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sobre tu objetivo
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tu objetivo200+ fábricas verificadas

Beenine Shanke Technology Co., Ltd.

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99.99% Pureza 4n Blanco de aleación de níquel cromo Ni/Cr para recubrimiento PVD

99.99% Pureza 4n Blanco de aleación de níquel cromo Ni/Cr para recubrimiento PVD

US$ 80,00-800,00
1 Pieza(MOQ)
Objetivo de sputtering de aleación de Cu/Ni a precio económico

Objetivo de sputtering de aleación de Cu/Ni a precio económico

US$ 300,00-1.000,00
1 Pieza(MOQ)
99.99% Pureza 4n Objetivo de Sputtering de Aleación de Cobre Níquel Cu Ni Recubrimiento PVD

99.99% Pureza 4n Objetivo de Sputtering de Aleación de Cobre Níquel Cu Ni Recubrimiento PVD

US$ 300,00-1.000,00
1 Pieza(MOQ)
Objetivo de sputtering de aleación de níquel cromo de alta pureza Ni/Cr personalizado fábrica de China

Objetivo de sputtering de aleación de níquel cromo de alta pureza Ni/Cr personalizado fábrica de China

US$ 80,00-800,00
1 Pieza(MOQ)
1/4

Changsha Xinkang Advanced Materials Co., Ltd.

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99.99% Objetivo de Sputtering de Níquel (Ni) para Recubrimiento al Vacío

99.99% Objetivo de Sputtering de Níquel (Ni) para Recubrimiento al Vacío

US$ 30,00-100,00
1 Pieza(MOQ)
99.95% Objetivo de Sputtering de Níquel Puro

99.95% Objetivo de Sputtering de Níquel Puro

US$ 30,00-2.000,00
1 Pieza(MOQ)
Xinkang 99.9% Blanco de niquel de alta pureza para sputtering planar para recubrimiento al vacío/PVD

Xinkang 99.9% Blanco de niquel de alta pureza para sputtering planar para recubrimiento al vacío/PVD

US$ 45,00-100,00
1 Pieza(MOQ)
99.9%-99.995% Objetivo de Sputtering de Níquel Rectángulo Ni Precio por Pieza de Objetivos de Níquel

99.9%-99.995% Objetivo de Sputtering de Níquel Rectángulo Ni Precio por Pieza de Objetivos de Níquel

US$ 35,00-150,00
1 Pieza(MOQ)
1/4

Rheniumet Ltd.

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Objetivo de Sputtering de Aleación de Níquel y Cromo de Alta Pureza, Ni60cr40 Objetivo de Sputtering Personalizado

Objetivo de Sputtering de Aleación de Níquel y Cromo de Alta Pureza, Ni60cr40 Objetivo de Sputtering Personalizado

US$ 500,00-1.000,00
1 pieces(MOQ)
99.999% Wti20 Objetivo de Sputtering de Tungsteno y Titanio

99.999% Wti20 Objetivo de Sputtering de Tungsteno y Titanio

Negociable
1 Pieza(MOQ)
Objetivo de pulverización de aleación de tungsteno, níquel y cromo W-Ni-Cr/W-Ni/Ni-Cr

Objetivo de pulverización de aleación de tungsteno, níquel y cromo W-Ni-Cr/W-Ni/Ni-Cr

US$ 2.000,00-3.000,00
1 Pieza(MOQ)
3mm Blanco grueso de rutenio, blanco de sputtering de Ru

3mm Blanco grueso de rutenio, blanco de sputtering de Ru

Negociable
1 Pieza(MOQ)
1/4

Xiamen Tmax Battery Equipments Limited

5.0
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Marca TMAXCN Alta Pureza 99.99% Níquel Ni Blanco de Sputtering para Recubrimiento de Película Delgada de Metal

Marca TMAXCN Alta Pureza 99.99% Níquel Ni Blanco de Sputtering para Recubrimiento de Película Delgada de Metal

US$ 78,00-90,00
1 Pieza(MOQ)
Marca TMAXCN Alta Pureza 99.95% Hierro Níquel Fe-Ni Blanco de Pulverización para Recubrimiento de Película Delgada de Metal

Marca TMAXCN Alta Pureza 99.95% Hierro Níquel Fe-Ni Blanco de Pulverización para Recubrimiento de Película Delgada de Metal

US$ 78,00-90,00
1 Pieza(MOQ)
Máquina de recubrimiento por pulverización de plasma rotativo TMAXCN Marca VTC-16-3HD-LD 3 incluyendo 3 objetivos

