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sobre objetivo de pulverización de aleación de cobre
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  • Capacidades de fabricación sustanciales

objetivo de pulverización de aleación de cobre60+ fábricas verificadas

Beenine Shanke Technology Co., Ltd.

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Objetivo de sputtering de aleación de cobre níquel Cu/Ni de construcción multi-PCS

Objetivo de sputtering de aleación de cobre níquel Cu/Ni de construcción multi-PCS

US$ 300,00-1.000,00
1 Pieza(MOQ)
Objetivo de pulverización de recubrimiento PVD plano redondo de aleación de cobre y níquel Cu/Ni fábrica

Objetivo de pulverización de recubrimiento PVD plano redondo de aleación de cobre y níquel Cu/Ni fábrica

US$ 300,00-1.000,00
1 Pieza(MOQ)
Objetivo de sputtering tubular plano de aleación de cobre níquel de alta pureza Cu/Ni

Objetivo de sputtering tubular plano de aleación de cobre níquel de alta pureza Cu/Ni

US$ 300,00-1.000,00
1 Pieza(MOQ)
Objetivo de sputtering de aleación de cobre y níquel de alta calidad Cu/Ni unión

Objetivo de sputtering de aleación de cobre y níquel de alta calidad Cu/Ni unión

US$ 300,00-1.000,00
1 Pieza(MOQ)
1/4

Changsha Xinkang Advanced Materials Co., Ltd.

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Discos de aleación de níquel, cobre y titanio para aplicaciones de recubrimiento 99.9%

Discos de aleación de níquel, cobre y titanio para aplicaciones de recubrimiento 99.9%

US$ 160,00-167,00
1 Pieza(MOQ)
Objetivo de Sputtering de Aleación de Níquel y Cobre de Tamaño Personalizado para Aplicaciones de Recubrimiento PVD

Objetivo de Sputtering de Aleación de Níquel y Cobre de Tamaño Personalizado para Aplicaciones de Recubrimiento PVD

US$ 40,00-500,00
1 Pieza(MOQ)
99.99% Disco de placa de aleación de cobre níquel titanio Cuniti 62/35/3wt% Objetivo de sputtering

99.99% Disco de placa de aleación de cobre níquel titanio Cuniti 62/35/3wt% Objetivo de sputtering

US$ 70,00-80,00
1 Pieza(MOQ)
CuNi65/35wt% Objetivos de Sputtering 99.99% Objetivos de Aleación de Cobre y Níquel Puro para Recubrimiento de Películas PVD

CuNi65/35wt% Objetivos de Sputtering 99.99% Objetivos de Aleación de Cobre y Níquel Puro para Recubrimiento de Películas PVD

US$ 50,00-150,00
1 Pieza(MOQ)
1/4

Lonwin Industry Group Limited

5.0
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99.99% Blanco de aleación de níquel y cobre Nicu para recubrimiento PVD

99.99% Blanco de aleación de níquel y cobre Nicu para recubrimiento PVD

US$ 17,00-55,00
1 Kg(MOQ)
Alcance de alta pureza 99.99% aleación de cobre de zirconio Zrcu para sputtering

Alcance de alta pureza 99.99% aleación de cobre de zirconio Zrcu para sputtering

US$ 17,00-55,00
1 Kg(MOQ)
99.9% Objetivo de aleación de cobre y gadolinio para pulverización

99.9% Objetivo de aleación de cobre y gadolinio para pulverización

US$ 17,00-55,00
1 Kg(MOQ)
99.9% Objetivos de aleación de Cuco, objetivos de pulverización de aleación de cobre y cobalto

99.9% Objetivos de aleación de Cuco, objetivos de pulverización de aleación de cobre y cobalto

US$ 17,00-55,00
1 Kg(MOQ)
1/4

SUZHOU TECHNO-TEC PHOTOELECTRIC MATERIALS CO., LTD

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Aleación CuNiTi Target Cobre níquel Titanio aleación esputtering objetivo para LCD/panel táctil

Aleación CuNiTi Target Cobre níquel Titanio aleación esputtering objetivo para LCD/panel táctil

US$ 50,00
1 Kg(MOQ)
Objetivo de aleación de aluminio objetivo de esputo de aleación de cobre de aluminio para semiconductores

Objetivo de aleación de aluminio objetivo de esputo de aleación de cobre de aluminio para semiconductores

