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sobre objetivo de co-sputtering
  • Innovación tecnológica
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  • Capacidades de fabricación sustanciales

objetivo de co-sputtering200+ fábricas verificadas

Changsha Xinkang Advanced Materials Co., Ltd.

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Objetivo de pulverización de cobalto de alta pureza para recubrimiento al vacío

Objetivo de pulverización de cobalto de alta pureza para recubrimiento al vacío

Negociable
1 Pieza(MOQ)
99.95% Objetivo de Sputtering de Cobalto para Recubrimiento

99.95% Objetivo de Sputtering de Cobalto para Recubrimiento

US$ 50,00-200,00
1 Pieza(MOQ)
99.95% Objetivo de Sputtering de Disco de Cobalto Magnetrón Co Objetivos de Cobalto Tamaño Personalizado

99.95% Objetivo de Sputtering de Disco de Cobalto Magnetrón Co Objetivos de Cobalto Tamaño Personalizado

US$ 35,00-40,00
1 Pieza(MOQ)
Objetivo de Sputtering de Cobalto Puro (Co) 99.95% Superficie Pulida Metal Cobalto Objetivo para Proceso de Película

Objetivo de Sputtering de Cobalto Puro (Co) 99.95% Superficie Pulida Metal Cobalto Objetivo para Proceso de Película

US$ 30,00-500,00
1 pieces(MOQ)
1/4

Lonwin Industry Group Limited

5.0
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99.95% Blanco de Sputtering de Cobalto Puro Metal Blanco de Cobalto

99.95% Blanco de Sputtering de Cobalto Puro Metal Blanco de Cobalto

US$ 17,00-55,00
1 Kg(MOQ)
Alta Pureza 99.999% Puro Ge Germanio Objetivo de Sputtering Objetivo Magnetrón

Alta Pureza 99.999% Puro Ge Germanio Objetivo de Sputtering Objetivo Magnetrón

US$ 17,00-55,00
1 Kg(MOQ)
99.95% Blanco de Sputtering de Aleación de Metal Znsn Zinc Estaño

99.95% Blanco de Sputtering de Aleación de Metal Znsn Zinc Estaño

US$ 17,00-55,00
1 Kg(MOQ)
Objetivos de Sputtering de Silicuro de Titanio de Alta Pureza Tisi2 Recubrimiento por Sputtering

Objetivos de Sputtering de Silicuro de Titanio de Alta Pureza Tisi2 Recubrimiento por Sputtering

US$ 17,00-55,00
1 Kg(MOQ)
1/4

Sid Metal Co., Ltd

13 años
·Fabricante/Fábrica & Empresa Comercial
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Zr702 Zr705 Conductividad Térmica de Tubo de Circonio Alta Pureza Objetivo de Sputtering

Zr702 Zr705 Conductividad Térmica de Tubo de Circonio Alta Pureza Objetivo de Sputtering

US$ 1,00-3.000,00
1 Pieza(MOQ)
Alta Pureza Zr702 Zr705 Objetivo de Zirconio Conductividad Térmica Objetivo de Sputtering

Alta Pureza Zr702 Zr705 Objetivo de Zirconio Conductividad Térmica Objetivo de Sputtering

US$ 0,05-100,00
1 Pieza(MOQ)
Hoja de objetivo de zirconio Zr702 Zr705 para recubrimiento PVD disco de zirconio

Hoja de objetivo de zirconio Zr702 Zr705 para recubrimiento PVD disco de zirconio

US$ 1,00-3.000,00
1 Pieza(MOQ)
Objetivo de hoja de sputtering de circonio Zr702 Zr705 para recubrimiento PVD disco de circonio

Objetivo de hoja de sputtering de circonio Zr702 Zr705 para recubrimiento PVD disco de circonio

US$ 1,00-3.000,00
1 Pieza(MOQ)
1/4

SUZHOU TECHNO-TEC PHOTOELECTRIC MATERIALS CO., LTD

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Objetivo de pulverización de CU/objetivo rotatorio de cobre para conductor/semiconductor recubierto de metal

Objetivo de pulverización de CU/objetivo rotatorio de cobre para conductor/semiconductor recubierto de metal

US$ 10,00-15,00
1 Kg(MOQ)
Objetivo cerámico de Poli-silicio para esputo Blanco/Solar Fotovoltaica