Máquina de recubrimiento por pulverización de plasma rotativo TMAXCN Marca VTC-16-3HD-LD 3 incluyendo 3 objetivos

US$ 8.000,00
1 Pieza(MOQ)
Equipo de recubrimiento por pulverización PVD de doble objetivo RF&DC&MF para películas multicapa conductoras

Equipo de recubrimiento por pulverización PVD de doble objetivo RF&DC&MF para películas multicapa conductoras

US$ 45.000,00
1 Pieza(MOQ)
1/4

Lonwin Industry Group Limited

5.0
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99.9% Ni Níquel Material de Blanco de Sputtering de Metal Magnetrón Ni Níquel Objetivos de Sputtering Rotativos

99.9% Ni Níquel Material de Blanco de Sputtering de Metal Magnetrón Ni Níquel Objetivos de Sputtering Rotativos

US$ 17,00-55,00
1 Kg(MOQ)
3n, 4n, 5n Ni3c Objetivos de Carburo de Níquel para Sputtering

3n, 4n, 5n Ni3c Objetivos de Carburo de Níquel para Sputtering

US$ 17,00-55,00
1 Kg(MOQ)
99.99% Objetivo de Sputtering de Manganeso Mn Puro Objetivo de Mg para Sputtering

99.99% Objetivo de Sputtering de Manganeso Mn Puro Objetivo de Mg para Sputtering

US$ 17,00-55,00
1 Kg(MOQ)
Nbc Apunta a Objetivos de Sputtering de Cerámica de Carburo de Niobio

Nbc Apunta a Objetivos de Sputtering de Cerámica de Carburo de Niobio

US$ 17,00-55,00
1 Kg(MOQ)
1/4

Ningbo Galaxy International Trading Co., Ltd.

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Placa de Níquel de Alta Pureza, Alta Dureza y Resistente a la Corrosión N4/Ni201, N6/Ni200 para Uso Industrial

Placa de Níquel de Alta Pureza, Alta Dureza y Resistente a la Corrosión N4/Ni201, N6/Ni200 para Uso Industrial

US$ 15,00
5 Piezas(MOQ)
Buen objetivo de tubo de níquel puro con buena conductividad térmica para recubrimiento

Buen objetivo de tubo de níquel puro con buena conductividad térmica para recubrimiento

US$ 125,00-130,00
1 Pieza(MOQ)
Objetivo de fabricación de capacitores de níquel con tubería de níquel preventivo de corrosión coloreado

Objetivo de fabricación de capacitores de níquel con tubería de níquel preventivo de corrosión coloreado

US$ 30,00
10 Piezas(MOQ)
Nuevo Brillo Metálico Fuerza Níquel Objetivo Redondo

Nuevo Brillo Metálico Fuerza Níquel Objetivo Redondo

US$ 12,00
5 Piezas(MOQ)
1/4

Shaanxi Mingsheng Guangpu Metal Materials Co., Ltd.

3 años
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Objetivos de sputtering de níquel resistente al desgaste para recubrimiento de sensores electrónicos automotrices

Objetivos de sputtering de níquel resistente al desgaste para recubrimiento de sensores electrónicos automotrices

US$ 120,00-140,00
50 kilograms(MOQ)
Objetivos de Sputtering de Níquel de Alta Densidad Msgp - Perfectamente Adecuados para Aplicaciones de Recubrimiento de Dispositivos Médicos

Objetivos de Sputtering de Níquel de Alta Densidad Msgp - Perfectamente Adecuados para Aplicaciones de Recubrimiento de Dispositivos Médicos

US$ 260,00-280,00
50 kilograms(MOQ)
Objetivos de Sputtering de Níquel de Ultra Alta Densidad para Metalización de Wafers Semiconductores

Objetivos de Sputtering de Níquel de Ultra Alta Densidad para Metalización de Wafers Semiconductores

US$ 80,00-100,00
50 kilograms(MOQ)
Objetivos de Sputtering de Magnetrón de Níquel Msgp - Rendimiento Superior en las Industrias de Pantallas y LED

Objetivos de Sputtering de Magnetrón de Níquel Msgp - Rendimiento Superior en las Industrias de Pantallas y LED

US$ 130,00-160,00
50 kilograms(MOQ)
1/4

SUZHOU TECHNO-TEC PHOTOELECTRIC MATERIALS CO., LTD

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Objetivo de niquelado de níquel para semiconductores

Objetivo de niquelado de níquel para semiconductores

US$ 100,00-130,00
1 Kg(MOQ)
1/4

Junsion Precision Hardware Co., Ltd.

