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sobre objetivo de pulverización de plato
  • Innovación tecnológica
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  • Capacidades de fabricación sustanciales

objetivo de pulverización de plato100+ fábricas verificadas

Changsha Xinkang Advanced Materials Co., Ltd.

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Objetivo de Sputtering de Tungsteno Titanio de Alta Pureza Wti 90/10 para Recubrimientos Avanzados

Objetivo de Sputtering de Tungsteno Titanio de Alta Pureza Wti 90/10 para Recubrimientos Avanzados

US$ 100,00-2.000,00
1 Pieza(MOQ)
Placa de aleación de cromo y cobalto para objetivo de sputtering para recubrimiento PVD

Placa de aleación de cromo y cobalto para objetivo de sputtering para recubrimiento PVD

US$ 140,00-2.000,00
1 Pieza(MOQ)
Objetivo PVD 5n 6n Objetivo de Sputtering de Aluminio Placa de Aluminio para Recubrimiento Magnetrón

Objetivo PVD 5n 6n Objetivo de Sputtering de Aluminio Placa de Aluminio para Recubrimiento Magnetrón

US$ 20,00-1.000,00
1 Pieza(MOQ)
Personalizar objetivo de estaño metálico 99.99% objetivos de pulverización de estaño puro con unión de placa de cobre

Personalizar objetivo de estaño metálico 99.99% objetivos de pulverización de estaño puro con unión de placa de cobre

US$ 30,00-1.000,00
1 pieces(MOQ)
1/4

Beenine Shanke Technology Co., Ltd.

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Objetivo de Sputtering de Placa Estaño Sn Metal para Máquina PVD

Objetivo de Sputtering de Placa Estaño Sn Metal para Máquina PVD

US$ 60,00-100,00
1 Pieza(MOQ)
Objetivo de Sputtering de Plomo Pb Metal para Máquina PVD

Objetivo de Sputtering de Plomo Pb Metal para Máquina PVD

US$ 80,00-150,00
1 Pieza(MOQ)
Objetivo de sputtering de molibdeno de alta calidad unión Mo

Objetivo de sputtering de molibdeno de alta calidad unión Mo

US$ 80,00-500,00
1 Kg(MOQ)
Valor Precio Fábrica de Objetivo de Sputtering Tubular Planar de Molibdeno de Alta Pureza

Valor Precio Fábrica de Objetivo de Sputtering Tubular Planar de Molibdeno de Alta Pureza

US$ 80,00-500,00
1 Kg(MOQ)
1/4

Rheniumet Ltd.

17 años
·Empresa Comercial
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99.99. % Placa de tungsteno Wolfram Tungsteno para pulverización al vacío al mejor precio

99.99. % Placa de tungsteno Wolfram Tungsteno para pulverización al vacío al mejor precio

Negociable
1 Pieza(MOQ)
Más objetivo, placa de aleación de molibdeno y renio, más fabricante de objetivos de pulverización

Más objetivo, placa de aleación de molibdeno y renio, más fabricante de objetivos de pulverización

Negociable
1 Kg(MOQ)
99.99% -99.9999% Placa de Sputtering de Titanio Ti Objetivo de Titanio para Recubrimiento al Vacío

99.99% -99.9999% Placa de Sputtering de Titanio Ti Objetivo de Titanio para Recubrimiento al Vacío

US$ 100,00-200,00
10 Piezas(MOQ)
Venta Caliente de Objetivo de Molibdeno Puro 99.95%, Objetivo de Metal Mo para Sputtering

Venta Caliente de Objetivo de Molibdeno Puro 99.95%, Objetivo de Metal Mo para Sputtering

US$ 100,00-1.000,00
1 Pieza(MOQ)
1/4

Luoyang Modi Tungsten & Molybdenum Material Co., Ltd.

