Manufactura y proveedor chino de Objetivos de pulverización, materiales de evaporación, materiales metálicos de alta pureza, materiales de aleación, materiales compuestos, prueba de metales, ofreciendo Tamaño Personalizado de Fábrica Cr2o3 Material de Objetivo de Sputtering de Grano Uniforme PVD para Chips de Spin MRAM y Fabricación de Pantallas Avanzadas, Objetivo de Sputtering de Alta Densidad Cr2o3 para Recubrimientos Decorativos Protectores, Partes Mecánicas Anticorrosión y Investigación de Películas Delgadas Funcionales, 99.99% Pureza Cr2o3 Objetivo de Sputtering Cerámico Personalizado para Barreras de Difusión en Semiconductores y Pantallas Planas y así sucesivamente de calidad.