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sobre sno2 objetivo
  • Innovación tecnológica
  • Cadenas de suministro confiables
  • Capacidades de fabricación sustanciales

sno2 objetivo10+ fábricas verificadas

Changsha Xinkang Advanced Materials Co., Ltd.

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Objetivo Cerámico 99.99% Objetivo de Sputtering de Óxido Estannico Sno2 Objetivo de Sputtering de Óxido de Estaño

Objetivo Cerámico 99.99% Objetivo de Sputtering de Óxido Estannico Sno2 Objetivo de Sputtering de Óxido de Estaño

US$ 100,00-1.000,00
1 Pieza(MOQ)
99.99% Sno2 Objetivo de Sputtering para Deposición de Películas Delgadas

99.99% Sno2 Objetivo de Sputtering para Deposición de Películas Delgadas

US$ 110,00-500,00
1 Pieza(MOQ)
Objetivo de Sputtering ITO In2o3/Sno2 80/20 Wt% Objetivo de Sputtering para recubrimiento PVD

Objetivo de Sputtering ITO In2o3/Sno2 80/20 Wt% Objetivo de Sputtering para recubrimiento PVD

US$ 100,00-1.000,00
1 Pieza(MOQ)
99.99% Objetivo de Sputtering In2o3/Sno2 90/10wt% Objetivo para Sputtering

99.99% Objetivo de Sputtering In2o3/Sno2 90/10wt% Objetivo para Sputtering

US$ 100,00-1.000,00
1 Pieza(MOQ)
1/4

CHANGSHA EASCHEM CO., LIMITED

5 años
·Empresa Comercial
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Precio de fábrica Vender alta calidad objetivo de sputtering ITO 4n In2o3 y Sno2

Precio de fábrica Vender alta calidad objetivo de sputtering ITO 4n In2o3 y Sno2

Negociable
1 Piece(MOQ)
Precio de fábrica Vender bajo densidad 4n objetivo redondo pequeño ITO

Precio de fábrica Vender bajo densidad 4n objetivo redondo pequeño ITO

Negociable
1 Piece(MOQ)
Precio de fábrica Vender alta pureza objetivo ITO para Rpd 4n

Precio de fábrica Vender alta pureza objetivo ITO para Rpd 4n

Negociable
1 Piece(MOQ)
Objetivo de metal ITO de alta pureza 4n óxido de indio y óxido de estaño In2o3 y Sno2

Objetivo de metal ITO de alta pureza 4n óxido de indio y óxido de estaño In2o3 y Sno2

Negociable
1 Piece(MOQ)
1/4

SUZHOU TECHNO-TEC PHOTOELECTRIC MATERIALS CO., LTD

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SnO2 Objetivo de óxido de estaño cerámico para semiconductores

SnO2 Objetivo de óxido de estaño cerámico para semiconductores

US$ 100,00
1 Kg(MOQ)
1/4

Rheniumet Ltd.

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Objetivo ITO para LCD, PDP, OLED, objetivo compuesto de estaño, indio y oxígeno

Objetivo ITO para LCD, PDP, OLED, objetivo compuesto de estaño, indio y oxígeno

Negociable
1 Pieza(MOQ)
1/4

Jiangxi CNP New Chemical Materials Co., Ltd.

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Óxido de estaño (SnO2) Material de evaporación en forma de pellet 1-10mm Pureza 99.99% Objetivo de pulverización

Óxido de estaño (SnO2) Material de evaporación en forma de pellet 1-10mm Pureza 99.99% Objetivo de pulverización

US$ 200,00
1 Kg(MOQ)
1/4

UV Tech Material Co., Ltd.