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Ta-Mo Alloy Plate Tantalum Molybdenum Sputtering Target

Ta-Mo Alloy Plate Tantalum Molybdenum Sputtering Target

US$ 57,00-72,00
1 Kg(MOQ)
Molybdenum Thick Plate Molybdenum Ingot Molybdenum Sputtering Target

Molybdenum Thick Plate Molybdenum Ingot Molybdenum Sputtering Target

US$ 57,00-72,00
1 Kg(MOQ)
Tzm Molybdenum Alloy Plate Sputtering Targets Price

Tzm Molybdenum Alloy Plate Sputtering Targets Price

US$ 75,00-95,00
1 Kg(MOQ)
99.95% Mo1 Molybdenum Round Sputtering Target From Luoyang Factory

99.95% Mo1 Molybdenum Round Sputtering Target From Luoyang Factory

US$ 57,00-72,00
1 Kg(MOQ)
1/4

Shanghai Tankii Alloy Material Co., Ltd.

5.0
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Tipo de recubrimiento PVD más popular, uso de objetivo de sputtering de cromo tipo placa

Tipo de recubrimiento PVD más popular, uso de objetivo de sputtering de cromo tipo placa

US$ 60,00-150,00
1 Pieza(MOQ)
Precio de fábrica 99.999% objetivo de sputtering de cromo

Precio de fábrica 99.999% objetivo de sputtering de cromo

US$ 60,00-150,00
1 Pieza(MOQ)
Alta Pureza 99.99% TANKII Metal Cromo Objetivos de Sputtering

Alta Pureza 99.99% TANKII Metal Cromo Objetivos de Sputtering

US$ 60,00-150,00
1 Pieza(MOQ)
Venta directa de fábrica de objetivo de sputtering de cromo utilizado para preparar películas delgadas de galgas de deformación resistivas

Venta directa de fábrica de objetivo de sputtering de cromo utilizado para preparar películas delgadas de galgas de deformación resistivas

US$ 60,00-150,00
1 Pieza(MOQ)
1/4

Zhengzhou Shibo Nonferrous Metals Products Co., Ltd.

21 años·5.0
·Fabricante/Fábrica & Empresa Comercial
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Placa Redonda de Molibdeno de Alta Pureza Mo1 para Sputtering

Placa Redonda de Molibdeno de Alta Pureza Mo1 para Sputtering

US$ 40,00-88,00
1 kg(MOQ)
Placa de molibdeno de alta calidad

Placa de molibdeno de alta calidad

US$ 40,00-88,00
1 kg(MOQ)
Molibdeno material objetivo mejor Precio Mo Tagret

Molibdeno material objetivo mejor Precio Mo Tagret

US$ 40,00-88,00
1 kg(MOQ)
Mo1 Precio del objetivo de molibdeno para sputtering

Mo1 Precio del objetivo de molibdeno para sputtering

US$ 40,00-88,00
1 kg(MOQ)
1/2

Luoyang Bless Tungsten & Molybdenum Materials Co., Ltd.

12 años
·Empresa Comercial
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Material de alta pureza ultra molibdeno objetivos de pulverización

Material de alta pureza ultra molibdeno objetivos de pulverización

US$ 20,00-86,00
1 Pieza(MOQ)
Doblado y Pliegue de Objetivos de Sputtering de Molibdeno

Doblado y Pliegue de Objetivos de Sputtering de Molibdeno

US$ 40,00-43,00
1 Kg(MOQ)
Objetivos de sputtering de molibdeno para ensamblaje complejo

Objetivos de sputtering de molibdeno para ensamblaje complejo

US$ 40,00-43,00
1 Kg(MOQ)
Objetivos de sputtering de molibdeno de alta calidad

Objetivos de sputtering de molibdeno de alta calidad

US$ 66,00-77,00
1 Kg(MOQ)
1/1

Baoji Taizehui Metal Technology Co., Ltd.