US$ 40,00
1 Kg(MOQ)
Objetivo de aleación de CuNi, objetivo de pulverización de aleación de cobre y níquel para semiconductores

Objetivo de aleación de CuNi, objetivo de pulverización de aleación de cobre y níquel para semiconductores

US$ 50,00
1 Kg(MOQ)
Objetivo de pulverización de CU/objetivo rotatorio de cobre para conductor/semiconductor recubierto de metal

Objetivo de pulverización de CU/objetivo rotatorio de cobre para conductor/semiconductor recubierto de metal

US$ 10,00-15,00
1 Kg(MOQ)
1/4

Tianjin Rui Yuan Electric Material Co., Ltd.

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Fábrica china de alta pureza 6n cobre (Cu) 99.9999% objetivo de sputtering

Fábrica china de alta pureza 6n cobre (Cu) 99.9999% objetivo de sputtering

US$ 89,00-180,00
1.000 kilograms(MOQ)
Objetivos de Cobre de Ultra Pureza 99.9999% 7n5

Objetivos de Cobre de Ultra Pureza 99.9999% 7n5

US$ 26,99-53,03
1.000 kilograms(MOQ)
C110/C10100/Tu00 5n Objetivo de Sputtering de Alta Pureza Cobre 99.999% para Recubrimiento Óptico

C110/C10100/Tu00 5n Objetivo de Sputtering de Alta Pureza Cobre 99.999% para Recubrimiento Óptico

US$ 79,99
50 Kg(MOQ)
99.9999% 6n Placas de respaldo de objetivos de sputtering de cobre de alta pureza

99.9999% 6n Placas de respaldo de objetivos de sputtering de cobre de alta pureza

US$ 335,00-350,00
100 Kg(MOQ)
1/4

Dongguan Gravel Industries and Enterprise Company Limited

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Objetivo de Cobre de Alta Pureza para Sputtering al Vacío

Objetivo de Cobre de Alta Pureza para Sputtering al Vacío

US$ 2.200,00
1 Pieza(MOQ)
Objetivo de recubrimiento PVD de plata y cobre, objetivo plano redondo

Objetivo de recubrimiento PVD de plata y cobre, objetivo plano redondo

US$ 8.000,00
1 Pieza(MOQ)
Estaño Plata Cobre Objetivo Sac Objetivo

Estaño Plata Cobre Objetivo Sac Objetivo

US$ 6.500,00
1 Pieza(MOQ)
Objetivo de cobre para pulverización catódica en vacío

Objetivo de cobre para pulverización catódica en vacío

US$ 35.000,00
1 Pieza(MOQ)
1/4

Shandong Quansheng Material Technology Group Co., LTD

3 años
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Objetivos de tungsteno premium para procesos de recubrimiento al vacío

Objetivos de tungsteno premium para procesos de recubrimiento al vacío

US$ 56,00-61,00
5 Kg(MOQ)
Varilla de niobio de titanio Nbti Precio de aleación de niobio de titanio

Varilla de niobio de titanio Nbti Precio de aleación de niobio de titanio

US$ 101,00-186,00
1 Kg(MOQ)
Venta Caliente Nbti 47 Superconductor 10mm 20mm 30mm Precio de Barra de Aleación de Niobio por Kg

Venta Caliente Nbti 47 Superconductor 10mm 20mm 30mm Precio de Barra de Aleación de Niobio por Kg

US$ 300,00-450,00
1 Kg(MOQ)
1/4

Zhuzhou Weilai New Materials Technology Co., Ltd.

8 años
·Fabricante/Fábrica & Empresa Comercial
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Repuestos de inserto de tubo de rayos X, objetivo rotativo de tomografía computarizada, objetivo de Mo por pulverización

Repuestos de inserto de tubo de rayos X, objetivo rotativo de tomografía computarizada, objetivo de Mo por pulverización

US$ 142,00-168,00
30 Piezas(MOQ)
Arenado, objetivo de molibdeno rutenio tungsteno negro para inserciones de tubo de rayos X

Arenado, objetivo de molibdeno rutenio tungsteno negro para inserciones de tubo de rayos X

US$ 142,00-168,00
30 Piezas(MOQ)
Objetivo de sputtering de ánodo rotatorio de molibdeno, renio y tungsteno

Objetivo de sputtering de ánodo rotatorio de molibdeno, renio y tungsteno

US$ 142,00-168,00
30 Piezas(MOQ)
Suministramos varios tipos de objetivos de ánodo rotatorio, chorro de arena, objetivos de sputtering de ánodo rotatorio ennegrecido

Suministramos varios tipos de objetivos de ánodo rotatorio, chorro de arena, objetivos de sputtering de ánodo rotatorio ennegrecido

US$ 142,00-168,00
30 Piezas(MOQ)
1/4

Inner Mongolia Rongtai Rhenium New Materials Co., Ltd.

