alta pureza 99.95% metal de cromo de alta calidad para objetivos de sputtering

Polvo de cromo puro de alta pureza 99.95% metal de cromo de alta calidad para objetivos de sputtering

US$ 10,80-12,50
100 Kg(MOQ)
Polvo de Cromo de Alta Pureza 99.95% Metal Crómico Puro para Objetivos de Sputtering

Polvo de Cromo de Alta Pureza 99.95% Metal Crómico Puro para Objetivos de Sputtering

US$ 10,00-13,00
10 Kg(MOQ)
Polvo de cromo metálico para dianas de pulverización suministro de fábrica

Polvo de cromo metálico para dianas de pulverización suministro de fábrica

US$ 10,00-13,00
10 Kg(MOQ)
Polvo de cromo de alta pureza resistente al calor para objetivos de pulverización

Polvo de cromo de alta pureza resistente al calor para objetivos de pulverización

US$ 11,90-12,50
10 Kg(MOQ)
1/4

Zhuzhou Weilai New Materials Technology Co., Ltd.

8 años
·Fabricante/Fábrica & Empresa Comercial
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Repuestos de inserto de tubo de rayos X, objetivo rotativo de tomografía computarizada, objetivo de Mo por pulverización

Repuestos de inserto de tubo de rayos X, objetivo rotativo de tomografía computarizada, objetivo de Mo por pulverización

US$ 142,00-168,00
30 Piezas(MOQ)
Objetivos de ánodo rotatorio de aleación de tungsteno, aleación de renio, aleación de molibdeno

Objetivos de ánodo rotatorio de aleación de tungsteno, aleación de renio, aleación de molibdeno

US$ 142,00-168,00
30 Piezas(MOQ)
99.99% Personalización de objetivo de tungsteno, objetivo de sputtering de tungsteno

99.99% Personalización de objetivo de tungsteno, objetivo de sputtering de tungsteno

US$ 142,00-168,00
30 Piezas(MOQ)
Fabricante profesional de objetivo de pulverización de ánodo rotatorio, objetivo compuesto de molibdeno rhenio tungsteno para ánodo rotatorio

Fabricante profesional de objetivo de pulverización de ánodo rotatorio, objetivo compuesto de molibdeno rhenio tungsteno para ánodo rotatorio

US$ 142,00-168,00
30 Piezas(MOQ)
1/4

Xiamen Tmax Battery Equipments Limited

5.0
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Sistema de Sputtering Magnetrón de Múltiples Objetivos en Alto Vacío

Sistema de Sputtering Magnetrón de Múltiples Objetivos en Alto Vacío

US$ 50.000,00
1 Pieza(MOQ)
Marca TMAXCN 3n/4n/4n5 Materiales de recubrimiento PVD Wti Aleación de tungsteno y titanio Objetivo de sputtering

Marca TMAXCN 3n/4n/4n5 Materiales de recubrimiento PVD Wti Aleación de tungsteno y titanio Objetivo de sputtering

US$ 78,00-90,00
1 Pieza(MOQ)
Revestimiento de metal de hafnio/Hf de alta pureza de la marca TMAXCN, objetivo de sputtering

Revestimiento de metal de hafnio/Hf de alta pureza de la marca TMAXCN, objetivo de sputtering

US$ 78,00-90,00
1 Pieza(MOQ)
Sistema de equipo de máquina de recubrimiento por sputtering magnetrón de múltiples objetivos para deposición de películas delgadas compuestas

Sistema de equipo de máquina de recubrimiento por sputtering magnetrón de múltiples objetivos para deposición de películas delgadas compuestas

US$ 50.000,00
1 Pieza(MOQ)
1/4

Xiangtan Hondson Coating Technology Co., Ltd.