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Objetivo de Sputtering de Circonio 705 para Soluciones Metálicas Personalizadas de Alta Calidad

Objetivo de Sputtering de Circonio 705 para Soluciones Metálicas Personalizadas de Alta Calidad

Negociable
10 Kg(MOQ)
Objetivo de Sputtering de Zirconio de Alta Calidad 705 para Soluciones Personalizadas Hoy

Objetivo de Sputtering de Zirconio de Alta Calidad 705 para Soluciones Personalizadas Hoy

Negociable
10 Kg(MOQ)
Material de objetivo de pulverización para recubrimiento al vacío, objetivo curvado, proceso de alta pureza, placa de hafnio

Material de objetivo de pulverización para recubrimiento al vacío, objetivo curvado, proceso de alta pureza, placa de hafnio

Negociable
2 Kg(MOQ)
Placa de objetivo de sputtering de metal hafnio de resistencia al desgaste fuerte y multifuncional al por mayor

Placa de objetivo de sputtering de metal hafnio de resistencia al desgaste fuerte y multifuncional al por mayor

Negociable
10 Kg(MOQ)
1/4

Xiangtan Hondson Coating Technology Co., Ltd.

6 años
·Fabricante/Fábrica & Empresa Comercial
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Bloque de titanio de alta pureza personalizado, material de titanio, material de recubrimiento por ionización multi-arco, objetivo metálico

Bloque de titanio de alta pureza personalizado, material de titanio, material de recubrimiento por ionización multi-arco, objetivo metálico

US$ 500,00-1.000,00
1 Pieza(MOQ)
Objetivo de magnetrón cilíndrico para recubrimiento PVD en vacío de tubos de titanio, materiales en bruto para recubrimiento, cátodos

Objetivo de magnetrón cilíndrico para recubrimiento PVD en vacío de tubos de titanio, materiales en bruto para recubrimiento, cátodos

US$ 800,00-1.500,00
1 Pieza(MOQ)
5-200kw Fuente de Sputtering Típica para la Industria de Recubrimiento de Películas Delgadas Cátodo de Sputter Magnetrón Rotatorio Objetivo de Sputtering Rotatorio

5-200kw Fuente de Sputtering Típica para la Industria de Recubrimiento de Películas Delgadas Cátodo de Sputter Magnetrón Rotatorio Objetivo de Sputtering Rotatorio

US$ 6.900,00-7.000,00
2 sets(MOQ)
Máquina de recubrimiento al vacío por pulverización de placa de vacío PVD

Máquina de recubrimiento al vacío por pulverización de placa de vacío PVD

US$ 66.000,00
1 sets(MOQ)
1/4

Tianjin Rui Yuan Electric Material Co., Ltd.

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Fábrica china de alta pureza 6n cobre (Cu) 99.9999% objetivo de sputtering

Fábrica china de alta pureza 6n cobre (Cu) 99.9999% objetivo de sputtering

US$ 89,00-180,00
1.000 kilograms(MOQ)
Objetivos de Cobre de Ultra Pureza 99.9999% 7n5

Objetivos de Cobre de Ultra Pureza 99.9999% 7n5

US$ 26,99-53,03
1.000 kilograms(MOQ)
99.9999% 6n Placas de respaldo de objetivos de sputtering de cobre de alta pureza

99.9999% 6n Placas de respaldo de objetivos de sputtering de cobre de alta pureza

US$ 335,00-350,00
100 Kg(MOQ)
C110/C10100/Tu00 5n Objetivo de Sputtering de Alta Pureza Cobre 99.999% para Recubrimiento Óptico

C110/C10100/Tu00 5n Objetivo de Sputtering de Alta Pureza Cobre 99.999% para Recubrimiento Óptico

US$ 79,99
50 Kg(MOQ)
1/4

LUOYANG COMBAT TUNGSTEN & MOLYBDENUM MATERIAL CO., LTD.

