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sobre objetivos de titanio
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objetivos de titanio400+ fábricas verificadas

SUZHOU TECHNO-TEC PHOTOELECTRIC MATERIALS CO., LTD

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Aleación CuNiTi Target Cobre níquel Titanio aleación esputtering objetivo para LCD/panel táctil

Aleación CuNiTi Target Cobre níquel Titanio aleación esputtering objetivo para LCD/panel táctil

US$ 50,00
1 Kg(MOQ)
Objetivo de Sputtering de Titanio Ti / Objetivo Rotatorio de Titanio para Semiconductores / Sputtering de Recubrimiento al Vacío

Objetivo de Sputtering de Titanio Ti / Objetivo Rotatorio de Titanio para Semiconductores / Sputtering de Recubrimiento al Vacío

US$ 20,00-100,00
1 Kg(MOQ)
Blanco de aleación de tungsteno Blanco de esputo de aleación de titanio para semiconductores /Chips de memoria

Blanco de aleación de tungsteno Blanco de esputo de aleación de titanio para semiconductores /Chips de memoria

US$ 270,00
1 Kg(MOQ)
Objetivo de aleación de AlTi, objetivo de aleación de aluminio y titanio para recubrimiento por sputtering en circuitos integrados

Objetivo de aleación de AlTi, objetivo de aleación de aluminio y titanio para recubrimiento por sputtering en circuitos integrados

US$ 50,00-80,00
1 Kg(MOQ)
1/4

Beenine Shanke Technology Co., Ltd.

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Objetivo de sputtering de titanio y tungsteno de alta calidad, precio de unión en China

Objetivo de sputtering de titanio y tungsteno de alta calidad, precio de unión en China

US$ 300,00-1.000,00
1 Pieza(MOQ)
Objetivo de sputtering de aleación de titanio y aluminio de alta calidad, precio de unión en China

Objetivo de sputtering de aleación de titanio y aluminio de alta calidad, precio de unión en China

US$ 80,00-500,00
1 Pieza(MOQ)
Objetivo de sputtering de titanio de alta calidad para recubrimiento PVD

Objetivo de sputtering de titanio de alta calidad para recubrimiento PVD

US$ 65,00-100,00
1 Pieza(MOQ)
Objetivo de sputtering de aleación de titanio de Wolframio recubrimiento PVD fábrica de China

Objetivo de sputtering de aleación de titanio de Wolframio recubrimiento PVD fábrica de China

US$ 300,00-1.000,00
1 Pieza(MOQ)
1/4

Ningbo Danko Vacuum Technology Co., Ltd.

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Metalización al vacío de aleación de titanio y aluminio

Metalización al vacío de aleación de titanio y aluminio

US$ 30,00-100,00
1 Pieza(MOQ)
Máquina de recubrimiento PVD para todos los materiales: metal, vidrio, cerámica

Máquina de recubrimiento PVD para todos los materiales: metal, vidrio, cerámica

Negociable
1 Set(MOQ)
Fabricante de máquina de recubrimiento PVD para grifos de acero inoxidable

Fabricante de máquina de recubrimiento PVD para grifos de acero inoxidable

US$ 15.000,00-150.000,00
1 Pieza(MOQ)
Máquina de recubrimiento de hierro por arco PVD

Máquina de recubrimiento de hierro por arco PVD

US$ 55.000,00-150.000,00
1 Pieza(MOQ)
1/4

Sid Metal Co., Ltd

13 años
·Fabricante/Fábrica & Empresa Comercial
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Objetivo de sputtering de titanio de alta pureza, planar para la industria de semiconductores, circuitos integrados, vidrio para construcción y automóviles

Objetivo de sputtering de titanio de alta pureza, planar para la industria de semiconductores, circuitos integrados, vidrio para construcción y automóviles

US$ 1,00-100,00
1 Pieza(MOQ)
Objetivo de Sputtering de Titanio Ti / Objetivo Rotatorio de Titanio para Semiconductores / Sputtering de Recubrimiento al Vacío

Objetivo de Sputtering de Titanio Ti / Objetivo Rotatorio de Titanio para Semiconductores / Sputtering de Recubrimiento al Vacío

