Inicioarrow-rightÍndice de Fábrica Chinaarrow-rightobjetivo de sputtering de cromo fábricaarrow-rightlista de proveedores
Filtrar
Categoría
Más
Certificación de Gestión
Más
Capacidad de R&D
Ingresos Anuales
Número de empleados
Provincia & Región
Más
sobre objetivo de sputtering de cromo
  • Innovación tecnológica
  • Cadenas de suministro confiables
  • Capacidades de fabricación sustanciales

objetivo de sputtering de cromo60+ fábricas verificadas

Changsha Xinkang Advanced Materials Co., Ltd.

Enviar Consulta
99.95% Objetivo de Sputtering de Cromo Puro, Objetivo de Cromo de Alta Pureza para Recubrimiento PVD

99.95% Objetivo de Sputtering de Cromo Puro, Objetivo de Cromo de Alta Pureza para Recubrimiento PVD

US$ 30,00-1.000,00
1 Pieza(MOQ)
Objetivo de pulverización de aleación de níquel y cromo de alta calidad para recubrimiento

Objetivo de pulverización de aleación de níquel y cromo de alta calidad para recubrimiento

US$ 35,00-40,00
1 Pieza(MOQ)
Xinkang Venta Caliente 99.95% Pureza Gránulos de Níquel Puro Precio Por Kg

Xinkang Venta Caliente 99.95% Pureza Gránulos de Níquel Puro Precio Por Kg

US$ 55,00-135,00
1 Kg(MOQ)
99.95% Disco de objetivo de sputtering de aleación de cromo y cobalto

99.95% Disco de objetivo de sputtering de aleación de cromo y cobalto

US$ 160,00-167,00
1 Pieza(MOQ)
1/4

Beenine Shanke Technology Co., Ltd.

Enviar Consulta
Objetivo de sputtering de aleación de níquel cromo de alta calidad con unión de níquel

Objetivo de sputtering de aleación de níquel cromo de alta calidad con unión de níquel

US$ 80,00-800,00
1 Pieza(MOQ)
Objetivo de sputtering tubular plano de aleación de níquel cromo de alta pureza

Objetivo de sputtering tubular plano de aleación de níquel cromo de alta pureza

US$ 80,00-800,00
1 Pieza(MOQ)
99.99% Pureza 4n Fabricación de objetivo de pulverización de cromo Cr en China

99.99% Pureza 4n Fabricación de objetivo de pulverización de cromo Cr en China

US$ 50,00-300,00
1 Pieza(MOQ)
Objetivo de sputtering de aleación de níquel cromo de alta pureza Ni/Cr personalizado fábrica de China

Objetivo de sputtering de aleación de níquel cromo de alta pureza Ni/Cr personalizado fábrica de China

US$ 80,00-800,00
1 Pieza(MOQ)
1/4

Shanghai Tankii Alloy Material Co., Ltd.

5.0
Enviar Consulta
Precio de fábrica Vender 99.999% Objetivo de sputtering de cromo

Precio de fábrica Vender 99.999% Objetivo de sputtering de cromo

US$ 60,00-150,00
1 Pieza(MOQ)
Venta directa de fábrica de objetivo de sputtering de cromo utilizado para preparar películas delgadas de galgas de deformación resistivas

Venta directa de fábrica de objetivo de sputtering de cromo utilizado para preparar películas delgadas de galgas de deformación resistivas

US$ 60,00-150,00
1 Pieza(MOQ)
Tipo de recubrimiento PVD más popular, uso de objetivo de sputtering de cromo tipo placa

Tipo de recubrimiento PVD más popular, uso de objetivo de sputtering de cromo tipo placa

US$ 60,00-150,00
1 Pieza(MOQ)
Fabricante personalizado de bajo precio, metal de cromo puro de alta pureza, objetivo de sputtering de Cr para recubrimiento PVD

Fabricante personalizado de bajo precio, metal de cromo puro de alta pureza, objetivo de sputtering de Cr para recubrimiento PVD

US$ 60,00-150,00
1 Pieza(MOQ)
1/4

Rheniumet Ltd.

