Inicioarrow-rightÍndice de Fábrica Chinaarrow-rightobjetivo de sputtering de tiox fábricaarrow-rightlista de proveedores
Filtrar
Categoría
Más
Certificación de Gestión
Más
Capacidad de R&D
Ingresos Anuales
Número de empleados
Provincia & Región
Más
sobre objetivo de sputtering de tiox
  • Innovación tecnológica
  • Cadenas de suministro confiables
  • Capacidades de fabricación sustanciales

objetivo de sputtering de tiox10+ fábricas verificadas

Changsha Xinkang Advanced Materials Co., Ltd.

Enviar Consulta
99.99% Materiales Puros Óxido de Titanio Tiox Objetivo de Sputtering para Maquinaria de Recubrimiento PVD

99.99% Materiales Puros Óxido de Titanio Tiox Objetivo de Sputtering para Maquinaria de Recubrimiento PVD

US$ 10,00-300,00
1 Pieza(MOQ)
Suministro de compuesto Tiox objetivo de pulverización para recubrimiento PVD

Suministro de compuesto Tiox objetivo de pulverización para recubrimiento PVD

US$ 50,00-260,00
1 Pieza(MOQ)
Objetivo de Sputtering de Óxido de Titanio de Alta Pureza para Depósito de Películas Finas 99.9% Puro

Objetivo de Sputtering de Óxido de Titanio de Alta Pureza para Depósito de Películas Finas 99.9% Puro

US$ 110,00-120,00
1 Pieza(MOQ)
Objetivo de Óxido de Titanio 99.9% Objetivo de Sputtering Tiox para Recubrimiento

Objetivo de Óxido de Titanio 99.9% Objetivo de Sputtering Tiox para Recubrimiento

US$ 110,00-120,00
1 Pieza(MOQ)
1/4

Lonwin Industry Group Limited

5.0
Enviar Consulta
Objetivo de Sputtering de Dióxido de Titanio Óxido de Titanio Cerámico de Aleación Tiox

Objetivo de Sputtering de Dióxido de Titanio Óxido de Titanio Cerámico de Aleación Tiox

US$ 17,00-55,00
1 Kg(MOQ)
99.95% Objetivos de cerámica Azo dopados con aluminio óxido de zinc para recubrimiento PVD

99.95% Objetivos de cerámica Azo dopados con aluminio óxido de zinc para recubrimiento PVD

US$ 17,00-55,00
1 Kg(MOQ)
99.95% Blanco de Sputtering de Molibdeno Puro para Recubrimiento

99.95% Blanco de Sputtering de Molibdeno Puro para Recubrimiento

US$ 17,00-55,00
1 Kg(MOQ)
99.99 % Alta Pureza Gd2o3 Objetivo Cerámico Óxido de Gadolinio Objetivo de Sputtering

99.99 % Alta Pureza Gd2o3 Objetivo Cerámico Óxido de Gadolinio Objetivo de Sputtering

US$ 17,00-55,00
1 Kg(MOQ)
1/4

Xiamen HiuGong Machinery Co., Ltd.

Enviar Consulta
Objetivo de Sputtering Rotatorio 4n-5n Sial Nicr Znal Znsn Tiox Nbox

Objetivo de Sputtering Rotatorio 4n-5n Sial Nicr Znal Znsn Tiox Nbox

US$ 1.000,00
1 Pieza(MOQ)
Objetivo de Sputtering Magnetrón Zrox Si Cr Nb Cu Cr AG

Objetivo de Sputtering Magnetrón Zrox Si Cr Nb Cu Cr AG

US$ 500,00
1 Pieza(MOQ)
Equipo de recubrimiento por pulverización de plasma, antiadherente, resistente al desgaste, silicio, aluminio, alúmina, circonio

Equipo de recubrimiento por pulverización de plasma, antiadherente, resistente al desgaste, silicio, aluminio, alúmina, circonio

US$ 35.000,00
1 Pieza(MOQ)
1/4

Uv Tech Material Ltd

Enviar Consulta
Se puede girar Tiox Sial Plata Sputtering meta el tubo de cátodos de alta calidad de pureza para la PVD Nano material de película delgada

