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sobre blanco de pulverización de níquel
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blanco de pulverización de níquel60+ fábricas verificadas

Changsha Xinkang Advanced Materials Co., Ltd.

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Objetivos de Sputtering de Aleación de Níquel de Alta Pureza Xinkang Níquel Vanadio Niv7%

Objetivos de Sputtering de Aleación de Níquel de Alta Pureza Xinkang Níquel Vanadio Niv7%

US$ 35,00-40,00
1 Pieza(MOQ)
Objetivo de pulverización de aleación de níquel y cromo de alta calidad para recubrimiento

Objetivo de pulverización de aleación de níquel y cromo de alta calidad para recubrimiento

US$ 35,00-40,00
1 Pieza(MOQ)
Objetivo de Sputtering de Aleación de Hierro y Níquel Feni20wt% Feni30at% para Recubrimiento al Vacío

Objetivo de Sputtering de Aleación de Hierro y Níquel Feni20wt% Feni30at% para Recubrimiento al Vacío

US$ 75,00-90,00
1 Pieza(MOQ)
Alta Pureza 99.99% Niv7wt% Objetivos de Magnetrón de Níquel y Vanadio para Sputtering

Alta Pureza 99.99% Niv7wt% Objetivos de Magnetrón de Níquel y Vanadio para Sputtering

US$ 55,00-120,00
1 Pieza(MOQ)
1/4

SUZHOU TECHNO-TEC PHOTOELECTRIC MATERIALS CO., LTD

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Aleación CuNiTi Target Cobre níquel Titanio aleación esputtering objetivo para LCD/panel táctil

Aleación CuNiTi Target Cobre níquel Titanio aleación esputtering objetivo para LCD/panel táctil

US$ 50,00
1 Kg(MOQ)
Objetivo de aleación de NIV níquel de vanadio objetivo de esputo de aleación para LCD/semiconductor

Objetivo de aleación de NIV níquel de vanadio objetivo de esputo de aleación para LCD/semiconductor

US$ 100,00
1 Kg(MOQ)
Objetivo de aleación de NiCr cromo níquel objetivo de espumación de aleación para LCD/integrado Circuitos

Objetivo de aleación de NiCr cromo níquel objetivo de espumación de aleación para LCD/integrado Circuitos

US$ 35,00
1 Kg(MOQ)
Objetivo de niquelado de níquel para semiconductores

Objetivo de niquelado de níquel para semiconductores

US$ 100,00-130,00
1 Kg(MOQ)
1/4

Beenine Shanke Technology Co., Ltd.

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Objetivo de sputtering de níquel de alta calidad unión Ni

Objetivo de sputtering de níquel de alta calidad unión Ni

US$ 300,00-1.000,00
1 Pieza(MOQ)
Objetivo de Sputtering de Aleación de Construcción Multi-PCS de Níquel Cromo 99.99% Recubrimiento PVD de China Puro

Objetivo de Sputtering de Aleación de Construcción Multi-PCS de Níquel Cromo 99.99% Recubrimiento PVD de China Puro

US$ 80,00-800,00
1 Pieza(MOQ)
99.99% Pureza 4n Blanco de aleación de níquel cromo Ni/Cr para recubrimiento PVD

99.99% Pureza 4n Blanco de aleación de níquel cromo Ni/Cr para recubrimiento PVD

US$ 80,00-800,00
1 Pieza(MOQ)
Objetivo de Sputtering de Níquel Precio Inexpensivo Fabricación

Objetivo de Sputtering de Níquel Precio Inexpensivo Fabricación

US$ 300,00-1.000,00
1 Pieza(MOQ)
1/4

Lonwin Industry Group Limited

5.0
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3n, 4n, 5n Ni3c Objetivos de Carburo de Níquel para Sputtering

3n, 4n, 5n Ni3c Objetivos de Carburo de Níquel para Sputtering

US$ 17,00-55,00
1 Kg(MOQ)
Objetivo de aleación de niobio, níquel y titanio para sputtering