17 años
·Empresa Comercial
Enviar Consulta
Objetivo de sputtering de tungsteno, níquel y cromo

Objetivo de sputtering de tungsteno, níquel y cromo

Negociable
1 Pieza(MOQ)
Objetivo de cromo 99.95%Min objetivo de Cr para recubrimiento por pulverización en semiconductores

Objetivo de cromo 99.95%Min objetivo de Cr para recubrimiento por pulverización en semiconductores

US$ 1.000,00-4.000,00
1 Pieza(MOQ)
Objetivo de sputtering de aleación de tungsteno y níquel en forma de cuadrado o rectángulo

Objetivo de sputtering de aleación de tungsteno y níquel en forma de cuadrado o rectángulo

US$ 500,00-1.000,00
1 Pieza(MOQ)
Objetivo de sputtering de tungsteno níquel cromo de alta pureza para la industria de películas delgadas

Objetivo de sputtering de tungsteno níquel cromo de alta pureza para la industria de películas delgadas

US$ 2.000,00-3.000,00
1 Pieza(MOQ)
1/4

Lonwin Industry Group Limited

5.0
Enviar Consulta
Objetivo de aleación Nicrsi de níquel, cromo y silicio para recubrimiento por PVD

Objetivo de aleación Nicrsi de níquel, cromo y silicio para recubrimiento por PVD

US$ 17,00-55,00
1 Kg(MOQ)
99.95% Objetivo de Sputtering de Cromo Puro Metal Cromo Objetivos de Cátodo de Arco

99.95% Objetivo de Sputtering de Cromo Puro Metal Cromo Objetivos de Cátodo de Arco

US$ 17,00-55,00
1 Kg(MOQ)
99.9% Alianzas de Ti-Cr Objetivo de Titanio Cromo Objetivo de Sputtering para Recubrimiento

99.9% Alianzas de Ti-Cr Objetivo de Titanio Cromo Objetivo de Sputtering para Recubrimiento

US$ 17,00-55,00
1 Kg(MOQ)
99.99% Objetivo de Sputtering de Cromo Aluminio para Deposición de Películas Delgadas

99.99% Objetivo de Sputtering de Cromo Aluminio para Deposición de Películas Delgadas

US$ 17,00-55,00
1 Kg(MOQ)
1/4

Ningbo Galaxy International Trading Co., Ltd.

Enviar Consulta
99.9% Objetivo de recubrimiento al vacío de níquel, cromo y aluminio para el proceso PVD, objetivo de cromo y tantalio

99.9% Objetivo de recubrimiento al vacío de níquel, cromo y aluminio para el proceso PVD, objetivo de cromo y tantalio

US$ 55,00
1 Pieza(MOQ)
Buena dureza venta caliente objetivo de sputtering de cromo

Buena dureza venta caliente objetivo de sputtering de cromo

US$ 30,00-50,00
5 Piezas(MOQ)
Objetivo redondo de zirconio de alta precisión por máquina CNC

Objetivo redondo de zirconio de alta precisión por máquina CNC

US$ 36,00
10 Piezas(MOQ)
Objetivo de forja redonda de tantalio de alta calidad 99.95% tantalio

Objetivo de forja redonda de tantalio de alta calidad 99.95% tantalio

US$ 5,00
5 pcs(MOQ)
1/4

SUZHOU TECHNO-TEC PHOTOELECTRIC MATERIALS CO., LTD

Enviar Consulta
Objetivo de aleación de NiCr cromo níquel objetivo de espumación de aleación para LCD/integrado Circuitos

Objetivo de aleación de NiCr cromo níquel objetivo de espumación de aleación para LCD/integrado Circuitos

US$ 35,00
1 Kg(MOQ)
CR Target espumante de cromo Target para revestimiento de película de decoración

CR Target espumante de cromo Target para revestimiento de película de decoración

US$ 25,00-100,00
1 Kg(MOQ)
Objetivo de niquelado de níquel para semiconductores

Objetivo de niquelado de níquel para semiconductores

US$ 100,00-130,00
1 Kg(MOQ)
W Target Tungsteno esputtering Target para semiconductores /chips de memoria

