Laboratorio Nuevo Diseño PECVD plasma mejorado sistema de deposición de vapor químico

• After-sales Service: on-Line Service
• Warranty: One Year
• Solicitud: Industria, Colegio, Laboratorio
• personalizado: personalizado
• Proceso de dar un título: CE
• Estructura: Portátil
• No. de Modelo.: TN-PECVD-500T-SS
• Material: Acero inoxidable
• Tipo: Horno tubular
• nombre del producto: Pecvd System
• material de la cámara: sus304
• tamaño de la cámara: 500*500mm
• caudalímetro de masa: seis canales
• potencia de rf: 500w/1000w
• plataforma de muestras: 200mm
• calentamiento de muestras: Rt~1000c
• Paquete de Transporte: Fumigated Wooden Box
• Especificación: 1760x1390x1900
• Marca Comercial: TN
• Origen: China
• Código del HS: 8401200000
• Capacidad de Producción: 20 Sets Per Month

Descripción de Producto

Laboratorio nuevo diseño PECVD plasma mejorado sistema de deposición de vapor químico
 

Descripción del producto

 

La deposición de vapor químico realzada por plasma (PECVD) es un tipo  de deposición de vapor químico caracterizado por el uso de la activación del plasma a bajas temperaturas para  mejorar la reacción de deposición de vapor químico. Las ventajas de este método son que la temperatura de deposición es baja, la tasa de deposición es rápida, y la película  producida tiene excelentes propiedades eléctricas, buena adhesión de sustrato y excelente cobertura de paso.

Aplicación de la deposición de vapor PECVD:
Los sistemas de ECV con plasma mejorado pueden usarse en: Preparación de grafeno,  preparación de sulfuro, preparación de nanomateriales y otros sitios de prueba. Una variedad de películas como   SiOx, SiNx, silicio amorfo, silicio microcristalino, nano-silicio, SIC, como un diamante, etc. pueden depositarse en la superficie de muestras de escamas o de formas similares, y pueden depositarse películas dopadas de tipo P y tipo N. La película depositada tiene buena uniformidad,  compacidad, adhesión y aislamiento. Ampliamente utilizado en herramientas de corte,  moldes de alta precisión, recubrimientos duros, decoración de alta calidad y otros campos, la deposición de vapor PECVD tiene una amplia gama de aplicaciones en circuitos integrados a gran escala, dispositivos optoelectrónicos, MEMS y otros campos.


 

Parámetros del producto

Especificaciones del sistema PECVD

Número de modelo	TN-PECVD-500T-SS
Tamaño de cavidad	PHI 500 -
Longitud de la zona caliente	200
Fuente de alimentación de RF	500W-
Temperatura	1000 ºC
Bomba para  el forrajear	Conjunto de bombas moleculares
Tipo de visualización	T
Zona caliente	YO
Refrigerador de agua	CW5200
Material de cavidad	SS
Calentamiento de muestras  Temperatura de calentamiento	Por encima  de RT-1000ºC,      precisión de control de temperatura:  ±1.C  , utilizando un medidor de control de temperatura para el control de temperatura; Velocidad ajustable: 1-20rpm ajustable
Tamaño del cabezal de pulverización	Φ90mm, el espacio entre el cabezal de pulverización y la muestra 40-100mm en línea ajustable continuamente (puede ajustarse según el proceso), y con una regla de índice de visualización
Tabla de muestra	200mm diámetro
Vacío de trabajo  para deposición	0,133-133Pa (puede ajustarse según el proceso)
Brida superior	Puede ser levantado por motor, el sustrato es fácil de cambiar, y hay un puerto visual
Tabla de sustratos	Movimiento lineal y azimut de la mesa de sustrato, calentamiento de sustrato y control de temperatura, mesa de montaje y control de pantalla táctil, el movimiento lineal de sustrato se controla manualmente, y la rotación de sustrato se controla mediante motores de CC
Cámara de vacío	Apertura de puerta delantera, acero inoxidable φ500mm X 500mm
Ventana de observación	φ100mm con deflector
Caudalímetro de masa	Caudalímetro de masa de seis vías
Número de rutas   de gas	Seis caminos
Rango de presión	0,15 MPa a 0,15 MPa
Rango	0 a 100 SCCM (oxígeno) 0 a 100 SCCM (CF4) 0 a 200 SCCM (SF6) 0 a 200 SCCM (argón) 0 a 500 SCCM (otros gases aire) 0-500 SCCM (otros gases nitrógeno)
Rango de control de flujo	Más o menos 1,5%
Material de la trayectoria del gas	acero inoxidable 304
Unión de tuberías	6,35mm junta del casquillo
Sistema de vacío	Bomba delantera: Bomba de vacío exenta de aceite 4,7L/S. Bomba molecular: 1200L/S
Rango de medición	1 x 10-5 a 1 x 105Pa
Precisión de medición	1 x 10-5 ~ 1 x 10-4PA±40% de lectura 1 x 10-4 ~ 1 x 105Pa para una lectura de ±20%