18 años·5.0
·Fabricante/Fábrica & Empresa Comercial
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Objetivo de Sputtering de Molybdeno de Alta Densidad de Combate 99.95%

Objetivo de Sputtering de Molybdeno de Alta Densidad de Combate 99.95%

US$ 55,00-59,00
1 Kg(MOQ)
Objetivo de Sputtering de Titanio Puro de Material de Titanio Hecho a Medida 99.6% en Venta

Objetivo de Sputtering de Titanio Puro de Material de Titanio Hecho a Medida 99.6% en Venta

US$ 35,00-40,00
5 Kg(MOQ)
Hoja de Foil de Tantalio Acepta Personalización del Cliente Electrónica Hoja Fina de Tantalio en Venta

Hoja de Foil de Tantalio Acepta Personalización del Cliente Electrónica Hoja Fina de Tantalio en Venta

US$ 456,80-500,20
1 Kg(MOQ)
Precio Competitivo ASTM 99.95% Placa de Tungsteno de Pureza

Precio Competitivo ASTM 99.95% Placa de Tungsteno de Pureza

US$ 74,00
1 Kg(MOQ)
1/4

Zhengzhou Tainuo Film Materials Co., Ltd.

9 años
·Fabricante/Fábrica
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Al, objetivo de sputtering de Cr para evaporación térmica y máquina de sputtering magnetrón

Al, objetivo de sputtering de Cr para evaporación térmica y máquina de sputtering magnetrón

US$ 30,00-200,00
1 Pieza(MOQ)
Fabricante de Investigación y Desarrollo Independiente Producción Recubridor de Sputtering Magnetrón de Doble Objetivo RF

Fabricante de Investigación y Desarrollo Independiente Producción Recubridor de Sputtering Magnetrón de Doble Objetivo RF

US$ 26.500,00
1 Pieza(MOQ)
Tres objetivos de fotoelectrones, película nano de deposición, recubridor de magnetrón por pulverización en plasma

Tres objetivos de fotoelectrones, película nano de deposición, recubridor de magnetrón por pulverización en plasma

US$ 39.500,00
1 Pieza(MOQ)
Revestidor de Sputtering Magnetrón de Doble Objetivo de Escritorio con Cavidad de Acero

Revestidor de Sputtering Magnetrón de Doble Objetivo de Escritorio con Cavidad de Acero

US$ 26.500,00
1 Pieza(MOQ)
1/4

Zhuzhou Hongtong Tungsten Carbide Co., Ltd.

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Objetivos de sputtering de carburo de tungsteno para fabricar recubrimientos de DLC

Objetivos de sputtering de carburo de tungsteno para fabricar recubrimientos de DLC

US$ 38,00-45,00
10 Kg(MOQ)
Varios objetivos de tungsteno carburo en diferentes formas para recubrimientos de DLC

Varios objetivos de tungsteno carburo en diferentes formas para recubrimientos de DLC

US$ 38,00-45,00
10 Kg(MOQ)
Placa de Carburo de Tungsteno con un Lado Estriado

Placa de Carburo de Tungsteno con un Lado Estriado

US$ 38,00-45,00
10 Kg(MOQ)
Bloques Planos Cuadrados de Carburo Cementado de Tungsteno Sólido de Aleación

Bloques Planos Cuadrados de Carburo Cementado de Tungsteno Sólido de Aleación

US$ 38,00-45,00
10 Kg(MOQ)
1/4

Hubei Fotma Machinery Co., Ltd.

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99.95% Tubo de Molienda Objetivo de Sputtering Objetivo de Molibdeno

99.95% Tubo de Molienda Objetivo de Sputtering Objetivo de Molibdeno

US$ 5,00-200,00
1 Kilogram(MOQ)
Tubo de molibdeno para objetivo de pulverización 99.95% Tubo de molibdeno puro

Tubo de molibdeno para objetivo de pulverización 99.95% Tubo de molibdeno puro

US$ 40,00-50,00
1 Kg(MOQ)
99.95% Placas de tungsteno negro mecanizadas y rectificadas en puro tungsteno

99.95% Placas de tungsteno negro mecanizadas y rectificadas en puro tungsteno

US$ 1,00-20,00
1 Pieza(MOQ)
1/4

ATM Material Co., Ltd.