5.0
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Disco de objetivo de pulverización de óxido de cobre, bario y itrio de alta calidad para electrónica

Disco de objetivo de pulverización de óxido de cobre, bario y itrio de alta calidad para electrónica

US$ 190,00-199,00
1 Pieza(MOQ)
Objetivo de Sputtering de Óxido de Ytterbio de Alta Pureza para Aplicaciones Electrónicas

Objetivo de Sputtering de Óxido de Ytterbio de Alta Pureza para Aplicaciones Electrónicas

US$ 190,00-199,00
1 Pieza(MOQ)
Varilla de metal de gadolinio con alta calidad de objetivo de metal raro

Varilla de metal de gadolinio con alta calidad de objetivo de metal raro

US$ 55,00-85,00
1 Pieza(MOQ)
Objetivo de metal de iterbio avanzado para aplicaciones electrónicas de precisión

Objetivo de metal de iterbio avanzado para aplicaciones electrónicas de precisión

US$ 190,00-199,00
1 Pieza(MOQ)
1/4

Ningbo Galaxy International Trading Co., Ltd.

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Nuevo Brillo Metálico Fuerza Níquel Objetivo Redondo

Nuevo Brillo Metálico Fuerza Níquel Objetivo Redondo

US$ 12,00
5 Piezas(MOQ)
Buena resistencia y dureza objetivo redondo de niobio

Buena resistencia y dureza objetivo redondo de niobio

US$ 1,20
5 pcs(MOQ)
Propiedad de pureza de hoja de zirconio de prensado en frío pulido

Propiedad de pureza de hoja de zirconio de prensado en frío pulido

US$ 42,00
5 Piezas(MOQ)
1/4

Jinan Hengcheng Aluminum Co., Ltd.

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Objetivo de Sputtering de Aluminio Titanio Alloy/50 para Máquina de Recubrimiento PVD

Objetivo de Sputtering de Aluminio Titanio Alloy/50 para Máquina de Recubrimiento PVD

US$ 3.380,00
1 Tonelada(MOQ)
Objetivo de sputtering de aluminio y titanio, objetivo de sputtering de titanio y aluminio

Objetivo de sputtering de aluminio y titanio, objetivo de sputtering de titanio y aluminio

US$ 3.380,00
1 Tonelada(MOQ)
1/4

Shenzhen Hongchen New Materials Co., Ltd

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China Cu High Purity aleación de cobre esputante objetivo para PVD Revestimiento

China Cu High Purity aleación de cobre esputante objetivo para PVD Revestimiento

US$ 10,00-15,00
1 Kg(MOQ)

Uv Tech Material Ltd

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La fábrica de aleación de zinc cobre de alta pureza Cuzn Sputtering Meta Meta Meta

La fábrica de aleación de zinc cobre de alta pureza Cuzn Sputtering Meta Meta Meta

Negociable
1 Pieza(MOQ)

Shanghai Tankii Alloy Material Co., Ltd.

5.0
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Fabricante personalizado de bajo precio, metal de cromo puro de alta pureza, objetivo de sputtering de Cr para recubrimiento PVD

Fabricante personalizado de bajo precio, metal de cromo puro de alta pureza, objetivo de sputtering de Cr para recubrimiento PVD

US$ 60,00-150,00
1 Pieza(MOQ)
Tipo de recubrimiento PVD más popular, uso de objetivo de sputtering de cromo tipo placa

Tipo de recubrimiento PVD más popular, uso de objetivo de sputtering de cromo tipo placa

US$ 60,00-150,00
1 Pieza(MOQ)
Precio de fábrica Vender 99.999% Objetivo de sputtering de cromo

Precio de fábrica Vender 99.999% Objetivo de sputtering de cromo

US$ 60,00-150,00
1 Pieza(MOQ)
Alta Pureza 99.99% TANKII Metal Cromo Objetivos de Sputtering

Alta Pureza 99.99% TANKII Metal Cromo Objetivos de Sputtering

US$ 60,00-150,00
1 Pieza(MOQ)
1/4

Rheniumet Ltd.

