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sobre objetivo de cromo
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objetivo de cromo200+ fábricas verificadas

Changsha Xinkang Advanced Materials Co., Ltd.

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99.95% Objetivo de Sputtering de Cromo Puro, Objetivo de Cromo de Alta Pureza para Recubrimiento PVD

99.95% Objetivo de Sputtering de Cromo Puro, Objetivo de Cromo de Alta Pureza para Recubrimiento PVD

US$ 30,00-1.000,00
1 Pieza(MOQ)
Objetivo de pulverización de aleación de níquel y cromo de alta calidad para recubrimiento

Objetivo de pulverización de aleación de níquel y cromo de alta calidad para recubrimiento

US$ 35,00-40,00
1 Pieza(MOQ)
Venta Caliente 99.95% Objetivo de Sputtering de Cromo de Pureza Metal Cromo Objetivos de Cátodo de Arco

Venta Caliente 99.95% Objetivo de Sputtering de Cromo de Pureza Metal Cromo Objetivos de Cátodo de Arco

US$ 55,00-150,00
1 Pieza(MOQ)
99.9% Objetivos de aleación de hierro y cromo CrFe10wt% Objetivo de pulverización para recubrimiento PVD

99.9% Objetivos de aleación de hierro y cromo CrFe10wt% Objetivo de pulverización para recubrimiento PVD

US$ 75,00-85,00
1 Pieza(MOQ)
1/4

Ningbo Galaxy International Trading Co., Ltd.

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99.9% Objetivo de recubrimiento al vacío de níquel, cromo y aluminio para el proceso PVD, objetivo de cromo y tantalio

99.9% Objetivo de recubrimiento al vacío de níquel, cromo y aluminio para el proceso PVD, objetivo de cromo y tantalio

US$ 55,00
1 Pieza(MOQ)
Tubo de cromo resistente a la corrosión de color blanco plateado para recubrimiento al vacío

Tubo de cromo resistente a la corrosión de color blanco plateado para recubrimiento al vacío

US$ 30,00
10 Piezas(MOQ)
Buena dureza venta caliente objetivo de sputtering de cromo

Buena dureza venta caliente objetivo de sputtering de cromo

US$ 30,00-50,00
5 Piezas(MOQ)
Excelente propiedad de prensado en frío de objetivo redondo de cromo para recubrimiento al vacío

Excelente propiedad de prensado en frío de objetivo redondo de cromo para recubrimiento al vacío

US$ 38,00
5 Piezas(MOQ)
1/4

Shanghai Tankii Alloy Material Co., Ltd.

5.0
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Precio de fábrica Vender 99.999% Objetivo de sputtering de cromo

Precio de fábrica Vender 99.999% Objetivo de sputtering de cromo

US$ 60,00-150,00
1 Pieza(MOQ)
Venta directa de fábrica de objetivo de sputtering de cromo utilizado para preparar películas delgadas de galgas de deformación resistivas

Venta directa de fábrica de objetivo de sputtering de cromo utilizado para preparar películas delgadas de galgas de deformación resistivas

US$ 60,00-150,00
1 Pieza(MOQ)
Precio de fábrica 99.999% objetivo de sputtering de cromo

Precio de fábrica 99.999% objetivo de sputtering de cromo

US$ 60,00-150,00
1 Pieza(MOQ)
Fabricante personalizado de bajo precio, metal de cromo puro de alta pureza, objetivo de sputtering de Cr para recubrimiento PVD

Fabricante personalizado de bajo precio, metal de cromo puro de alta pureza, objetivo de sputtering de Cr para recubrimiento PVD

US$ 60,00-150,00
1 Pieza(MOQ)
1/4

Beenine Shanke Technology Co., Ltd.