W Target Tungsteno esputtering Target para semiconductores /chips de memoria

US$ 45,00-350,00
1 Kg(MOQ)
1/4

Xiamen Tmax Battery Equipments Limited

5.0
Enviar Consulta
Marca TMAXCN Alta Pureza 3n5 Blanco de Cromo/Cr Objetivo de Sputtering para Recubrimiento PVD

Marca TMAXCN Alta Pureza 3n5 Blanco de Cromo/Cr Objetivo de Sputtering para Recubrimiento PVD

US$ 78,00-90,00
1 Pieza(MOQ)
Marca TMAXCN Alta Pureza 99.95% Cromo Cromo/Cr Objetivo de Sputtering Magnetrón PVD para Recubrimiento al Vacío

Marca TMAXCN Alta Pureza 99.95% Cromo Cromo/Cr Objetivo de Sputtering Magnetrón PVD para Recubrimiento al Vacío

US$ 78,00-90,00
1 Pieza(MOQ)
Máquina de recubrimiento por pulverización de plasma rotativo TMAXCN Marca VTC-16-3HD-LD 3 incluyendo 3 objetivos

Máquina de recubrimiento por pulverización de plasma rotativo TMAXCN Marca VTC-16-3HD-LD 3 incluyendo 3 objetivos

US$ 8.000,00
1 Pieza(MOQ)
Máquina de recubrimiento de alta potencia TMAXCN VTC-16-SM con coater de magnetrón de corriente continua, etapa rotativa y enfriador de agua

Máquina de recubrimiento de alta potencia TMAXCN VTC-16-SM con coater de magnetrón de corriente continua, etapa rotativa y enfriador de agua

US$ 6.000,00
1 Pieza(MOQ)
1/4

Ningbo Danko Vacuum Technology Co., Ltd.

Enviar Consulta
Metalización al vacío de objetivo de circonio

Metalización al vacío de objetivo de circonio

US$ 30,00-100,00
1 Pieza(MOQ)
Equipo de recubrimiento por pulverización catódica PVD de alta calidad en vacío

Equipo de recubrimiento por pulverización catódica PVD de alta calidad en vacío

US$ 15.000,00-160.000,00
1 Pieza(MOQ)
Revestidor de vacío por sputtering magnetrón PVD para productos de alta gama

Revestidor de vacío por sputtering magnetrón PVD para productos de alta gama

US$ 15.000,00-89.000,00
1 Pieza(MOQ)
Máquina de metalización al vacío con película resistente al desgaste de larga duración

Máquina de metalización al vacío con película resistente al desgaste de larga duración

US$ 120.000,00-190.000,00
1 Pieza(MOQ)
1/4

Jiangsu Cicel Vacuum Technology Co., Ltd.

Enviar Consulta
Objetivo de Sputtering de Cromo PVD Objetivo de Cromo/Objetivo de Sputtering de Cr

Objetivo de Sputtering de Cromo PVD Objetivo de Cromo/Objetivo de Sputtering de Cr

US$ 130,00-300,00
1 Pieza(MOQ)
Maquinaria de metalización por sputtering de vacío Cicel, magnetrón para la plateado de cucharas, metalizador de cromo al vacío para cubiertos de plástico, recubrimiento plateado de cucharas de plástico

Maquinaria de metalización por sputtering de vacío Cicel, magnetrón para la plateado de cucharas, metalizador de cromo al vacío para cubiertos de plástico, recubrimiento plateado de cucharas de plástico

US$ 45.000,00-150.000,00
1 Set(MOQ)
Máquina de recubrimiento al vacío por sputtering magnetrón de cromo para ruedas de automóviles

Máquina de recubrimiento al vacío por sputtering magnetrón de cromo para ruedas de automóviles

US$ 45.000,00-150.000,00
1 Set(MOQ)
Máquina de recubrimiento al vacío por magnetrón de cromo para ruedas de automóviles

Máquina de recubrimiento al vacío por magnetrón de cromo para ruedas de automóviles

US$ 45.000,00-150.000,00
1 Set(MOQ)
1/4

Shaanxi Mingsheng Guangpu Metal Materials Co., Ltd.

