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sobre Objetivo de metal
  • Innovación tecnológica
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Objetivo de metal2,000+ fábricas verificadas

SUZHOU TECHNO-TEC PHOTOELECTRIC MATERIALS CO., LTD

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Objetivo de pulverización de CU/objetivo rotatorio de cobre para conductor/semiconductor recubierto de metal

Objetivo de pulverización de CU/objetivo rotatorio de cobre para conductor/semiconductor recubierto de metal

US$ 10,00-15,00
1 Kg(MOQ)
Esputo de metal/esputo de aleación/esputo serámico objetivo

Esputo de metal/esputo de aleación/esputo serámico objetivo

US$ 35,00
1 Kg(MOQ)
W Target Tungsteno esputtering Target para semiconductores /chips de memoria

W Target Tungsteno esputtering Target para semiconductores /chips de memoria

US$ 45,00-350,00
1 Kg(MOQ)
Objetivo de estaño para pulverización para filtro óptico en fotovoltaicos solares

Objetivo de estaño para pulverización para filtro óptico en fotovoltaicos solares

US$ 85,00
1 Kg(MOQ)
1/4

Rheniumet Ltd.

17 años
·Empresa Comercial
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Objetivo de Sputtering de Rhenio de Alta Pureza 99.99%, Objetivo Redondo de Metal Re

Objetivo de Sputtering de Rhenio de Alta Pureza 99.99%, Objetivo Redondo de Metal Re

US$ 1.000,00-4.000,00
1 Pieza(MOQ)
4n 99.99% Objetivo de metal de rhenio de alta pureza, objetivo de pulverización redondo

4n 99.99% Objetivo de metal de rhenio de alta pureza, objetivo de pulverización redondo

US$ 200,00-1.000,00
1 Pieza(MOQ)
Objetivo de Sputtering de Paladio de Alta Pureza, Objetivo Metálico Redondo PT

Objetivo de Sputtering de Paladio de Alta Pureza, Objetivo Metálico Redondo PT

US$ 1.000,00-5.000,00
1 Pieza(MOQ)
Objetivo de sputtering de metal de tantalio de alta pureza para recubrimiento de película delgada, objetivo de sputtering de titanio, rodio / rutenio

Objetivo de sputtering de metal de tantalio de alta pureza para recubrimiento de película delgada, objetivo de sputtering de titanio, rodio / rutenio

US$ 700,00-1.000,00
1 Pieza(MOQ)
1/4

Inner Mongolia Rongtai Rhenium New Materials Co., Ltd.

5.0
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Objetivo de metal de itrio de precisión para la fabricación avanzada de tubos

Objetivo de metal de itrio de precisión para la fabricación avanzada de tubos

US$ 115,00-130,00
1 Pieza(MOQ)
Objetivo de metal de lantano personalizado delgado y cuadrado premium para electrónica de alta tecnología

Objetivo de metal de lantano personalizado delgado y cuadrado premium para electrónica de alta tecnología

US$ 150,00-350,00
1 Pieza(MOQ)
Objetivo de metal de sputtering de alta pureza Yb negro redondo para pantalla plana

Objetivo de metal de sputtering de alta pureza Yb negro redondo para pantalla plana

US$ 190,00-199,00
1 Pieza(MOQ)
Varilla de metal de gadolinio con alta calidad de objetivo de metal raro

Varilla de metal de gadolinio con alta calidad de objetivo de metal raro

US$ 55,00-85,00
1 Pieza(MOQ)
1/4

Beenine Shanke Technology Co., Ltd.

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Objetivo de Sputtering de Metal Estaño Stannum Sn Precio Económico

Objetivo de Sputtering de Metal Estaño Stannum Sn Precio Económico

US$ 60,00-100,00
1 Pieza(MOQ)
Objetivo de Sputtering de Metal Zinc Zn Precio Económico

Objetivo de Sputtering de Metal Zinc Zn Precio Económico

US$ 50,00-100,00
1 Pieza(MOQ)
Objetivo de Sputtering de Placa Estaño Sn Metal para Máquina PVD

Objetivo de Sputtering de Placa Estaño Sn Metal para Máquina PVD

US$ 60,00-100,00
1 Pieza(MOQ)
Objetivo de Sputtering de Plomo Pb Metal para Máquina PVD

Objetivo de Sputtering de Plomo Pb Metal para Máquina PVD

US$ 80,00-150,00
1 Pieza(MOQ)
1/4

Changsha Xinkang Advanced Materials Co., Ltd.