Objetivo de aleación de niobio, níquel y titanio para sputtering

US$ 17,00-55,00
1 Kg(MOQ)
Objetivo de aleación de níquel y titanio para pulverización para recubrimiento PVD

Objetivo de aleación de níquel y titanio para pulverización para recubrimiento PVD

US$ 17,00-55,00
1 Kg(MOQ)
Objetivos de aleación de níquel de alta pureza Niv objetivo de sputtering de níquel y vanadio

Objetivos de aleación de níquel de alta pureza Niv objetivo de sputtering de níquel y vanadio

US$ 17,00-55,00
1 Kg(MOQ)
1/4

Rheniumet Ltd.

17 años
·Empresa Comercial
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Objetivo de sputtering de aleación de tungsteno y níquel en forma de cuadrado o rectángulo

Objetivo de sputtering de aleación de tungsteno y níquel en forma de cuadrado o rectángulo

US$ 500,00-1.000,00
1 Pieza(MOQ)
Objetivo de sputtering de alta pureza personalizado W-Ni-Cr/W-Ni/Ni-Cr para la industria de películas delgadas

Objetivo de sputtering de alta pureza personalizado W-Ni-Cr/W-Ni/Ni-Cr para la industria de películas delgadas

US$ 2.000,00-3.000,00
1 Pieza(MOQ)
Objetivo de pulverización de aleación de tungsteno, níquel y cromo W-Ni-Cr/W-Ni/Ni-Cr

Objetivo de pulverización de aleación de tungsteno, níquel y cromo W-Ni-Cr/W-Ni/Ni-Cr

US$ 2.000,00-3.000,00
1 Pieza(MOQ)
Precio de fábrica de objetivo de sputtering de rutenio

Precio de fábrica de objetivo de sputtering de rutenio

US$ 1.000,00-5.000,00
1 Pieza(MOQ)
1/4

Shaanxi Mingsheng Guangpu Metal Materials Co., Ltd.

3 años·5.0
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Objetivos de Sputtering de Níquel de Alta Densidad Msgp - Perfectamente Adecuados para Aplicaciones de Recubrimiento de Dispositivos Médicos

Objetivos de Sputtering de Níquel de Alta Densidad Msgp - Perfectamente Adecuados para Aplicaciones de Recubrimiento de Dispositivos Médicos

US$ 260,00-280,00
50 kilograms(MOQ)
Objetivos de Sputtering de Níquel de Precisión para Películas Conductivas de Instrumentos de Precisión

Objetivos de Sputtering de Níquel de Precisión para Películas Conductivas de Instrumentos de Precisión

US$ 110,00-130,00
50 kilograms(MOQ)
Objetivos de Sputtering de Magnetrón de Níquel Msgp - Rendimiento Superior en las Industrias de Pantallas y LED

Objetivos de Sputtering de Magnetrón de Níquel Msgp - Rendimiento Superior en las Industrias de Pantallas y LED

US$ 130,00-160,00
50 kilograms(MOQ)
Objetivos de sputtering de níquel de alta pureza en forma tubular - Personalizables para células solares fotovoltaicas

Objetivos de sputtering de níquel de alta pureza en forma tubular - Personalizables para células solares fotovoltaicas

US$ 200,00-220,00
50 kilograms(MOQ)
1/4

Dongguan Gravel Industries and Enterprise Company Limited

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Objetivo de níquel de sputtering magnetrón de alta pureza

Objetivo de níquel de sputtering magnetrón de alta pureza

US$ 800,00
1 Pieza(MOQ)
Objetivo de Níquel 99.99 Objetivo de Sputtering de Alta Pureza

Objetivo de Níquel 99.99 Objetivo de Sputtering de Alta Pureza

US$ 1.500,00
1 Pieza(MOQ)
Objetivo de sputtering de aleación de níquel y hierro de alta pureza

