After-sales Service: | 2 Years |
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Warranty: | 1 Years |
Application: | School, Lab |
Customized: | Customized |
Structure: | Desktop |
Material: | Stainless Steel |
Proveedores con licencias comerciales verificadas
Sistema PECVD
El sistema PECVD utiliza microondas o radiofrecuencia para ionizar el gas que contiene los átomos constituyentes de la película para formar un plasma localmente. El plasma tiene una fuerte actividad química y es fácil de reaccionar para depositar la película deseada en el sustrato. El sistema se utiliza ampliamente para depositar película de alta calidad SiO2, película Si3N4, película de diamante, película dura, película óptica, Nanotubo de carbono (CNT), material compuesto de C/C, revestimiento de SiC, revestimiento de producto de grafito, etc.
Modelo | DM-12NT-PECVD | DM-14ST-PECVD | DM-17MT-PECVD |
Temperatura máxima | 1200ºC. | 1400ºC. | 1700ºC. |
Temperatura de funcionamiento | 1100ºC. | 1300ºC. | 1600ºC. |
Resistencia | Cable de resistencia | SIC | MoSi2 |
Termopar | Tipo K. | Tipo s. | Tipo B. |
Zona de temperatura | Número/diámetro/longitud (se puede personalizar) | ||
Precisión de temperatura | ±1ºC. | ||
Tensión nominal | AC220V50Hz/60Hz (se puede personalizar) | ||
Control de gas | Caudalímetro de flotación/caudalímetro de masa | ||
Sistema de vacío | Bomba giratoria/bomba de difusión/bomba molecular turbo (opcional) | ||
Potencia de RF | 100-1000W(opcional) | ||
Función opcional | Pantalla táctil/Control remoto/Control por ordenador | ||
Se puede personalizarlo |
Q1. ¿y el servicio posventa?
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