• China Fabricante Industrial Semiconductor fino térmico Refractory Thin film Alto 99,6% 96% Al2O3 aluminio óxido aluminio lámina de sustrato cerámico de alúmina
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Favoritos

China Fabricante Industrial Semiconductor fino térmico Refractory Thin film Alto 99,6% 96% Al2O3 aluminio óxido aluminio lámina de sustrato cerámico de alúmina

Application: Refractory, Refractory, Structure Ceramic, Industrial Ceramic
Type: Ceramic Parts
método de formación: fundición de cinta
características: alta resistencia mecánica, pequeña pérdida dieléctrica
color opcional: blanco, marfil, rosa, negro
densidad: más de 3,70g/cm3

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Miembro Diamante Desde 2020

Proveedores con licencias comerciales verificadas

Clasificación: 5.0/5
Empresa Comercial
  • Visión General
  • Descripción del producto
  • La especificación
  • También producimos
Visión General

Información Básica.

No. de Modelo.
JJBP-0111-0002
espesor estándar
0,25-2,0mm disponible
tolerancia de espesor
±0,03/0,05mm (según el grosor)
tolerancia de longitud y anchura
±2mm
servicio personalizado
compatible con oem, odm, creación de prototipos y pedido de prueba
material
cerámica de alúmina
Paquete de Transporte
Individual Package
Especificación
Max. up to 500mm x 500mm
Marca Comercial
JingHui
Origen
China
Código del HS
8547100000

Descripción de Producto

China Manufacturer Industrial Semiconductor Fine Thermal Refractory Thin film High 96% 99.6% Al2O3 Aluminum Oxide Alumina Ceramic Substrate Sheet
Alta Refractoria térmica fina Industrial 96% Al2O3 aluminio óxido Lámina cerámica
 

Descripción del producto

El sustrato cerámico es un material de sustrato de embalaje electrónico que se utiliza habitualmente. En comparación con los sustratos plásticos y metálicos, el sustrato cerámico tiene las siguientes ventajas:


1) Coeficiente dieléctrico bajo y buen rendimiento de frecuencia
La baja constante dieléctrica y la pérdida dieléctrica de materiales cerámicos pueden reducir el tiempo de retardo de la señal y aumentar la velocidad de transmisión.

2) buen aislamiento
En general, la mayor resistencia al sustrato, la mejor fiabilidad del paquete. Los materiales cerámicos son generalmente compuestos de enlace covalente con mejores propiedades de aislamiento.



3) Coeficiente pequeño de expansión térmica (CTE)
Los compuestos covalentes de enlace generalmente tienen un punto de fusión alto, y cuanto más alto es el punto de fusión, menor es el coeficiente de expansión térmica, por lo que la CTE de los materiales cerámicos es generalmente pequeña.

4) Alta conductividad térmica
Los materiales de sustrato cerámico se utilizan ampliamente en envases de alta fiabilidad, alta frecuencia, alta temperatura y fuerte hermético para productos en ingeniería aeronáutica, aeroespacial y militar. El embalaje de los materiales de sustrato cerámico es generalmente un paquete de sustrato cerámico multicapa, que se utiliza ampliamente en circuitos integrados híbridos (HIC) y paquetes cerámicos de módulo multichip (MCM).

Para conocer las propiedades del material, consulte la tabla siguiente.

 
Sustrato cerámico de alúmina
Elemento Unidad 96% Al2O3 99,6% Al2O3
Propiedades mecánicas
Color / / Blanco Marfil
Densidad Método de drenaje g/cm3 3,70 3,95
Reflectividad de la luz 400nm/1mm % 94 83
Fuerza flexural Flexión de tres puntos MPa >350 >500
Dureza de fractura Método de sangría MPa· M1/2 3,0 3,0
Vickers Dureza Carga 4,9N GPA 14 16
Módulo de Young Método de estiramiento GPA 340 300
Absorción de agua    % 0 0
Caída / Longitud‰ T≤0,3:5, otros: ≤3‰ ≤3‰
Propiedades térmicas
Máx. Temperatura de servicio (sin carga) / ºC 1200 1400
CTE (Coeficiente de
Expansión térmica)
20-800ºC. 1×10-6/ºC 7,8 7,9
Conductividad térmica 25ºC. W/m·K >24 >29
Resistencia a descargas térmicas 800ºC. 10 veces Sin grieta Sin grieta
Calor específico 25ºC. J/kg· k 750 780
 Propiedades eléctricas
Constante dieléctrica 25ºC, 1MHz / 9,4 9,8
Ángulo de pérdida dieléctrica 25ºC, 1MHz ×10-4 3 2
Resistividad del volumen 25ºC. Ω· cm 1014 1014
Rigidez dieléctrica DC KV/mm 15 15
 
