• Espumación de tungsteno-níquel-cromo/tungsteno-níquel/níquel-cromo objetivo para la industria de películas delgadas
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Espumación de tungsteno-níquel-cromo/tungsteno-níquel/níquel-cromo objetivo para la industria de películas delgadas

Forma: Rectángulo
Proceso de dar un título: YO ASI
pureza: re 99,99% min
composición química: tungsteno-níquel-cromo
Paquete de Transporte: Vacuum Packed or Per Customer′s Request.
Especificación: Customized according to customer requirements

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Fabricante/Fábrica
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  • Perfil de la empresa
  • PREGUNTAS FRECUENTES
Visión General

Información Básica.

No. de Modelo.
UL-01
Marca Comercial
UMM
Origen
Hunan, China
Código del HS
4301962010
Capacidad de Producción
10000000 Kilogram/Kilograms Per Month

Descripción de Producto

Descripción del producto

Los objetivos de tungsteno-ni-Cr/tungsteno-ni-Cr/ni-Cr se utilizan principalmente en la industria especial de revestimiento de vidrio, y en la técnica
las especificaciones pueden personalizarse.
Pureza del material ≥99,9%, densidad ≥99% densidad teórica;
Relación de composición de aleación típica:
Objetivo de tungsteno níquel-cromo WNiCr (W65%-Ni28%-CR7%);
Objetivo de tungsteno-níquel WNi (W50~90%-Ni50~10%);
NiCr objetivo NiCr (Ni60%-Cr40% o Ni80%-CR20%)
Dimensiones: Blanco plano; blanco rectangular; el blanco escalonado se puede personalizar según los requisitos.

 

Perfil de la empresa

 
 
 
 
 
 
 
 
 
 
 
High Purity Tungsten-Nickel-Chromium/Tungsten-Nickel/Nickel-Chromium Sputtering Target for Thin Film IndustryHigh Purity Tungsten-Nickel-Chromium/Tungsten-Nickel/Nickel-Chromium Sputtering Target for Thin Film IndustryHigh Purity Tungsten-Nickel-Chromium/Tungsten-Nickel/Nickel-Chromium Sputtering Target for Thin Film IndustryHigh Purity Tungsten-Nickel-Chromium/Tungsten-Nickel/Nickel-Chromium Sputtering Target for Thin Film IndustryHigh Purity Tungsten-Nickel-Chromium/Tungsten-Nickel/Nickel-Chromium Sputtering Target for Thin Film IndustryHigh Purity Tungsten-Nickel-Chromium/Tungsten-Nickel/Nickel-Chromium Sputtering Target for Thin Film IndustryHigh Purity Tungsten-Nickel-Chromium/Tungsten-Nickel/Nickel-Chromium Sputtering Target for Thin Film Industry
 
 
High Purity Tungsten-Nickel-Chromium/Tungsten-Nickel/Nickel-Chromium Sputtering Target for Thin Film Industry

PREGUNTAS FRECUENTES

P: ¿es usted empresa comercial o fabricante?
R: Somos fábrica.

P: ¿Cuánto tiempo dura su entrega?
R: Generalmente son 3-7 días si los bienes están en stock o son 15-20 días si los bienes no están en stock, es según
cantidad.

P: ¿proporciona muestras? ¿es gratis o extra?
R: Sí, podríamos ofrecer la muestra, pero necesitamos pagar el costo de la muestra y el flete ya que nuestro producto es de alto valor.

P: ¿Cuáles son sus condiciones de pago?
R: Pago <=1000USD, 100% por adelantado. Pago>=1000USD, 30% T/T por adelantado, saldo antes del envío.
Si tiene otra pregunta, no dude en ponerse en contacto con nosotros como se indica a continuación:

 

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