3 años·5.0
Enviar Consulta
Objetivo de Sputtering de Cromo en Forma de Rectángulo con Maquinado de Agujeros para Recubrimiento Metálico de Precisión

Objetivo de Sputtering de Cromo en Forma de Rectángulo con Maquinado de Agujeros para Recubrimiento Metálico de Precisión

US$ 99,00-180,00
1 Pieza(MOQ)
Objetivo de Sputtering de Cromo para Electrónica de Precisión y Moldes

Objetivo de Sputtering de Cromo para Electrónica de Precisión y Moldes

US$ 90,00-110,00
2 Piezas(MOQ)
Objetivo de aluminio y circonio CIP versátil con composición de cromo

Objetivo de aluminio y circonio CIP versátil con composición de cromo

US$ 85,00-95,00
1 Pieza(MOQ)
1/4

Dongguan Gravel Industries and Enterprise Company Limited

Enviar Consulta
Objetivo de sputtering de metal de cromo de alta pureza

Objetivo de sputtering de metal de cromo de alta pureza

US$ 2.500,00
1 Pieza(MOQ)
Objetivo de cromo de alta pureza para recubrimiento en vacío/PVD

Objetivo de cromo de alta pureza para recubrimiento en vacío/PVD

US$ 1.000,00
1 Pieza(MOQ)
1/4

Sid Metal Co., Ltd

13 años
·Fabricante/Fábrica & Empresa Comercial
Enviar Consulta
99.99% Objetivo de Sputtering de Cromo Recubrimiento de Cromo Objetivo de Cromo

99.99% Objetivo de Sputtering de Cromo Recubrimiento de Cromo Objetivo de Cromo

US$ 100,00-600,00
2 Piezas(MOQ)
1/4

Junsion Precision Hardware Co., Ltd.

7 años
·Fabricante/Fábrica & Empresa Comercial
Enviar Consulta
Objetivo de pulverización de titanio, aluminio, cobre, cromo, níquel, tubo de magnetrón, recubrimiento PVD rotativo

Objetivo de pulverización de titanio, aluminio, cobre, cromo, níquel, tubo de magnetrón, recubrimiento PVD rotativo

US$ 0,50-10,00
10 Piezas(MOQ)
1/4

Shenzhen Hongchen New Materials Co., Ltd

Enviar Consulta
La personalización de cromo cromo arco múltiple Material Objetivo magnetrón Sputtering para revestimiento PVD

La personalización de cromo cromo arco múltiple Material Objetivo magnetrón Sputtering para revestimiento PVD

US$ 10,00-15,00
1 Kg(MOQ)
99,95% Cromo Plato puro cromo Cr esputante objetivo / PVD Objetivo de la máquina de revestimiento

99,95% Cromo Plato puro cromo Cr esputante objetivo / PVD Objetivo de la máquina de revestimiento

US$ 10,00-15,00
1 Kg(MOQ)
Cromo Cr objetivo de alta pureza para la máquina de recubrimiento de vacío PVD

Cromo Cr objetivo de alta pureza para la máquina de recubrimiento de vacío PVD

US$ 10,00-15,00
1 Kg(MOQ)
Materiales de la placa de cromo de PVD máquina de recubrimiento al vacío Cr Metal Blancos de esputo de planos empalmados para el tratamiento de superficies

Materiales de la placa de cromo de PVD máquina de recubrimiento al vacío Cr Metal Blancos de esputo de planos empalmados para el tratamiento de superficies

US$ 10,00-15,00
1 Kg(MOQ)

Sino Resources Import & Export (Liao Ning) Co., Ltd.