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Rotary el objetivo, ITO Planar magnetrón Sputtering meta, en2o3: Destino Sno2, 90:10 ITO, Ito, 5 de 95: 97: 3 ITO

Rotary el objetivo, ITO Planar magnetrón Sputtering meta, en2o3: Destino Sno2, 90:10 ITO, Ito, 5 de 95: 97: 3 ITO

Negociable
10 Kg(MOQ)
Heterojunction destino ITO, Ito de Alta Pureza Sputtering meta para Heterojunction, 97: 3 Hjt ITO blanco

Heterojunction destino ITO, Ito de Alta Pureza Sputtering meta para Heterojunction, 97: 3 Hjt ITO blanco

Negociable
1 Pieza(MOQ)
El 99,99% Puro de2o3: Destino Sno2, Planar ITO Proveedor de destino para el recubrimiento PVD, ITO Precio

El 99,99% Puro de2o3: Destino Sno2, Planar ITO Proveedor de destino para el recubrimiento PVD, ITO Precio

Negociable
10 Kg(MOQ)
En trióxido de óxido de indio2o3 en polvo, de alta pureza del 99,99% de polvo de trióxido de indio, en2o3 Precio de polvo de óxido de indio

En trióxido de óxido de indio2o3 en polvo, de alta pureza del 99,99% de polvo de trióxido de indio, en2o3 Precio de polvo de óxido de indio

Negociable
50 Kg(MOQ)

Enam Optoelectronic Material Co., Ltd

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ATO, Destino, ventana de infrarrojos Film ATO, el antimonio de óxido de estaño blanco

ATO, Destino, ventana de infrarrojos Film ATO, el antimonio de óxido de estaño blanco

Negociable
1 Pieza(MOQ)
Objetivo de ITO, OLED / LED / Tp destino ITO, Ito de semiconductores LED Slug

Objetivo de ITO, OLED / LED / Tp destino ITO, Ito de semiconductores LED Slug

Negociable
1 Pieza(MOQ)
ITO en polvo, óxido de estaño indio, ITO polvo amarillo azul

ITO en polvo, óxido de estaño indio, ITO polvo amarillo azul

Negociable
1 Kg(MOQ)
Tablet óptico de precisión de ITO, ITO la evaporación, la tableta de óxido Indium-Tin

Tablet óptico de precisión de ITO, ITO la evaporación, la tableta de óxido Indium-Tin

Negociable
1 Kg(MOQ)

FUJIAN ACETRON NEW MATERIALS CO., LTD.

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ACETRON 4N 99.99% Objetivo de sputtering ITO para recubrimiento de película conductora

ACETRON 4N 99.99% Objetivo de sputtering ITO para recubrimiento de película conductora

US$ 99,00-9.999,00
1 Pieza(MOQ)
ACETRON 4N 99.99% Objetivo de ITO de alta pureza para recubrimiento PVD

ACETRON 4N 99.99% Objetivo de ITO de alta pureza para recubrimiento PVD

US$ 99,00-99.999,00
1 Pieza(MOQ)
ACETRON 4N 99.99% Óxido de Indio y Estaño de Alta Pureza ITO para Recubrimiento por Vacío/PVD

ACETRON 4N 99.99% Óxido de Indio y Estaño de Alta Pureza ITO para Recubrimiento por Vacío/PVD

US$ 700,00-900,00
1 Kg(MOQ)
ACETRON 4N 99.99% Objetivo de Sputtering ITO para recubrimiento conductor LCD/LED/OLED

ACETRON 4N 99.99% Objetivo de Sputtering ITO para recubrimiento conductor LCD/LED/OLED

US$ 99,00-99.999,00
1 Pieza(MOQ)

Lonwin Industry Group Limited

5.0
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Objetivo de Sputtering de Óxido de Indio y Estaño (ITO) de Alta Pureza 99.99% para Recubrimiento PVD

Objetivo de Sputtering de Óxido de Indio y Estaño (ITO) de Alta Pureza 99.99% para Recubrimiento PVD

US$ 17,00-55,00
1 Kg(MOQ)
Objetivo de cerámica Zto de óxido de zinc y estaño para recubrimiento de película delgada

Objetivo de cerámica Zto de óxido de zinc y estaño para recubrimiento de película delgada

US$ 17,00-55,00
1 Kg(MOQ)
1/4

Beijing Loyaltarget Technology Co, Limited

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De ITO Target / In2O3: SnO2 = 90: 10% en peso / de ITO planar Blanco de sputtering

De ITO Target / In2O3: SnO2 = 90: 10% en peso / de ITO planar Blanco de sputtering

Negociable
1 Pieza(MOQ)

Zhengzhou CY Scientific Instrument Co., Ltd.

