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sobre sno2 objetivo
  • Innovación tecnológica
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sno2 objetivo10+ fábricas verificadas

Changsha Xinkang Advanced Materials Co., Ltd.

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Objetivo de Sputtering ITO In2o3/Sno2 80/20 Wt% Objetivo de Sputtering para recubrimiento PVD

Objetivo de Sputtering ITO In2o3/Sno2 80/20 Wt% Objetivo de Sputtering para recubrimiento PVD

US$ 100,00-1.000,00
1 Pieza(MOQ)
99.95% Puro In2o3: Sno2 Fabricante de Objetivos ITO de Sputtering con el Mejor Precio

99.95% Puro In2o3: Sno2 Fabricante de Objetivos ITO de Sputtering con el Mejor Precio

US$ 90,00-999,00
1 Pieza(MOQ)
Objetivo de sputtering de placa de tungsteno para recubrimiento PVD

Objetivo de sputtering de placa de tungsteno para recubrimiento PVD

US$ 100,00-600,00
1 Pieza(MOQ)
Alta Pureza In2o3/Sno2 Objetivo Cerámico

Alta Pureza In2o3/Sno2 Objetivo Cerámico

US$ 35,00-150,00
1 Pieza(MOQ)
1/4

CHANGSHA EASCHEM CO., LIMITED

5 años
·Empresa Comercial
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Precio de fábrica Vender alta calidad objetivo de sputtering ITO 4n In2o3 y Sno2

Precio de fábrica Vender alta calidad objetivo de sputtering ITO 4n In2o3 y Sno2

Negociable
1 Piece(MOQ)
Precio de fábrica Vender alta pureza objetivo ITO para Rpd 4n

Precio de fábrica Vender alta pureza objetivo ITO para Rpd 4n

Negociable
1 Piece(MOQ)
Precio de fábrica Vender bajo densidad 4n objetivo redondo pequeño ITO

Precio de fábrica Vender bajo densidad 4n objetivo redondo pequeño ITO

Negociable
1 Piece(MOQ)
Objetivo de metal ITO de alta pureza 4n óxido de indio y óxido de estaño In2o3 y Sno2

Objetivo de metal ITO de alta pureza 4n óxido de indio y óxido de estaño In2o3 y Sno2

Negociable
1 Piece(MOQ)
1/4

SUZHOU TECHNO-TEC PHOTOELECTRIC MATERIALS CO., LTD

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SnO2 Objetivo de óxido de estaño cerámico para semiconductores

SnO2 Objetivo de óxido de estaño cerámico para semiconductores

US$ 100,00
1 Kg(MOQ)
1/4

Rheniumet Ltd.

17 años
·Empresa Comercial
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Objetivo ITO para LCD, PDP, OLED, objetivo compuesto de estaño, indio y oxígeno

Objetivo ITO para LCD, PDP, OLED, objetivo compuesto de estaño, indio y oxígeno

Negociable
1 Pieza(MOQ)
1/4

Jiangxi CNP New Chemical Materials Co., Ltd.

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Óxido de estaño (SnO2) Material de evaporación en forma de pellet 1-10mm Pureza 99.99% Objetivo de pulverización

Óxido de estaño (SnO2) Material de evaporación en forma de pellet 1-10mm Pureza 99.99% Objetivo de pulverización

US$ 200,00
1 Kg(MOQ)
1/4

UV Tech Material Co., Ltd.

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Rotary el objetivo, ITO Planar magnetrón Sputtering meta, en2o3: Destino Sno2, 90:10 ITO, Ito, 5 de 95: 97: 3 ITO

Rotary el objetivo, ITO Planar magnetrón Sputtering meta, en2o3: Destino Sno2, 90:10 ITO, Ito, 5 de 95: 97: 3 ITO

Negociable
10 Kg(MOQ)
Heterojunction destino ITO, Ito de Alta Pureza Sputtering meta para Heterojunction, 97: 3 Hjt ITO blanco

Heterojunction destino ITO, Ito de Alta Pureza Sputtering meta para Heterojunction, 97: 3 Hjt ITO blanco