Objetivo cerámico de Poli-silicio para esputo Blanco/Solar Fotovoltaica

US$ 35,00-50,00
1 Kg(MOQ)
Objetivo de Silicio Monocristalino Mono-Si para Objetivo de Sputtering en Fotovoltaica Solar para Teléfonos Móviles

Objetivo de Silicio Monocristalino Mono-Si para Objetivo de Sputtering en Fotovoltaica Solar para Teléfonos Móviles

US$ 35,00-75,00
1 Kg(MOQ)
Aleación CuNiTi Target Cobre níquel Titanio aleación esputtering objetivo para LCD/panel táctil

Aleación CuNiTi Target Cobre níquel Titanio aleación esputtering objetivo para LCD/panel táctil

US$ 50,00
1 Kg(MOQ)
1/4

Ningbo Galaxy International Trading Co., Ltd.

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99.9% Objetivo de recubrimiento al vacío de níquel, cromo y aluminio para el proceso PVD, objetivo de cromo y tantalio

99.9% Objetivo de recubrimiento al vacío de níquel, cromo y aluminio para el proceso PVD, objetivo de cromo y tantalio

US$ 55,00
1 Pieza(MOQ)
Resistencia y dureza propiedad prensadora de frío Titanio esputtering Coating Round Target

Resistencia y dureza propiedad prensadora de frío Titanio esputtering Coating Round Target

US$ 32,00-40,00
1 Pieza(MOQ)
Objetivo de sputtering redondo de aluminio de titanio de alta calidad

Objetivo de sputtering redondo de aluminio de titanio de alta calidad

US$ 20,00
50 Piezas(MOQ)
Objetivo de Sputtering de Tubo de Acero Inoxidable 99.9% de Titanio para Recubrimiento al Vacío

Objetivo de Sputtering de Tubo de Acero Inoxidable 99.9% de Titanio para Recubrimiento al Vacío

US$ 10,00
10 pcs(MOQ)
1/4

Ningbo Danko Vacuum Technology Co., Ltd.

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Recubrimiento al vacío de objetivo de titanio

Recubrimiento al vacío de objetivo de titanio

US$ 30,00-100,00
1 Pieza(MOQ)
Máquina de recubrimiento por pulverización catódica de magnetrón PVD en vacío

Máquina de recubrimiento por pulverización catódica de magnetrón PVD en vacío

US$ 75.000,00-148.000,00
1 Pieza(MOQ)
Máquina de recubrimiento por ionización de plasma PVD de color dorado real para joyería, relojes

Máquina de recubrimiento por ionización de plasma PVD de color dorado real para joyería, relojes

US$ 75.000,00-160.000,00
1 Pieza(MOQ)
Sistema de recubrimiento por vacío PVD de galvanoplastia Ipg para joyería y relojes

Sistema de recubrimiento por vacío PVD de galvanoplastia Ipg para joyería y relojes

US$ 65.000,00-160.000,00
1 Pieza(MOQ)
1/4

Zhengzhou Shibo Nonferrous Metals Products Co., Ltd.

21 años·5.0
·Fabricante/Fábrica & Empresa Comercial
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Mo1 Precio del objetivo de molibdeno para sputtering

Mo1 Precio del objetivo de molibdeno para sputtering

US$ 40,00-88,00
1 kg(MOQ)
Molibdeno material objetivo mejor Precio Mo Tagret

Molibdeno material objetivo mejor Precio Mo Tagret

US$ 40,00-88,00
1 kg(MOQ)
Placa de molibdeno de alta calidad

Placa de molibdeno de alta calidad

US$ 40,00-88,00
1 kg(MOQ)
Placa Redonda de Molibdeno de Alta Pureza Mo1 para Sputtering

Placa Redonda de Molibdeno de Alta Pureza Mo1 para Sputtering

US$ 40,00-88,00
1 kg(MOQ)
1/2

Luoyang Modi Tungsten & Molybdenum Material Co., Ltd.