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Objetivo Wti / Objetivos de Sputtering / Alta Calidad Wti

Objetivo Wti / Objetivos de Sputtering / Alta Calidad Wti

US$ 1,00-100,00
1 Pieza(MOQ)
Objetivo de molibdeno puro para recubrimientos, pantallas TFT-LCD

Objetivo de molibdeno puro para recubrimientos, pantallas TFT-LCD

US$ 1.000,00
1 Pieza(MOQ)
Crisol de tungsteno de alta calidad

Crisol de tungsteno de alta calidad

US$ 0,10-100,00
1.000 Piezas(MOQ)
1/4

Jinan Hengcheng Aluminum Co., Ltd.

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Objetivo de sputtering de aluminio y titanio, objetivo de sputtering de titanio y aluminio

Objetivo de sputtering de aluminio y titanio, objetivo de sputtering de titanio y aluminio

US$ 3.380,00
1 Tonelada(MOQ)
Objetivo de Sputtering de Aluminio Titanio Alloy/50 para Máquina de Recubrimiento PVD

Objetivo de Sputtering de Aluminio Titanio Alloy/50 para Máquina de Recubrimiento PVD

US$ 3.380,00
1 Tonelada(MOQ)
1/4

Ningbo Galaxy International Trading Co., Ltd.

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Buena conductividad térmica y eléctrica objetivo de lámina de titanio

Buena conductividad térmica y eléctrica objetivo de lámina de titanio

US$ 20,00
1 Pieza(MOQ)
Objetivo redondo de níquel preventivo de corrosión de alta calidad

Objetivo redondo de níquel preventivo de corrosión de alta calidad

US$ 10,00
5 Piezas(MOQ)
Objetivo redondo de níquel de alta calidad para pulverización

Objetivo redondo de níquel de alta calidad para pulverización

US$ 10,00
1 pcs(MOQ)
Objetivo de Sputtering Redondo de Zirconio de Alta Fusión Zr702

Objetivo de Sputtering Redondo de Zirconio de Alta Fusión Zr702

US$ 15,00
1 pcs(MOQ)
1/4

Dongguan Gravel Industries and Enterprise Company Limited

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Objetivo de cobre para pulverización catódica en vacío

Objetivo de cobre para pulverización catódica en vacío

US$ 35.000,00
1 Pieza(MOQ)
Objetivo de aluminio de alta pureza para sputtering en vacío con magnetrón

Objetivo de aluminio de alta pureza para sputtering en vacío con magnetrón

US$ 1.000,00
1 Pieza(MOQ)
Objetivo de cromo de alta pureza para recubrimiento en vacío/PVD

Objetivo de cromo de alta pureza para recubrimiento en vacío/PVD

US$ 1.000,00
1 Pieza(MOQ)
Objetivo redondo de cobalto de alta pureza y platino

Objetivo redondo de cobalto de alta pureza y platino

US$ 585.000,00
1 Pieza(MOQ)
1/4

Sid Metal Co., Ltd

13 años
·Fabricante/Fábrica & Empresa Comercial
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Hoja de objetivo de zirconio Zr702 Zr705 para recubrimiento PVD disco de zirconio

Hoja de objetivo de zirconio Zr702 Zr705 para recubrimiento PVD disco de zirconio

US$ 1,00-3.000,00
1 Pieza(MOQ)
Objetivo de hoja de sputtering de circonio Zr702 Zr705 para recubrimiento PVD disco de circonio

Objetivo de hoja de sputtering de circonio Zr702 Zr705 para recubrimiento PVD disco de circonio