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99.95% Objetivo de Sputtering de Tungsteno de Metal de Pureza

99.95% Objetivo de Sputtering de Tungsteno de Metal de Pureza

US$ 70,00-80,00
1 Pieza(MOQ)
99.95% Objetivos de Sputtering de Iridio Metal Precioso IR Disco de Iridio Placa Hoja

99.95% Objetivos de Sputtering de Iridio Metal Precioso IR Disco de Iridio Placa Hoja

US$ 200,00-202,00
1 Pieza(MOQ)
Objetivo de Estaño 99.99% Objetivo de Estaño de Metal para Sputtering Magnetrón para Recubrimiento PVD

Objetivo de Estaño 99.99% Objetivo de Estaño de Metal para Sputtering Magnetrón para Recubrimiento PVD

US$ 110,00-120,00
1 Pieza(MOQ)
Material de metal de rodillo de erbio de tierras raras 99.9% objetivo de sputtering de erbio puro

Material de metal de rodillo de erbio de tierras raras 99.9% objetivo de sputtering de erbio puro

US$ 20,00-30,00
10 Piezas(MOQ)
1/4

Zhuzhou Weilai New Materials Technology Co., Ltd.

8 años
·Fabricante/Fábrica & Empresa Comercial
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Suministramos varios tipos de objetivos metálicos rotativos, objetivo de molibdeno para sputtering, objetivo de anodo de renio y objetivo de tungsteno para sputtering

Suministramos varios tipos de objetivos metálicos rotativos, objetivo de molibdeno para sputtering, objetivo de anodo de renio y objetivo de tungsteno para sputtering

US$ 142,00-168,00
30 Piezas(MOQ)
Objetivo de Sputtering Rotatorio de Metal, Objetivo de Ánodo Rotatorio de Molibdeno Rhenio Tungsteno

Objetivo de Sputtering Rotatorio de Metal, Objetivo de Ánodo Rotatorio de Molibdeno Rhenio Tungsteno

US$ 142,00-168,00
30 Piezas(MOQ)
Molibdeno, Renio, Tungsteno de ánodo rotatorio, ánodos estacionarios de tungsteno incrustados en cobre

Molibdeno, Renio, Tungsteno de ánodo rotatorio, ánodos estacionarios de tungsteno incrustados en cobre

US$ 25,00-40,00
30 Piezas(MOQ)
Partes del tubo de rayos X, objetivo de ánodo estacionario, cobre, tungsteno, unión de ánodos

Partes del tubo de rayos X, objetivo de ánodo estacionario, cobre, tungsteno, unión de ánodos

US$ 25,00-40,00
30 Piezas(MOQ)
1/4

Xiamen Tmax Battery Equipments Limited

5.0
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Marca TMAXCN Alta Pureza 99.99% Níquel Ni Blanco de Sputtering para Recubrimiento de Película Delgada de Metal

Marca TMAXCN Alta Pureza 99.99% Níquel Ni Blanco de Sputtering para Recubrimiento de Película Delgada de Metal

US$ 78,00-90,00
1 Pieza(MOQ)
Marca TMAXCN Alta Pureza 99.95% Hierro Níquel Fe-Ni Blanco de Pulverización para Recubrimiento de Película Delgada de Metal

Marca TMAXCN Alta Pureza 99.95% Hierro Níquel Fe-Ni Blanco de Pulverización para Recubrimiento de Película Delgada de Metal

US$ 78,00-90,00
1 Pieza(MOQ)
Marca TMAXCN Alta Pureza 99.9% 3n Objetivo de Sputtering de Boro Puro

Marca TMAXCN Alta Pureza 99.9% 3n Objetivo de Sputtering de Boro Puro

US$ 78,00-90,00
1 Pieza(MOQ)
Marca TMAXCN en stock 99.99 % Alta Pureza Platino PT Objetivo de Sputtering

Marca TMAXCN en stock 99.99 % Alta Pureza Platino PT Objetivo de Sputtering

US$ 78,00-90,00
1 Pieza(MOQ)
1/4

Xiangtan Hondson Coating Technology Co., Ltd.