7 años
·Fabricante/Fábrica & Empresa Comercial
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Objetivo de pulverización de titanio, aluminio, cobre, cromo, níquel, tubo de magnetrón, recubrimiento PVD rotativo

Objetivo de pulverización de titanio, aluminio, cobre, cromo, níquel, tubo de magnetrón, recubrimiento PVD rotativo

US$ 0,50-10,00
10 Piezas(MOQ)
1/4

Dongguan Gravel Industries and Enterprise Company Limited

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Objetivo de sputtering de aleación de níquel y hierro de alta pureza

Objetivo de sputtering de aleación de níquel y hierro de alta pureza

US$ 6.000,00
1 Pieza(MOQ)
1/4

Jiangsu Cicel Vacuum Technology Co., Ltd.

4.5
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Objetivo de Sputtering de Cromo PVD Objetivo de Cromo/Objetivo de Sputtering de Cr

Objetivo de Sputtering de Cromo PVD Objetivo de Cromo/Objetivo de Sputtering de Cr

US$ 130,00-300,00
1 Pieza(MOQ)
Objetivo de titanio por sputtering, objetivo de sputtering de titanio, recubrimiento al vacío, objetivo de titanio

Objetivo de titanio por sputtering, objetivo de sputtering de titanio, recubrimiento al vacío, objetivo de titanio

US$ 100,00-300,00
1 Pieza(MOQ)
Objetivo de titanio por sputtering, objetivo de sputtering de titanio, recubrimiento al vacío, objetivo de titanio para máquina de recubrimiento al vacío por arco múltiple

Objetivo de titanio por sputtering, objetivo de sputtering de titanio, recubrimiento al vacío, objetivo de titanio para máquina de recubrimiento al vacío por arco múltiple

US$ 35,00-50,00
1 Pieza(MOQ)
Metalización al vacío de objetivo de circonio

Metalización al vacío de objetivo de circonio

US$ 35,00-50,00
1 Pieza(MOQ)
1/4

Ningbo Danko Vacuum Technology Co., Ltd.

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Metalización al vacío de objetivo de circonio

Metalización al vacío de objetivo de circonio

US$ 30,00-100,00
1 Pieza(MOQ)
Fabricante Proveedor de Objetivos de Titanio

Fabricante Proveedor de Objetivos de Titanio

US$ 30,00-100,00
1 Pieza(MOQ)
Recubrimiento al vacío de objetivo de titanio

Recubrimiento al vacío de objetivo de titanio

US$ 30,00-100,00
1 Pieza(MOQ)
Metalización al vacío de aleación de titanio y aluminio

Metalización al vacío de aleación de titanio y aluminio

US$ 30,00-100,00
1 Pieza(MOQ)
1/4

Inner Mongolia Rongtai Rhenium New Materials Co., Ltd.

5.0
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Objetivo de sputtering de gadolinio de alta pureza para la fabricación de electrónica

Objetivo de sputtering de gadolinio de alta pureza para la fabricación de electrónica

US$ 55,00-85,00
1 Pieza(MOQ)
Objetivo de Sputtering de Metal de Gadolinio de Alta Pureza para Aplicaciones de PVD

Objetivo de Sputtering de Metal de Gadolinio de Alta Pureza para Aplicaciones de PVD

US$ 55,00-85,00
1 Pieza(MOQ)
99.9% Placa de metal de gadolinio puro Gd objetivo de pulverización para uso magnético de tierras raras

99.9% Placa de metal de gadolinio puro Gd objetivo de pulverización para uso magnético de tierras raras

US$ 55,00-85,00
1 Pieza(MOQ)
Objetivo de Sputtering de Gadolinio Gd Premium para Aplicaciones Avanzadas

Objetivo de Sputtering de Gadolinio Gd Premium para Aplicaciones Avanzadas

US$ 55,00-85,00
1 Pieza(MOQ)
1/4

Zhonghe Steel (Tianjin) Co., Ltd.