Enviar Consulta
Cromo de la cadera de Sputtering meta para el revestimiento PVD decorativos

Cromo de la cadera de Sputtering meta para el revestimiento PVD decorativos

US$ 70,00-100,00
1 Pieza(MOQ)
Cromo de la cadera de Sputtering meta para el recubrimiento PVD 99.5 Destino Cr

Cromo de la cadera de Sputtering meta para el recubrimiento PVD 99.5 Destino Cr

US$ 60,00-90,00
1 Pieza(MOQ)
Cromo de alta pureza Sputtering Meta 99.5 Ronda Cr objetivo para la PVD

Cromo de alta pureza Sputtering Meta 99.5 Ronda Cr objetivo para la PVD

US$ 80,00-100,00
1 Pieza(MOQ)
Chrome Sputtering Meta Hip 99,5 Cr objetivo para la PVD

Chrome Sputtering Meta Hip 99,5 Cr objetivo para la PVD

Negociable
1 Pieza(MOQ)

Enjo Sports Inc.

Enviar Consulta
Tacband Ar500 Metales de Tiro Objetivos para Exterior Interior Objetivo

Tacband Ar500 Metales de Tiro Objetivos para Exterior Interior Objetivo

US$ 7,85-8,90
100 Piezas(MOQ)
1/4

ATM Material Co., Ltd.

Enviar Consulta
Objetivo de pulverización

Objetivo de pulverización

US$ 0,10-100,00
1.000 Piezas(MOQ)
1/4

Hunan Ultra Minor Metals Ltd

Enviar Consulta
Tungsteno de alta pureza níquel cromo/níquel cromo/ tungsteno níquel esputante objetivo Para la industria de películas delgadas

Tungsteno de alta pureza níquel cromo/níquel cromo/ tungsteno níquel esputante objetivo Para la industria de películas delgadas

Negociable
1 Pieza(MOQ)

Suzhou Zhongzhina Semiconductor Technology Co., Ltd.

Enviar Consulta
Cromo (cromo) Metal de alta pureza objetivo para PVD Magnetron esputtering recubrimiento de vacío, tamaño de partículas personalizable, con servicio de unión de placas de apoyo

Cromo (cromo) Metal de alta pureza objetivo para PVD Magnetron esputtering recubrimiento de vacío, tamaño de partículas personalizable, con servicio de unión de placas de apoyo

Negociable
1 Pieza(MOQ)

Shanghai Zenkaah New Materials Technology Co., Ltd.

Enviar Consulta
Cromo (cromo) Metal de alta pureza objetivo para PVD Magnetron esputtering recubrimiento de vacío, tamaño de partículas personalizable, con servicio de unión de placas de apoyo

Cromo (cromo) Metal de alta pureza objetivo para PVD Magnetron esputtering recubrimiento de vacío, tamaño de partículas personalizable, con servicio de unión de placas de apoyo

Negociable
1 Pieza(MOQ)

Inner Mongolia Rongtai Rhenium New Materials Co., Ltd.

5.0
Enviar Consulta
Material de objetivo de gadolinio avanzado para soluciones de recubrimiento mejoradas

Material de objetivo de gadolinio avanzado para soluciones de recubrimiento mejoradas

US$ 55,00-85,00
1 Pieza(MOQ)
Objetivos de Sputtering de Titanio y Aluminio Avanzados para Aplicaciones de Precisión

Objetivos de Sputtering de Titanio y Aluminio Avanzados para Aplicaciones de Precisión

US$ 190,00-199,00
1 Pieza(MOQ)
Objetivos de sputtering de metales raros de alta calidad para distribución global

Objetivos de sputtering de metales raros de alta calidad para distribución global

US$ 150,00-350,00
1 Pieza(MOQ)
Objetivo de sputtering de níquel, cobalto y itrio de alta pureza para recubrimientos ópticos avanzados

Objetivo de sputtering de níquel, cobalto y itrio de alta pureza para recubrimientos ópticos avanzados

US$ 115,00-130,00
1 Pieza(MOQ)
1/4

Xiangtan Hondson Coating Technology Co., Ltd.