6 años
·Fabricante/Fábrica & Empresa Comercial
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5-200kw Fuente de Sputtering Típica para la Industria de Recubrimiento de Películas Delgadas Cátodo de Sputter Magnetrón Rotatorio Objetivo de Sputtering Rotatorio

5-200kw Fuente de Sputtering Típica para la Industria de Recubrimiento de Películas Delgadas Cátodo de Sputter Magnetrón Rotatorio Objetivo de Sputtering Rotatorio

US$ 6.900,00-7.000,00
2 sets(MOQ)
Objetivo de magnetrón cilíndrico para recubrimiento PVD en vacío de tubos de titanio, materiales en bruto para recubrimiento, cátodos

Objetivo de magnetrón cilíndrico para recubrimiento PVD en vacío de tubos de titanio, materiales en bruto para recubrimiento, cátodos

US$ 800,00-1.500,00
1 Pieza(MOQ)
Bloque de titanio de alta pureza personalizado, material de titanio, material de recubrimiento por ionización multi-arco, objetivo metálico

Bloque de titanio de alta pureza personalizado, material de titanio, material de recubrimiento por ionización multi-arco, objetivo metálico

US$ 500,00-1.000,00
1 Pieza(MOQ)
Sistema de recubrimiento de película delgada por magnetrón en línea al vacío para sustratos de vidrio

Sistema de recubrimiento de película delgada por magnetrón en línea al vacío para sustratos de vidrio

Negociable
1 Set(MOQ)
1/4

Lonwin Industry Group Limited

5.0
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99.95% Objetivos de Sputtering de Tantalio Puro para Recubrimiento de Películas Delgadas

99.95% Objetivos de Sputtering de Tantalio Puro para Recubrimiento de Películas Delgadas

US$ 17,00-55,00
1 Kg(MOQ)
99.99% Objetivos de Sputtering de Carburo de Hafnio Hfc

99.99% Objetivos de Sputtering de Carburo de Hafnio Hfc

US$ 17,00-55,00
1 Kg(MOQ)
Objetivo de Cerámica de Carburo de Aluminio de Alta Calidad Al4c3

Objetivo de Cerámica de Carburo de Aluminio de Alta Calidad Al4c3

US$ 17,00-55,00
1 Kg(MOQ)
99.99% Wsi2 Objetivos de Cerámica Objetivos de Disiliciuro de Tungsteno para Sputtering

99.99% Wsi2 Objetivos de Cerámica Objetivos de Disiliciuro de Tungsteno para Sputtering

US$ 17,00-55,00
1 Kg(MOQ)
1/4

Tianjin Rui Yuan Electric Material Co., Ltd.

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Ingot de Cobre Grueso de Ultra Pureza 99.9999% 77X6mm para Objetivo de Sputtering

Ingot de Cobre Grueso de Ultra Pureza 99.9999% 77X6mm para Objetivo de Sputtering

US$ 39,99
50 Kg(MOQ)
Fábrica china de alta pureza 6n cobre (Cu) 99.9999% objetivo de sputtering

Fábrica china de alta pureza 6n cobre (Cu) 99.9999% objetivo de sputtering

US$ 89,00-180,00
1.000 kilograms(MOQ)
99.9999% 6n Placas de respaldo de objetivos de sputtering de cobre de alta pureza

99.9999% 6n Placas de respaldo de objetivos de sputtering de cobre de alta pureza

US$ 335,00-350,00
100 Kg(MOQ)
C110/C10100/Tu00 5n Objetivo de Sputtering de Alta Pureza Cobre 99.999% para Recubrimiento Óptico

C110/C10100/Tu00 5n Objetivo de Sputtering de Alta Pureza Cobre 99.999% para Recubrimiento Óptico

US$ 79,99
50 Kg(MOQ)
1/4

Luoyang Bless Tungsten & Molybdenum Materials Co., Ltd.

12 años
·Empresa Comercial
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Material de alta pureza ultra molibdeno objetivos de pulverización

Material de alta pureza ultra molibdeno objetivos de pulverización

US$ 20,00-86,00
1 Pieza(MOQ)
Doblado y Pliegue de Objetivos de Sputtering de Molibdeno

Doblado y Pliegue de Objetivos de Sputtering de Molibdeno

US$ 40,00-43,00
1 Kg(MOQ)
Objetivos de sputtering de molibdeno de alta calidad

Objetivos de sputtering de molibdeno de alta calidad

US$ 66,00-77,00
1 Kg(MOQ)
Cuerpos de calor de varilla de molibdeno en hornos de alta temperatura, utilizados en blanco de pulverización

Cuerpos de calor de varilla de molibdeno en hornos de alta temperatura, utilizados en blanco de pulverización

US$ 55,00-58,00
1 Kg(MOQ)
1/1

SHAOXING TIANLONG TIN MATERIALS CO., LTD.

