• Sistema PECVD para depositar películas de alta calidad SiO2
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Sistema PECVD para depositar películas de alta calidad SiO2

After-sales Service: 2 Years
Warranty: 1 Years
Application: School, Lab
Customized: Customized
Structure: Desktop
Material: Stainless Steel

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Miembro de Oro Desde 2022

Proveedores con licencias comerciales verificadas

Fabricante/Fábrica
  • Visión General
  • Descripción del producto
  • Parámetros del producto
  • Embalaje y envío
  • Perfil de la empresa
  • Nuestras ventajas
  • PREGUNTAS FRECUENTES
Visión General

Información Básica.

No. de Modelo.
PECVD System
Type
Electric Stove
modelo
Dm-17mt-Pecvd
temperatura máxima
1700c
temperatura de trabajo
1600c
resistencia
Mosi2
Paquete de Transporte
Wooden Box
Especificación
/
Marca Comercial
Dming
Origen
China

Descripción de Producto

Descripción del producto

Sistema PECVD  
El sistema PECVD utiliza microondas o radiofrecuencia para ionizar el gas que contiene los átomos constituyentes de la película para formar un plasma localmente. El plasma tiene una fuerte actividad química y es fácil de reaccionar para depositar la película deseada en el sustrato. El sistema se utiliza ampliamente para depositar película de alta calidad SiO2, película Si3N4, película de diamante, película dura, película óptica, Nanotubo de carbono (CNT), material compuesto de C/C, revestimiento de SiC, revestimiento de producto de grafito, etc.
 

 

Pecvd System for Depositing High Quality Sio2 Films
Pecvd System for Depositing High Quality Sio2 Films
Pecvd System for Depositing High Quality Sio2 Films




 

 
Parámetros del producto
 
Modelo DM-12NT-PECVD DM-14ST-PECVD DM-17MT-PECVD
Temperatura máxima 1200ºC. 1400ºC. 1700ºC.
Temperatura de funcionamiento 1100ºC. 1300ºC. 1600ºC.
Resistencia Cable de resistencia SIC MoSi2
Termopar Tipo K. Tipo s. Tipo B.
Zona de temperatura Número/diámetro/longitud (se puede personalizar)
Precisión de temperatura ±1ºC.
Tensión nominal AC220V50Hz/60Hz (se puede personalizar)
Control de gas Caudalímetro de flotación/caudalímetro de masa
Sistema de vacío Bomba giratoria/bomba de difusión/bomba molecular turbo (opcional)
Potencia de RF 100-1000W(opcional)
Función opcional Pantalla táctil/Control remoto/Control por ordenador
Se puede personalizarlo

Embalaje y envío

Pecvd System for Depositing High Quality Sio2 Films
Perfil de la empresa

 

Pecvd System for Depositing High Quality Sio2 Films
Nuestras ventajas

 

Pecvd System for Depositing High Quality Sio2 Films
PREGUNTAS FRECUENTES

 

Q1. ¿y el servicio posventa?
A1. Contamos con departamentos profesionales de preventa y posventa y podemos responderle en 8hrs
Q2. ¿y el período de garantía de calidad?
A2: 2 años, excluir partes irracionalmente operativas y consumibles.
Q3. ¿y la calidad?
A3: Certificación CE disponible y dos veces prueba antes de enviar.
Q4.  ¿y el plazo de entrega?
A4: Envío dentro de 3 días para el modelo regular . 35 días para modelo personalizado.
Q5. ¿es usted un fabricante o una empresa comercial?
A5: Somos una fábrica con 10 años de experiencia en este campo.

 

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