US$ 1,00-100,00
1 Pieza(MOQ)
Pellets de Titanio de Alta Pureza 99.995% para Recubrimiento por Evaporación Recubrimiento por Sputtering Objetivo de Titanio

Pellets de Titanio de Alta Pureza 99.995% para Recubrimiento por Evaporación Recubrimiento por Sputtering Objetivo de Titanio

US$ 140,00-200,00
1 Kg(MOQ)
Objetivo de Titanio 99.999% Pellets de Titanio para Recubrimiento PVD

Objetivo de Titanio 99.999% Pellets de Titanio para Recubrimiento PVD

US$ 100,00-200,00
1 Kg(MOQ)
1/4

Zhonghe Steel (Tianjin) Co., Ltd.

5 años
·Empresa Comercial
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Precio del objetivo de sputtering de titanio PVD personalizado

Precio del objetivo de sputtering de titanio PVD personalizado

US$ 10,00-25,00
1 Pieza(MOQ)
Objetivo de Titanio de Alta Pureza 99.99% para Máquina de Recubrimiento por Vacío / PVD

Objetivo de Titanio de Alta Pureza 99.99% para Máquina de Recubrimiento por Vacío / PVD

US$ 10,00-25,00
1 Pieza(MOQ)
Personalización de objetivo de sputtering de titanio para necesidades de recubrimiento especializadas

Personalización de objetivo de sputtering de titanio para necesidades de recubrimiento especializadas

US$ 10,00-25,00
1 Pieza(MOQ)
Objetivos de PVD de aleación de aluminio y titanio, objetivos de sputtering de titanio, objetivo de aleación de Tial para recubrimiento

Objetivos de PVD de aleación de aluminio y titanio, objetivos de sputtering de titanio, objetivo de aleación de Tial para recubrimiento

US$ 10,00-25,00
1 Pieza(MOQ)
1/4

Inner Mongolia Rongtai Rhenium New Materials Co., Ltd.

5.0
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Objetivo de Sputtering de Titanio para la Óptica y la Industria de Energía Solar

Objetivo de Sputtering de Titanio para la Óptica y la Industria de Energía Solar

US$ 115,00-130,00
1 Pieza(MOQ)
Objetivo de Sputtering de Titanio Premium para una Eficiencia de Fabricación Superior

Objetivo de Sputtering de Titanio Premium para una Eficiencia de Fabricación Superior

US$ 55,00-85,00
1 Pieza(MOQ)
Objetivo de sputtering de aleación de titanio personalizable para recubrimientos ópticos

Objetivo de sputtering de aleación de titanio personalizable para recubrimientos ópticos

US$ 190,00-199,00
1 Pieza(MOQ)
Objetivo de sputtering de aleación de titanio de alta pureza personalizado para electrónica

Objetivo de sputtering de aleación de titanio de alta pureza personalizado para electrónica

US$ 115,00-130,00
1 Pieza(MOQ)
1/4

Shaanxi Mingsheng Guangpu Metal Materials Co., Ltd.

3 años·5.0
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Objetivo redondo de titanio pasivado para aplicaciones médicas electrónicas

Objetivo redondo de titanio pasivado para aplicaciones médicas electrónicas

US$ 190,00-198,00
10 Kg(MOQ)
Objetivos redondos de titanio de alta pureza biocompatibles para necesidades industriales

Objetivos redondos de titanio de alta pureza biocompatibles para necesidades industriales

US$ 190,00-198,00
10 Kg(MOQ)
Placa de objetivo de titanio puro y aleación de titanio para recubrimientos ópticos y biomédicos

Placa de objetivo de titanio puro y aleación de titanio para recubrimientos ópticos y biomédicos

US$ 190,00-198,00
10 Kg(MOQ)
Placa de Titanio con Agujero Curvado para Recubrimientos Ópticos Mejorados

Placa de Titanio con Agujero Curvado para Recubrimientos Ópticos Mejorados

US$ 190,00-198,00
10 Kg(MOQ)
1/4

Ningbo Galaxy International Trading Co., Ltd.