13 años
·Fabricante/Fábrica & Empresa Comercial
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Nuevos Productos Coater de Sputtering de Plasma Magnetrón de Dos Cabezas para Sno2 Película

Nuevos Productos Coater de Sputtering de Plasma Magnetrón de Dos Cabezas para Sno2 Película

US$ 28.500,00-40.500,00
1 Pieza(MOQ)
1/4

Guangdong Huicheng Vacuum Technology Co., Ltd.

20 años
·Fabricante/Fábrica & Empresa Comercial
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Máquina de metalización al vacío PVD para película de aleación en rollo a rollo para PET BOPP CPP PVC papel

Máquina de metalización al vacío PVD para película de aleación en rollo a rollo para PET BOPP CPP PVC papel

US$ 150.000,00-500.000,00
1 Set(MOQ)
1/4

Beenine Shanke Technology Co., Ltd.

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SnO2-In2o3 ITO óxido de estaño de Indio Tamaño personalizado China

SnO2-In2o3 ITO óxido de estaño de Indio Tamaño personalizado China

US$ 750,00-900,00
1 Kg(MOQ)
Grado óptico Indio óxido de estaño granulado ITO SnO2: In2o3 90: 10wt%

Grado óptico Indio óxido de estaño granulado ITO SnO2: In2o3 90: 10wt%

US$ 750,00-900,00
1 Kg(MOQ)
Precio de fábrica Venta Alta calidad ITO Rotary esputtering objetivo 4n In2o3 SnO2

Precio de fábrica Venta Alta calidad ITO Rotary esputtering objetivo 4n In2o3 SnO2

US$ 300,00
1 Pieza(MOQ)
ITO In2o3 SnO2 fábrica de destino de espumación tubular China

ITO In2o3 SnO2 fábrica de destino de espumación tubular China

US$ 300,00
1 Pieza(MOQ)

Shenzhen Canyuan Metal Material Co., Ltd.

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99.99% Objetivo de Sputtering ITO In2o3/Sno2 90/10wt% Objetivos de Sputtering Planar

99.99% Objetivo de Sputtering ITO In2o3/Sno2 90/10wt% Objetivos de Sputtering Planar

US$ 200,00-10.000,00
1 Pieza(MOQ)
4n Objetivo ATO Sno2: Sb2o3 Objetivos rotativos Objetivos planos

4n Objetivo ATO Sno2: Sb2o3 Objetivos rotativos Objetivos planos

US$ 200,00-10.000,00
1 Pieza(MOQ)
SnO2 90% ITO espumante objetivo In2o3/10wt/99,99% Ceramic objetivo para espumante

SnO2 90% ITO espumante objetivo In2o3/10wt/99,99% Ceramic objetivo para espumante

US$ 200,00-10.000,00
1 Pieza(MOQ)

Zhongzheng Yejin Technology Co., Ltd.

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Tamaño grande 99,99% de ito de óxido de estaño indio Objetivo Objetivo giratorio y el pegado

Tamaño grande 99,99% de ito de óxido de estaño indio Objetivo Objetivo giratorio y el pegado

Negociable
1 Pieza(MOQ)
La pureza del Indio, óxido de estaño de Sputtering meta el 99,99% de cerámica de 4n objetivo ITO

La pureza del Indio, óxido de estaño de Sputtering meta el 99,99% de cerámica de 4n objetivo ITO

Negociable
1 Pieza(MOQ)
1/2

Jiangyin Entret Coating Technology Co., Ltd.

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ITO/Cu Sputtering meta, en2o3/Sno2 (90/10wt%) Objetivo de alta calidad para el revestimiento

ITO/Cu Sputtering meta, en2o3/Sno2 (90/10wt%) Objetivo de alta calidad para el revestimiento

US$ 10,00
1 Pieza(MOQ)
El 99,99% de pureza para ITO/Cu Sputtering meta, en2o3/Sno2 (90/10wt%) Objetivo de alta calidad

El 99,99% de pureza para ITO/Cu Sputtering meta, en2o3/Sno2 (90/10wt%) Objetivo de alta calidad

US$ 10,00
1 Pieza(MOQ)

Shenzhen Cerametek Materials Co., Ltd.

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Óxido de estaño

Óxido de estaño

US$ 1,00-100,00
1 Kg(MOQ)
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