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Molybdenum Thick Plate Molybdenum Ingot Molybdenum Sputtering Target

Molybdenum Thick Plate Molybdenum Ingot Molybdenum Sputtering Target

US$ 57,00-72,00
1 Kg(MOQ)
Mo1 Molybdenum Sputtering Target Molybdenum Target Price

Mo1 Molybdenum Sputtering Target Molybdenum Target Price

US$ 57,00-72,00
1 Kg(MOQ)
Tzm Molybdenum Alloy Plate Sputtering Targets Price

Tzm Molybdenum Alloy Plate Sputtering Targets Price

US$ 75,00-95,00
1 Kg(MOQ)
High Purity Sputtering Target Material Molybdenum Sputtering Target

High Purity Sputtering Target Material Molybdenum Sputtering Target

US$ 57,00-72,00
1 Kg(MOQ)
1/4

Beenine Shanke Technology Co., Ltd.

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Objetivo de sputtering de aluminio de alta calidad, unión, precio en China

Objetivo de sputtering de aluminio de alta calidad, unión, precio en China

US$ 80,00-500,00
1 Pieza(MOQ)
Valor Precio Fábrica de Objetivo de Sputtering Tubular Planar de Molibdeno de Alta Pureza

Valor Precio Fábrica de Objetivo de Sputtering Tubular Planar de Molibdeno de Alta Pureza

US$ 80,00-500,00
1 Kg(MOQ)
Objetivo de pulverización de recubrimiento PVD plano redondo de cromo fábrica

Objetivo de pulverización de recubrimiento PVD plano redondo de cromo fábrica

US$ 50,00-300,00
1 Pieza(MOQ)
4n 99.99% Objetivo de Sputtering de Aluminio de Alta Pureza para Recubrimiento PVD

4n 99.99% Objetivo de Sputtering de Aluminio de Alta Pureza para Recubrimiento PVD

US$ 80,00-500,00
1 Pieza(MOQ)
1/4

Shanghai Tankii Alloy Material Co., Ltd.

5.0
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Venta directa de fábrica de objetivo de sputtering de cromo utilizado para preparar películas delgadas de galgas de deformación resistivas

Venta directa de fábrica de objetivo de sputtering de cromo utilizado para preparar películas delgadas de galgas de deformación resistivas

US$ 60,00-150,00
1 Pieza(MOQ)
Precio de fábrica 99.999% objetivo de sputtering de cromo

Precio de fábrica 99.999% objetivo de sputtering de cromo

US$ 60,00-150,00
1 Pieza(MOQ)
Tipo de recubrimiento PVD más popular, uso de objetivo de sputtering de cromo tipo placa

Tipo de recubrimiento PVD más popular, uso de objetivo de sputtering de cromo tipo placa

US$ 60,00-150,00
1 Pieza(MOQ)
Alta Pureza 99.99% TANKII Metal Cromo Objetivos de Sputtering

Alta Pureza 99.99% TANKII Metal Cromo Objetivos de Sputtering

US$ 60,00-150,00
1 Pieza(MOQ)
1/4

Inner Mongolia Rongtai Rhenium New Materials Co., Ltd.

5.0
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Objetivo de Sputtering de Metal de Gadolinio de Alta Pureza para Aplicaciones de PVD

Objetivo de Sputtering de Metal de Gadolinio de Alta Pureza para Aplicaciones de PVD

US$ 55,00-85,00
1 Pieza(MOQ)
Objetivo de Sputtering de Metal de Ytterbio de Alta Pureza para Aplicaciones Avanzadas

Objetivo de Sputtering de Metal de Ytterbio de Alta Pureza para Aplicaciones Avanzadas

US$ 190,00-199,00
1 Pieza(MOQ)
Objetivo de sputtering de aleación de titanio y iterbio de alta pureza para recubrimientos superiores

Objetivo de sputtering de aleación de titanio y iterbio de alta pureza para recubrimientos superiores

US$ 190,00-199,00
1 Pieza(MOQ)
Objetivos de Sputtering de Ytterbio (Yb) Personalizados para Aplicaciones Avanzadas

Objetivos de Sputtering de Ytterbio (Yb) Personalizados para Aplicaciones Avanzadas

US$ 190,00-199,00
1 Pieza(MOQ)
1/4

Shaanxi Mingsheng Guangpu Metal Materials Co., Ltd.