Objetivo de sputtering de aleación de níquel y hierro de alta pureza

US$ 6.000,00
1 Pieza(MOQ)
Partículas de níquel de alta pureza vaporizadas al vacío

Partículas de níquel de alta pureza vaporizadas al vacío

US$ 350,00
1 Kg(MOQ)
1/4

Xiamen Tmax Battery Equipments Limited

5.0
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Marca TMAXCN Alta Pureza 99.99% Níquel Ni Blanco de Sputtering para Recubrimiento de Película Delgada de Metal

Marca TMAXCN Alta Pureza 99.99% Níquel Ni Blanco de Sputtering para Recubrimiento de Película Delgada de Metal

US$ 78,00-90,00
1 Pieza(MOQ)
Marca TMAXCN Alta Pureza 99.95% Hierro Níquel Fe-Ni Blanco de Pulverización para Recubrimiento de Película Delgada de Metal

Marca TMAXCN Alta Pureza 99.95% Hierro Níquel Fe-Ni Blanco de Pulverización para Recubrimiento de Película Delgada de Metal

US$ 78,00-90,00
1 Pieza(MOQ)
Máquina de recubrimiento por pulverización de plasma rotativo TMAXCN Marca VTC-16-3HD-LD 3 incluyendo 3 objetivos

Máquina de recubrimiento por pulverización de plasma rotativo TMAXCN Marca VTC-16-3HD-LD 3 incluyendo 3 objetivos

US$ 8.000,00
1 Pieza(MOQ)
Máquina de recubrimiento de alta potencia TMAXCN VTC-16-SM con coater de magnetrón de corriente continua, etapa rotativa y enfriador de agua

Máquina de recubrimiento de alta potencia TMAXCN VTC-16-SM con coater de magnetrón de corriente continua, etapa rotativa y enfriador de agua

US$ 6.000,00
1 Pieza(MOQ)
1/4

Ningbo Galaxy International Trading Co., Ltd.

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99.9% Objetivo de recubrimiento al vacío de níquel, cromo y aluminio para el proceso PVD, objetivo de cromo y tantalio

99.9% Objetivo de recubrimiento al vacío de níquel, cromo y aluminio para el proceso PVD, objetivo de cromo y tantalio

US$ 55,00
1 Pieza(MOQ)
Objetivo redondo de níquel de alta calidad para pulverización

Objetivo redondo de níquel de alta calidad para pulverización

US$ 10,00
1 pcs(MOQ)
Buena conductividad térmica y eléctrica objetivo de lámina de titanio

Buena conductividad térmica y eléctrica objetivo de lámina de titanio

US$ 20,00
1 Pieza(MOQ)
Objetivo redondo de níquel preventivo de corrosión de alta calidad

Objetivo redondo de níquel preventivo de corrosión de alta calidad

US$ 10,00
5 Piezas(MOQ)
1/4

Inner Mongolia Rongtai Rhenium New Materials Co., Ltd.

5.0
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Objetivo de sputtering de níquel, cobalto y itrio de alta pureza para recubrimientos ópticos avanzados

Objetivo de sputtering de níquel, cobalto y itrio de alta pureza para recubrimientos ópticos avanzados

US$ 115,00-130,00
1 Pieza(MOQ)
Objetivo de sputtering de yttrio de alta calidad en forma redonda para uso industrial

Objetivo de sputtering de yttrio de alta calidad en forma redonda para uso industrial

US$ 115,00-130,00
1 Pieza(MOQ)
Objetivo de Metal de Lantano de Alta Pureza para Técnicas Avanzadas de Sputtering

Objetivo de Metal de Lantano de Alta Pureza para Técnicas Avanzadas de Sputtering

US$ 150,00-350,00
1 Pieza(MOQ)
Objetivo de Sputtering de Titanio para la Óptica y la Industria de Energía Solar

Objetivo de Sputtering de Titanio para la Óptica y la Industria de Energía Solar

US$ 115,00-130,00
1 Pieza(MOQ)
1/4

Zhonghe Steel (Tianjin) Co., Ltd.