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99.99% Placa de objetivo de titanio de alta pureza ASTM B265 Gr1 para recubrimiento al vacío

99.99% Placa de objetivo de titanio de alta pureza ASTM B265 Gr1 para recubrimiento al vacío

US$ 10,00
3 pcs(MOQ)
Titanio con cromo objetivo redondo para revestimiento de vacío

Titanio con cromo objetivo redondo para revestimiento de vacío

US$ 60,00
1 Pieza(MOQ)
Resistencia al calor y excelente estabilidad química objetivo de tubo de titanio (3N7)

Resistencia al calor y excelente estabilidad química objetivo de tubo de titanio (3N7)

US$ 100,00-120,00
5 Piezas(MOQ)
Excelente estabilidad química y ductilidad objetivo redondo de titanio

Excelente estabilidad química y ductilidad objetivo redondo de titanio

US$ 10,00
1 pcs(MOQ)
1/4

Rheniumet Ltd.

17 años
·Empresa Comercial
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99.999% Wti10 Objetivo de Sputtering de Tungsteno y Titanio

99.999% Wti10 Objetivo de Sputtering de Tungsteno y Titanio

Negociable
1 Pieza(MOQ)
99.99% Objetivo de Titanio Puro Redondo para Deposición por Sputtering

99.99% Objetivo de Titanio Puro Redondo para Deposición por Sputtering

US$ 50,00-1.000,00
3 kilograms(MOQ)
99.99% Wti10 Wti20 Objetivo, 6-12inch Procesamiento de Objetivos de Tungsteno Titanio Personalizados Rectangulares o Circulares

99.99% Wti10 Wti20 Objetivo, 6-12inch Procesamiento de Objetivos de Tungsteno Titanio Personalizados Rectangulares o Circulares

US$ 200,00-500,00
1 Kg(MOQ)
Rectángulo Tungsteno Titanio Wti10 Objetivo

Rectángulo Tungsteno Titanio Wti10 Objetivo

US$ 1.000,00-2.000,00
1 pieces(MOQ)
1/4

Changsha Xinkang Advanced Materials Co., Ltd.

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Materiales de recubrimiento objetivo de sputtering de aleación de niobio y titanio disco objetivo para recubrimiento

Materiales de recubrimiento objetivo de sputtering de aleación de niobio y titanio disco objetivo para recubrimiento

US$ 100,00-120,00
1 pieces(MOQ)
Objetivo de níquel-titanio Niti de alta calidad para recubrimiento PVD

Objetivo de níquel-titanio Niti de alta calidad para recubrimiento PVD

US$ 100,00-1.000,00
1 Pieza(MOQ)
Tialv 90/6/4 Wt% Grado 5 Aleación de Titanio Aluminio Vanadio Objetivo de Sputtering

Tialv 90/6/4 Wt% Grado 5 Aleación de Titanio Aluminio Vanadio Objetivo de Sputtering

US$ 35,00-40,00
1 Pieza(MOQ)
Objetivo de Nitruro de Titanio 99.5% con Placa de Respaldo de Cobre OFHC para Recubrimiento al Vacío

Objetivo de Nitruro de Titanio 99.5% con Placa de Respaldo de Cobre OFHC para Recubrimiento al Vacío

US$ 100,00-1.000,00
1 pieces(MOQ)
1/4

Lonwin Industry Group Limited

5.0
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99.9% Objetivo de Sputtering de Carburo de Titanio Cerámico de Titanio

99.9% Objetivo de Sputtering de Carburo de Titanio Cerámico de Titanio

US$ 17,00-55,00
1 Kg(MOQ)
Objetivo de Sputtering de Aleación de Titanio Silicio Ti-Si de Alta Pureza 3n para Recubrimiento PVD

Objetivo de Sputtering de Aleación de Titanio Silicio Ti-Si de Alta Pureza 3n para Recubrimiento PVD

US$ 17,00-55,00
1 Kg(MOQ)
Aleación de Tizr de metal, objetivo de sputtering de titanio y circonio para recubrimiento

Aleación de Tizr de metal, objetivo de sputtering de titanio y circonio para recubrimiento

US$ 17,00-55,00
1 Kg(MOQ)
Objetivos de Sputtering de Silicuro de Titanio de Alta Pureza Tisi2 Recubrimiento por Sputtering

Objetivos de Sputtering de Silicuro de Titanio de Alta Pureza Tisi2 Recubrimiento por Sputtering