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Objetivo de sputtering de aleación de níquel cromo de alta calidad con unión de níquel

Objetivo de sputtering de aleación de níquel cromo de alta calidad con unión de níquel

US$ 80,00-800,00
1 Pieza(MOQ)
Objetivo de sputtering de aleación de níquel cromo de alta pureza Ni/Cr personalizado fábrica de China

Objetivo de sputtering de aleación de níquel cromo de alta pureza Ni/Cr personalizado fábrica de China

US$ 80,00-800,00
1 Pieza(MOQ)
Objetivo de pulverización de recubrimiento PVD plano redondo de cromo fábrica

Objetivo de pulverización de recubrimiento PVD plano redondo de cromo fábrica

US$ 50,00-300,00
1 Pieza(MOQ)
99.99% Pureza 4n Blanco de aleación de níquel cromo Ni/Cr para recubrimiento PVD

99.99% Pureza 4n Blanco de aleación de níquel cromo Ni/Cr para recubrimiento PVD

US$ 80,00-800,00
1 Pieza(MOQ)
1/4

Lonwin Industry Group Limited

5.0
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99.99% Cr3c2 Objetivos de Sputtering de Cerámica de Carburo de Cromo

99.99% Cr3c2 Objetivos de Sputtering de Cerámica de Carburo de Cromo

US$ 17,00-55,00
1 Kg(MOQ)
99.95% Objetivo de Sputtering de Cromo Puro Metal Cromo Objetivos de Cátodo de Arco

99.95% Objetivo de Sputtering de Cromo Puro Metal Cromo Objetivos de Cátodo de Arco

US$ 17,00-55,00
1 Kg(MOQ)
99.9% Alianzas de Ti-Cr Objetivo de Titanio Cromo Objetivo de Sputtering para Recubrimiento

99.9% Alianzas de Ti-Cr Objetivo de Titanio Cromo Objetivo de Sputtering para Recubrimiento

US$ 17,00-55,00
1 Kg(MOQ)
99.9% Objetivo de Sputtering de Aleación de Níquel Cromo para Recubrimiento PVD

99.9% Objetivo de Sputtering de Aleación de Níquel Cromo para Recubrimiento PVD

US$ 17,00-55,00
1 Kg(MOQ)
1/4

Rheniumet Ltd.

17 años
·Empresa Comercial
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Objetivo de Sputtering de Aleación de Níquel y Cromo de Alta Pureza, Ni60cr40 Objetivo de Sputtering Personalizado

Objetivo de Sputtering de Aleación de Níquel y Cromo de Alta Pureza, Ni60cr40 Objetivo de Sputtering Personalizado

US$ 500,00-1.000,00
1 pieces(MOQ)
Objetivo de cromo 99.95%Min objetivo de Cr para recubrimiento por pulverización en semiconductores

Objetivo de cromo 99.95%Min objetivo de Cr para recubrimiento por pulverización en semiconductores

US$ 1.000,00-4.000,00
1 Pieza(MOQ)
Objetivo de pulverización de aleación de tungsteno, níquel y cromo W-Ni-Cr/W-Ni/Ni-Cr

Objetivo de pulverización de aleación de tungsteno, níquel y cromo W-Ni-Cr/W-Ni/Ni-Cr

US$ 2.000,00-3.000,00
1 Pieza(MOQ)
Objetivo de sputtering de tungsteno níquel cromo de alta pureza para la industria de películas delgadas

Objetivo de sputtering de tungsteno níquel cromo de alta pureza para la industria de películas delgadas

US$ 2.000,00-3.000,00
1 Pieza(MOQ)
1/4

SUZHOU TECHNO-TEC PHOTOELECTRIC MATERIALS CO., LTD

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Objetivo de aleación de NiCr cromo níquel objetivo de espumación de aleación para LCD/integrado Circuitos

Objetivo de aleación de NiCr cromo níquel objetivo de espumación de aleación para LCD/integrado Circuitos

US$ 35,00
1 Kg(MOQ)
CR Target espumante de cromo Target para revestimiento de película de decoración

