El equipo de polvo de Nano

Desde el desarrollo de la tecnología de plasma arco DC, ha sido constantemente mejorado y perfeccionado, y su aplicación campos se han expandido continuamente, sobre todo, incluidos los siguientes aspectos:

(1) Nano metal en polvo

Una gran variedad de polvos de aleaciones de metal y nano puede ser preparado por el método de plasma arco DC.

(2) la película Diamante de Nano

El uso de CH4, H2 y Ar gas como fuente de gas de plasma, diamond films también puede ser preparado.

(3) y polvo de cerámica de óxido metálico.

Polvos cerámicos como los óxidos y nitruros también puede ser preparado por el uso de diferentes fuentes de plasma.

En la actualidad, plasma la evaporación método ha sido los países industrializados para metales, aleaciones elemental nano en polvo, óxido de nitruro de carburo, en polvo, etc..

Gas de trabajo

Las materias primas

Los nanomateriales generado

tamaño de partícula

Características

Ar

Ag, Al, Co, Cr, Cu, Fe, Mg, Mn, Mo, Ni, Pd, Si W

Ag, Al, Co, Cr, Cu, Fe, Mg, Mn, Mo, Ni, Pd, Si W

30-300

Metal Puro nanospheres

Sc, Ta, Ti, V.

Sc, Ta, Ti, V.

50-300

Nanopartículas de hidruro

S2

W,Mo,Nb

WO3,MoO3,Nb2O5 o NbO2

50-300

Nanospheres de óxido metálico.

H2

CaO,MgO, Al2O3,TiO2,ZrO2,SiC,Ti+C, W+C,WO3+C,WC

CaO,MgO, Al2O3,TiO2,ZrO2,SiC,Ti+C, W+C,WO3+C,WC

50-300

Las partículas Nanospherical con estructura de cristal

N2

Ti, de estaño,Zr,Al AlN,Si, Si3N4

El estaño,ZrN,Al+AlN,Si

50-300

De nitruro de metal nanospheres

La Mao-pnp nano plasma la línea de producción de polvo

1. El propósito del equipo:

La pureza del metal nano y compuestas de polvo fueron preparados de forma continua y eficiente por plasma de corriente directa de vacío evaporación con alta calidad, alto rendimiento y alta uniformidad. Tiene las características de alta pureza (por encima del 99,7%), alto y estrecho de distribución de tamaño de partícula sphericity, alta cristalinidad y de fácil dispersión.

2. Composición del equipo:

Está compuesta principalmente por la obtención de alto vacío y llenado de sistema de gas, polvo de plasma arco DC system, sistema de alimentación en polvo, sistema de circulación de gas de la colección de polvo, polvo de la bolsa de solución de sistema de recogida, el polvo de la pasivación system, sistema de vacío en la guantera, sistema de control eléctrico, sistema de circulación de agua de refrigeración, etc..

3. Índice técnico

3.1 Capacidad de evaporación de un solo horno: 2kg.

3.2 temperatura de evaporación de plasma: 2000-3500 ºC (personalizable)

3.3 Principales parámetros técnicos de suministro de energía de plasma: entrada 380V, 3 fases, 50Hz, la potencia total de 30 KW, 70kw y 100 kW, tensión de trabajo: 50-300V

3.5 Salida de 5-50 kg diarios:

4. Los detalles de equipamiento

4.1. Sistema de evaporación de Plasma inmemoriales han estado pulverizando

4.2. El sistema de medición y adquisición de vacío

4.3. Sistema de circulación de carga de gas

4.4. El agua de refrigeración: tamaño de partícula controlador, refrigerador, horno de gas por evaporación del sistema de refrigeración intercambiador de calor, el enfriador de agua

4.5. El ciclón polvo clasificación / sistema de recogida.

4.6. Cuadro de la operación de guante de vacío de la plaza (dos estaciones de servicio); el tanque de almacenamiento.

4.7. Sistema de control eléctrico.

4.8. Sistema de almacenamiento de la pasivación: opcional

Algunos tienen grandes nanopowders metal superficie específica, de alta actividad, sensible al ambiente, y son muy propensos a la oxidación y otras reacciones químicas, que no son propicias para el embalaje, almacenamiento, transporte y la aplicación. El nano dispositivo de la pasivación de polvo pueden darse cuenta de la capa de iones de inertes de nano partículas, que proporciona comodidad para el envasado, almacenamiento y la aplicación de alta actividad nano en polvo.

El núcleo de equipo es self-made, y gradualmente se aplica para la protección de propiedad intelectual en el 2003.