5 años
·Empresa Comercial
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Objetivo de Sputtering de Titanio de Alta Pureza Gr1 Gr2 para PVD

Objetivo de Sputtering de Titanio de Alta Pureza Gr1 Gr2 para PVD

US$ 10,00-25,00
1 Pieza(MOQ)
Objetivos de PVD de aleación de aluminio y titanio, objetivos de sputtering de titanio, objetivo de aleación de Tial para recubrimiento

Objetivos de PVD de aleación de aluminio y titanio, objetivos de sputtering de titanio, objetivo de aleación de Tial para recubrimiento

US$ 10,00-25,00
1 Pieza(MOQ)
Objetivo de Titanio de Alta Pureza para Máquina de Recubrimiento PVD

Objetivo de Titanio de Alta Pureza para Máquina de Recubrimiento PVD

US$ 10,00-25,00
1 Pieza(MOQ)
Precio del objetivo de sputtering de titanio PVD personalizado

Precio del objetivo de sputtering de titanio PVD personalizado

US$ 10,00-25,00
1 Pieza(MOQ)
1/4

Shandong Quansheng Material Technology Group Co., LTD

3 años
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Objetivos de tungsteno premium para procesos de recubrimiento al vacío

Objetivos de tungsteno premium para procesos de recubrimiento al vacío

US$ 56,00-61,00
5 Kg(MOQ)
Barra de Niobio Industrial Nb1nb2 2000℃ Resistente a Altas Temperaturas Personalizable Directamente de Fábrica

Barra de Niobio Industrial Nb1nb2 2000℃ Resistente a Altas Temperaturas Personalizable Directamente de Fábrica

US$ 101,00-186,00
1 Kg(MOQ)
Barras de aleación de titanio niobio industrial premium para distribución global

Barras de aleación de titanio niobio industrial premium para distribución global

US$ 101,00-186,00
1 Kg(MOQ)
Barra de Niobio Nb2nbzr Pedido al por mayor Descuento adicional Directo de fábrica Señal Personalizable Industrial

Barra de Niobio Nb2nbzr Pedido al por mayor Descuento adicional Directo de fábrica Señal Personalizable Industrial

US$ 101,00-186,00
1 Kg(MOQ)
1/4

Shenzhen Hongchen New Materials Co., Ltd

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Material de recubrimiento de níquel de alta pureza Rotary Magnetron sputtering Target

Material de recubrimiento de níquel de alta pureza Rotary Magnetron sputtering Target

US$ 10,00-15,00
1 Kg(MOQ)
99,999% Titanium Target TI Target para máquina de revestimiento PVD

99,999% Titanium Target TI Target para máquina de revestimiento PVD

US$ 10,00-15,00
1 Kg(MOQ)
Comercio al por mayor de la PVD High-Purity Fábrica de materiales de destino cobre plano

Comercio al por mayor de la PVD High-Purity Fábrica de materiales de destino cobre plano

US$ 10,00-15,00
1 Kg(MOQ)
Titanio esputtering Target Titanium Plate para Color Coating Watch Electronic Componentes

Titanio esputtering Target Titanium Plate para Color Coating Watch Electronic Componentes

US$ 10,00-15,00
1 Kg(MOQ)

Zhengzhou Tainuo Film Materials Co., Ltd.

