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Sistema PECVD de deposición de vapor químico reforzado por plasma de película Slililicon Deposición

After-sales Service: on-Line Service
Warranty: One Year
Solicitud: Industria, Colegio, Laboratorio
personalizado: personalizado
Proceso de dar un título: CE
Estructura: Portátil

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Proveedores con licencias comerciales verificadas

Henan, China
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Visión General

Información Básica.

No. de Modelo.
TN-PECVD-200SST
Material
Acero inoxidable
Tipo
Horno tubular
nombre del producto
Pecvd System
material de la cámara
sus304
tamaño de la cámara
500*500mm
caudalímetro de masa
seis canales
potencia de rf
500w/1000w
plataforma de muestras
200mm
calentamiento de muestras
Rt~1000c
Paquete de Transporte
Fumigated Wooden Box
Marca Comercial
TN
Origen
China
Código del HS
8401200000
Capacidad de Producción
20 Sets Per Month

Descripción de Producto

Descripción del producto

Laboratorio plasma mejorado de deposición de vapor químico sistema PECVD de Slililicon deposición de película

Plasma Enhanced Chemical Vapor Deposition Pecvd System From Slilicon Film DepositionLa deposición de vapor químico realzada por plasma (PECVD) es un tipo  de deposición de vapor químico caracterizado por el uso de la activación del plasma a bajas temperaturas para  mejorar la reacción de deposición de vapor químico. Las ventajas de este método son que la temperatura de deposición es baja, la tasa de deposición es rápida, y la película  producida tiene excelentes propiedades eléctricas, buena adhesión de sustrato y excelente cobertura de paso.

Aplicación de la deposición de vapor PECVD:
Los sistemas de ECV con plasma mejorado pueden usarse en: Preparación de grafeno,  preparación de sulfuro, preparación de nanomateriales y otros sitios de prueba. Una variedad de películas como   SiOx, SiNx, silicio amorfo, silicio microcristalino, nano-silicio, SIC, como un diamante, etc. pueden depositarse en la superficie de muestras de escamas o de formas similares, y pueden depositarse películas dopadas de tipo P y tipo N. La película depositada tiene buena uniformidad,  compacidad, adhesión y aislamiento. Ampliamente utilizado en herramientas de corte,  moldes de alta precisión, recubrimientos duros, decoración de alta calidad y otros campos, la deposición de vapor PECVD tiene una amplia gama de aplicaciones en circuitos integrados a gran escala, dispositivos optoelectrónicos, MEMS y otros campos.


 
Parámetros del producto

Especificaciones del sistema PECVD

  Número de modelo TN-PECVD-200SST
  Tamaño de cavidad PHI 500 -
  Longitud de la zona caliente 200
  Fuente de alimentación de RF 500W (1000W es opcional)
  Temperatura 1000 ºC
  Bomba para  el forrajear Conjunto de bombas moleculares
  Tipo de visualización Tipo T.
  Zona caliente Zona única
  Refrigerador de agua CW5200
  Material de cavidad SS
  SampleHeating
 temperatura
Por encima  de RT-1000ºC,      precisión de control de temperatura:  ±1.C  , utilizando un medidor de control de temperatura para el control de temperatura;
Velocidad ajustable: 1-20rpm ajustable
  Tamaño del cabezal de pulverización Φ90mm, el espacio entre el cabezal de pulverización y la muestra 40-100mm en línea ajustable continuamente (puede ajustarse según el proceso), y con una regla de índice de visualización
  Tabla de muestra 200mm diámetro
   Vacío de trabajo  para deposición 0,133-133Pa (puede ajustarse según el proceso)
  Brida superior Puede ser levantado por motor, el sustrato es fácil de cambiar, y hay un puerto visual
Tabla de sustratos Movimiento lineal y azimut de la mesa de sustrato, calentamiento de sustrato y control de temperatura, mesa de montaje y control de pantalla táctil, el movimiento lineal de sustrato se controla manualmente, y la rotación de sustrato se controla mediante motores de CC  
Cámara de vacío Apertura de puerta delantera, acero inoxidable φ500mm X 500mm  
 Ventana de observación φ100mm con deflector  
Caudalímetro de masa Caudalímetro de masa de seis vías  
Número de rutas   de gas Seis caminos  
Rango de presión 0,15 MPa a 0,15 MPa  
Rango 0 a 100 SCCM (oxígeno)
0 a 100 SCCM (CF4)
0 a 200 SCCM (SF6)
0 a 200 SCCM (argón)
0 a 500 SCCM (otros gases aire)
0-500 SCCM (otros gases nitrógeno)
 