6 años
·Fabricante/Fábrica & Empresa Comercial
Enviar Consulta
Objetivo de magnetrón cilíndrico para recubrimiento PVD en vacío de tubos de titanio, materiales en bruto para recubrimiento, cátodos

Objetivo de magnetrón cilíndrico para recubrimiento PVD en vacío de tubos de titanio, materiales en bruto para recubrimiento, cátodos

US$ 800,00-1.500,00
1 Pieza(MOQ)
Bloque de titanio de alta pureza personalizado, material de titanio, material de recubrimiento por ionización multi-arco, objetivo metálico

Bloque de titanio de alta pureza personalizado, material de titanio, material de recubrimiento por ionización multi-arco, objetivo metálico

US$ 500,00-1.000,00
1 Pieza(MOQ)
Máquina de recubrimiento por evaporación de arco catódico PVD para brocas, piezas de acero

Máquina de recubrimiento por evaporación de arco catódico PVD para brocas, piezas de acero

US$ 50.000,00-100.000,00
1 Pieza(MOQ)
Máquina de recubrimiento por sputtering magnetrón en vacío de nitruro de titanio PVD

Máquina de recubrimiento por sputtering magnetrón en vacío de nitruro de titanio PVD

US$ 57.000,00-112.000,00
1 Set(MOQ)
1/4

Uv Tech Material Ltd

Enviar Consulta
PVD de aluminio cilíndrica de destino al destino Sputter giratorio el 99,999% pureza 2n-5n disponible

PVD de aluminio cilíndrica de destino al destino Sputter giratorio el 99,999% pureza 2n-5n disponible

Negociable
1 Pieza(MOQ)
Se puede girar Tiox Sial Plata Sputtering meta el tubo de cátodos de alta calidad de pureza para la PVD Nano material de película delgada

Se puede girar Tiox Sial Plata Sputtering meta el tubo de cátodos de alta calidad de pureza para la PVD Nano material de película delgada

Negociable
1 Pieza(MOQ)
Cromo Cr PVD Planar destino pegado en la Cooper la placa de apoyo o metro.

Cromo Cr PVD Planar destino pegado en la Cooper la placa de apoyo o metro.

Negociable
1 Pieza(MOQ)
Azo Sputering Objetivo Material de recubrimiento cerámico blanco para la industria del vidrio de recubrimiento de película fina

Azo Sputering Objetivo Material de recubrimiento cerámico blanco para la industria del vidrio de recubrimiento de película fina

Negociable
1 Pieza(MOQ)

Yochane Vacuum Technology Limited

Enviar Consulta
Blanco rotatoria de la capa de la farfulla del tubo Chromium/Cr

Blanco rotatoria de la capa de la farfulla del tubo Chromium/Cr

US$ 20,00
1 Pieza(MOQ)
Blanco de la hoja/de la placa del cromo de la farfulla

Blanco de la hoja/de la placa del cromo de la farfulla

US$ 20,00
1 Pieza(MOQ)
C.C. que farfulla la blanco de la hoja/de la placa de Chromium/Cr

C.C. que farfulla la blanco de la hoja/de la placa de Chromium/Cr

US$ 20,00
1 Pieza(MOQ)
Blanco de la hoja/de la placa de la farfulla Chromium/Cr

Blanco de la hoja/de la placa de la farfulla Chromium/Cr

US$ 20,00
1 Pieza(MOQ)

Shenzhen Canyuan Metal Material Co., Ltd.

Enviar Consulta
99.99% Objetivos de Sputtering de Titanio de Alta Pureza para Recubrimiento por Vacío/PVD

99.99% Objetivos de Sputtering de Titanio de Alta Pureza para Recubrimiento por Vacío/PVD

US$ 200,00-10.000,00
1 Pieza(MOQ)
3N, 56/44 WT%, objetivos de rotación de titanio-cromo de alta pureza de la placa plana / titanio-cromo

3N, 56/44 WT%, objetivos de rotación de titanio-cromo de alta pureza de la placa plana / titanio-cromo

US$ 200,00-10.000,00
1 Pieza(MOQ)
3n Objetivo de Sputtering de Tungsteno de Alta Pureza en Cromo, Placa Plana / Objetivos Rotativos

3n Objetivo de Sputtering de Tungsteno de Alta Pureza en Cromo, Placa Plana / Objetivos Rotativos

US$ 200,00-10.000,00
1 Pieza(MOQ)
3n Objetivo de Sputtering de Silicio de Cromo de Alta Pureza Placa Plana / Objetivos Rotativos de Silicio de Cromo

3n Objetivo de Sputtering de Silicio de Cromo de Alta Pureza Placa Plana / Objetivos Rotativos de Silicio de Cromo

US$ 200,00-10.000,00
1 Pieza(MOQ)

Beenine Shanke Technology Co., Ltd.

