Equipo de recubrimiento vacío iones Multi-Arc

El arco de varios equipos de recubrimiento de sputtering El dispositivo enciende la fuente de evaporación en vacío (cátodo), y forma autosostenida descarga de arco con el ánodo, es decir, los iones que descargan el cátodo de material de la mancha del cátodo arc. Debido a la concentración local de la actual, los julios y el calor generado localmente hace que el cátodo de material para ser parcialmente traducida. Plasmaization explosiva, un dispositivo que combina con un gas reactivo bajo la acción de un sesgo de la pieza que depositar una capa de película en la superficie de la pieza.  Hay ventajas de la deposición de rápido ritmo, la ionización de alta velocidad, de iones de gran energía, el simple funcionamiento del equipo, de bajo costo y gran capacidad de producción.