US$ 1,00-3.000,00
1 Pieza(MOQ)
Objetivo de zirconio premium para una superior deposición de películas delgadas

Objetivo de zirconio premium para una superior deposición de películas delgadas

US$ 10,00-1.000,00
10 piece(MOQ)
Objetivo de sputtering de titanio de alta pureza, planar para la industria de semiconductores, circuitos integrados, vidrio para construcción y automóviles

Objetivo de sputtering de titanio de alta pureza, planar para la industria de semiconductores, circuitos integrados, vidrio para construcción y automóviles

US$ 1,00-100,00
1 Pieza(MOQ)
1/4

Shaanxi Mingsheng Guangpu Metal Materials Co., Ltd.

3 años·5.0
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Objetivo de zirconio de alta pureza directo de fábrica para aplicaciones ópticas

Objetivo de zirconio de alta pureza directo de fábrica para aplicaciones ópticas

US$ 90,00-99,00
10 Kg(MOQ)
Objetivos de Sputtering de Níquel de Ultra Alta Densidad para Metalización de Wafers Semiconductores

Objetivos de Sputtering de Níquel de Ultra Alta Densidad para Metalización de Wafers Semiconductores

US$ 80,00-100,00
50 kilograms(MOQ)
Objetivos de Sputtering de Níquel Puro Msgp para la Fabricación de Sensores Garantía Central

Objetivos de Sputtering de Níquel Puro Msgp para la Fabricación de Sensores Garantía Central

US$ 160,00-200,00
50 kilograms(MOQ)
Objetivos de Sputtering de Níquel de Precisión para Películas Conductivas de Instrumentos de Precisión

Objetivos de Sputtering de Níquel de Precisión para Películas Conductivas de Instrumentos de Precisión

US$ 110,00-130,00
50 kilograms(MOQ)
1/4

Shenzhen Hongchen New Materials Co., Ltd

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Cobre objetivo de pulverización de múltiples arcos de placas de cobre de revestimiento PVD de fábrica Semiconductor rotativo

Cobre objetivo de pulverización de múltiples arcos de placas de cobre de revestimiento PVD de fábrica Semiconductor rotativo

US$ 10,00-15,00
1 Kg(MOQ)
Titanio esputtering Target Titanium Plate para Color Coating Watch Electronic Componentes

Titanio esputtering Target Titanium Plate para Color Coating Watch Electronic Componentes

US$ 10,00-15,00
1 Kg(MOQ)
Rotación de cobre de destino de pulverización de cobre de fábrica para conductor semiconductor recubierto de metal

Rotación de cobre de destino de pulverización de cobre de fábrica para conductor semiconductor recubierto de metal

US$ 10,00-15,00
1 Kg(MOQ)
Fábrica de Guangdong placa de cobre de óxido de estaño indio ITO Sputtering Objetivos

Fábrica de Guangdong placa de cobre de óxido de estaño indio ITO Sputtering Objetivos

US$ 10,00-15,00
1 Kg(MOQ)

Shandong Quansheng Material Technology Group Co., LTD

3 años
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Objetivos de tungsteno premium para procesos de recubrimiento al vacío

Objetivos de tungsteno premium para procesos de recubrimiento al vacío

US$ 56,00-61,00
5 Kg(MOQ)
Placa de Sputtering de Molybdeno de Ultra Alta Pureza 99.95% para Aplicaciones de Precisión

Placa de Sputtering de Molybdeno de Ultra Alta Pureza 99.95% para Aplicaciones de Precisión

US$ 61,00-69,00
1 Kg(MOQ)
Barras y varillas de aleación de niobio premium C103 de fabricante confiable de China

Barras y varillas de aleación de niobio premium C103 de fabricante confiable de China

US$ 101,00-186,00
1 Kg(MOQ)
Varilla de Niobio Directa de Fábrica Nb1nb2 Alta Pureza Resistente a la Corrosión Equipos Químicos Personalizables

Varilla de Niobio Directa de Fábrica Nb1nb2 Alta Pureza Resistente a la Corrosión Equipos Químicos Personalizables

US$ 101,00-186,00
1 Kg(MOQ)
1/4

Suzhou Zhongzhina Semiconductor Technology Co., Ltd.

