SnO2 90% ITO objetivo de espumación In2o3/10wt/99,99% objetivos de espumación planar

• Application: Industrial
• fórmula: In2o3/Sno2
• clasificación: Ceranic Traget
• estándar de grado: grado industrial
• certificación: iso
• forma: Rotary,Flat,Round
• No. de Modelo.: CYT-ITO
• Paquete de Transporte: Wooden Box
• Especificación: Customized Size
• Marca Comercial: CANYUAN
• Origen: China
• Capacidad de Producción: 1000PCS

Descripción de Producto

EL objetivo DE ITO es un material cerámico de óxido de estaño de indio funcional, que se utiliza para la deposición de películas finas conductoras transparentes ITO con espumación de magnetrón. Se produce mediante el uso del proceso cerámico clásico a presión ambiental, en forma de segmentos de tubo/planos que se unen en el objetivo ITO.

Especificación de objetivos
Aplicación	Materiales de pulverización PVD
Material	ITO (In2O3:SnO2 =90:10)
Pureza	4N
Tamaño	personalizado
Grosor	personalizado
Forma	Objetivo de pulverización giratoria, Tipo de anillo, Tipo de hoja, Tipo de plat y Tipo de tubo
Densidad	≥7,13g/cm3
Densidad relativa (%)	≥99,5
Método de producción	sinterizado

Nuestra ventaja

Proceso de operación

Imagen de embalaje

Aplicación:

Producto relacionado

Material	Pureza N)	Componentes (peso %)	Densidad	Fusión  Punto	Térmica Conductividad (WM-1K-1)	Coeficiente de  expansión (10-6k-1)	Producción  Proceso
Aleación al	5N	-	2,7	660	235	23,1	Fundición
CR	3N5	-	7,22	1907	94	4,9	CADERA
Cu	4N	-	8,9	1084	400	16,5	Fundición
Aleación MO	3N5	-	10,28	2623	139	4,8	CADERA
N.	4N	-	8,6	2477	54	7,3	Fundición
Ta	4N	-	16,7	3017	57	6,3	Fundición
Si	4N	-	2,33	1414	150	2,6	Sintering&Spray
TI	5N	-	4,5	1670	22	8,6	Fundición
W	4N	-	19,25	3422	174	4,5	CADERA
AZO	3N5	98:2	5,6	1975	22	1,5	Sintering
ITO	4N	90:10	7,15	2000	15	2,0	Sintering
GZO	3N5	COMO SE SOLICITA	7,15	-	-	-	Sintering
IGZO	4N	COMO SE SOLICITA	-	-	-	-	Sintering
NbOx	4N	-	4,6	1460	5	1,5	Sintering&Spray
TIOx	4N	-	4,23	1800	4	7,14	Sintering&Spray