6 años
·Fabricante/Fábrica & Empresa Comercial
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Bloque de titanio de alta pureza personalizado, material de titanio, material de recubrimiento por ionización multi-arco, objetivo metálico

Bloque de titanio de alta pureza personalizado, material de titanio, material de recubrimiento por ionización multi-arco, objetivo metálico

US$ 500,00-1.000,00
1 Pieza(MOQ)
Objetivo de magnetrón cilíndrico para recubrimiento PVD en vacío de tubos de titanio, materiales en bruto para recubrimiento, cátodos

Objetivo de magnetrón cilíndrico para recubrimiento PVD en vacío de tubos de titanio, materiales en bruto para recubrimiento, cátodos

US$ 800,00-1.500,00
1 Pieza(MOQ)
Depósito de arco, pistola de recubrimiento por arco catódico, objetivo

Depósito de arco, pistola de recubrimiento por arco catódico, objetivo

US$ 2.500,00-2.600,00
3 sets(MOQ)
Cátodo giratorio, objetivo de tubo cilíndrico para máquina de revestimiento

Cátodo giratorio, objetivo de tubo cilíndrico para máquina de revestimiento

US$ 6.700,00-6.800,00
2 sets(MOQ)
1/4

Lonwin Industry Group Limited

5.0
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99.95% Blanco de Sputtering de Aleación de Metal Znsn Zinc Estaño

99.95% Blanco de Sputtering de Aleación de Metal Znsn Zinc Estaño

US$ 17,00-55,00
1 Kg(MOQ)
99.99% Objetivo de Sputtering de Tungsteno Puro W Material de Tungsteno

99.99% Objetivo de Sputtering de Tungsteno Puro W Material de Tungsteno

US$ 17,00-55,00
1 Kg(MOQ)
Objetivo de metal de rutenio de alta pureza 99.99% para recubrimiento PVD

Objetivo de metal de rutenio de alta pureza 99.99% para recubrimiento PVD

US$ 17,00-55,00
1 Kg(MOQ)
Objetivo de Sputtering de Cobre Cu Metal Cobre Objetivo Rotatorio para Sputtering Magnetrón

Objetivo de Sputtering de Cobre Cu Metal Cobre Objetivo Rotatorio para Sputtering Magnetrón

US$ 17,00-55,00
1 Kg(MOQ)
1/4

Shenzhen Silver Technologies Ltd

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Material de metal de alta pureza, objetivo de partículas de oro, resistencia a la corrosión para semiconductores

Material de metal de alta pureza, objetivo de partículas de oro, resistencia a la corrosión para semiconductores

US$ 200,00
100 g(MOQ)
Varios objetivos de materiales metálicos de alta pureza

Varios objetivos de materiales metálicos de alta pureza

US$ 200,00
100 g(MOQ)
99.99% Objetivo de Sputtering de Oro de Alta Pureza, Objetivo de Au

99.99% Objetivo de Sputtering de Oro de Alta Pureza, Objetivo de Au

US$ 200,00
100 g(MOQ)
Objetivo de Sputtering de Oro Puro Premium 99.99% para Aplicaciones Avanzadas

Objetivo de Sputtering de Oro Puro Premium 99.99% para Aplicaciones Avanzadas

US$ 200,00
10 g(MOQ)
1/4

China Xinxing Xiamen Imp. & Exp. Co., Ltd.

35 años·5.0
·Empresa Comercial
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Objetivo de acero inoxidable para entrenamiento de tiro de aeronaves

Objetivo de acero inoxidable para entrenamiento de tiro de aeronaves

US$ 8,80-10,00
100 Piezas(MOQ)
Objetivos de tiro de metal inoxidable de seis puntos

Objetivos de tiro de metal inoxidable de seis puntos

US$ 12,00-15,00
100 Piezas(MOQ)
Campos de tiro, objetivos electrónicos, sistemas de puntuación de impactos electrónicos

Campos de tiro, objetivos electrónicos, sistemas de puntuación de impactos electrónicos

US$ 1.500,00-2.000,00
1 Pieza(MOQ)
Rango de entrenamiento táctico automático de objetivos de tiro

Rango de entrenamiento táctico automático de objetivos de tiro

US$ 1.500,00-2.000,00
1 Pieza(MOQ)
1/4

Shanghai Tankii Alloy Material Co., Ltd.