CR Target espumante de cromo Target para revestimiento de película de decoración

US$ 25,00-100,00
1 Kg(MOQ)
CR Rod sputtering Target para revestimiento de película de decoración

CR Rod sputtering Target para revestimiento de película de decoración

US$ 25,00-100,00
1 Kg(MOQ)
W Target Tungsteno esputtering Target para semiconductores /chips de memoria

W Target Tungsteno esputtering Target para semiconductores /chips de memoria

US$ 45,00-350,00
1 Kg(MOQ)
1/4

Xiamen Tmax Battery Equipments Limited

5.0
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Marca TMAXCN Alta Pureza 99.95% Cromo Cromo/Cr Objetivo de Sputtering Magnetrón PVD para Recubrimiento al Vacío

Marca TMAXCN Alta Pureza 99.95% Cromo Cromo/Cr Objetivo de Sputtering Magnetrón PVD para Recubrimiento al Vacío

US$ 78,00-90,00
1 Pieza(MOQ)
Marca TMAXCN Alta Pureza 3n5 Blanco de Cromo/Cr Objetivo de Sputtering para Recubrimiento PVD

Marca TMAXCN Alta Pureza 3n5 Blanco de Cromo/Cr Objetivo de Sputtering para Recubrimiento PVD

US$ 78,00-90,00
1 Pieza(MOQ)
Máquina de recubrimiento por pulverización de plasma rotativo TMAXCN Marca VTC-16-3HD-LD 3 incluyendo 3 objetivos

Máquina de recubrimiento por pulverización de plasma rotativo TMAXCN Marca VTC-16-3HD-LD 3 incluyendo 3 objetivos

US$ 8.000,00
1 Pieza(MOQ)
Máquina de recubrimiento compacta TMAXCN Marca VTC-16-PW de pulverización por magnetrón de corriente continua y etapa de vibración

Máquina de recubrimiento compacta TMAXCN Marca VTC-16-PW de pulverización por magnetrón de corriente continua y etapa de vibración

US$ 6.000,00
1 Pieza(MOQ)
1/4

Ningbo Danko Vacuum Technology Co., Ltd.

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Metalización al vacío de objetivo de circonio

Metalización al vacío de objetivo de circonio

US$ 30,00-100,00
1 Pieza(MOQ)
Maquinaria de recubrimiento al vacío PVD de titanio, cromo y circonio

Maquinaria de recubrimiento al vacío PVD de titanio, cromo y circonio

US$ 10.000,00-87.000,00
1 Pieza(MOQ)
Máquina de deposición de película delgada de recubrimiento de titanio cromo por arco catódico PVD

Máquina de deposición de película delgada de recubrimiento de titanio cromo por arco catódico PVD

US$ 35.000,00-58.000,00
1 Pieza(MOQ)
Fabricante de máquina de recubrimiento PVD para grifos de acero inoxidable

Fabricante de máquina de recubrimiento PVD para grifos de acero inoxidable

US$ 15.000,00-150.000,00
1 Pieza(MOQ)
1/4

Jiangsu Cicel Vacuum Technology Co., Ltd.

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Objetivo de Sputtering de Cromo PVD Objetivo de Cromo/Objetivo de Sputtering de Cr

Objetivo de Sputtering de Cromo PVD Objetivo de Cromo/Objetivo de Sputtering de Cr

US$ 130,00-300,00
1 Pieza(MOQ)
Maquinaria de metalización por sputtering de vacío Cicel, magnetrón para la plateado de cucharas, metalizador de cromo al vacío para cubiertos de plástico, recubrimiento plateado de cucharas de plástico

Maquinaria de metalización por sputtering de vacío Cicel, magnetrón para la plateado de cucharas, metalizador de cromo al vacío para cubiertos de plástico, recubrimiento plateado de cucharas de plástico

US$ 45.000,00-150.000,00
1 Set(MOQ)
Equipo de Platinado al Vacío de Cromo para Plástico / Máquina de Deposición de Cromo PVD Sistema de Recubrimiento de Cromo