3 años·5.0
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Objetivo de Sputtering de Cromo para Electrónica de Precisión y Moldes

Objetivo de Sputtering de Cromo para Electrónica de Precisión y Moldes

US$ 90,00-110,00
2 Piezas(MOQ)
Objetivos de sputtering de níquel resistente al desgaste para recubrimiento de sensores electrónicos automotrices

Objetivos de sputtering de níquel resistente al desgaste para recubrimiento de sensores electrónicos automotrices

US$ 120,00-140,00
50 kilograms(MOQ)
Objetivos de sputtering de níquel de alta pureza en forma tubular - Personalizables para células solares fotovoltaicas

Objetivos de sputtering de níquel de alta pureza en forma tubular - Personalizables para células solares fotovoltaicas

US$ 200,00-220,00
50 kilograms(MOQ)
Objetivos de Sputtering de Níquel Puro Msgp para la Fabricación de Sensores Garantía Central

Objetivos de Sputtering de Níquel Puro Msgp para la Fabricación de Sensores Garantía Central

US$ 160,00-200,00
50 kilograms(MOQ)
1/4

Zhonghe Steel (Tianjin) Co., Ltd.

5 años
·Empresa Comercial
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Personalización de objetivo de sputtering de titanio para necesidades de recubrimiento especializadas

Personalización de objetivo de sputtering de titanio para necesidades de recubrimiento especializadas

US$ 10,00-25,00
1 Pieza(MOQ)
Objetivos de PVD de aleación de aluminio y titanio, objetivos de sputtering de titanio, objetivo de aleación de Tial para recubrimiento

Objetivos de PVD de aleación de aluminio y titanio, objetivos de sputtering de titanio, objetivo de aleación de Tial para recubrimiento

US$ 10,00-25,00
1 Pieza(MOQ)
Alta Pureza 99.6% PVD M86 Objetivo de Titanio Od 98X40mm Objetivo de Titanio

Alta Pureza 99.6% PVD M86 Objetivo de Titanio Od 98X40mm Objetivo de Titanio

US$ 10,00-25,00
1 Pieza(MOQ)
Objetivo de Titanio de Alta Pureza para Máquina de Recubrimiento PVD

Objetivo de Titanio de Alta Pureza para Máquina de Recubrimiento PVD

US$ 10,00-25,00
1 Pieza(MOQ)
1/4

Zhengzhou Tainuo Film Materials Co., Ltd.

9 años
·Fabricante/Fábrica
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Recubridor de plasma de doble objetivo de escritorio para muestras de SEM y cromo

Recubridor de plasma de doble objetivo de escritorio para muestras de SEM y cromo

US$ 7.900,00-8.500,00
1 Pieza(MOQ)
Fuente de Sputtering Magnetrón de Alto Vacío para el Proceso de Recubrimiento PVD

Fuente de Sputtering Magnetrón de Alto Vacío para el Proceso de Recubrimiento PVD

US$ 1.800,00-2.000,00
1 set(MOQ)
Al, objetivo de sputtering de Cr para evaporación térmica y máquina de sputtering magnetrón

Al, objetivo de sputtering de Cr para evaporación térmica y máquina de sputtering magnetrón

US$ 30,00-200,00
1 Pieza(MOQ)
Máquina de recubrimiento por pulverización catódica magnetrón PVD con objetivo de triple pulverización y alimentación de corriente continua

Máquina de recubrimiento por pulverización catódica magnetrón PVD con objetivo de triple pulverización y alimentación de corriente continua

US$ 38.000,00-39.500,00
1 set(MOQ)
1/4

Zhuzhou Weilai New Materials Technology Co., Ltd.

8 años
·Fabricante/Fábrica & Empresa Comercial
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Objetivo de Sputtering de Mo de Alta Pureza para Anodo Rotatorio CT

Objetivo de Sputtering de Mo de Alta Pureza para Anodo Rotatorio CT

US$ 142,00-168,00
30 Piezas(MOQ)
Arenado, objetivo de molibdeno rutenio tungsteno negro para inserciones de tubo de rayos X

Arenado, objetivo de molibdeno rutenio tungsteno negro para inserciones de tubo de rayos X

US$ 142,00-168,00
30 Piezas(MOQ)
Objetivo de sputtering de tungsteno rotativo de alto rendimiento

Objetivo de sputtering de tungsteno rotativo de alto rendimiento

US$ 142,00-168,00
30 Piezas(MOQ)
Repuestos de inserto de tubo de rayos X, objetivo rotativo de tomografía computarizada, objetivo de Mo por pulverización

Repuestos de inserto de tubo de rayos X, objetivo rotativo de tomografía computarizada, objetivo de Mo por pulverización

US$ 142,00-168,00
30 Piezas(MOQ)
1/4

Xiangtan Hondson Coating Technology Co., Ltd.