Se puede girar Tiox Sial Plata Sputtering meta el tubo de cátodos de alta calidad de pureza para la PVD Nano material de película delgada

Negociable
1 Pieza(MOQ)
ITO 97: 3 93:7 90 10 95: 5wt% 99,99% de la Pureza de Sputtering Retangular Rotary y la placa de referencia para el revestimiento de vacío de vidrio

ITO 97: 3 93:7 90 10 95: 5wt% 99,99% de la Pureza de Sputtering Retangular Rotary y la placa de referencia para el revestimiento de vacío de vidrio

Negociable
1 Pieza(MOQ)

Xiamen U-Spring Technology Co., Ltd

Enviar Consulta
Objetivo rotatorio U-Spring Tiox / objetivo de pulverización para pulverización magnetrónica y recubrimiento al vacío

Objetivo rotatorio U-Spring Tiox / objetivo de pulverización para pulverización magnetrónica y recubrimiento al vacío

US$ 2.000,00
1 Pcs(MOQ)
Objetivo Planar U-Spring Tiox / Objetivo de Sputtering para Sputtering Magnetrón y Recubrimiento al Vacío

Objetivo Planar U-Spring Tiox / Objetivo de Sputtering para Sputtering Magnetrón y Recubrimiento al Vacío

US$ 2.000,00
1 Pcs(MOQ)
1/2

UV Tech Material Co., Ltd.

Enviar Consulta
Rotary Tiox destino, principalmente para la aplicación de recubrimiento de vidrio Low-E, el magnetrón Sputtering Meta, meta de óxido de titanio

Rotary Tiox destino, principalmente para la aplicación de recubrimiento de vidrio Low-E, el magnetrón Sputtering Meta, meta de óxido de titanio

Negociable
1 Pieza(MOQ)
TiOx giratorio de alta calidad de destino de Sputtering meta

TiOx giratorio de alta calidad de destino de Sputtering meta

Negociable
2 Piezas(MOQ)

Ningbo Sen Ao Electronic Technology Co., Ltd

Enviar Consulta
El 99,9% de óxido de titanio Tiox Sputtering PVD Objetivo Objetivo giratorio de Recubrimiento de óxido de titanio Tiox vacío Sputtering meta

El 99,9% de óxido de titanio Tiox Sputtering PVD Objetivo Objetivo giratorio de Recubrimiento de óxido de titanio Tiox vacío Sputtering meta

Negociable
1 Pieza(MOQ)

Huita Opto-Electronic Materials Co., Ltd

Enviar Consulta
Objetivo Tiox

Objetivo Tiox

Negociable
5 Piezas(MOQ)

Able Target Limited

Enviar Consulta
Sputtering meta

Sputtering meta

Negociable
1 Pieza(MOQ)

Guangdong Huicheng Vacuum Technology Co., Ltd.

20 años
·Fabricante/Fábrica & Empresa Comercial
Enviar Consulta
Máquina de recubrimiento al vacío PVD para pantallas flexibles planas y paneles táctiles Hcvac

Máquina de recubrimiento al vacío PVD para pantallas flexibles planas y paneles táctiles Hcvac

US$ 60.000,00
1 Set(MOQ)
1/4

FUJIAN ACETRON NEW MATERIALS CO., LTD.

Enviar Consulta
ACETRON 4N 99.99% Blanco de Sputtering de Dióxido de Titanio de Alta Pureza para Recubrimiento por Vacío/PVD

ACETRON 4N 99.99% Blanco de Sputtering de Dióxido de Titanio de Alta Pureza para Recubrimiento por Vacío/PVD

US$ 99,00-99.999,00
1 Pieza(MOQ)
ACETRON 4N 99.99% Objetivo de Sputtering de Monóxido de Titanio de Alta Pureza para Recubrimiento en Vacío/PVD

ACETRON 4N 99.99% Objetivo de Sputtering de Monóxido de Titanio de Alta Pureza para Recubrimiento en Vacío/PVD

US$ 99,00-99.999,00
1 Pieza(MOQ)
ACETRON 4N 99.99% Blanco de Dióxido de Titanio de Alta Pureza para Recubrimiento por Vacío/PVD