9 años
·Fabricante/Fábrica
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Precio de fábrica de recubrimiento por magnetrón para metal y cromo níquel

Precio de fábrica de recubrimiento por magnetrón para metal y cromo níquel

US$ 19.000,00-23.000,00
1 Pieza(MOQ)
4-Inch Recubridor de Sputtering de Magnetrón de Objetivo Único de Corriente Continua para Película de Óxido

4-Inch Recubridor de Sputtering de Magnetrón de Objetivo Único de Corriente Continua para Película de Óxido

US$ 32.000,00-34.000,00
1 set(MOQ)
Nuevo diseño de instrumento de recubrimiento por evaporación térmica de alto vacío para muestras de película

Nuevo diseño de instrumento de recubrimiento por evaporación térmica de alto vacío para muestras de película

US$ 52.000,00-54.200,00
1 set(MOQ)
Equipo de recubrimiento por sputtering de magnetrón de laboratorio para recubrimiento de níquel cromo en metal

Equipo de recubrimiento por sputtering de magnetrón de laboratorio para recubrimiento de níquel cromo en metal

US$ 18.000,00-19.500,00
1 set(MOQ)
1/4

Jinan Hengcheng Aluminum Co., Ltd.

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Objetivo de Sputtering de Aluminio Titanio Alloy/50 para Máquina de Recubrimiento PVD

Objetivo de Sputtering de Aluminio Titanio Alloy/50 para Máquina de Recubrimiento PVD

US$ 3.380,00
1 Tonelada(MOQ)
Objetivo de sputtering de aluminio y titanio, objetivo de sputtering de titanio y aluminio

Objetivo de sputtering de aluminio y titanio, objetivo de sputtering de titanio y aluminio

US$ 3.380,00
1 Tonelada(MOQ)
1/4

Hunan Ultra Minor Metals Ltd

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Tungsteno de alta pureza níquel cromo/níquel cromo/ tungsteno níquel esputante objetivo Para la industria de películas delgadas

Tungsteno de alta pureza níquel cromo/níquel cromo/ tungsteno níquel esputante objetivo Para la industria de películas delgadas

Negociable
1 Pieza(MOQ)

Shanghai Tankii Alloy Material Co., Ltd.

5.0
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Alta Pureza 99.99% TANKII Metal Cromo Objetivos de Sputtering

Alta Pureza 99.99% TANKII Metal Cromo Objetivos de Sputtering

US$ 60,00-150,00
1 Pieza(MOQ)
Venta directa de fábrica de objetivo de sputtering de cromo utilizado para preparar películas delgadas de galgas de deformación resistivas

Venta directa de fábrica de objetivo de sputtering de cromo utilizado para preparar películas delgadas de galgas de deformación resistivas

US$ 60,00-150,00
1 Pieza(MOQ)
Precio de fábrica 99.999% objetivo de sputtering de cromo

Precio de fábrica 99.999% objetivo de sputtering de cromo

US$ 60,00-150,00
1 Pieza(MOQ)
Tipo de recubrimiento PVD más popular, uso de objetivo de sputtering de cromo tipo placa

Tipo de recubrimiento PVD más popular, uso de objetivo de sputtering de cromo tipo placa

US$ 60,00-150,00
1 Pieza(MOQ)
1/4

Sid Metal Co., Ltd

13 años
·Fabricante/Fábrica & Empresa Comercial
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Alta Pureza Zr702 Zr705 Objetivo de Zirconio Conductividad Térmica Objetivo de Sputtering

Alta Pureza Zr702 Zr705 Objetivo de Zirconio Conductividad Térmica Objetivo de Sputtering

US$ 0,05-100,00
1 Pieza(MOQ)
Objetivo de sputtering de titanio de alta pureza, planar para la industria de semiconductores, circuitos integrados, vidrio para construcción y automóviles

Objetivo de sputtering de titanio de alta pureza, planar para la industria de semiconductores, circuitos integrados, vidrio para construcción y automóviles

US$ 1,00-100,00
1 Pieza(MOQ)
Precio de fábrica 99.95% Metal Tántalo puro objetivo de sputtering Ta objetivos planos de tantalio

Precio de fábrica 99.95% Metal Tántalo puro objetivo de sputtering Ta objetivos planos de tantalio

US$ 1,00-100,00
1 Pieza(MOQ)
Objetivo de Sputtering de Titanio Ti / Objetivo Rotatorio de Titanio para Semiconductores / Sputtering de Recubrimiento al Vacío

Objetivo de Sputtering de Titanio Ti / Objetivo Rotatorio de Titanio para Semiconductores / Sputtering de Recubrimiento al Vacío

US$ 1,00-100,00
1 Pieza(MOQ)
1/4

Zhejiang Ruisheng New Materials Co., Ltd.