6 años
·Fabricante/Fábrica & Empresa Comercial
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Bloque de titanio de alta pureza personalizado, material de titanio, material de recubrimiento por ionización multi-arco, objetivo metálico

Bloque de titanio de alta pureza personalizado, material de titanio, material de recubrimiento por ionización multi-arco, objetivo metálico

US$ 500,00-1.000,00
1 Pieza(MOQ)
Objetivo de magnetrón cilíndrico para recubrimiento PVD en vacío de tubos de titanio, materiales en bruto para recubrimiento, cátodos

Objetivo de magnetrón cilíndrico para recubrimiento PVD en vacío de tubos de titanio, materiales en bruto para recubrimiento, cátodos

US$ 800,00-1.500,00
1 Pieza(MOQ)
Cátodo giratorio, objetivo de tubo cilíndrico para máquina de revestimiento

Cátodo giratorio, objetivo de tubo cilíndrico para máquina de revestimiento

US$ 6.700,00-6.800,00
2 sets(MOQ)
5-200kw Fuente de Sputtering Típica para la Industria de Recubrimiento de Películas Delgadas Cátodo de Sputter Magnetrón Rotatorio Objetivo de Sputtering Rotatorio

5-200kw Fuente de Sputtering Típica para la Industria de Recubrimiento de Películas Delgadas Cátodo de Sputter Magnetrón Rotatorio Objetivo de Sputtering Rotatorio

US$ 6.900,00-7.000,00
2 sets(MOQ)
1/4

Luoyang Bless Tungsten & Molybdenum Materials Co., Ltd.

12 años
·Empresa Comercial
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Material de alta pureza ultra molibdeno objetivos de pulverización

Material de alta pureza ultra molibdeno objetivos de pulverización

US$ 20,00-86,00
1 Pieza(MOQ)
Objetivos de sputtering de molibdeno para ensamblaje complejo

Objetivos de sputtering de molibdeno para ensamblaje complejo

US$ 40,00-43,00
1 Kg(MOQ)
Doblado y Pliegue de Objetivos de Sputtering de Molibdeno

Doblado y Pliegue de Objetivos de Sputtering de Molibdeno

US$ 40,00-43,00
1 Kg(MOQ)
Objetivos de sputtering de molibdeno de alta calidad

Objetivos de sputtering de molibdeno de alta calidad

US$ 66,00-77,00
1 Kg(MOQ)
1/1

Baoji Taizehui Metal Technology Co., Ltd.

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Objetivo de Sputtering de Zirconio de Alta Calidad 705 para Soluciones Personalizadas Hoy

Objetivo de Sputtering de Zirconio de Alta Calidad 705 para Soluciones Personalizadas Hoy

Negociable
10 Kg(MOQ)
Objetivo de Sputtering de Circonio 705 para Soluciones Metálicas Personalizadas de Alta Calidad

Objetivo de Sputtering de Circonio 705 para Soluciones Metálicas Personalizadas de Alta Calidad

Negociable
10 Kg(MOQ)
Material de objetivo de pulverización para recubrimiento al vacío, objetivo curvado, proceso de alta pureza, placa de hafnio

Material de objetivo de pulverización para recubrimiento al vacío, objetivo curvado, proceso de alta pureza, placa de hafnio

Negociable
2 Kg(MOQ)
Partículas de Tántalo Superiores para Necesidades Efectivas de Sputtering y Recubrimiento

Partículas de Tántalo Superiores para Necesidades Efectivas de Sputtering y Recubrimiento

Negociable
1 Kg(MOQ)
1/4

Tianjin Rui Yuan Electric Material Co., Ltd.