5 años
·Empresa Comercial
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Objetivos de PVD de aleación de aluminio y titanio, objetivos de sputtering de titanio, objetivo de aleación de Tial para recubrimiento

Objetivos de PVD de aleación de aluminio y titanio, objetivos de sputtering de titanio, objetivo de aleación de Tial para recubrimiento

US$ 10,00-25,00
1 Pieza(MOQ)
Objetivo de Titanio de Alta Pureza para Máquina de Recubrimiento PVD

Objetivo de Titanio de Alta Pureza para Máquina de Recubrimiento PVD

US$ 10,00-25,00
1 Pieza(MOQ)
Objetivo de Sputtering de Titanio de Alta Pureza Gr1 Gr2 para PVD

Objetivo de Sputtering de Titanio de Alta Pureza Gr1 Gr2 para PVD

US$ 10,00-25,00
1 Pieza(MOQ)
Alta Pureza 99.6% PVD M86 Objetivo de Titanio Od 98X40mm Objetivo de Titanio

Alta Pureza 99.6% PVD M86 Objetivo de Titanio Od 98X40mm Objetivo de Titanio

US$ 10,00-25,00
1 Pieza(MOQ)
1/4

Zhengzhou Shibo Nonferrous Metals Products Co., Ltd.

21 años·5.0
·Fabricante/Fábrica & Empresa Comercial
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Objetivo de Sputtering de Molibdeno Pulido (99.95% puro)

Objetivo de Sputtering de Molibdeno Pulido (99.95% puro)

US$ 40,00-60,00
1 Kg(MOQ)
Objetivo de molibdeno para recubrimiento por pulverización al vacío

Objetivo de molibdeno para recubrimiento por pulverización al vacío

US$ 45,00
1 kg(MOQ)
Objetivo de sputtering de molibdeno de alta pureza, disco de molibdeno

Objetivo de sputtering de molibdeno de alta pureza, disco de molibdeno

US$ 40,00
1 kg(MOQ)
0.3mm, 0.5mm Hoja de Moly para Horno de Sinterización al Vacío

0.3mm, 0.5mm Hoja de Moly para Horno de Sinterización al Vacío

US$ 40,00-50,00
1 Kg(MOQ)
1/2

Shanghai Tankii Alloy Material Co., Ltd.

5.0
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Objetivo de tubo de molibdeno para batería solar

Objetivo de tubo de molibdeno para batería solar

US$ 65,00-80,00
1 kg(MOQ)
Objetivo de tubo de molibdeno de alta pureza

Objetivo de tubo de molibdeno de alta pureza

US$ 80,00
1 kg(MOQ)
Ni Span C902 alambre de aleación de hierro níquel cromo (Ni42CrTiAl) (UNS N09902)

Ni Span C902 alambre de aleación de hierro níquel cromo (Ni42CrTiAl) (UNS N09902)

US$ 20,00-100,00
20 Kg(MOQ)
Placa de aleación de níquel Ni Span C 902, hoja, tubo, tubería, tira, bobina

Placa de aleación de níquel Ni Span C 902, hoja, tubo, tubería, tira, bobina

US$ 26,00-30,00
100 kilograms(MOQ)
1/4

Hubei Fotma Machinery Co., Ltd.

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Producto personalizado de tungsteno, blanco de sputtering de tungsteno puro

Producto personalizado de tungsteno, blanco de sputtering de tungsteno puro

US$ 40,00-50,00
1 Kg(MOQ)
99.95% Tubo de Molienda Objetivo de Sputtering Objetivo de Molibdeno

99.95% Tubo de Molienda Objetivo de Sputtering Objetivo de Molibdeno

US$ 5,00-200,00
1 Kilogram(MOQ)
Tubo de molibdeno para objetivo de pulverización 99.95% Tubo de molibdeno puro

Tubo de molibdeno para objetivo de pulverización 99.95% Tubo de molibdeno puro

US$ 40,00-50,00
1 Kg(MOQ)
Placa de varilla de molibdeno objetivo 99.95% Productos de molibdeno puro

Placa de varilla de molibdeno objetivo 99.95% Productos de molibdeno puro

US$ 40,00-50,00
1 Kg(MOQ)
1/4

Tianjin Rui Yuan Electric Material Co., Ltd.