Fotos detalladas

1. Tenemos máquina CVD/PECVD con sistema de suministro de gas+sistema de vacío+horno de tubo + generador de plasma.
2. Horno de tubo (temperatura) :1200C, 1400C, 1600C, la temperatura personalizada es disponible.
3 . Horno de tubo (zona de calefacción) :zona única, zona doble, zona triple, personalizada no de zona de calefacción disponible.
4. Material del tubo: cuarzo, corindón, aleación y otro material del tubo es personalizable.
5. Tubo con diferentes diámetros y longitudes es personalizable.
100W. Generador de plasma: 150W, 300W, 500W, 1000W, 6, y otra potencia del generador de plasma es personalizable.
7. Flujómetro: 1~3 o flujómetro multicanal es opcional en función de su proceso.

Perfil de la empresa

Zhengzhou Tainuo Film Materials Co., Ltd. Es una empresa integral que integra diseño, investigación y desarrollo, producción y ventas.

Los principales productos de nuestra empresa son: Espumador, coater de evaporación térmica,  coater de espumador de magnetrón, coater de espumador de plasma, coater de evaporación de haz electrónico, Máquina de recubrimiento láser de impulsos PLD, limpiador de plasma, sistema CVD, sistema PECVD, máquina de corte de hilo de diamante, horno de fusión/estufa, horno de fusión de arco, etc.

Nuestros productos se utilizan ampliamente en el campo de la investigación científica de materiales. Tenemos una amplia cooperación con universidades nacionales, laboratorios y nuevas empresas de materiales. Ha sido exportado con éxito a más de 20 países y regiones, incluyendo los Estados Unidos, el Reino Unido, Alemania, Rusia, Suiza, Canadá,  Brasil, etc. y han establecido relaciones de cooperación a largo plazo con los comerciantes locales.

Si usted está realizando investigación de materiales, por favor Contáctenos y le proporcionaremos servicios personalizados para hacer sus experimentos de investigación más suaves!

Embalaje y envío

Podemos enviar la CVD, máquina PECVD por mar, por aire, por tierra y por expreso, también podemos organizar el envío de acuerdo a sus necesidades.

PREGUNTAS FRECUENTES

P. ¿es usted fabricante o empresa comercial?
R. Somos fabricantes profesionales de instrumentos de laboratorio, contamos con un equipo de I+D y un taller profesionales, que pueden prometer la calidad y el servicio de posventa.  

P. ¿Cómo está su garantía?
R.  nuestra garantía es de 12 meses, y proporciona mantenimiento de por vida. Ofrecemos servicio en línea las 24 horas.

P. ¿Cuánto tiempo dura su entrega? Si quiero personalizar el instrumento, ¿cuánto tiempo tarda?
A. 5-10 días---- en la tienda. Productos personalizados------ usualmente toma 30-60 días dependiendo de tus necesidades.

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P. ¿Cómo pagar?
A.  T T, L / C, D / P, ETC.

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A.  fumigación estándar de exportación firme embalaje de cajas de madera o como sus requisitos.

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