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Objetivos de Cobre de Ultra Pureza 99.9999% 7n5

Objetivos de Cobre de Ultra Pureza 99.9999% 7n5

US$ 26,99-53,03
1.000 kilograms(MOQ)
Fábrica china de alta pureza 6n cobre (Cu) 99.9999% objetivo de sputtering

Fábrica china de alta pureza 6n cobre (Cu) 99.9999% objetivo de sputtering

US$ 89,00-180,00
1.000 kilograms(MOQ)
C110/C10100/Tu00 5n Objetivo de Sputtering de Alta Pureza Cobre 99.999% para Recubrimiento Óptico

C110/C10100/Tu00 5n Objetivo de Sputtering de Alta Pureza Cobre 99.999% para Recubrimiento Óptico

US$ 79,99
50 Kg(MOQ)
99.9999% 6n Placas de respaldo de objetivos de sputtering de cobre de alta pureza

99.9999% 6n Placas de respaldo de objetivos de sputtering de cobre de alta pureza

US$ 335,00-350,00
100 Kg(MOQ)
1/4

Xiamen HiuGong Machinery Co., Ltd.

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Objetivo de Sputtering Magnetrón Zrox Si Cr Nb Cu Cr AG

Objetivo de Sputtering Magnetrón Zrox Si Cr Nb Cu Cr AG

US$ 500,00
1 Pieza(MOQ)
99.99% Objetivo de Sputtering de Óxido de Galio Objetivo Plano Ga2o3 Objetivo

99.99% Objetivo de Sputtering de Óxido de Galio Objetivo Plano Ga2o3 Objetivo

US$ 300,00
1 Pieza(MOQ)
Objetivo de Sputtering Rotatorio 4n-5n Sial Nicr Znal Znsn Tiox Nbox

Objetivo de Sputtering Rotatorio 4n-5n Sial Nicr Znal Znsn Tiox Nbox

US$ 1.000,00
1 Pieza(MOQ)
Equipo de recubrimiento por pulverización de plasma, antiadherente, resistente al desgaste, silicio, aluminio, alúmina, circonio

Equipo de recubrimiento por pulverización de plasma, antiadherente, resistente al desgaste, silicio, aluminio, alúmina, circonio

US$ 35.000,00
1 Pieza(MOQ)
1/4

ATM Material Co., Ltd.

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Objetivo Wti / Objetivos de Sputtering / Alta Calidad Wti

Objetivo Wti / Objetivos de Sputtering / Alta Calidad Wti

US$ 1,00-100,00
1 Pieza(MOQ)
Objetivo de pulverización

Objetivo de pulverización

US$ 0,10-100,00
1.000 Piezas(MOQ)
W Objetivo

W Objetivo

US$ 100,00
1 Pieza(MOQ)
Objetivo de Cr con alta calidad

Objetivo de Cr con alta calidad

US$ 0,10-100,00
1.000 Piezas(MOQ)
1/4

Zhejiang Ruisheng New Materials Co., Ltd.

Empresa Comercial
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Objetivo de Sputtering de Tungsteno de Alta Pureza 99.95% Deposición de Películas Finas de Semiconductores Personalizable Estándar ASTM

Objetivo de Sputtering de Tungsteno de Alta Pureza 99.95% Deposición de Películas Finas de Semiconductores Personalizable Estándar ASTM

US$ 60,00-100,00
1 Kg(MOQ)
Objetivo de tungsteno rotativo premium para aplicaciones de sputtering eficientes

Objetivo de tungsteno rotativo premium para aplicaciones de sputtering eficientes

US$ 50,00-270,00
10 Kg(MOQ)
Objetivo de Molybdeno Puro Ultra Denso 99.9% 100mm Diámetro Recubrimiento de Película Delgada Opcional RoHS

Objetivo de Molybdeno Puro Ultra Denso 99.9% 100mm Diámetro Recubrimiento de Película Delgada Opcional RoHS

US$ 30,00-60,00
10 Kg(MOQ)
Objetivo de sputtering de molibdeno personalizable con alta densidad para aplicaciones de recubrimiento de semiconductores y vidrio

Objetivo de sputtering de molibdeno personalizable con alta densidad para aplicaciones de recubrimiento de semiconductores y vidrio

US$ 30,00-80,00
10 Kg(MOQ)
1/4

Hubei Fotma Machinery Co., Ltd.