29 años
·Fabricante/Fábrica & Empresa Comercial
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Alambre de objetivo de pulverización de aleación de zinc y estaño de alta calidad Sn47Zn53

Alambre de objetivo de pulverización de aleación de zinc y estaño de alta calidad Sn47Zn53

US$ 16,00-19,00
100 Kg(MOQ)
Alambre de Zinc Aluminio para Pulverización Térmica Recubrimiento Protector Anticorrosión, Zn85Al15 aleación

Alambre de Zinc Aluminio para Pulverización Térmica Recubrimiento Protector Anticorrosión, Zn85Al15 aleación

US$ 4,00-5,00
100 Kg(MOQ)
Alambre de Zinc de Alta Pureza para Aplicaciones Avanzadas de Sputtering

Alambre de Zinc de Alta Pureza para Aplicaciones Avanzadas de Sputtering

US$ 4,00-5,50
100 Kg(MOQ)
Alambre de aluminio premium para aplicaciones y soluciones de recubrimiento globales

Alambre de aluminio premium para aplicaciones y soluciones de recubrimiento globales

US$ 4,00-6,00
100 Kg(MOQ)
1/4

Henan Zktherm Furnace Co., Ltd

1 años
·Empresa Comercial
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Objetivos de Sputtering de Molibdeno 99.95% Placa de Molibdeno para Proceso Industrial

Objetivos de Sputtering de Molibdeno 99.95% Placa de Molibdeno para Proceso Industrial

US$ 75,00-79,00
1 Kg(MOQ)
Mejor Precio 99.95% Precio de Placa de Molibdeno por Kg para Proceso Industrial

Mejor Precio 99.95% Precio de Placa de Molibdeno por Kg para Proceso Industrial

US$ 75,00-79,00
1 Kg(MOQ)
99.95% Hoja de tungsteno molibdeno y hoja brillante de tungsteno molibdeno en horno de alta temperatura

99.95% Hoja de tungsteno molibdeno y hoja brillante de tungsteno molibdeno en horno de alta temperatura

US$ 75,00-79,00
1 Kg(MOQ)
Fabricante de precio barato de hoja/strip/foil/barra de molibdeno para horno de alta temperatura

Fabricante de precio barato de hoja/strip/foil/barra de molibdeno para horno de alta temperatura

US$ 75,00-79,00
1 Kg(MOQ)
1/4

ATM Material Co., Ltd.

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Objetivo de pulverización

Objetivo de pulverización

US$ 0,10-100,00
1.000 Piezas(MOQ)
Tubo de tungsteno de alta calidad

Tubo de tungsteno de alta calidad

US$ 0,10-100,00
1.000 Piezas(MOQ)
Objetivo de Cr con alta calidad

Objetivo de Cr con alta calidad

US$ 0,10-100,00
1.000 Piezas(MOQ)
Calentador de tungsteno de alta calidad

Calentador de tungsteno de alta calidad

US$ 1,00-100,00
10 Piezas(MOQ)
1/4

Shandong Quansheng Material Technology Group Co., LTD

3 años
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Objetivos de tungsteno premium para procesos de recubrimiento al vacío

Objetivos de tungsteno premium para procesos de recubrimiento al vacío

US$ 56,00-61,00
5 Kg(MOQ)
Placa de Molibdeno Premium - 99.95% Opciones de Alta Pureza

Placa de Molibdeno Premium - 99.95% Opciones de Alta Pureza

US$ 78,00-88,00
100 Kg(MOQ)
Tubería de aleación de tantalio de precisión Ta para aplicaciones médicas y aeroespaciales

Tubería de aleación de tantalio de precisión Ta para aplicaciones médicas y aeroespaciales

US$ 350,00-510,00
1 Kg(MOQ)
Tubo de Niobio Directo de Fábrica Nb1nb2 Resistente a la Corrosión Transporte Químico Personalizable

Tubo de Niobio Directo de Fábrica Nb1nb2 Resistente a la Corrosión Transporte Químico Personalizable

US$ 300,00-450,00
1 Kg(MOQ)
1/4
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