17 años
·Empresa Comercial
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Objetivo de Sputtering de Osmio y Renio para Recubrimiento por Sputtering al Vacío

Objetivo de Sputtering de Osmio y Renio para Recubrimiento por Sputtering al Vacío

Negociable
1 Pieza(MOQ)
Objetivo de sputtering de metal de tantalio de alta pureza para recubrimiento de película delgada

Objetivo de sputtering de metal de tantalio de alta pureza para recubrimiento de película delgada

US$ 300,00-1.000,00
1 Pieza(MOQ)
Personalización de fábrica de objetivo de metal noble osmio, aleaciones de osmio y renio, objetivo de pulverización personalizable

Personalización de fábrica de objetivo de metal noble osmio, aleaciones de osmio y renio, objetivo de pulverización personalizable

US$ 20,00-50,00
50 grams(MOQ)
99.95% Objetivo de Tantalio, Recubrimiento al Vacío con Objetivo de Sputtering de Ta Procesamiento Personalizado

99.95% Objetivo de Tantalio, Recubrimiento al Vacío con Objetivo de Sputtering de Ta Procesamiento Personalizado

US$ 500,00-600,00
1 Pieza(MOQ)
1/4

Shenzhen Silver Technologies Ltd

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4n Objetivo de Sputtering de Oro de Alta Pureza

4n Objetivo de Sputtering de Oro de Alta Pureza

US$ 200,00
10 g(MOQ)
99.99% Objetivo de Sputtering de Oro de Alta Calidad Au

99.99% Objetivo de Sputtering de Oro de Alta Calidad Au

US$ 200,00
10 g(MOQ)
Ventas Directas de Fábrica de 99.99% - 99.999% Material de Objetivo de Sputtering de Oro

Ventas Directas de Fábrica de 99.99% - 99.999% Material de Objetivo de Sputtering de Oro

US$ 200,00
100 g(MOQ)
99.99% Objetivo de Sputtering de Oro de Alta Pureza, Objetivo de Au

99.99% Objetivo de Sputtering de Oro de Alta Pureza, Objetivo de Au

US$ 200,00
100 g(MOQ)
1/4

Zhejiang Ruisheng New Materials Co., Ltd.

Empresa Comercial
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Objetivo de tungsteno rotativo premium para aplicaciones de sputtering eficientes

Objetivo de tungsteno rotativo premium para aplicaciones de sputtering eficientes

US$ 50,00-270,00
10 Kg(MOQ)
Objetivo de Sputtering de Tungsteno de Alta Pureza 99.95% Deposición de Películas Finas de Semiconductores Personalizable Estándar ASTM

Objetivo de Sputtering de Tungsteno de Alta Pureza 99.95% Deposición de Películas Finas de Semiconductores Personalizable Estándar ASTM

US$ 60,00-100,00
1 Kg(MOQ)
Objetivo de tungsteno pulido de alta pureza para aplicaciones avanzadas de bombardeo iónico

Objetivo de tungsteno pulido de alta pureza para aplicaciones avanzadas de bombardeo iónico

US$ 50,00-270,00
10 Kg(MOQ)
Discos de molibdeno de alta pureza y resistencia al calor para objetivos de sputtering fiables

Discos de molibdeno de alta pureza y resistencia al calor para objetivos de sputtering fiables

US$ 40,00-80,00
10 Kg(MOQ)
1/4

Zhongzheng Yejin Technology Co., Ltd.

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Objetivo de Sputtering de Cobre Cu de Alta Pureza 99.9995% para Electrónica de Cobre Ofhc

Objetivo de Sputtering de Cobre Cu de Alta Pureza 99.9995% para Electrónica de Cobre Ofhc

US$ 50,00-130,00
1 Pieza(MOQ)
99.99% Objetivo de recubrimiento por pulverización de níquel, objetivo magnético decorativo para recubrimiento de metal

99.99% Objetivo de recubrimiento por pulverización de níquel, objetivo magnético decorativo para recubrimiento de metal

Negociable
1 Pieza(MOQ)
Venta caliente de objetivo de sputtering de níquel con alta pureza

Venta caliente de objetivo de sputtering de níquel con alta pureza

Negociable
1 Pieza(MOQ)
Objetivo de Sputtering de Níquel 99.99% Objetivo de Ni de Alta Pureza para Recubrimiento PVD

Objetivo de Sputtering de Níquel 99.99% Objetivo de Ni de Alta Pureza para Recubrimiento PVD

Negociable
1 Pieza(MOQ)
1/2

Xi'an Kefeng Powder Metallurgy Co., Ltd.