Rango de control de flujo Más o menos 1,5%  
Material de la trayectoria del gas acero inoxidable 304  
Unión de tuberías 6,35mm junta del casquillo  
Sistema de vacío Bomba delantera: Bomba de vacío exenta de aceite 4,7L/S.
Bomba molecular: 1200L/S
 
Rango de medición 1 x 10-5 a 1 x 105Pa  
 Precisión de medición 1 x 10-5 ~ 1 x 10-4PA±40% de lectura
1 x 10-4 ~ 1 x 105Pa para una lectura de ±20%
 

 

Fotos detalladas

1. Tenemos máquina CVD/PECVD con sistema de suministro de gas+sistema de vacío+horno de tubo + generador de plasma.

2. Horno de tubo (temperatura) :1200C, 1400C, 1600C, la temperatura personalizada es disponible.

3 . Horno de tubo (zona de calefacción) :zona única, zona doble, zona triple, personalizada no de zona de calefacción disponible.

4. Material del tubo: cuarzo, corindón, aleación y otro material del tubo es personalizable.

5. Tubo con diferentes diámetros y longitudes es personalizable.

100W. Generador de plasma: 150W, 300W, 500W, 1000W, 6, y otra potencia del generador de plasma es personalizable.

7. Flujómetro: 1~3 o flujómetro multicanal es opcional en función de su proceso.

Plasma Enhanced Chemical Vapor Deposition Pecvd System From Slilicon Film Deposition

Plasma Enhanced Chemical Vapor Deposition Pecvd System From Slilicon Film DepositionPlasma Enhanced Chemical Vapor Deposition Pecvd System From Slilicon Film Deposition

 


 

Otras máquinas:
Plasma Enhanced Chemical Vapor Deposition Pecvd System From Slilicon Film Deposition

Perfil de la empresa

Plasma Enhanced Chemical Vapor Deposition Pecvd System From Slilicon Film DepositionPlasma Enhanced Chemical Vapor Deposition Pecvd System From Slilicon Film Deposition

Embalaje y envío

Podemos enviar la CVD, máquina PECVD por mar, por aire, por tierra y por expreso, también podemos organizar el envío de acuerdo a sus necesidades.
Plasma Enhanced Chemical Vapor Deposition Pecvd System From Slilicon Film Deposition

PREGUNTAS FRECUENTES

P. ¿es usted fabricante o empresa comercial?
R. Somos fabricantes profesionales de instrumentos de laboratorio, contamos con un equipo de I+D y un taller profesionales, que pueden prometer la calidad y el servicio de posventa.  

P. ¿Cómo está su garantía?
R.  nuestra garantía es de 12 meses, y proporciona mantenimiento de por vida. Ofrecemos servicio en línea las 24 horas.

P. ¿Cuánto tiempo dura su entrega? Si quiero personalizar el instrumento, ¿cuánto tiempo tarda?
A. 5-10 días---- en la tienda. Productos personalizados------ usualmente toma 30-60 días dependiendo de tus necesidades.

P. ¿Alimentación y enchufe?
R. podemos proporcionar productos que se accule a su voltaje local y estándar de enchufe.

P. ¿Cómo pagar?
A.  T T, L / C, D / P, ETC.

P. ¿Cómo está el paquete de mercancías? ¿métodos de entrega?
A.  fumigación estándar de exportación firme embalaje de cajas de madera o como sus requisitos.

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Fabricante/Fábrica
Productos Principales
Evaporation Coater; Film Coater
Número de Empleados
13