US$ 17,00-55,00
1 Kg(MOQ)
1/4

Xiamen Tmax Battery Equipments Limited

5.0
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Marca TMAXCN 3n/4n/4n5 Materiales de recubrimiento PVD Wti Aleación de tungsteno y titanio Objetivo de sputtering

Marca TMAXCN 3n/4n/4n5 Materiales de recubrimiento PVD Wti Aleación de tungsteno y titanio Objetivo de sputtering

US$ 78,00-90,00
1 Pieza(MOQ)
Objetivo de sputtering de titanio Ti de alta pureza de la marca TMAXCN 99.995% (4N5)

Objetivo de sputtering de titanio Ti de alta pureza de la marca TMAXCN 99.995% (4N5)

US$ 78,00-90,00
1 Pieza(MOQ)
TMAXCN Brand-MSK-USP-R2R 2 en 1 Máquina de Recubrimiento por Pulverización Ultrasónica por Pirólisis en Hoja y Rodillo a Rodillo

TMAXCN Brand-MSK-USP-R2R 2 en 1 Máquina de Recubrimiento por Pulverización Ultrasónica por Pirólisis en Hoja y Rodillo a Rodillo

US$ 13.000,00
1 Pieza(MOQ)
TMAXCN Brand-MSK-USP-R2R 2 en 1 Máquina de recubrimiento por pulverización ultrasónica de pirólisis en lámina y rodillo a rodillo

TMAXCN Brand-MSK-USP-R2R 2 en 1 Máquina de recubrimiento por pulverización ultrasónica de pirólisis en lámina y rodillo a rodillo

US$ 5.350,00
1 Pieza(MOQ)
1/4

Xiangtan Hondson Coating Technology Co., Ltd.

6 años
·Fabricante/Fábrica & Empresa Comercial
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Objetivo de magnetrón cilíndrico para recubrimiento PVD en vacío de tubos de titanio, materiales en bruto para recubrimiento, cátodos

Objetivo de magnetrón cilíndrico para recubrimiento PVD en vacío de tubos de titanio, materiales en bruto para recubrimiento, cátodos

US$ 800,00-1.500,00
1 Pieza(MOQ)
Bloque de titanio de alta pureza personalizado, material de titanio, material de recubrimiento por ionización multi-arco, objetivo metálico

Bloque de titanio de alta pureza personalizado, material de titanio, material de recubrimiento por ionización multi-arco, objetivo metálico

US$ 500,00-1.000,00
1 Pieza(MOQ)
Venta de fábrica de alta calidad máquina de recubrimiento PVD de nitruro de titanio por deposición de sputtering para herramientas y moldes

Venta de fábrica de alta calidad máquina de recubrimiento PVD de nitruro de titanio por deposición de sputtering para herramientas y moldes

US$ 61.000,00
1 sets(MOQ)
Deposición de película delgada de metal recubrimiento de nitruro de titanio acero inoxidable máquina

Deposición de película delgada de metal recubrimiento de nitruro de titanio acero inoxidable máquina

US$ 56.000,00-63.000,00
1 Set(MOQ)
1/4

Jiangsu Cicel Vacuum Technology Co., Ltd.

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Objetivo de titanio por sputtering, objetivo de sputtering de titanio, recubrimiento al vacío, objetivo de titanio

Objetivo de titanio por sputtering, objetivo de sputtering de titanio, recubrimiento al vacío, objetivo de titanio

US$ 100,00-300,00
1 Pieza(MOQ)
Objetivo de sputtering de titanio de aleación con personalización

Objetivo de sputtering de titanio de aleación con personalización

US$ 100,00-300,00
1 Pieza(MOQ)
Revestimiento de Titanio Target/Gr2 Objetivo de Titanio Objetivo de Sputtering de Titanio

Revestimiento de Titanio Target/Gr2 Objetivo de Titanio Objetivo de Sputtering de Titanio

US$ 100,00-300,00
1 Pieza(MOQ)
Máquina de Platinado PVD de Multi Arco Iónico para Hardware de Cocina, Taza de Vacío, Joyería, Reloj, Grifo, Llave de Agua, Montura de Gafas

Máquina de Platinado PVD de Multi Arco Iónico para Hardware de Cocina, Taza de Vacío, Joyería, Reloj, Grifo, Llave de Agua, Montura de Gafas

Negociable
1 Set(MOQ)
1/4

Jinan Hengcheng Aluminum Co., Ltd.

