3 horno CVD de alta vacío de una sola zona con caudalímetro flotante de 1200C canales
Descripción del producto
Descripción del producto del horno CVD al vacío
1.500 ºC , una sola zona de calefacción, un alto horno CVD de vacío ( CY-O1500-60IT-3F-HV) consiste en un horno de tubo de una sola zona de temperatura de 1.500 ºC, un flujómetro de tres canales, un conjunto de bombas moleculares de alto vacío. El reactivo gaseoso se forma por una reacción legal bajo ciertas condiciones para formar un producto de fase sólida depositado en la superficie del sustrato para formar una película sólida.
El horno de tubo se controla mediante el instrumento de control de temperatura de precisión para el control de temperatura PID. Puede editar el programa de temperatura de elevación de 30 segmentos y tiene la función de protección contra sobrecalentamiento y cortocircuito. Las bridas a ambos lados del tubo del horno están equipadas con un manómetro de vacío digital y un manómetro mecánico, que puede utilizarse para controlar la atmósfera en el tubo del horno. Al mismo tiempo, el horno de tubo se opera por la pantalla táctil de color verdadero de alta definición, que es fácil de usar. Incluso los no profesionales pueden dominar el uso del instrumento después de una simple formación, lo que puede mejorar en gran medida la eficiencia de su experimento.
El tubo del horno de los equipos de película CVD está hecho de alúmina de alta pureza, y el cuerpo del horno adopta un diseño integrado. El diseño único puede asegurar que el sistema sea estable y seguro a 1500ºC. El elemento calefactor está hecho de una barra de carbono de silicio de alta calidad, que puede alcanzar los 1500ºC de alta temperatura. Si el cliente necesita, el elemento calefactor de varilla de molibdeno de silicio puede personalizarse para alcanzar una temperatura más alta de 1700ºC.
El equipo de película CVD está equipado con un flujómetro flotante de tres canales, que puede mezclar 1~3 canales de gas para preparar con precisión el gas mezclado necesario para el experimento. Hay otro manómetro instalado en la parte delantera del caudalímetro de flotación para controlar la presión del gas y la presión del depósito de mezcla.
El equipo de película CVD también está equipado con un conjunto de bombas moleculares de precisión, que puede alcanzar un vacío de nivel 1,0E-3PA, que puede proporcionar a los usuarios un entorno experimental más puro y más estricto que las bombas mecánicas ordinarias.
aplicaciones:
El horno CVD es adecuado para sinterización a alta temperatura, recocido de metales, inspección de calidad, etc. en universidades, institutos de investigación, Empresas industriales y mineras, especialmente para experimentos de ECV que requieren una variedad de atmósferas mezcladoras de gases. Preparación de la película a partir de la reacción química por deposición de reacción química
Parámetros del producto
Parámetros técnicos del horno CVD al vacío
| Horno de tubo de vacío |
Modelo |
TN-O1500-60IT |
| Material del tubo |
Alúmina de alta pureza |
| Diámetro del tubo |
60mm (opcional 50mm, 80mm, 100mm) |
| Longitud del tubo |
1000mm |
| Longitud de la cámara del horno |
400mm |
| Longitud de la zona de calefacción |
300mm |
| Zona de temperatura constante |
150mm |
| Temperatura de funcionamiento |
≤1450ºC. |
| Precisión de control de temperatura |
±1ºC. |
| Modo de control de temperatura |
control de temperatura de programa de 30 o 50 segmentos |
| Modo de visualización |
LCD |
| Método de sellado |
brida de vacío de acero inoxidable 304 |
| Interfaz de brida |
Conector de casquillo de 1/4", junta de KF16/25/40 |
| Vacío |
4,4E-3PA |
| Fuente de alimentación |
AC:220V 50/60Hz |
| Sistema de suministro de gas |
Modelo |
CY-3F |
| Canal de gas |
3 canales |
| Unidad de medición |
Caudalímetro de gas |
| Rango de medición |
Canal a: Gas 0~100ml H2 |
Observaciones: Si necesita otros rangos o tipos de gas, debe especificar al ordenar. De acuerdo con los requisitos específicos del cliente, se puede seleccionar el medidor de flujo del tipo y rango de gas correspondiente. |
| Canal B: Gas 16~160ml N2 |
| Canal C: 250ml~25 Ar gas |
| precisión de medición |
±2,0% |
| Resistencia de presión de tubería |
3MPa |
| Diferencia de presión de trabajo |
50~300KPa |
| Tubo de conexión |
304 acero sin contaminación |
| Canal de gas |
válvula de aguja de acero inoxidable 304 |
| Especificación de interfaz |
conector de casquillo de 1/4" para entrada y salida de gas |
| Sistema de escape |
Modelo |
CY-GZK103-A |
| Bomba molecular |
CY-600 |
| Bomba de respaldo |
Bomba de paletas rotativas |
| Velocidad de bombeo |
Bomba molecular: 600L/S |
Rendimiento de bombeo de gas integral: 30 minutos de vacío puede alcanzar: 1,0E-3PA |
| Bomba de paletas rotativas: 1,1L/S. |
| Interfaz de bombeo |
KF40 |
| Interfaz de escape |
KF16 |
| Medición de vacío |
Indicador de vacío compuesto: Indicador de resistencia + indicador de ionización |
| Vacío final |
1,0E-5Pa |
| Fuente de alimentación |
AC:220V 50/60Hz |
NOTA:
De acuerdo con las necesidades del experimento, se puede elegir la temperatura, la zona de temperatura, el tamaño del horno, el sistema de vacío, el caudalímetro
Fotos detalladas
Fotos relacionadas de horno CVD de vacío
Perfil de la empresa
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