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99.95% Tubo de Molienda Objetivo de Sputtering Objetivo de Molibdeno

99.95% Tubo de Molienda Objetivo de Sputtering Objetivo de Molibdeno

US$ 5,00-200,00
1 Kilogram(MOQ)
Producto personalizado de tungsteno, blanco de sputtering de tungsteno puro

Producto personalizado de tungsteno, blanco de sputtering de tungsteno puro

US$ 40,00-50,00
1 Kg(MOQ)
Tubo de molibdeno para objetivo de pulverización 99.95% Tubo de molibdeno puro

Tubo de molibdeno para objetivo de pulverización 99.95% Tubo de molibdeno puro

US$ 40,00-50,00
1 Kg(MOQ)
99.95% Placas de tungsteno negro mecanizadas y rectificadas en puro tungsteno

99.95% Placas de tungsteno negro mecanizadas y rectificadas en puro tungsteno

US$ 1,00-20,00
1 Pieza(MOQ)
1/4

Jiangsu Cicel Vacuum Technology Co., Ltd.

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Objetivo de titanio por sputtering, objetivo de sputtering de titanio, recubrimiento al vacío, objetivo de titanio

Objetivo de titanio por sputtering, objetivo de sputtering de titanio, recubrimiento al vacío, objetivo de titanio

US$ 100,00-300,00
1 Pieza(MOQ)
Revestimiento de Titanio Target/Gr2 Objetivo de Titanio Objetivo de Sputtering de Titanio

Revestimiento de Titanio Target/Gr2 Objetivo de Titanio Objetivo de Sputtering de Titanio

US$ 100,00-300,00
1 Pieza(MOQ)
Objetivo de sputtering de titanio de aleación con personalización

Objetivo de sputtering de titanio de aleación con personalización

US$ 100,00-300,00
1 Pieza(MOQ)
Máquina de recubrimiento al vacío Multi-Arc PVD Cicel con sistema de sputtering magnetrón para negro oscuro

Máquina de recubrimiento al vacío Multi-Arc PVD Cicel con sistema de sputtering magnetrón para negro oscuro

US$ 20.000,00-55.000,00
1 Pieza(MOQ)
1/4

Zhengzhou CY Scientific Instrument Co., Ltd.

13 años
·Fabricante/Fábrica & Empresa Comercial
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Objetivo de Sputtering de Plasma de Alta Pureza

Objetivo de Sputtering de Plasma de Alta Pureza

US$ 65,00
1 Set(MOQ)
Aparato de recubrimiento por sputtering de magnetrón de un solo objetivo de acero inoxidable de escritorio

Aparato de recubrimiento por sputtering de magnetrón de un solo objetivo de acero inoxidable de escritorio

US$ 8.730,00-8.900,00
1 Pieza(MOQ)
Depósito por Sputtering de Magnetrón de Doble Objetivo de CC y RF para Películas Delgadas de Metal y Óxido

Depósito por Sputtering de Magnetrón de Doble Objetivo de CC y RF para Películas Delgadas de Metal y Óxido

US$ 21.000,00-26.000,00
1 Pieza(MOQ)
Máquina de recubrimiento por pulverización de plasma de doble objetivo para película de AG Pd

Máquina de recubrimiento por pulverización de plasma de doble objetivo para película de AG Pd

US$ 3.000,00-5.000,00
1 set(MOQ)
1/4

Xiamen Wintrustek Advanced Materials Co., Ltd.

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Disco de Cerámica de Hexaburó de Lantano Lab6 para Sputtering

Disco de Cerámica de Hexaburó de Lantano Lab6 para Sputtering

US$ 50,00-200,00
1 Pieza(MOQ)
Objetivo de Sputtering de Cerámica de Hexaburó de Lantano Lab6 para Recubrimiento de Película Delgada PVD

Objetivo de Sputtering de Cerámica de Hexaburó de Lantano Lab6 para Recubrimiento de Película Delgada PVD

US$ 50,00-200,00
1 Pieza(MOQ)
Objetivos de cerámica de hexaboruro de lantano de alta emisividad electrónica Lab6

Objetivos de cerámica de hexaboruro de lantano de alta emisividad electrónica Lab6

US$ 50,00-200,00
1 Pieza(MOQ)
Disco Cerámico de Boruro de Lantano para Objetivo de Sputtering Lab6

Disco Cerámico de Boruro de Lantano para Objetivo de Sputtering Lab6

US$ 50,00-200,00
1 Pieza(MOQ)
1/4

Shanghai Rui Tai Photoelectric Technology Co., Ltd.