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Objetivo de Sputtering de Aluminio Titanio Alloy/50 para Máquina de Recubrimiento PVD

Objetivo de Sputtering de Aluminio Titanio Alloy/50 para Máquina de Recubrimiento PVD

US$ 3.380,00
1 Tonelada(MOQ)
Objetivo de sputtering de aluminio y titanio, objetivo de sputtering de titanio y aluminio

Objetivo de sputtering de aluminio y titanio, objetivo de sputtering de titanio y aluminio

US$ 3.380,00
1 Tonelada(MOQ)
Alambre de aluminio para objetivos rotativos fundidos y objetivos rotativos rociados térmicamente

Alambre de aluminio para objetivos rotativos fundidos y objetivos rotativos rociados térmicamente

US$ 2.960,00
1 Tonelada(MOQ)
Alambre de aluminio para objetivos rotativos fundidos y objetivos rotativos rociados térmicamente

Alambre de aluminio para objetivos rotativos fundidos y objetivos rotativos rociados térmicamente

US$ 2.960,00
1 Tonelada(MOQ)
1/4

Junsion Precision Hardware Co., Ltd.

7 años
·Fabricante/Fábrica & Empresa Comercial
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Objetivo de pulverización de titanio, aluminio, cobre, cromo, níquel, tubo de magnetrón, recubrimiento PVD rotativo

Objetivo de pulverización de titanio, aluminio, cobre, cromo, níquel, tubo de magnetrón, recubrimiento PVD rotativo

US$ 0,50-10,00
10 Piezas(MOQ)
Piezas de torneado de aluminio anodizado de maquinaria de precisión

Piezas de torneado de aluminio anodizado de maquinaria de precisión

US$ 0,50-10,00
10 Piezas(MOQ)
1/4

HANGZHOU KING TITANIUM CO., LTD.

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R05200 Objetivo de tantalio para fines electrónicos

R05200 Objetivo de tantalio para fines electrónicos

US$ 200,00-800,00
1 Kg(MOQ)
1/4

Zhengzhou CY Scientific Instrument Co., Ltd.

13 años
·Fabricante/Fábrica & Empresa Comercial
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Objetivo de Sputtering de Plasma de Alta Pureza

Objetivo de Sputtering de Plasma de Alta Pureza

US$ 65,00
1 Set(MOQ)
Objetivo de cobre, objetivo de recubrimiento al vacío

Objetivo de cobre, objetivo de recubrimiento al vacío

US$ 692,00
10 Piezas(MOQ)
Temperatura de Calentamiento 400c Sistema de Recubrimiento por Evaporación para Complejos Organometálicos (CY-300A)

Temperatura de Calentamiento 400c Sistema de Recubrimiento por Evaporación para Complejos Organometálicos (CY-300A)

US$ 39.500,00-64.900,00
1 Pieza(MOQ)
Máquina de recubrimiento de nitruro de titanio nano en vacío por PVD para la pulverización de película no metálica

Máquina de recubrimiento de nitruro de titanio nano en vacío por PVD para la pulverización de película no metálica

US$ 30.000,00-42.000,00
1 Pieza(MOQ)
1/4

Shenzhen Hongchen New Materials Co., Ltd

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Aluminio redondo personalizado Titanium Magnetron sputtering aleación objetivo para el vacío Revestimiento

Aluminio redondo personalizado Titanium Magnetron sputtering aleación objetivo para el vacío Revestimiento

US$ 10,00-15,00
1 Kg(MOQ)
Están ajustadas fábrica Fabricación de semiconductores de titanio de Sputtering meta para auto

Están ajustadas fábrica Fabricación de semiconductores de titanio de Sputtering meta para auto

US$ 10,00-15,00
1 Kg(MOQ)
Vacío de alta pureza de los componentes electrónicos recubierto de titanio con objetivos de sputtering

Vacío de alta pureza de los componentes electrónicos recubierto de titanio con objetivos de sputtering

US$ 10,00-15,00
1 Kg(MOQ)
Personalizar el titanio tubo tubular de Sputtering giratorio de la fábrica de destino los componentes electrónicos

Personalizar el titanio tubo tubular de Sputtering giratorio de la fábrica de destino los componentes electrónicos

US$ 10,00-15,00
1 Kg(MOQ)

LUOYANG COMBAT TUNGSTEN & MOLYBDENUM MATERIAL CO., LTD.