Negociable
1 Pieza(MOQ)
97: 3 de ITO giratorio de alta pureza blanco de Sputtering meta

97: 3 de ITO giratorio de alta pureza blanco de Sputtering meta

Negociable
2 Piezas(MOQ)
95: 5 de ITO giratorio de alta pureza destino Sputtering Meta, el precio objetivo de ITO

95: 5 de ITO giratorio de alta pureza destino Sputtering Meta, el precio objetivo de ITO

Negociable
2 Piezas(MOQ)

Enam Optoelectronic Material Co., Ltd

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ATO, Destino, ventana de infrarrojos Film ATO, el antimonio de óxido de estaño blanco

ATO, Destino, ventana de infrarrojos Film ATO, el antimonio de óxido de estaño blanco

Negociable
1 Pieza(MOQ)
Objetivo de ITO, OLED / LED / Tp destino ITO, Ito de semiconductores LED Slug

Objetivo de ITO, OLED / LED / Tp destino ITO, Ito de semiconductores LED Slug

Negociable
1 Pieza(MOQ)
Tablet óptico de precisión de ITO, ITO la evaporación, la tableta de óxido Indium-Tin

Tablet óptico de precisión de ITO, ITO la evaporación, la tableta de óxido Indium-Tin

Negociable
1 Kg(MOQ)
ITO en polvo, óxido de estaño indio, ITO polvo amarillo azul

ITO en polvo, óxido de estaño indio, ITO polvo amarillo azul

Negociable
1 Kg(MOQ)

FUJIAN ACETRON NEW MATERIALS CO., LTD.

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ACETRON 4N 99.99% Objetivo de sputtering ITO para recubrimiento de película conductora

ACETRON 4N 99.99% Objetivo de sputtering ITO para recubrimiento de película conductora

US$ 99,00-9.999,00
1 Pieza(MOQ)
ACETRON 4N 99.99% Objetivo de ITO de alta pureza para recubrimiento PVD

ACETRON 4N 99.99% Objetivo de ITO de alta pureza para recubrimiento PVD

US$ 99,00-99.999,00
1 Pieza(MOQ)
ACETRON 4N 99.99% Objetivo de Sputtering Planar de Óxido de Indio y Estaño ITO para recubrimiento conductor de LCD/LED/OLED

ACETRON 4N 99.99% Objetivo de Sputtering Planar de Óxido de Indio y Estaño ITO para recubrimiento conductor de LCD/LED/OLED

US$ 99,00-99.999,00
1 Pieza(MOQ)
ACETRON 4N 99.99% Blanco de Sputtering ITO de Alta Pureza para Recubrimiento en Vacío/PVD

ACETRON 4N 99.99% Blanco de Sputtering ITO de Alta Pureza para Recubrimiento en Vacío/PVD

US$ 99,00-99.999,00
1 Pieza(MOQ)

Lonwin Industry Group Limited

5.0
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Objetivo de Sputtering de Óxido de Indio y Estaño (ITO) de Alta Pureza 99.99% para Recubrimiento PVD

Objetivo de Sputtering de Óxido de Indio y Estaño (ITO) de Alta Pureza 99.99% para Recubrimiento PVD

US$ 17,00-55,00
1 Kg(MOQ)
Objetivo de cerámica Zto de óxido de zinc y estaño para recubrimiento de película delgada

Objetivo de cerámica Zto de óxido de zinc y estaño para recubrimiento de película delgada

US$ 17,00-55,00
1 Kg(MOQ)
1/4

Beijing Loyaltarget Technology Co, Limited

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De ITO Target / In2O3: SnO2 = 90: 10% en peso / de ITO planar Blanco de sputtering

De ITO Target / In2O3: SnO2 = 90: 10% en peso / de ITO planar Blanco de sputtering

Negociable
1 Pieza(MOQ)

Zhengzhou CY Scientific Instrument Co., Ltd.

13 años
·Fabricante/Fábrica & Empresa Comercial
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Nuevos Productos Coater de Sputtering de Plasma Magnetrón de Dos Cabezas para Sno2 Película

Nuevos Productos Coater de Sputtering de Plasma Magnetrón de Dos Cabezas para Sno2 Película

US$ 28.500,00-40.500,00
1 Pieza(MOQ)
1/4

Guangdong Huicheng Vacuum Technology Co., Ltd.