5.0
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Alta Pureza 99.99% TANKII Metal Cromo Objetivos de Sputtering

Alta Pureza 99.99% TANKII Metal Cromo Objetivos de Sputtering

US$ 60,00-150,00
1 Pieza(MOQ)
Fabricante personalizado de bajo precio, metal de cromo puro de alta pureza, objetivo de sputtering de Cr para recubrimiento PVD

Fabricante personalizado de bajo precio, metal de cromo puro de alta pureza, objetivo de sputtering de Cr para recubrimiento PVD

US$ 60,00-150,00
1 Pieza(MOQ)
Tipo de recubrimiento PVD más popular, uso de objetivo de sputtering de cromo tipo placa

Tipo de recubrimiento PVD más popular, uso de objetivo de sputtering de cromo tipo placa

US$ 60,00-150,00
1 Pieza(MOQ)
Venta directa de fábrica de objetivo de sputtering de cromo utilizado para preparar películas delgadas de galgas de deformación resistivas

Venta directa de fábrica de objetivo de sputtering de cromo utilizado para preparar películas delgadas de galgas de deformación resistivas

US$ 60,00-150,00
1 Pieza(MOQ)
1/4

Enjo Sports Inc.

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Objetivos de metal para la práctica de tiro de bolos de resistencia de rebote Tacband

Objetivos de metal para la práctica de tiro de bolos de resistencia de rebote Tacband

US$ 7,85-8,90
100 Piezas(MOQ)
Tacband Ar500 Metales de Tiro Objetivos para Exterior Interior Objetivo

Tacband Ar500 Metales de Tiro Objetivos para Exterior Interior Objetivo

US$ 7,85-8,90
100 Piezas(MOQ)
Práctica de Tiro Tacband 12*16 Blanco de Papel Cartón Reactivo

Práctica de Tiro Tacband 12*16 Blanco de Papel Cartón Reactivo

US$ 5,20-8,00
100 Pantalón(MOQ)
Objetivo de rebote de contorno humano Tacband para entrenamiento de tiro

Objetivo de rebote de contorno humano Tacband para entrenamiento de tiro

US$ 7,85-8,90
100 Piezas(MOQ)
1/4

Sid Metal Co., Ltd

13 años
·Fabricante/Fábrica & Empresa Comercial
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Precio de fábrica 99.95% Metal Tántalo puro objetivo de sputtering Ta objetivos planos de tantalio

Precio de fábrica 99.95% Metal Tántalo puro objetivo de sputtering Ta objetivos planos de tantalio

US$ 1,00-100,00
1 Pieza(MOQ)
Zr702 Zr705 Conductividad Térmica de Tubo de Circonio Alta Pureza Objetivo de Sputtering

Zr702 Zr705 Conductividad Térmica de Tubo de Circonio Alta Pureza Objetivo de Sputtering

US$ 1,00-3.000,00
1 Pieza(MOQ)
Objetivo de Sputtering de Titanio Ti / Objetivo Rotatorio de Titanio para Semiconductores / Sputtering de Recubrimiento al Vacío

Objetivo de Sputtering de Titanio Ti / Objetivo Rotatorio de Titanio para Semiconductores / Sputtering de Recubrimiento al Vacío

US$ 1,00-100,00
1 Pieza(MOQ)
Objetivo de hoja de sputtering de circonio Zr702 Zr705 para recubrimiento PVD disco de circonio

Objetivo de hoja de sputtering de circonio Zr702 Zr705 para recubrimiento PVD disco de circonio

US$ 1,00-3.000,00
1 Pieza(MOQ)
1/4

Baoji Taizehui Metal Technology Co., Ltd.