18 años·5.0
·Fabricante/Fábrica & Empresa Comercial
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Objetivo de Sputtering de Titanio Puro de Material de Titanio Hecho a Medida 99.6% en Venta

Objetivo de Sputtering de Titanio Puro de Material de Titanio Hecho a Medida 99.6% en Venta

US$ 35,00-40,00
5 Kg(MOQ)
Nuevas Hojas de Combate de Madera China Gr1 Gr2 Hoja de Puriyt de Titanio Ta1 Ta2 Personalización de Muestra

Nuevas Hojas de Combate de Madera China Gr1 Gr2 Hoja de Puriyt de Titanio Ta1 Ta2 Personalización de Muestra

US$ 18,00-20,00
1 Pieza(MOQ)
Paquete de madera industrial de combate de Luoyang Henan ASTM B861 tubo de titanio

Paquete de madera industrial de combate de Luoyang Henan ASTM B861 tubo de titanio

US$ 17,50-25,20
10 Kg(MOQ)
Anillos Estándar ASTM B393 en Venta Electrónica Aleación de Discos de Niobio

Anillos Estándar ASTM B393 en Venta Electrónica Aleación de Discos de Niobio

US$ 205,89-294,18
3 Kg(MOQ)
1/4

Xiamen HiuGong Machinery Co., Ltd.

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99.99% Objetivo de Sputtering de Óxido de Galio Objetivo Plano Ga2o3 Objetivo

99.99% Objetivo de Sputtering de Óxido de Galio Objetivo Plano Ga2o3 Objetivo

US$ 300,00
1 Pieza(MOQ)
Objetivo de Sputtering Rotatorio 4n-5n Sial Nicr Znal Znsn Tiox Nbox

Objetivo de Sputtering Rotatorio 4n-5n Sial Nicr Znal Znsn Tiox Nbox

US$ 1.000,00
1 Pieza(MOQ)
Objetivo de Sputtering Magnetrón Zrox Si Cr Nb Cu Cr AG

Objetivo de Sputtering Magnetrón Zrox Si Cr Nb Cu Cr AG

US$ 500,00
1 Pieza(MOQ)
1/4

Jupin Group Co., Ltd.

5.0
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Objetivo de entrenamiento de Taekwondo de PU EVA con logo de OEM

Objetivo de entrenamiento de Taekwondo de PU EVA con logo de OEM

US$ 0,99
200 Piezas(MOQ)
Logo OEM Taekwondo Lucha Objetivo de Pierna y Cintura de PU EVA para Entrenamiento

Logo OEM Taekwondo Lucha Objetivo de Pierna y Cintura de PU EVA para Entrenamiento

US$ 21,52
200 Piezas(MOQ)
Logo OEM Taekwondo Lucha Entrenamiento Objetivo de Mano PU EPE

Logo OEM Taekwondo Lucha Entrenamiento Objetivo de Mano PU EPE

US$ 0,85
200 Piezas(MOQ)
1/4

ATM Material Co., Ltd.

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Objetivo de pulverización

Objetivo de pulverización

US$ 0,10-100,00
1.000 Piezas(MOQ)
Servicio de Prensado Isostático en Calor / Alta Temperatura Alta Presión / Servicios de Reprocesamiento de Piezas Hip / Consolidación de Polvo por Difusión de Densificación

Servicio de Prensado Isostático en Calor / Alta Temperatura Alta Presión / Servicios de Reprocesamiento de Piezas Hip / Consolidación de Polvo por Difusión de Densificación

US$ 100,00
1 Set(MOQ)
Productos de Prensado Isostático en Caliente / Piezas de Prensado Isostático en Caliente / Equipos HIP de Alta Calidad / Alta Temperatura Alta Presión

Productos de Prensado Isostático en Caliente / Piezas de Prensado Isostático en Caliente / Equipos HIP de Alta Calidad / Alta Temperatura Alta Presión