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Nitruro de boro (BN) Ceramic nitruro PVD esputtering Target, Titanium Diboride, Titanium Boride, Customized Size, Afizing Plate

Nitruro de boro (BN) Ceramic nitruro PVD esputtering Target, Titanium Diboride, Titanium Boride, Customized Size, Afizing Plate

Negociable
1 Pieza(MOQ)
Cromo (cromo) Metal de alta pureza objetivo para PVD Magnetron esputtering recubrimiento de vacío, tamaño de partículas personalizable, con servicio de unión de placas de apoyo

Cromo (cromo) Metal de alta pureza objetivo para PVD Magnetron esputtering recubrimiento de vacío, tamaño de partículas personalizable, con servicio de unión de placas de apoyo

Negociable
1 Pieza(MOQ)
Recubrimiento de espumación de magnetrón de metal precioso de alta pureza material de objetivo de iridio (ir), objetivo de iridio, placa de iridio, hoja de iridio y unión de placa de respaldo

Recubrimiento de espumación de magnetrón de metal precioso de alta pureza material de objetivo de iridio (ir), objetivo de iridio, placa de iridio, hoja de iridio y unión de placa de respaldo

Negociable
1 Pieza(MOQ)
Dianas de recubrimiento de plata de alta pureza (AG), tubos de aleación de plata, cables, partículas, placas de plata, Materiales de revestimiento PVD.

Dianas de recubrimiento de plata de alta pureza (AG), tubos de aleación de plata, cables, partículas, placas de plata, Materiales de revestimiento PVD.

Negociable
1 Pieza(MOQ)

Shanghai Zenkaah New Materials Technology Co., Ltd.

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Nitruro de boro (BN) Ceramic nitruro PVD esputtering Target, Titanium Diboride, Titanium Boride, Customized Size, Afizing Plate

Nitruro de boro (BN) Ceramic nitruro PVD esputtering Target, Titanium Diboride, Titanium Boride, Customized Size, Afizing Plate

Negociable
1 Pieza(MOQ)
Cromo (cromo) Metal de alta pureza objetivo para PVD Magnetron esputtering recubrimiento de vacío, tamaño de partículas personalizable, con servicio de unión de placas de apoyo

Cromo (cromo) Metal de alta pureza objetivo para PVD Magnetron esputtering recubrimiento de vacío, tamaño de partículas personalizable, con servicio de unión de placas de apoyo

Negociable
1 Pieza(MOQ)
Objetivo de espumación de cobalto de alta pureza (Co) 5n para experimentos de investigación científica, objetivo de espumación de magnetrón con tamaños personalizables y placa de apoyo

Objetivo de espumación de cobalto de alta pureza (Co) 5n para experimentos de investigación científica, objetivo de espumación de magnetrón con tamaños personalizables y placa de apoyo

Negociable
1 Pieza(MOQ)
Investigación de espumación de magnetrón sobre objetivos de recubrimiento de plata de alta pureza (AG), tubos de aleación de plata, cables, partículas, placas de plata, Materiales de revestimiento PVD, y espalda P

Investigación de espumación de magnetrón sobre objetivos de recubrimiento de plata de alta pureza (AG), tubos de aleación de plata, cables, partículas, placas de plata, Materiales de revestimiento PVD, y espalda P

Negociable
1 Pieza(MOQ)

Uv Tech Material Ltd

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ITO 97: 3 93:7 90 10 95: 5wt% 99,99% de la Pureza de Sputtering Retangular Rotary y la placa de referencia para el revestimiento de vacío de vidrio

ITO 97: 3 93:7 90 10 95: 5wt% 99,99% de la Pureza de Sputtering Retangular Rotary y la placa de referencia para el revestimiento de vacío de vidrio

Negociable
1 Pieza(MOQ)
Rotary indio Blanco en blanco de sputtering

Rotary indio Blanco en blanco de sputtering

Negociable
1 Pieza(MOQ)
Cromo Cr PVD Planar destino pegado en la Cooper la placa de apoyo o metro.