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Fábrica china de alta pureza 6n cobre (Cu) 99.9999% objetivo de sputtering

Fábrica china de alta pureza 6n cobre (Cu) 99.9999% objetivo de sputtering

US$ 89,00-180,00
1.000 kilograms(MOQ)
C110/C10100/Tu00 5n Objetivo de Sputtering de Alta Pureza Cobre 99.999% para Recubrimiento Óptico

C110/C10100/Tu00 5n Objetivo de Sputtering de Alta Pureza Cobre 99.999% para Recubrimiento Óptico

US$ 79,99
50 Kg(MOQ)
Personalizado 2mm/3mm/5mm Alta Pureza 6n Pellets de Cobre Materiales de Evaporación

Personalizado 2mm/3mm/5mm Alta Pureza 6n Pellets de Cobre Materiales de Evaporación

US$ 35,00-67,00
100 kilograms(MOQ)
Personalizado Tu00/C10100 Alambre OFC Cobre de Alta Pureza Libre de Oxígeno Ingot

Personalizado Tu00/C10100 Alambre OFC Cobre de Alta Pureza Libre de Oxígeno Ingot

US$ 79,99
3 kilograms(MOQ)
1/4

CHANGSHA EASCHEM CO., LIMITED

5 años
·Empresa Comercial
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Varilla de metal de gadolinio objetivo granular CAS No 7440-54-2 Gd 3n 4n

Varilla de metal de gadolinio objetivo granular CAS No 7440-54-2 Gd 3n 4n

Negociable
1 Piece(MOQ)
Varilla de metal de holmio objetivo granular CAS No 7440-60-0 Ho 3n 4n

Varilla de metal de holmio objetivo granular CAS No 7440-60-0 Ho 3n 4n

Negociable
1 Piece(MOQ)
Varilla de metal de iterbio objetivo granular CAS No 7440-64-4 Yb 3n 4n

Varilla de metal de iterbio objetivo granular CAS No 7440-64-4 Yb 3n 4n

Negociable
1 Piece(MOQ)
Varilla de metal de terbio objetivo granular CAS No 7440-27-9 Tb 3n 4n

Varilla de metal de terbio objetivo granular CAS No 7440-27-9 Tb 3n 4n

Negociable
1 Piece(MOQ)
1/4

Zhongzheng Yejin Technology Co., Ltd.

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99.9% Precio del objetivo de níquel de alta pureza, objetivo de aleación de níquel, objetivo de pulverización de níquel

99.9% Precio del objetivo de níquel de alta pureza, objetivo de aleación de níquel, objetivo de pulverización de níquel

Negociable
1 Pieza(MOQ)
Objetivo de Sputtering de Níquel 99.99% Objetivo de Ni de Alta Pureza para Recubrimiento PVD

Objetivo de Sputtering de Níquel 99.99% Objetivo de Ni de Alta Pureza para Recubrimiento PVD

Negociable
1 Pieza(MOQ)
Venta caliente de objetivo de sputtering de níquel con alta pureza

Venta caliente de objetivo de sputtering de níquel con alta pureza

Negociable
1 Pieza(MOQ)
99.99% Objetivo de recubrimiento por pulverización de níquel, objetivo magnético decorativo para recubrimiento de metal

99.99% Objetivo de recubrimiento por pulverización de níquel, objetivo magnético decorativo para recubrimiento de metal

Negociable
1 Pieza(MOQ)
1/2

Zhengzhou CY Scientific Instrument Co., Ltd.

13 años
·Fabricante/Fábrica & Empresa Comercial
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Depósito por Sputtering de Magnetrón de Doble Objetivo de CC y RF para Películas Delgadas de Metal y Óxido

Depósito por Sputtering de Magnetrón de Doble Objetivo de CC y RF para Películas Delgadas de Metal y Óxido

US$ 21.000,00-26.000,00
1 Pieza(MOQ)
Tres instrumentos de recubrimiento por sputtering de magnetrón de tres objetivos para películas semiconductoras

Tres instrumentos de recubrimiento por sputtering de magnetrón de tres objetivos para películas semiconductoras

US$ 37.300,00-126.870,00
1 Pieza(MOQ)
Revestidor de Sputtering de Magnetrón de Corriente Continua de Doble Objetivo para Sputtering de Película Conductora

Revestidor de Sputtering de Magnetrón de Corriente Continua de Doble Objetivo para Sputtering de Película Conductora

US$ 35.000,00-38.000,00
1 set(MOQ)
Pequeño recubridor de sputtering de magnetrón de corriente continua de un solo objetivo para PT AG Ni Cu

Pequeño recubridor de sputtering de magnetrón de corriente continua de un solo objetivo para PT AG Ni Cu

US$ 17.000,00-19.500,00
1 Pieza(MOQ)
1/4

Beenine Shanke Technology Co., Ltd.