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Objetivo de Sputtering de Circonio 705 para Soluciones Metálicas Personalizadas de Alta Calidad

Objetivo de Sputtering de Circonio 705 para Soluciones Metálicas Personalizadas de Alta Calidad

Negociable
10 Kg(MOQ)
Objetivo de la Junta de Tántalo para Proyectos Innovadores de Investigación y Desarrollo

Objetivo de la Junta de Tántalo para Proyectos Innovadores de Investigación y Desarrollo

Negociable
10 Kg(MOQ)
Objetivo de Sputtering de Zirconio de Alta Calidad 705 para Soluciones Personalizadas Hoy

Objetivo de Sputtering de Zirconio de Alta Calidad 705 para Soluciones Personalizadas Hoy

Negociable
10 Kg(MOQ)
Placa de objetivo de tantalio de alta pureza para aplicaciones aeroespaciales y de defensa

Placa de objetivo de tantalio de alta pureza para aplicaciones aeroespaciales y de defensa

Negociable
10 Kg(MOQ)
1/4

Shaanxi Mingsheng Guangpu Metal Materials Co., Ltd.

3 años·5.0
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Objetivo de Sputtering de Cromo en Forma de Rectángulo con Maquinado de Agujeros para Recubrimiento Metálico de Precisión

Objetivo de Sputtering de Cromo en Forma de Rectángulo con Maquinado de Agujeros para Recubrimiento Metálico de Precisión

US$ 99,00-180,00
1 Pieza(MOQ)
Objetivos de Sputtering de Níquel Puro Msgp para la Fabricación de Sensores Garantía Central

Objetivos de Sputtering de Níquel Puro Msgp para la Fabricación de Sensores Garantía Central

US$ 160,00-200,00
50 kilograms(MOQ)
Placa de Titanio con Agujero Curvado para Recubrimientos Ópticos Mejorados

Placa de Titanio con Agujero Curvado para Recubrimientos Ópticos Mejorados

US$ 190,00-198,00
10 Kg(MOQ)
Objetivo de aluminio y circonio CIP versátil con composición de cromo

Objetivo de aluminio y circonio CIP versátil con composición de cromo

US$ 85,00-95,00
1 Pieza(MOQ)
1/4

Ningbo Tower Machinery Co., Ltd

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Ar500 Acero Recubierto de Polvo 6" X 1/2" Objetivo de Metal para Tiro al Blanco

Ar500 Acero Recubierto de Polvo 6" X 1/2" Objetivo de Metal para Tiro al Blanco

US$ 3,00
1.000 Piezas(MOQ)
Objetivo de acero color OEM cortado con láser para venta caliente

Objetivo de acero color OEM cortado con láser para venta caliente

US$ 5,00-6,00
500 Piezas(MOQ)
Sistema de objetivos de gong de acero colgante para disparo de centro de fuego Ar500

Sistema de objetivos de gong de acero colgante para disparo de centro de fuego Ar500

US$ 19,00-25,00
100 Piezas(MOQ)
Ar500 Soporte de objetivo de tiro de gong de acero con agujeros redondos

Ar500 Soporte de objetivo de tiro de gong de acero con agujeros redondos

US$ 19,00-25,00
100 Piezas(MOQ)
1/4

Luoyang Modi Tungsten & Molybdenum Material Co., Ltd.

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99.95% Molybdenum Round Metal Sputtering Target

99.95% Molybdenum Round Metal Sputtering Target

US$ 57,00-72,00
1 Kg(MOQ)
Grosor 0.2mm-2mm Hoja/Placa de Molibdeno Metal Placa de Molibdeno

Grosor 0.2mm-2mm Hoja/Placa de Molibdeno Metal Placa de Molibdeno

US$ 50,00-71,00
1 Kg(MOQ)
Fábrica de Tubos de Molibdeno Personalizados 99.95% Precio de Tubo de Objetivo de Molibdeno de Alta Pureza Tubo de Metal de Molibdeno

Fábrica de Tubos de Molibdeno Personalizados 99.95% Precio de Tubo de Objetivo de Molibdeno de Alta Pureza Tubo de Metal de Molibdeno

US$ 57,00-72,00
1 Kg(MOQ)
Luoyang Manufacturer 99.95% Pure Molybdenum Plate/Sheet Molybdenum Strip for High Temperature Furnace

Luoyang Manufacturer 99.95% Pure Molybdenum Plate/Sheet Molybdenum Strip for High Temperature Furnace

US$ 40,00-71,00
1 Kg(MOQ)
1/4

Ningbo Galaxy International Trading Co., Ltd.