Equipo de Platinado al Vacío de Cromo para Plástico / Máquina de Deposición de Cromo PVD Sistema de Recubrimiento de Cromo

US$ 45.000,00-150.000,00
1 Set(MOQ)
Máquina de recubrimiento al vacío por sputtering magnetrón de cromo para ruedas de automóviles

Máquina de recubrimiento al vacío por sputtering magnetrón de cromo para ruedas de automóviles

US$ 45.000,00-150.000,00
1 Set(MOQ)
1/4

Shaanxi Mingsheng Guangpu Metal Materials Co., Ltd.

3 años·5.0
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Objetivo de Sputtering de Cromo para Electrónica de Precisión y Moldes

Objetivo de Sputtering de Cromo para Electrónica de Precisión y Moldes

US$ 90,00-110,00
2 Piezas(MOQ)
Objetivo de Sputtering de Cromo en Forma de Rectángulo con Maquinado de Agujeros para Recubrimiento Metálico de Precisión

Objetivo de Sputtering de Cromo en Forma de Rectángulo con Maquinado de Agujeros para Recubrimiento Metálico de Precisión

US$ 99,00-180,00
1 Pieza(MOQ)
Objetivo de aluminio y circonio CIP versátil con composición de cromo

Objetivo de aluminio y circonio CIP versátil con composición de cromo

US$ 85,00-95,00
1 Pieza(MOQ)
1/4

Dongguan Gravel Industries and Enterprise Company Limited

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Objetivo de cromo de alta pureza para recubrimiento en vacío/PVD

Objetivo de cromo de alta pureza para recubrimiento en vacío/PVD

US$ 1.000,00
1 Pieza(MOQ)
Objetivo de sputtering de metal de cromo de alta pureza

Objetivo de sputtering de metal de cromo de alta pureza

US$ 2.500,00
1 Pieza(MOQ)
1/4

Junsion Precision Hardware Co., Ltd.

7 años
·Fabricante/Fábrica & Empresa Comercial
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Objetivo de pulverización de titanio, aluminio, cobre, cromo, níquel, tubo de magnetrón, recubrimiento PVD rotativo

Objetivo de pulverización de titanio, aluminio, cobre, cromo, níquel, tubo de magnetrón, recubrimiento PVD rotativo

US$ 0,50-10,00
10 Piezas(MOQ)
Piezas de torneado de aluminio anodizado de maquinaria de precisión

Piezas de torneado de aluminio anodizado de maquinaria de precisión

US$ 0,50-10,00
10 Piezas(MOQ)
1/4

Sid Metal Co., Ltd

13 años
·Fabricante/Fábrica & Empresa Comercial
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99.99% Objetivo de Sputtering de Cromo Recubrimiento de Cromo Objetivo de Cromo

99.99% Objetivo de Sputtering de Cromo Recubrimiento de Cromo Objetivo de Cromo

US$ 100,00-600,00
2 Piezas(MOQ)
1/4

Sino Resources Import & Export (Liao Ning) Co., Ltd.

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Cromo de la cadera de Sputtering meta para el revestimiento PVD decorativos

Cromo de la cadera de Sputtering meta para el revestimiento PVD decorativos

US$ 70,00-100,00
1 Pieza(MOQ)
La pureza del 99,5 Hip Varilla Cr objetivo para el cromo

La pureza del 99,5 Hip Varilla Cr objetivo para el cromo

Negociable
10 Piezas(MOQ)
Cromo de la cadera de Sputtering meta para el recubrimiento PVD 99.5 Destino Cr

Cromo de la cadera de Sputtering meta para el recubrimiento PVD 99.5 Destino Cr

US$ 60,00-90,00
1 Pieza(MOQ)
Chrome Sputtering Meta Hip 99,5 Cr objetivo para la PVD