Empresa Comercial
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Objetivo de Sputtering de Tungsteno de Alta Pureza 99.95% Deposición de Películas Finas de Semiconductores Personalizable Estándar ASTM

Objetivo de Sputtering de Tungsteno de Alta Pureza 99.95% Deposición de Películas Finas de Semiconductores Personalizable Estándar ASTM

US$ 60,00-100,00
1 Kg(MOQ)
Objetivo de tungsteno rotativo premium para aplicaciones de sputtering eficientes

Objetivo de tungsteno rotativo premium para aplicaciones de sputtering eficientes

US$ 50,00-270,00
10 Kg(MOQ)
Objetivo de tungsteno pulido de alta pureza para aplicaciones avanzadas de bombardeo iónico

Objetivo de tungsteno pulido de alta pureza para aplicaciones avanzadas de bombardeo iónico

US$ 50,00-270,00
10 Kg(MOQ)
Disco de molibdeno de ultra alta pureza con precisión en el grosor para investigación en hornos de vacío personalizado ASTM

Disco de molibdeno de ultra alta pureza con precisión en el grosor para investigación en hornos de vacío personalizado ASTM

US$ 40,00-80,00
10 Kg(MOQ)
1/4

Uv Tech Material Ltd

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Rotary indio Blanco en blanco de sputtering

Rotary indio Blanco en blanco de sputtering

Negociable
1 Pieza(MOQ)
Fábrica Uvtm Sputtering Meta fabricante en China de 18 años para Msvd Experiece y PVD continua vacío recubrimiento sputter Vicky 13249153016 la línea de producción

Fábrica Uvtm Sputtering Meta fabricante en China de 18 años para Msvd Experiece y PVD continua vacío recubrimiento sputter Vicky 13249153016 la línea de producción

Negociable
1 Pieza(MOQ)
Uvtm blancos en la exposición de recubrimiento de Sputtering Vicky13249153016

Uvtm blancos en la exposición de recubrimiento de Sputtering Vicky13249153016

Negociable
1 Pieza(MOQ)
Si se puede girar de forma cilíndrica de cátodos de destino de silicio de alta calidad Monilithic rectas y de forma Dogbone

Si se puede girar de forma cilíndrica de cátodos de destino de silicio de alta calidad Monilithic rectas y de forma Dogbone

Negociable
1 Pieza(MOQ)

Zhongzheng Yejin Technology Co., Ltd.

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99.99% Objetivo de recubrimiento por pulverización de níquel, objetivo magnético decorativo para recubrimiento de metal

99.99% Objetivo de recubrimiento por pulverización de níquel, objetivo magnético decorativo para recubrimiento de metal

Negociable
1 Pieza(MOQ)
Objetivo de Sputtering de Níquel 99.99% Objetivo de Ni de Alta Pureza para Recubrimiento PVD

Objetivo de Sputtering de Níquel 99.99% Objetivo de Ni de Alta Pureza para Recubrimiento PVD

Negociable
1 Pieza(MOQ)
99.9% Precio del objetivo de níquel de alta pureza, objetivo de aleación de níquel, objetivo de pulverización de níquel

99.9% Precio del objetivo de níquel de alta pureza, objetivo de aleación de níquel, objetivo de pulverización de níquel

Negociable
1 Pieza(MOQ)
Venta caliente de objetivo de sputtering de níquel con alta pureza

Venta caliente de objetivo de sputtering de níquel con alta pureza

Negociable
1 Pieza(MOQ)
1/2

Zhengzhou CY Scientific Instrument Co., Ltd.