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99.9% Objetivo de recubrimiento al vacío de níquel, cromo y aluminio para el proceso PVD, objetivo de cromo y tantalio

99.9% Objetivo de recubrimiento al vacío de níquel, cromo y aluminio para el proceso PVD, objetivo de cromo y tantalio

US$ 55,00
1 Pieza(MOQ)
Objetivo Redondo de Zirconio con Ductilidad Colorida y Resistencia al Calor

Objetivo Redondo de Zirconio con Ductilidad Colorida y Resistencia al Calor

US$ 15,00
5 Piezas(MOQ)
Titanio con cromo objetivo redondo para revestimiento de vacío

Titanio con cromo objetivo redondo para revestimiento de vacío

US$ 60,00
1 Pieza(MOQ)
Objetivos de hafnio de alta pureza para conductividad térmica para recubrimiento

Objetivos de hafnio de alta pureza para conductividad térmica para recubrimiento

US$ 30,00
5 pcs(MOQ)
1/4

Ningbo Danko Vacuum Technology Co., Ltd.

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Recubrimiento al vacío de objetivo de titanio

Recubrimiento al vacío de objetivo de titanio

US$ 30,00-100,00
1 Pieza(MOQ)
Línea de producción de recubrimiento de máquina de recubrimiento al vacío de iones de arco múltiple

Línea de producción de recubrimiento de máquina de recubrimiento al vacío de iones de arco múltiple

US$ 15.000,00-89.000,00
1 Pieza(MOQ)
Equipo de recubrimiento por pulverización catódica PVD de alta calidad en vacío

Equipo de recubrimiento por pulverización catódica PVD de alta calidad en vacío

US$ 15.000,00-160.000,00
1 Pieza(MOQ)
Línea de producción de recubrimiento al vacío por ionización de múltiples arcos con colores hermosos

Línea de producción de recubrimiento al vacío por ionización de múltiples arcos con colores hermosos

US$ 10.000,00-89.000,00
1 Pieza(MOQ)
1/4

Zhengzhou Shibo Nonferrous Metals Products Co., Ltd.

21 años·5.0
·Fabricante/Fábrica & Empresa Comercial
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Placa Redonda de Molibdeno de Alta Pureza Mo1 para Sputtering

Placa Redonda de Molibdeno de Alta Pureza Mo1 para Sputtering

US$ 40,00-88,00
1 kg(MOQ)
Molibdeno material objetivo mejor Precio Mo Tagret

Molibdeno material objetivo mejor Precio Mo Tagret

US$ 40,00-88,00
1 kg(MOQ)
Placa de molibdeno de alta calidad

Placa de molibdeno de alta calidad

US$ 40,00-88,00
1 kg(MOQ)
Mo1 Precio del objetivo de molibdeno para sputtering

Mo1 Precio del objetivo de molibdeno para sputtering

US$ 40,00-88,00
1 kg(MOQ)
1/2

Dongguan Gravel Industries and Enterprise Company Limited

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Objetivo redondo de cobalto de alta pureza y platino

Objetivo redondo de cobalto de alta pureza y platino

US$ 585.000,00
1 Pieza(MOQ)
Objetivo de Níquel 99.99 Objetivo de Sputtering de Alta Pureza

Objetivo de Níquel 99.99 Objetivo de Sputtering de Alta Pureza

US$ 1.500,00
1 Pieza(MOQ)
Objetivo de Sputtering de Oro Objetivo Au

Objetivo de Sputtering de Oro Objetivo Au

US$ 1.850.000,00
1 Pieza(MOQ)
Objetivo de níquel de sputtering magnetrón de alta pureza

Objetivo de níquel de sputtering magnetrón de alta pureza

US$ 800,00
1 Pieza(MOQ)
1/4

Zhejiang Ruisheng New Materials Co., Ltd.