Chrome Sputtering Meta Hip 99,5 Cr objetivo para la PVD

Negociable
1 Pieza(MOQ)

Shenzhen Hongchen New Materials Co., Ltd

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La personalización de cromo cromo arco múltiple Material Objetivo magnetrón Sputtering para revestimiento PVD

La personalización de cromo cromo arco múltiple Material Objetivo magnetrón Sputtering para revestimiento PVD

US$ 10,00-15,00
1 Kg(MOQ)
99,95% Cromo Plato puro cromo Cr esputante objetivo / PVD Objetivo de la máquina de revestimiento

99,95% Cromo Plato puro cromo Cr esputante objetivo / PVD Objetivo de la máquina de revestimiento

US$ 10,00-15,00
1 Kg(MOQ)
Cromo Cr objetivo de alta pureza para la máquina de recubrimiento de vacío PVD

Cromo Cr objetivo de alta pureza para la máquina de recubrimiento de vacío PVD

US$ 10,00-15,00
1 Kg(MOQ)
Materiales de la placa de cromo de PVD máquina de recubrimiento al vacío Cr Metal Blancos de esputo de planos empalmados para el tratamiento de superficies

Materiales de la placa de cromo de PVD máquina de recubrimiento al vacío Cr Metal Blancos de esputo de planos empalmados para el tratamiento de superficies

US$ 10,00-15,00
1 Kg(MOQ)

Jupin Group Co., Ltd.

5.0
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Objetivo de entrenamiento de Taekwondo de PU EVA con logo de OEM

Objetivo de entrenamiento de Taekwondo de PU EVA con logo de OEM

US$ 0,99
200 Piezas(MOQ)
Logo OEM Taekwondo Lucha Objetivo de Pierna y Cintura de PU EVA para Entrenamiento

Logo OEM Taekwondo Lucha Objetivo de Pierna y Cintura de PU EVA para Entrenamiento

US$ 21,52
200 Piezas(MOQ)
Logo OEM Taekwondo Lucha Entrenamiento Objetivo de Mano PU EPE

Logo OEM Taekwondo Lucha Entrenamiento Objetivo de Mano PU EPE

US$ 0,85
200 Piezas(MOQ)
1/4

ATM Material Co., Ltd.

4.0
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Objetivo de pulverización

Objetivo de pulverización

US$ 0,10-100,00
1.000 Piezas(MOQ)
1/4

Enjo Sports Inc.

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Tacband Ar500 Metales de Tiro Objetivos para Exterior Interior Objetivo

Tacband Ar500 Metales de Tiro Objetivos para Exterior Interior Objetivo

US$ 7,85-8,90
100 Piezas(MOQ)
1/4

Huita Opto-Electronic Materials Co., Ltd

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Cromo silicio (CRSI) objetivo

Cromo silicio (CRSI) objetivo

Negociable
5 Piezas(MOQ)

Hunan Ultra Minor Metals Ltd

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Tungsteno de alta pureza níquel cromo/níquel cromo/ tungsteno níquel esputante objetivo Para la industria de películas delgadas

Tungsteno de alta pureza níquel cromo/níquel cromo/ tungsteno níquel esputante objetivo Para la industria de películas delgadas

Negociable
1 Pieza(MOQ)

Shanghai Zenkaah New Materials Technology Co., Ltd.

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Cromo (cromo) Metal de alta pureza objetivo para PVD Magnetron esputtering recubrimiento de vacío, tamaño de partículas personalizable, con servicio de unión de placas de apoyo

Cromo (cromo) Metal de alta pureza objetivo para PVD Magnetron esputtering recubrimiento de vacío, tamaño de partículas personalizable, con servicio de unión de placas de apoyo

Negociable
1 Pieza(MOQ)

Suzhou Zhongzhina Semiconductor Technology Co., Ltd.