13 años
·Fabricante/Fábrica & Empresa Comercial
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Depósito por Sputtering de Magnetrón de Doble Objetivo de CC y RF para Películas Delgadas de Metal y Óxido

Depósito por Sputtering de Magnetrón de Doble Objetivo de CC y RF para Películas Delgadas de Metal y Óxido

US$ 21.000,00-26.000,00
1 Pieza(MOQ)
Sistema de recubrimiento por evaporación térmica pequeña para la preparación de películas conductoras

Sistema de recubrimiento por evaporación térmica pequeña para la preparación de películas conductoras

US$ 39.500,00-64.900,00
1 Pieza(MOQ)
Temperatura de Calentamiento 400c Sistema de Recubrimiento por Evaporación para Complejos Organometálicos (CY-300A)

Temperatura de Calentamiento 400c Sistema de Recubrimiento por Evaporación para Complejos Organometálicos (CY-300A)

US$ 39.500,00-64.900,00
1 Pieza(MOQ)
Revestidor de Sputtering de Magnetrón de Corriente Continua de Doble Objetivo para Sputtering de Película Conductora

Revestidor de Sputtering de Magnetrón de Corriente Continua de Doble Objetivo para Sputtering de Película Conductora

US$ 35.000,00-38.000,00
1 set(MOQ)
1/4

Changsha Xinkang Advanced Materials Co., Ltd

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99.9% Blanco de la farfulla del níquel Copper/Nicu de la pureza

99.9% Blanco de la farfulla del níquel Copper/Nicu de la pureza

US$ 30,00
1 Pieza(MOQ)
Blanco de la farfulla de la pureza elevada 99.995% Ni/Nickel

Blanco de la farfulla de la pureza elevada 99.995% Ni/Nickel

US$ 20,00
1 Pieza(MOQ)
99.95% Cromo del níquel de la pureza/blanco de la farfulla de Nicr

99.95% Cromo del níquel de la pureza/blanco de la farfulla de Nicr

US$ 30,00
1 Pieza(MOQ)
99.9% Blanco de la farfulla vanadio/Niv7 del níquel de la pureza

99.9% Blanco de la farfulla vanadio/Niv7 del níquel de la pureza

US$ 50,00
1 Pieza(MOQ)

Jiangyin Entret Coating Technology Co., Ltd.

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Planar de titanio de alta pureza Sputtering meta de 2n6 a 4n, 4n5, 5n

Planar de titanio de alta pureza Sputtering meta de 2n6 a 4n, 4n5, 5n

US$ 30,00-50,00
1 Pieza(MOQ)
El titanio de Sputtering meta en la Pureza

El titanio de Sputtering meta en la Pureza

US$ 30,00-50,00
1 Pieza(MOQ)
Silicon blanco de Sputtering giratorio de aluminio de alta calidad (sputtering meta)

Silicon blanco de Sputtering giratorio de aluminio de alta calidad (sputtering meta)

US$ 200,00-300,00
2 Piezas(MOQ)
Sputtering Meta: Titanium Sputtering Meta, meta de ti

Sputtering Meta: Titanium Sputtering Meta, meta de ti

US$ 100,00
10 Piezas(MOQ)

Xi'an Kefeng Powder Metallurgy Co., Ltd.

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Hojas y Placas de Molibdeno

Hojas y Placas de Molibdeno

US$ 100,00-500,00
10 Kg(MOQ)
Placa de tungsteno en industrias de hornos de alta temperatura

Placa de tungsteno en industrias de hornos de alta temperatura

US$ 50,00-500,00
10 Kg(MOQ)
Fabricante líder chino de alta calidad en tubo y anillo de aleación de tungsteno