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Objetivo de esputo de níquel ni Plane

Objetivo de esputo de níquel ni Plane

US$ 50,00
5 Piezas(MOQ)
China fábrica suministro de materiales de evaporación 99,99% ni granulado 5n níquel Pellets

China fábrica suministro de materiales de evaporación 99,99% ni granulado 5n níquel Pellets

US$ 50,00-135,00
1 Kg(MOQ)
CuNi aleación plano esputtering níquel de cobre objetivo

CuNi aleación plano esputtering níquel de cobre objetivo

US$ 10,00
10 Piezas(MOQ)
Níquel cromo NiCr aleación plano de esputo objetivo para Magnetron vacío

Níquel cromo NiCr aleación plano de esputo objetivo para Magnetron vacío

US$ 50,00
5 Piezas(MOQ)

Hebei Zhongyi Import and Export Co., Ltd.

2 años
·Empresa Comercial
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Recubrimiento cerámico de disulfuro de tungsteno puro Ws2 para un recubrimiento de alta calidad mediante pulverización

Recubrimiento cerámico de disulfuro de tungsteno puro Ws2 para un recubrimiento de alta calidad mediante pulverización

US$ 9,00-12,00
10 Kg(MOQ)
Objetivo de Sputtering de Disulfuro de Tungsteno de Alta Pureza Ws2 para Aplicaciones de Recubrimiento

Objetivo de Sputtering de Disulfuro de Tungsteno de Alta Pureza Ws2 para Aplicaciones de Recubrimiento

US$ 9,00-12,00
10 Kg(MOQ)
1/4

Luoyang Bless Tungsten & Molybdenum Materials Co., Ltd.

12 años
·Empresa Comercial
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Discos de molibdeno de alta calidad

Discos de molibdeno de alta calidad

US$ 63,00-66,00
1 Kg(MOQ)
99.95% Productos de Molybdeno Puro, Varilla de Titanio Zirconio Molybdeno

99.95% Productos de Molybdeno Puro, Varilla de Titanio Zirconio Molybdeno

US$ 35,00-79,00
1 Kg(MOQ)
1/1

ATM Material Co., Ltd.

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Objetivo Wti / Objetivos de Sputtering / Alta Calidad Wti

Objetivo Wti / Objetivos de Sputtering / Alta Calidad Wti

US$ 1,00-100,00
1 Pieza(MOQ)
1/4

Sid Metal Co., Ltd

13 años
·Fabricante/Fábrica & Empresa Comercial
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Alta Pureza Zr702 Zr705 Objetivo de Zirconio Conductividad Térmica Objetivo de Sputtering

Alta Pureza Zr702 Zr705 Objetivo de Zirconio Conductividad Térmica Objetivo de Sputtering

US$ 0,05-100,00
1 Pieza(MOQ)
1/4

Xiamen U-Spring Technology Co., Ltd

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Objetivo de arco de níquel U-Spring / cátodos de níquel / objetivo de pulverización para pulverización magnetrónica y recubrimiento al vacío

Objetivo de arco de níquel U-Spring / cátodos de níquel / objetivo de pulverización para pulverización magnetrónica y recubrimiento al vacío

US$ 2.000,00
1 Pcs(MOQ)
1/2

Beijing Loyaltarget Technology Co, Limited

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Blanco profesional del Ni de la blanco 4n5 de la farfulla del níquel de la pureza elevada 4n del fabricante 99.99%-99.995% para la capa de la película fina del metal

Blanco profesional del Ni de la blanco 4n5 de la farfulla del níquel de la pureza elevada 4n del fabricante 99.99%-99.995% para la capa de la película fina del metal

Negociable
1 Pieza(MOQ)

Able Target Limited

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PrAlloy que farfulla el bolso de Targetomotion (GB-0005)

PrAlloy que farfulla el bolso de Targetomotion (GB-0005)

US$ 1,00
1 Pieza(MOQ)

Changsha Xinkang Advanced Materials Co., Ltd

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Blanco de la farfulla de la pureza elevada 99.995% Ni/Nickel

Blanco de la farfulla de la pureza elevada 99.995% Ni/Nickel

US$ 20,00
1 Pieza(MOQ)
19
Productos Populares
Aleación De China
Con Barra
Titanio De China
Tungsteno De China
Con Objetivo
Molibdeno De China
Metales De Alta Pureza
Metal Raro
Fabricantes relacionados & Proveedor
Fábrica De Titanio Redondo
Fábrica De Objetivo De Pulverización
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Fabricantes De Objetivo De Sputtering De Metal
Fabricantes De Objetivo De Cromo
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Fabricantes De Objetivo De Sputtering De Titanio
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