Cromo Cr PVD Planar destino pegado en la Cooper la placa de apoyo o metro.

Negociable
1 Pieza(MOQ)

Inner Mongolia Rongtai Rhenium New Materials Co., Ltd.

5.0
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99.9% Placa de metal de gadolinio puro Gd objetivo de pulverización para uso magnético de tierras raras

99.9% Placa de metal de gadolinio puro Gd objetivo de pulverización para uso magnético de tierras raras

US$ 55,00-85,00
1 Pieza(MOQ)
Placas de Sputtering de Gadolinio de Alta Pureza 99.9% para Recubrimiento Avanzado

Placas de Sputtering de Gadolinio de Alta Pureza 99.9% para Recubrimiento Avanzado

US$ 55,00-85,00
1 Pieza(MOQ)
1/4

Matvey New Materials Technology Co, . Ltd

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Objetivo de tungsteno

Objetivo de tungsteno

US$ 90,00-100,00
1 Kg(MOQ)
Molybdenum Target

Molybdenum Target

US$ 90,00-100,00
1 Kg(MOQ)

Hunan Radiance Material Co., Ltd

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Objetivos de tungsteno de alta pureza para el esputo de PVD

Objetivos de tungsteno de alta pureza para el esputo de PVD

Negociable
1 Pieza(MOQ)

Lonwin Industry Group Limited

5.0
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99.99% Objetivos de Sputtering de Estaño Metálico para Recubrimiento

99.99% Objetivos de Sputtering de Estaño Metálico para Recubrimiento

US$ 17,00-55,00
1 Kg(MOQ)
99.99% Objetivos de Sputtering de Óxido de Magnesio MGO

99.99% Objetivos de Sputtering de Óxido de Magnesio MGO

US$ 17,00-55,00
1 Kg(MOQ)
99.99% Zrsi2 Objetivos de Cerámica Objetivo de Sputtering de Silicuro de Zirconio

99.99% Zrsi2 Objetivos de Cerámica Objetivo de Sputtering de Silicuro de Zirconio

US$ 17,00-55,00
1 Kg(MOQ)
Objetivo de metal de rutenio de alta pureza 99.99% para recubrimiento PVD

Objetivo de metal de rutenio de alta pureza 99.99% para recubrimiento PVD

US$ 17,00-55,00
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Zhonghe Steel (Tianjin) Co., Ltd.

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Objetivo de Titanio de Alta Pureza para Máquina de Recubrimiento PVD

Objetivo de Titanio de Alta Pureza para Máquina de Recubrimiento PVD

US$ 10,00-25,00
1 Pieza(MOQ)
Objetivo de Titanio de Alta Pureza 99.99% para Máquina de Recubrimiento por Vacío / PVD

Objetivo de Titanio de Alta Pureza 99.99% para Máquina de Recubrimiento por Vacío / PVD

US$ 10,00-25,00
1 Pieza(MOQ)
Objetivo de Sputtering de Titanio de Alta Pureza Gr1 Gr2 para PVD

Objetivo de Sputtering de Titanio de Alta Pureza Gr1 Gr2 para PVD

US$ 10,00-25,00
1 Pieza(MOQ)
Alta Pureza 99.6% PVD M86 Objetivo de Titanio Od 98X40mm Objetivo de Titanio

Alta Pureza 99.6% PVD M86 Objetivo de Titanio Od 98X40mm Objetivo de Titanio

US$ 10,00-25,00
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