 

La especificación

Capacidad de fabricación

1. Especificación del producto

Se pueden producir productos de diversas especificaciones. La tabla  siguiente muestra nuestros grosores y tamaños estándar.

Sustrato cerámico de alúmina
99,6% Al2O3
Grosor  (mm) Tamaño máximo (mm) Forma Técnica de moldeo
Como se disparó Solapado Pulido Rectangular Cuadrado Redondo
0,1-0,2   50,8 50,8   Fundición de cinta
0,25   114,3 114,3     Fundición de cinta
0,38 120 114,3 114,3     Fundición de cinta
0,5 120 114,3 114,3     Fundición de cinta
0,635 120 114,3 114,3     Fundición de cinta
Otros espesores especiales dentro del rango de espesor de 0,1-0,635mm pueden ser alcanzados por el lapping.
96% Al2O3
Grosor  (mm) Tamaño máximo (mm) Forma Técnica de moldeo
Como se disparó Solapado Pulido Rectangular Cuadrado Redondo
0,25 120 114,3 114,3     Fundición de cinta
0,3 120 114,3 114,3     Fundición de cinta
0,38 140×190         Fundición de cinta
0,5 140×190         Fundición de cinta
0,635 140×190         Fundición de cinta
0,76 130×140         Fundición de cinta
0,8 130×140         Fundición de cinta
0,89 130×140         Fundición de cinta
1 280×240         Fundición de cinta
1,5 165×210         Fundición de cinta
2 500×500         Fundición de cinta
Otros espesores especiales dentro del rango de espesor de 0,1-2,0mm pueden ser alcanzados por el lapping.

2. Tolerancias de productos
 
Sustrato cerámico de alúmina
Elemento Grosor del sustrato (mm) Tolerancia estándar (mm)  Mejor tolerancia (mm) Tolerancia de corte láser (mm)
Tolerancia de longitud y anchura / ±2   ±0,15
Tolerancia de espesor T<0,3 ±0,03 ±0,01  
0,30-1,0 ±0,05 ±0,01  
T>1,0 ±10% ±0,01  

3. Rugosidad de la superficie
 
Sustrato cerámico de alúmina
Material Rugosidad de la superficie (μm)
Como se disparó Solapado Pulido
96% Al2O3 Ra 0,2-0,75 Ra 0,3-0,7 Ra0,05
99,6% Al2O3 Ra 0,05-0,15 Ra 0,1-0,5 Ra0,05

4. Procesamiento láser

(1) Tamaño de orificio

 
Sustrato cerámico de alúmina
Diámetro del orificio  (mm) Tolerancia estándar (mm)
φ0,5 0,08
φ>0,5 0,2

(2) Escribado láser
 
Sustrato cerámico de alúmina
Grosor del sustrato (mm) El porcentaje de
Profundidad de línea de Laser Scribe
Hasta espesor (%)
0,2-0,3 40%±5%
0,3<T0,5 50%±3%
0,5<T≤1,0 43%±3%
1,2 55%±3%
1,5 55%±3%
2,0 55%+10%
El punto de garabatación puede ser de diferentes tamaños. Generalmente hay un punto pequeño 0,03-0,04mm (grosor del sustrato≤0,5mm ) y un punto grande 0,08-0,1mm (grosor del sustrato>0,5mm), y la precisión es ±0,01mm.

Proceso de producción

China Manufacturer Industrial Semiconductor Fine Thermal Refractory Thin film High 96% 99.6% Al2O3 Aluminum Oxide Alumina Ceramic Substrate Sheet

Inspección de productos
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Clasificación: 5.0/5
Empresa Comercial
Capital Registrado
73901.09 USD
Área de la Planta
100 Metros Cuadrados