10 años·5.0
·Empresa Comercial
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Objetivo de Sputtering de Cuarzo Avanzado para Soluciones de Recubrimiento Óptimas

Objetivo de Sputtering de Cuarzo Avanzado para Soluciones de Recubrimiento Óptimas

US$ 3,00-5,00
100 Piezas(MOQ)
Difusores Ópticos de Cuarzo

Difusores Ópticos de Cuarzo

US$ 3,00-5,00
100 Piezas(MOQ)
Difusor de cuarzo óptico, difusores de cuarzo ingenierizados, difusor láser

Difusor de cuarzo óptico, difusores de cuarzo ingenierizados, difusor láser

US$ 3,00-5,00
100 Piezas(MOQ)
Difusores ópticos de cuarzo, difusores ingenierizados de cuarzo, difusores ópticos de cuarzo

Difusores ópticos de cuarzo, difusores ingenierizados de cuarzo, difusores ópticos de cuarzo

US$ 3,00-5,00
100 Piezas(MOQ)
1/4

LUOYANG COMBAT TUNGSTEN & MOLYBDENUM MATERIAL CO., LTD.

18 años·5.0
·Fabricante/Fábrica & Empresa Comercial
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Objetivo de Sputtering de Molybdeno de Alta Densidad de Combate 99.95%

Objetivo de Sputtering de Molybdeno de Alta Densidad de Combate 99.95%

US$ 55,00-59,00
1 Kg(MOQ)
Objetivo de Sputtering de Titanio Puro de Material de Titanio Hecho a Medida 99.6% en Venta

Objetivo de Sputtering de Titanio Puro de Material de Titanio Hecho a Medida 99.6% en Venta

US$ 35,00-40,00
5 Kg(MOQ)
Hoja de Foil de Tantalio Acepta Personalización del Cliente Electrónica Hoja Fina de Tantalio en Venta

Hoja de Foil de Tantalio Acepta Personalización del Cliente Electrónica Hoja Fina de Tantalio en Venta

US$ 456,80-500,20
1 Kg(MOQ)
Precio Competitivo ASTM 99.95% Placa de Tungsteno de Pureza

Precio Competitivo ASTM 99.95% Placa de Tungsteno de Pureza

US$ 74,00
1 Kg(MOQ)
1/4

CHANGSHA EASCHEM CO., LIMITED

5 años
·Empresa Comercial
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Precio de fábrica Vender alta calidad objetivo de sputtering ITO 4n In2o3 y Sno2

Precio de fábrica Vender alta calidad objetivo de sputtering ITO 4n In2o3 y Sno2

Negociable
1 Piece(MOQ)
Objetivo de sputtering de niobio de alta calidad con número CAS 7440-03-1

Objetivo de sputtering de niobio de alta calidad con número CAS 7440-03-1

Negociable
1 Piece(MOQ)
Varilla de metal de samario granular CAS No 7440-19-9 Sm 3n 4n

Varilla de metal de samario granular CAS No 7440-19-9 Sm 3n 4n

Negociable
1 Piece(MOQ)
Precio de fábrica Vender bajo densidad 4n objetivo redondo pequeño ITO

Precio de fábrica Vender bajo densidad 4n objetivo redondo pequeño ITO

Negociable
1 Piece(MOQ)
1/4

Zhuzhou Hongtong Tungsten Carbide Co., Ltd.

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Objetivos de sputtering de carburo de tungsteno para fabricar recubrimientos de DLC

Objetivos de sputtering de carburo de tungsteno para fabricar recubrimientos de DLC

US$ 38,00-45,00
10 Kg(MOQ)
Varios objetivos de tungsteno carburo en diferentes formas para recubrimientos de DLC

Varios objetivos de tungsteno carburo en diferentes formas para recubrimientos de DLC

US$ 38,00-45,00
10 Kg(MOQ)
Placa de Carburo de Tungsteno con un Lado Estriado

Placa de Carburo de Tungsteno con un Lado Estriado

US$ 38,00-45,00
10 Kg(MOQ)
Placa de revestimiento de carburo cementado de tungsteno para el revestimiento lateral superior del molino

Placa de revestimiento de carburo cementado de tungsteno para el revestimiento lateral superior del molino

US$ 38,00-45,00
10 Kg(MOQ)
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