Empresa Comercial
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Objetivo de Sputtering de Tungsteno de Alta Pureza 99.95% Deposición de Películas Finas de Semiconductores Personalizable Estándar ASTM

Objetivo de Sputtering de Tungsteno de Alta Pureza 99.95% Deposición de Películas Finas de Semiconductores Personalizable Estándar ASTM

US$ 60,00-100,00
1 Kg(MOQ)
Objetivo de Molybdeno Puro Ultra Denso 99.9% 100mm Diámetro Recubrimiento de Película Delgada Opcional RoHS

Objetivo de Molybdeno Puro Ultra Denso 99.9% 100mm Diámetro Recubrimiento de Película Delgada Opcional RoHS

US$ 30,00-60,00
10 Kg(MOQ)
Objetivo de tungsteno rotativo premium para aplicaciones de sputtering eficientes

Objetivo de tungsteno rotativo premium para aplicaciones de sputtering eficientes

US$ 50,00-270,00
10 Kg(MOQ)
Objetivo de Molybdeno de Alta Pureza para Aplicaciones Industriales Avanzadas

Objetivo de Molybdeno de Alta Pureza para Aplicaciones Industriales Avanzadas

US$ 30,00-60,00
1 Kg(MOQ)
1/4

Shanghai Yoursign Advertising Material Co., Ltd.

11 años·5.0
·Empresa Comercial
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Objetivos de encuesta retroreflectantes con reflectores adhesivos para la topografía con estación total

Objetivos de encuesta retroreflectantes con reflectores adhesivos para la topografía con estación total

US$ 0,15-1,00
1 Pieza(MOQ)
Hoja de objetivo de estación total de topografía retroreflectante de alta visibilidad personalizada

Hoja de objetivo de estación total de topografía retroreflectante de alta visibilidad personalizada

US$ 0,15-1,00
1 Pieza(MOQ)
Hoja de objetivo reflectante personalizada para estación total, encuesta retro, adhesivo de cualquier tamaño

Hoja de objetivo reflectante personalizada para estación total, encuesta retro, adhesivo de cualquier tamaño

US$ 0,15-1,00
1 Pieza(MOQ)
Objetivo de Escaneo Magnético con Láser Retroreflectante 3D

Objetivo de Escaneo Magnético con Láser Retroreflectante 3D

US$ 0,40-1,00
1 Pieza(MOQ)
1/4

Xiamen HiuGong Machinery Co., Ltd.

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Objetivo de Sputtering Magnetrón Zrox Si Cr Nb Cu Cr AG

Objetivo de Sputtering Magnetrón Zrox Si Cr Nb Cu Cr AG

US$ 500,00
1 Pieza(MOQ)
99.99% Objetivo de Sputtering de Óxido de Galio Objetivo Plano Ga2o3 Objetivo

99.99% Objetivo de Sputtering de Óxido de Galio Objetivo Plano Ga2o3 Objetivo

US$ 300,00
1 Pieza(MOQ)
Objetivo de Sputtering Rotatorio 4n-5n Sial Nicr Znal Znsn Tiox Nbox

Objetivo de Sputtering Rotatorio 4n-5n Sial Nicr Znal Znsn Tiox Nbox

US$ 1.000,00
1 Pieza(MOQ)
Equipo de recubrimiento por pulverización de plasma, antiadherente, resistente al desgaste, silicio, aluminio, alúmina, circonio

Equipo de recubrimiento por pulverización de plasma, antiadherente, resistente al desgaste, silicio, aluminio, alúmina, circonio

US$ 35.000,00
1 Pieza(MOQ)
1/4

Zhuzhou Hongtong Tungsten Carbide Co., Ltd.

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Objetivo de ánodo rotatorio CT para tubos de rayos X consumibles hecho de molibdeno y tungsteno

Objetivo de ánodo rotatorio CT para tubos de rayos X consumibles hecho de molibdeno y tungsteno

US$ 65,00-70,00
10 Piezas(MOQ)
Anodo Estacionario para Tubo de Rayos X

Anodo Estacionario para Tubo de Rayos X

US$ 65,00-70,00
10 Piezas(MOQ)
Objetivos de sputtering de carburo de tungsteno para fabricar recubrimientos de DLC

Objetivos de sputtering de carburo de tungsteno para fabricar recubrimientos de DLC

US$ 38,00-45,00
10 Kg(MOQ)
Varios objetivos de tungsteno carburo en diferentes formas para recubrimientos de DLC

Varios objetivos de tungsteno carburo en diferentes formas para recubrimientos de DLC

US$ 38,00-45,00
10 Kg(MOQ)
1/4

Tianjin Rui Yuan Electric Material Co., Ltd.