Enviar Consulta
Cromo Multi Arco esputante objetivo

Cromo Multi Arco esputante objetivo

US$ 10,00
10 Piezas(MOQ)
Alta pureza 5n 99,999% silicio Granules profesional de procesamiento de fábrica Fabricante

Alta pureza 5n 99,999% silicio Granules profesional de procesamiento de fábrica Fabricante

US$ 20,00-100,00
1 Kg(MOQ)
Alta pureza níquel cromo NiCr aleación espumante Blanco de unión giratoria

Alta pureza níquel cromo NiCr aleación espumante Blanco de unión giratoria

US$ 200,00-300,00
1 Pieza(MOQ)
Alta pureza 3n 99,9% Cr 1-3mm Granule de cromo

Alta pureza 3n 99,9% Cr 1-3mm Granule de cromo

US$ 50,00-100,00
1 Kg(MOQ)

Xiamen U-Spring Technology Co., Ltd

Enviar Consulta
Objetivo rotatorio de cromo U-Spring / objetivo de pulverización para pulverización magnetrónica y recubrimiento al vacío

Objetivo rotatorio de cromo U-Spring / objetivo de pulverización para pulverización magnetrónica y recubrimiento al vacío

US$ 2.000,00
1 Pcs(MOQ)
Objetivo Planar U-Spring Cr / Objetivo de Sputtering para Sputtering Magnetrón y Recubrimiento al Vacío

Objetivo Planar U-Spring Cr / Objetivo de Sputtering para Sputtering Magnetrón y Recubrimiento al Vacío

US$ 2.000,00
1 Pcs(MOQ)
Cátodos de cromo / Cr para arco / objetivo de pulverización para pulverización magnetrónica y recubrimiento al vacío

Cátodos de cromo / Cr para arco / objetivo de pulverización para pulverización magnetrónica y recubrimiento al vacío

US$ 2.000,00
1 Pcs(MOQ)
1/2

Changsha Xinkang Advanced Materials Co., Ltd

Enviar Consulta
99.95% Cromo del níquel de la pureza/blanco de la farfulla de Nicr

99.95% Cromo del níquel de la pureza/blanco de la farfulla de Nicr

US$ 30,00
1 Pieza(MOQ)
99.95% blanco de la farfulla de 99.9% Cr/Chromium

99.95% blanco de la farfulla de 99.9% Cr/Chromium

US$ 30,00
1 Pieza(MOQ)

Able Target Limited

Enviar Consulta
Sputtering Meta, Al2O3/Óxido de aluminio, Al2O3/ZnO/Azo de óxido de zinc aluminio

Sputtering Meta, Al2O3/Óxido de aluminio, Al2O3/ZnO/Azo de óxido de zinc aluminio

Negociable
1 Pieza(MOQ)
Blanco de la farfulla de la tierra rara

Blanco de la farfulla de la tierra rara

Negociable
1 Pieza(MOQ)
12
Sobre Nosotros Declaración Acuerdo del usuario Política de privacidad Contactar a Made-in-China.com Productos Rápidos Perspectivas
Opciones de Idioma: English 简体中文 繁體中文 日本語 Français Español Deutsch Português Italiano Русский язык 한국어 العربية Nederlands हिन्दी ภาษาไทย Türkçe Tiếng Việt Bahasa Indonesia
Copyright ©2026 Focus Technology Co., Ltd. Todos los derechos reservados.
Focus no está responsable de la diferencia entre la versión en inglés y versiones en otros idiomas del sitio web. Si hay algún conflicto, la versión en inglés prevalecerá. Su uso de este sitio web está sujeto a, y constituye el reconocimiento y la aceptación de nuestros Términos y Condiciones.