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Cromo (cromo) Metal de alta pureza objetivo para PVD Magnetron esputtering recubrimiento de vacío, tamaño de partículas personalizable, con servicio de unión de placas de apoyo

Cromo (cromo) Metal de alta pureza objetivo para PVD Magnetron esputtering recubrimiento de vacío, tamaño de partículas personalizable, con servicio de unión de placas de apoyo

Negociable
1 Pieza(MOQ)

Xiangtan Hondson Coating Technology Co., Ltd.

6 años
·Fabricante/Fábrica & Empresa Comercial
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Bloque de titanio de alta pureza personalizado, material de titanio, material de recubrimiento por ionización multi-arco, objetivo metálico

Bloque de titanio de alta pureza personalizado, material de titanio, material de recubrimiento por ionización multi-arco, objetivo metálico

US$ 500,00-1.000,00
1 Pieza(MOQ)
Objetivo de magnetrón cilíndrico para recubrimiento PVD en vacío de tubos de titanio, materiales en bruto para recubrimiento, cátodos

Objetivo de magnetrón cilíndrico para recubrimiento PVD en vacío de tubos de titanio, materiales en bruto para recubrimiento, cátodos

US$ 800,00-1.500,00
1 Pieza(MOQ)
Recubrimiento de nitruro de cromo Crn, equipo PVD de arco múltiple para artículos sanitarios

Recubrimiento de nitruro de cromo Crn, equipo PVD de arco múltiple para artículos sanitarios

US$ 46.800,00-51.500,00
1 Set(MOQ)
Máquina de recubrimiento por evaporación de arco catódico PVD para brocas, piezas de acero

Máquina de recubrimiento por evaporación de arco catódico PVD para brocas, piezas de acero

US$ 50.000,00-100.000,00
1 Pieza(MOQ)
1/4

Uv Tech Material Ltd

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Rotary indio Blanco en blanco de sputtering

Rotary indio Blanco en blanco de sputtering

Negociable
1 Pieza(MOQ)
Fábrica Uvtm Sputtering Meta fabricante en China de 18 años para Msvd Experiece y PVD continua vacío recubrimiento sputter Vicky 13249153016 la línea de producción

Fábrica Uvtm Sputtering Meta fabricante en China de 18 años para Msvd Experiece y PVD continua vacío recubrimiento sputter Vicky 13249153016 la línea de producción

Negociable
1 Pieza(MOQ)
Azo Sputering Objetivo Material de recubrimiento cerámico blanco para la industria del vidrio de recubrimiento de película fina

Azo Sputering Objetivo Material de recubrimiento cerámico blanco para la industria del vidrio de recubrimiento de película fina

Negociable
1 Pieza(MOQ)
Si se puede girar de forma cilíndrica de cátodos de destino de silicio de alta calidad Monilithic rectas y de forma Dogbone

Si se puede girar de forma cilíndrica de cátodos de destino de silicio de alta calidad Monilithic rectas y de forma Dogbone

Negociable
1 Pieza(MOQ)

Yochane Vacuum Technology Limited

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C.C. que farfulla la blanco de la hoja/de la placa de Chromium/Cr

C.C. que farfulla la blanco de la hoja/de la placa de Chromium/Cr

US$ 20,00
1 Pieza(MOQ)
Blanco de la hoja/de la placa del cromo de la farfulla

Blanco de la hoja/de la placa del cromo de la farfulla

US$ 20,00
1 Pieza(MOQ)
Blanco rotatoria de la capa de la farfulla del tubo Chromium/Cr

Blanco rotatoria de la capa de la farfulla del tubo Chromium/Cr

US$ 20,00
1 Pieza(MOQ)
Blanco de la hoja/de la placa de la farfulla Chromium/Cr

Blanco de la hoja/de la placa de la farfulla Chromium/Cr

US$ 20,00
1 Pieza(MOQ)

Shenzhen Canyuan Metal Material Co., Ltd.