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Fábrica china de alta pureza 6n cobre (Cu) 99.9999% objetivo de sputtering

Fábrica china de alta pureza 6n cobre (Cu) 99.9999% objetivo de sputtering

US$ 89,00-180,00
1.000 kilograms(MOQ)
Objetivos de Cobre de Ultra Pureza 99.9999% 7n5

Objetivos de Cobre de Ultra Pureza 99.9999% 7n5

US$ 26,99-53,03
1.000 kilograms(MOQ)
99.9999% 6n Placas de respaldo de objetivos de sputtering de cobre de alta pureza

99.9999% 6n Placas de respaldo de objetivos de sputtering de cobre de alta pureza

US$ 335,00-350,00
100 Kg(MOQ)
C110/C10100/Tu00 5n Objetivo de Sputtering de Alta Pureza Cobre 99.999% para Recubrimiento Óptico

C110/C10100/Tu00 5n Objetivo de Sputtering de Alta Pureza Cobre 99.999% para Recubrimiento Óptico

US$ 79,99
50 Kg(MOQ)
1/4

Zhonghe Steel (Tianjin) Co., Ltd.

5 años
·Empresa Comercial
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Alta Pureza 99.6% PVD M86 Objetivo de Titanio Od 98X40mm Objetivo de Titanio

Alta Pureza 99.6% PVD M86 Objetivo de Titanio Od 98X40mm Objetivo de Titanio

US$ 10,00-25,00
1 Pieza(MOQ)
Objetivos de PVD de aleación de aluminio y titanio, objetivos de sputtering de titanio, objetivo de aleación de Tial para recubrimiento

Objetivos de PVD de aleación de aluminio y titanio, objetivos de sputtering de titanio, objetivo de aleación de Tial para recubrimiento

US$ 10,00-25,00
1 Pieza(MOQ)
Precio del objetivo de sputtering de titanio PVD personalizado

Precio del objetivo de sputtering de titanio PVD personalizado

US$ 10,00-25,00
1 Pieza(MOQ)
Objetivo de Sputtering de Titanio de Alta Pureza Gr1 Gr2 para PVD

Objetivo de Sputtering de Titanio de Alta Pureza Gr1 Gr2 para PVD

US$ 10,00-25,00
1 Pieza(MOQ)
1/4

ATM Material Co., Ltd.

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Objetivo de Cr con alta calidad

Objetivo de Cr con alta calidad

US$ 0,10-100,00
1.000 Piezas(MOQ)
Objetivo Wti / Objetivos de Sputtering / Alta Calidad Wti

Objetivo Wti / Objetivos de Sputtering / Alta Calidad Wti

US$ 1,00-100,00
1 Pieza(MOQ)
W Objetivo

W Objetivo

US$ 100,00
1 Pieza(MOQ)
Objetivo de molibdeno puro para recubrimientos, pantallas TFT-LCD

Objetivo de molibdeno puro para recubrimientos, pantallas TFT-LCD

US$ 1.000,00
1 Pieza(MOQ)
1/4

LUOYANG COMBAT TUNGSTEN & MOLYBDENUM MATERIAL CO., LTD.

18 años·5.0
·Fabricante/Fábrica & Empresa Comercial
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Objetivo de Sputtering de Molybdeno de Alta Densidad de Combate 99.95%

Objetivo de Sputtering de Molybdeno de Alta Densidad de Combate 99.95%

US$ 55,00-59,00
1 Kg(MOQ)
Objetivo de Sputtering de Titanio Puro de Material de Titanio Hecho a Medida 99.6% en Venta

Objetivo de Sputtering de Titanio Puro de Material de Titanio Hecho a Medida 99.6% en Venta

US$ 35,00-40,00
5 Kg(MOQ)
10X10X10 Resistencia a la Corrosión Luoyang, Henan, China Placa de Tántalo

10X10X10 Resistencia a la Corrosión Luoyang, Henan, China Placa de Tántalo

US$ 596,00-600,00
1 Kg(MOQ)
10X10X10 Resistencia a la Corrosión Luoyang, Henan, China 99.95% Placa de Tantalio

10X10X10 Resistencia a la Corrosión Luoyang, Henan, China 99.95% Placa de Tantalio

US$ 596,00-600,00
1 Kg(MOQ)
1/4
197
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