US$ 100,00
1 Pieza(MOQ)
1/4

Hunan Ultra Minor Metals Ltd

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La pureza del blanco de titanio, un 99,995% de titanio Ti Sputtering meta para el revestimiento de vacío

La pureza del blanco de titanio, un 99,995% de titanio Ti Sputtering meta para el revestimiento de vacío

US$ 1.000,00-3.000,00
1 Pieza(MOQ)
La pureza del titanio puro de Sputtering meta para la industria de película fina

La pureza del titanio puro de Sputtering meta para la industria de película fina

Negociable
1 Pieza(MOQ)
La pureza del 4n blanco de titanio de tungsteno, el 99,99% de Wti10 Wti20 Sputtering meta

La pureza del 4n blanco de titanio de tungsteno, el 99,99% de Wti10 Wti20 Sputtering meta

Negociable
1 Pieza(MOQ)

Suzhou Zhongzhina Semiconductor Technology Co., Ltd.

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Nitruro de boro (BN) Ceramic nitruro PVD esputtering Target, Titanium Diboride, Titanium Boride, Customized Size, Afizing Plate

Nitruro de boro (BN) Ceramic nitruro PVD esputtering Target, Titanium Diboride, Titanium Boride, Customized Size, Afizing Plate

Negociable
1 Pieza(MOQ)
Objetivos de esputo de PVD (deposición física de vapor) de alta pureza: Objetivo de titanio (TI), objetivo de dióxido de titanio (TiO2), objetivo de nitruro de titanio (TIN),

Objetivos de esputo de PVD (deposición física de vapor) de alta pureza: Objetivo de titanio (TI), objetivo de dióxido de titanio (TiO2), objetivo de nitruro de titanio (TIN),

Negociable
1 Pieza(MOQ)

Shanghai Zenkaah New Materials Technology Co., Ltd.

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Nitruro de boro (BN) Ceramic nitruro PVD esputtering Target, Titanium Diboride, Titanium Boride, Customized Size, Afizing Plate

Nitruro de boro (BN) Ceramic nitruro PVD esputtering Target, Titanium Diboride, Titanium Boride, Customized Size, Afizing Plate

Negociable
1 Pieza(MOQ)
Objetivos de esputo de PVD (deposición física de vapor) de alta pureza: Objetivo de titanio (TI), objetivo de dióxido de titanio (TiO2), objetivo de nitruro de titanio (TIN) y Titaniu

Objetivos de esputo de PVD (deposición física de vapor) de alta pureza: Objetivo de titanio (TI), objetivo de dióxido de titanio (TiO2), objetivo de nitruro de titanio (TIN) y Titaniu

Negociable
1 Pieza(MOQ)

Shenzhen Silver Technologies Ltd

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Objetivo de Sputtering de Oro Puro Premium 99.99% para Aplicaciones Avanzadas

Objetivo de Sputtering de Oro Puro Premium 99.99% para Aplicaciones Avanzadas

US$ 200,00
10 g(MOQ)
1/4

Baoji Tianbo Metal Materials Co., Ltd

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El titanio de Sputtering meta

El titanio de Sputtering meta

Negociable
1 Pieza(MOQ)

Huameixin International Trading Limited

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Objetivo de titanio

Objetivo de titanio

US$ 20,00
1 Pieza(MOQ)

Zhengzhou Shibo Nonferrous Metals Products Co., Ltd.

21 años·5.0
·Fabricante/Fábrica & Empresa Comercial
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Placa Redonda de Molibdeno de Alta Pureza Mo1 para Sputtering

Placa Redonda de Molibdeno de Alta Pureza Mo1 para Sputtering

US$ 40,00-88,00
1 kg(MOQ)
Placa de molibdeno de alta calidad

Placa de molibdeno de alta calidad

US$ 40,00-88,00
1 kg(MOQ)
Mo1 Precio del objetivo de molibdeno para sputtering

Mo1 Precio del objetivo de molibdeno para sputtering

US$ 40,00-88,00
1 kg(MOQ)
Molibdeno material objetivo mejor Precio Mo Tagret

Molibdeno material objetivo mejor Precio Mo Tagret

US$ 40,00-88,00
1 kg(MOQ)
1/2
116
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