20 años
·Fabricante/Fábrica & Empresa Comercial
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Máquina de metalización al vacío PVD para película de aleación en rollo a rollo para PET BOPP CPP PVC papel

Máquina de metalización al vacío PVD para película de aleación en rollo a rollo para PET BOPP CPP PVC papel

US$ 150.000,00-500.000,00
1 Set(MOQ)
1/4

Beenine Shanke Technology Co., Ltd.

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SnO2-In2o3 ITO óxido de estaño de Indio Tamaño personalizado China

SnO2-In2o3 ITO óxido de estaño de Indio Tamaño personalizado China

US$ 750,00-900,00
1 Kg(MOQ)
Grado óptico Indio óxido de estaño granulado ITO SnO2: In2o3 90: 10wt%

Grado óptico Indio óxido de estaño granulado ITO SnO2: In2o3 90: 10wt%

US$ 750,00-900,00
1 Kg(MOQ)
SUS tubo de apoyo ITO In2o3 SnO2 espumación de óxido de estaño de Indium Rotatoria objetivo

SUS tubo de apoyo ITO In2o3 SnO2 espumación de óxido de estaño de Indium Rotatoria objetivo

US$ 300,00
1 Pieza(MOQ)
Precio de fábrica Venta Alta calidad ITO Rotary esputtering objetivo 4n In2o3 SnO2

Precio de fábrica Venta Alta calidad ITO Rotary esputtering objetivo 4n In2o3 SnO2

US$ 300,00
1 Pieza(MOQ)

Shenzhen Canyuan Metal Material Co., Ltd.

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4n Objetivo ATO Sno2: Sb2o3 Objetivos rotativos Objetivos planos

4n Objetivo ATO Sno2: Sb2o3 Objetivos rotativos Objetivos planos

US$ 200,00-10.000,00
1 Pieza(MOQ)
99.99% Objetivo de Sputtering ITO In2o3/Sno2 90/10wt% Objetivos de Sputtering Planar

99.99% Objetivo de Sputtering ITO In2o3/Sno2 90/10wt% Objetivos de Sputtering Planar

US$ 200,00-10.000,00
1 Pieza(MOQ)
SnO2 90% ITO espumante objetivo In2o3/10wt/99,99% Ceramic objetivo para espumante

SnO2 90% ITO espumante objetivo In2o3/10wt/99,99% Ceramic objetivo para espumante

US$ 200,00-10.000,00
1 Pieza(MOQ)

Zhongzheng Yejin Technology Co., Ltd.

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Tamaño grande 99,99% de ito de óxido de estaño indio Objetivo Objetivo giratorio y el pegado

Tamaño grande 99,99% de ito de óxido de estaño indio Objetivo Objetivo giratorio y el pegado

Negociable
1 Pieza(MOQ)
La pureza del Indio, óxido de estaño de Sputtering meta el 99,99% de cerámica de 4n objetivo ITO

La pureza del Indio, óxido de estaño de Sputtering meta el 99,99% de cerámica de 4n objetivo ITO

Negociable
1 Pieza(MOQ)
1/2

Jiangyin Entret Coating Technology Co., Ltd.

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ITO/Cu Sputtering meta, en2o3/Sno2 (90/10wt%) Objetivo de alta calidad para el revestimiento

ITO/Cu Sputtering meta, en2o3/Sno2 (90/10wt%) Objetivo de alta calidad para el revestimiento

US$ 10,00
1 Pieza(MOQ)
El 99,99% de pureza para ITO/Cu Sputtering meta, en2o3/Sno2 (90/10wt%) Objetivo de alta calidad

El 99,99% de pureza para ITO/Cu Sputtering meta, en2o3/Sno2 (90/10wt%) Objetivo de alta calidad

US$ 10,00
1 Pieza(MOQ)

Shenzhen Cerametek Materials Co., Ltd.

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Óxido de estaño

Óxido de estaño

US$ 1,00-100,00
1 Kg(MOQ)
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