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99.95% Tungsteno Puro: Su Proveedor de Confianza Desde China

99.95% Tungsteno Puro: Su Proveedor de Confianza Desde China

US$ 50,00-500,00
10 Kg(MOQ)
Bote de tungsteno de alta densidad y alto punto de fusión 99.95% piezas mecanizadas

Bote de tungsteno de alta densidad y alto punto de fusión 99.95% piezas mecanizadas

US$ 50,00-500,00
10 Kg(MOQ)
Placa de tungsteno en industrias de hornos de alta temperatura

Placa de tungsteno en industrias de hornos de alta temperatura

US$ 50,00-500,00
10 Kg(MOQ)
Barras de tungsteno, hojas, lingotes 99.95% Material de tungsteno ASTM B760 Estándar

Barras de tungsteno, hojas, lingotes 99.95% Material de tungsteno ASTM B760 Estándar

US$ 50,00-500,00
10 Kg(MOQ)
1/4

Xiamen Tmax Battery Equipments Limited

5.0
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Máquina de recubrimiento por pulverización de plasma rotativo TMAXCN Marca VTC-16-3HD-LD 3 incluyendo 3 objetivos

Máquina de recubrimiento por pulverización de plasma rotativo TMAXCN Marca VTC-16-3HD-LD 3 incluyendo 3 objetivos

US$ 8.000,00
1 Pieza(MOQ)
Horno de fusión por suspensión al vacío Vlf de la marca TMAXCN para 0.3-2kg

Horno de fusión por suspensión al vacío Vlf de la marca TMAXCN para 0.3-2kg

US$ 4.500,00-13.000,00
1 Pieza(MOQ)
Marca TMAXCN - VTC-600-2HD-GB-LD Cabezal Doble 2 Fuente de Sputtering de Plasma Magnetrón DC RF Máquina de Recubrimiento de Películas en Glovebox

Marca TMAXCN - VTC-600-2HD-GB-LD Cabezal Doble 2 Fuente de Sputtering de Plasma Magnetrón DC RF Máquina de Recubrimiento de Películas en Glovebox

US$ 16.000,00
1 Pieza(MOQ)
1/4

Sid Metal Co., Ltd

13 años
·Fabricante/Fábrica & Empresa Comercial
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Objetivo de zirconio premium para una superior deposición de películas delgadas

Objetivo de zirconio premium para una superior deposición de películas delgadas

US$ 10,00-1.000,00
10 piece(MOQ)
1/4

Zhuzhou M & J Import and Export Co., Ltd.

4.0
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Objetivo de Sputtering de Tungsteno Cementado de Alta Calidad

Objetivo de Sputtering de Tungsteno Cementado de Alta Calidad

US$ 5,00-20,00
20 Piezas(MOQ)
1/4

Junsion Precision Hardware Co., Ltd.

7 años
·Fabricante/Fábrica & Empresa Comercial
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Objetivo de pulverización de titanio, aluminio, cobre, cromo, níquel, tubo de magnetrón, recubrimiento PVD rotativo

Objetivo de pulverización de titanio, aluminio, cobre, cromo, níquel, tubo de magnetrón, recubrimiento PVD rotativo

US$ 0,50-10,00
10 Piezas(MOQ)
1/4

Enjo Sports Inc.

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Tacband Ar500 Metales de Tiro Objetivos para Exterior Interior Objetivo

Tacband Ar500 Metales de Tiro Objetivos para Exterior Interior Objetivo

US$ 7,85-8,90
100 Piezas(MOQ)
1/4

Lead Optima Element Tech Co., Ltd

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ITO destino con la placa de cobre metálico pegado

ITO destino con la placa de cobre metálico pegado

Negociable
1 Pieza(MOQ)

China Leadmat Advanced Materials Co., Ltd.