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99.99% Objetivos de Sputtering de Titanio de Alta Pureza para Recubrimiento por Vacío/PVD

99.99% Objetivos de Sputtering de Titanio de Alta Pureza para Recubrimiento por Vacío/PVD

US$ 200,00-10.000,00
1 Pieza(MOQ)
3n Objetivo de Sputtering de Silicio de Cromo de Alta Pureza Placa Plana / Objetivos Rotativos de Silicio de Cromo

3n Objetivo de Sputtering de Silicio de Cromo de Alta Pureza Placa Plana / Objetivos Rotativos de Silicio de Cromo

US$ 200,00-10.000,00
1 Pieza(MOQ)
3N, 56/44 WT%, objetivos de rotación de titanio-cromo de alta pureza de la placa plana / titanio-cromo

3N, 56/44 WT%, objetivos de rotación de titanio-cromo de alta pureza de la placa plana / titanio-cromo

US$ 200,00-10.000,00
1 Pieza(MOQ)
3n Objetivo de Sputtering de Tungsteno de Alta Pureza en Cromo, Placa Plana / Objetivos Rotativos

3n Objetivo de Sputtering de Tungsteno de Alta Pureza en Cromo, Placa Plana / Objetivos Rotativos

US$ 200,00-10.000,00
1 Pieza(MOQ)

Beenine Shanke Technology Co., Ltd.

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Cromo Multi Arco esputante objetivo

Cromo Multi Arco esputante objetivo

US$ 10,00
10 Piezas(MOQ)
Alta pureza 99,999% 5n Monocristalina silicio monobloque de gránulos Si Fábrica

Alta pureza 99,999% 5n Monocristalina silicio monobloque de gránulos Si Fábrica

US$ 20,00-100,00
1 Kg(MOQ)
99,9% 3n Pure 1-10mm materiales de evaporación Cromo Cr Gránulos

99,9% 3n Pure 1-10mm materiales de evaporación Cromo Cr Gránulos

US$ 50,00-100,00
1 Kg(MOQ)
Objetivo de espumación de aleación de NiCr para revestimiento de PVD Magnetron

Objetivo de espumación de aleación de NiCr para revestimiento de PVD Magnetron

US$ 50,00
5 Piezas(MOQ)

Zhuzhou Weilai New Materials Technology Co., Ltd.

8 años
·Fabricante/Fábrica & Empresa Comercial
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Electrodo de soldadura por resistencia placa de cobre puro objetivo

Electrodo de soldadura por resistencia placa de cobre puro objetivo

US$ 15,00-80,00
1 Pieza(MOQ)
Anodo estacionario de cobre tungsteno en forma de plano para aplicación de rayos X

Anodo estacionario de cobre tungsteno en forma de plano para aplicación de rayos X

US$ 48,00-50,00
1 Pieza(MOQ)
Objetivo de Disipación de Calor Disipación de Calor Guía Pilar Molybdeno de Alta Pureza, Cátodo de Tungsteno

Objetivo de Disipación de Calor Disipación de Calor Guía Pilar Molybdeno de Alta Pureza, Cátodo de Tungsteno

US$ 25,00-35,00
1 Pieza(MOQ)
1/4

CHANGSHA EASCHEM CO., LIMITED

5 años
·Empresa Comercial
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Varilla de metal de itrio objetivo granular CAS No 7440-65-5 Y 3n 4n 5n

Varilla de metal de itrio objetivo granular CAS No 7440-65-5 Y 3n 4n 5n

Negociable
1 Piece(MOQ)
Precio de fábrica para vender metal de cromo electrolítico con número CAS 7440-47-3

Precio de fábrica para vender metal de cromo electrolítico con número CAS 7440-47-3

Negociable
1 Piece(MOQ)
Venta Caliente de Metal de Cromo de Alta Pureza con No CAS 7440-47-3

Venta Caliente de Metal de Cromo de Alta Pureza con No CAS 7440-47-3

Negociable
1 Piece(MOQ)
1/4
17
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