Fabricante líder chino de alta calidad en tubo y anillo de aleación de tungsteno

US$ 50,00-500,00
10 Kg(MOQ)
Varilla de tungsteno, varilla de aleación de tungsteno, varilla de acero de tungsteno, varilla de tungsteno puro, barra de varilla de tungsteno, varilla pesada de tungsteno, varilla de tungsteno personalizada, proveedor de varilla de tungsteno

Varilla de tungsteno, varilla de aleación de tungsteno, varilla de acero de tungsteno, varilla de tungsteno puro, barra de varilla de tungsteno, varilla pesada de tungsteno, varilla de tungsteno personalizada, proveedor de varilla de tungsteno

US$ 50,00-500,00
10 Kg(MOQ)
1/4

CHANGSHA EASCHEM CO., LIMITED

5 años
·Empresa Comercial
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Objetivo de sputtering de niobio de alta calidad con número CAS 7440-03-1

Objetivo de sputtering de niobio de alta calidad con número CAS 7440-03-1

Negociable
1 Piece(MOQ)
Precio de fábrica Vender objetivo de metal niobio de alta calidad con número CAS 7440-03-1

Precio de fábrica Vender objetivo de metal niobio de alta calidad con número CAS 7440-03-1

Negociable
1 Piece(MOQ)
Objetivo de Sputtering de Metal Niobio con No CAS 7440-03-1 y Nb

Objetivo de Sputtering de Metal Niobio con No CAS 7440-03-1 y Nb

Negociable
1 Piece(MOQ)
Precio de fábrica Vender blanco de sputtering de niobio puro de alta calidad

Precio de fábrica Vender blanco de sputtering de niobio puro de alta calidad

Negociable
1 Piece(MOQ)
1/4

Beenine Shanke Technology Co., Ltd.

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Objetivo de esputo de níquel ni Plane

Objetivo de esputo de níquel ni Plane

US$ 50,00
5 Piezas(MOQ)
Alta pureza 99,9%-99,995% pureza D3X3mm materiales de evaporación ni níquel Pellets Gránulos

Alta pureza 99,9%-99,995% pureza D3X3mm materiales de evaporación ni níquel Pellets Gránulos

US$ 50,00-135,00
1 Kg(MOQ)
4n5 alambre de granulado de níquel de segmento ni de metal de alta pureza 99,995% Tamaño 3x3 mm 3X6mm

4n5 alambre de granulado de níquel de segmento ni de metal de alta pureza 99,995% Tamaño 3x3 mm 3X6mm

US$ 50,00-135,00
1 Kg(MOQ)
Fabricación personalizada de inyección de níquel ni granule China

Fabricación personalizada de inyección de níquel ni granule China

US$ 50,00-135,00
1 Kg(MOQ)

Changsha Xinkang Advanced Materials Co, Ltd

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Blanco de la farfulla del níquel

Blanco de la farfulla del níquel

Negociable
1 Pieza(MOQ)
Blanco de la farfulla del vanadio del níquel

Blanco de la farfulla del vanadio del níquel

Negociable
1 Pieza(MOQ)

LORK GROUP CO., LTD

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Disco redondo de metal precioso de aleación Csf Lork personalizado 99.99% Pureza de objetivo de pulverización de oro Csf

Disco redondo de metal precioso de aleación Csf Lork personalizado 99.99% Pureza de objetivo de pulverización de oro Csf

US$ 30,00-40,00
100 Kg(MOQ)
Lork Personalizado Alta Pureza Aleación de Níquel 4n5 Pastel Redondo para Disco de Objetivo de Sputtering de Semiconductores

Lork Personalizado Alta Pureza Aleación de Níquel 4n5 Pastel Redondo para Disco de Objetivo de Sputtering de Semiconductores

US$ 30,00-40,00
100 Kg(MOQ)
1/4

HANGZHOU KING TITANIUM CO., LTD.

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R05200 Objetivo de tantalio para fines electrónicos

R05200 Objetivo de tantalio para fines electrónicos

US$ 200,00-800,00
1 Kg(MOQ)
1/4
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