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sputtering

sputtering

US$ 18,00-20,00
1 Pieza(MOQ)

Jiangyin Entret Coating Technology Co., Ltd.

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El 99,99% de pureza de Sputtering meta de aluminio de alta calidad, objetivo de aluminio

El 99,99% de pureza de Sputtering meta de aluminio de alta calidad, objetivo de aluminio

US$ 10,00
1 Pieza(MOQ)
Alta calidad de Sputtering Meta Proveedor en China

Alta calidad de Sputtering Meta Proveedor en China

US$ 20,00-50,00
1 Pieza(MOQ)
El cobre de Sputtering Meta, Meta Cu

El cobre de Sputtering Meta, Meta Cu

US$ 10,00
1 Pieza(MOQ)
De Aluminio de silicio (SiAl) Sputtering meta, la pulverización de plasma

De Aluminio de silicio (SiAl) Sputtering meta, la pulverización de plasma

US$ 130,00
1 Pieza(MOQ)

FUJIAN ACETRON NEW MATERIALS CO., LTD.

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ACETRON 4N 99. 99% Blanco de aleación de cobre de alta pureza para recubrimiento por vacío/PVD

ACETRON 4N 99. 99% Blanco de aleación de cobre de alta pureza para recubrimiento por vacío/PVD

US$ 99,00-9.999,00
1 Pieza(MOQ)
ACETRON 5N 99.999% Blanco de aleación de cobre de alta pureza para recubrimiento en vacío/PVD

ACETRON 5N 99.999% Blanco de aleación de cobre de alta pureza para recubrimiento en vacío/PVD

US$ 99,00-99.999,00
1 Pieza(MOQ)
ACETRON 4N 99. 99% Blanco de aleación de cobre de alta pureza para pulverización en plano para recubrimiento en vacío/PVD

ACETRON 4N 99. 99% Blanco de aleación de cobre de alta pureza para pulverización en plano para recubrimiento en vacío/PVD

US$ 99,00-99.999,00
1 Pieza(MOQ)
ACETRON 4N 99.99% Blanco tubular de cobre de alta pureza para recubrimiento PVD

ACETRON 4N 99.99% Blanco tubular de cobre de alta pureza para recubrimiento PVD

US$ 99,00-99.999,00
1 Pieza(MOQ)

Dongguan Jinyuyang International Co., Ltd

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Objetivo de Titanio de Alta Pureza 99.99% para Máquina de Recubrimiento por Vacío / PVD

Objetivo de Titanio de Alta Pureza 99.99% para Máquina de Recubrimiento por Vacío / PVD

US$ 22,00-100,00
50 Piezas(MOQ)
99.99% Objetivo de Sputtering de Grafito de Alta Pureza

99.99% Objetivo de Sputtering de Grafito de Alta Pureza

US$ 22,00-100,00
50 Piezas(MOQ)
99.99% Material de recubrimiento de objetivo de cromo de alta pureza

99.99% Material de recubrimiento de objetivo de cromo de alta pureza

US$ 22,00-100,00
50 Piezas(MOQ)
99.99% Objetivo de Titanio Aluminio de Alta Pureza

99.99% Objetivo de Titanio Aluminio de Alta Pureza

US$ 22,00-100,00
50 Piezas(MOQ)
1/4

Tianjin Elegant Technology Co., Ltd.

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Tubo espiral de acero / tubo de bobina espiral desnudo de acero / tubo espiral de cobre

Tubo espiral de acero / tubo de bobina espiral desnudo de acero / tubo espiral de cobre

US$ 30,00-80,00
1.000 Kg(MOQ)
Bobina espiral de titanio / tubo de bobina de acero / tubo de bobina espiral de cobre

Bobina espiral de titanio / tubo de bobina de acero / tubo de bobina espiral de cobre

US$ 30,00-80,00
1.000 Kg(MOQ)
Intercambiador de calor de acero de titanio y cobre, tubo de espiral de titanio

Intercambiador de calor de acero de titanio y cobre, tubo de espiral de titanio

US$ 30,00-80,00
1.000 Kg(MOQ)
Fabricante de tubo espiral de titanio, tubo de acero y cobre

Fabricante de tubo espiral de titanio, tubo de acero y cobre

US$ 30,00-80,00
1.000 Kg(MOQ)
1/4
12
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