ACETRON 4N 99.99% Blanco de Dióxido de Titanio de Alta Pureza para Recubrimiento por Vacío/PVD

US$ 99,00-99.999,00
1 Pieza(MOQ)
ACETRON 4N 99.99% Objetivo de Sputtering de Monóxido de Titanio de Alta Pureza para Recubrimiento en Vacío/PVD

ACETRON 4N 99.99% Objetivo de Sputtering de Monóxido de Titanio de Alta Pureza para Recubrimiento en Vacío/PVD

US$ 99,00-99.999,00
1 Pieza(MOQ)

Jiangyin Entret Coating Technology Co., Ltd.

Enviar Consulta
La plata de Sputtering meta en un 99,9% de pureza, el objetivo de AG

La plata de Sputtering meta en un 99,9% de pureza, el objetivo de AG

US$ 100,00-300,00
1 Pieza(MOQ)
Platino de alta calidad de Sputtering Meta, Meta PT

Platino de alta calidad de Sputtering Meta, Meta PT

US$ 300,00-500,00
1 Pieza(MOQ)
Tio objetivo giratorio de Sputtering meta de alta calidad

Tio objetivo giratorio de Sputtering meta de alta calidad

US$ 190,00
1 Pieza(MOQ)
Platinum de Sputtering Meta en alta calidad

Platinum de Sputtering Meta en alta calidad

US$ 300,00-500,00
1 Pieza(MOQ)

Guangdong Rongsin New Material Co., Ltd.

Enviar Consulta
Objetivo de magnetrón de sial, sial tiox nbox/mo/al/si/sip/sib/sicr, placa, hoja, tubo, objetivo de sputtering de magnetrón

Objetivo de magnetrón de sial, sial tiox nbox/mo/al/si/sip/sib/sicr, placa, hoja, tubo, objetivo de sputtering de magnetrón

US$ 1,00
1 Pieza(MOQ)
Objetivo de magnetrón de sial, sial tiox nbox/mo/al/si/sip/sib/sicr, placa, hoja, tubo, objetivo de sputtering de magnetrón

Objetivo de magnetrón de sial, sial tiox nbox/mo/al/si/sip/sib/sicr, placa, hoja, tubo, objetivo de sputtering de magnetrón

US$ 1,00
1 Pieza(MOQ)
1/4

Beenine Shanke Technology Co., Ltd.

Enviar Consulta
Tiox Titanium Oxide Rotary esputtering Target fábrica de alta pureza

Tiox Titanium Oxide Rotary esputtering Target fábrica de alta pureza

US$ 50,00-90,00
1 Pieza(MOQ)

Zhongzheng Yejin Technology Co., Ltd.

Enviar Consulta
Objetivo de cerámica de alta pureza ITO, AZO, TZO, Tiox, Nbox, Gzo, Sic, ZRO2, Al2O3 de Sputtering meta

Objetivo de cerámica de alta pureza ITO, AZO, TZO, Tiox, Nbox, Gzo, Sic, ZRO2, Al2O3 de Sputtering meta

Negociable
1 Pieza(MOQ)
1/2

EHW APPLIED MATERIALS CO., LTD.

Enviar Consulta
Los objetivos de Sputtering Tiox

Los objetivos de Sputtering Tiox

US$ 10,00-5.000,00
1 Pieza(MOQ)
Sobre Nosotros Declaración Acuerdo del usuario Política de privacidad Contactar a Made-in-China.com Productos Rápidos Perspectivas
Opciones de Idioma: English 简体中文 繁體中文 日本語 Français Español Deutsch Português Italiano Русский язык 한국어 العربية Nederlands हिन्दी ภาษาไทย Türkçe Tiếng Việt Bahasa Indonesia
Copyright ©2026 Focus Technology Co., Ltd. Todos los derechos reservados.
Focus no está responsable de la diferencia entre la versión en inglés y versiones en otros idiomas del sitio web. Si hay algún conflicto, la versión en inglés prevalecerá. Su uso de este sitio web está sujeto a, y constituye el reconocimiento y la aceptación de nuestros Términos y Condiciones.