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ti objetivo200+ fábricas verificadas

Beenine Shanke Technology Co., Ltd.

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Objetivo de sputtering de aleación de titanio y aluminio Ti/Al de construcción multi-PCS 99.99% puro

Objetivo de sputtering de aleación de titanio y aluminio Ti/Al de construcción multi-PCS 99.99% puro

US$ 80,00-500,00
1 Pieza(MOQ)
4n 99.99% Objetivo de Sputtering de Ti/W de Alta Pureza para Recubrimiento PVD

4n 99.99% Objetivo de Sputtering de Ti/W de Alta Pureza para Recubrimiento PVD

US$ 300,00-1.000,00
1 Pieza(MOQ)
Objetivo de sputtering tubular plano de Ti/W de alta pureza a precio económico fábrica

Objetivo de sputtering tubular plano de Ti/W de alta pureza a precio económico fábrica

US$ 300,00-1.000,00
1 Pieza(MOQ)
Objetivo de Sputtering de Recubrimiento PVD Plano Redondo de Titanio Tungsteno Ti/W Fábrica

Objetivo de Sputtering de Recubrimiento PVD Plano Redondo de Titanio Tungsteno Ti/W Fábrica

US$ 300,00-1.000,00
1 Pieza(MOQ)
1/4

Changsha Xinkang Advanced Materials Co., Ltd.

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99.5% Objetivos de arco de sputtering de titanio/Ti

99.5% Objetivos de arco de sputtering de titanio/Ti

US$ 30,00-60,00
1 Pieza(MOQ)
Objetivo de Sputtering de Titanio Multi-Arco de Metal Titanio Personalizar Tamaño Ti Objetivos de Titanio

Objetivo de Sputtering de Titanio Multi-Arco de Metal Titanio Personalizar Tamaño Ti Objetivos de Titanio

Negociable
1 pieces(MOQ)
Materiales de recubrimiento objetivo de titanio 99.99% metal Ti disco de titanio para proceso PVD

Materiales de recubrimiento objetivo de titanio 99.99% metal Ti disco de titanio para proceso PVD

US$ 70,00-80,00
1 Pieza(MOQ)
Material de Titanio de Ultra Alta Pureza Xinkang Objetivos de Metal Ti Objetivo Multi-Arco

Material de Titanio de Ultra Alta Pureza Xinkang Objetivos de Metal Ti Objetivo Multi-Arco

US$ 35,00-45,00
1 Pieza(MOQ)
1/4

Rheniumet Ltd.

17 años
·Empresa Comercial
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99.99% Objetivo de Titanio de Alta Pureza, Objetivo Redondo de Ti para Deposición por Sputtering

99.99% Objetivo de Titanio de Alta Pureza, Objetivo Redondo de Ti para Deposición por Sputtering

US$ 35,00
1 pieces(MOQ)
99.99% -99.9999% Placa de Sputtering de Titanio Ti Objetivo de Titanio para Recubrimiento al Vacío

99.99% -99.9999% Placa de Sputtering de Titanio Ti Objetivo de Titanio para Recubrimiento al Vacío

US$ 100,00-200,00
10 Piezas(MOQ)
Objetivo de Titanio de Alta Pureza, 99.99% Objetivo de Sputtering de Titanio Ti

Objetivo de Titanio de Alta Pureza, 99.99% Objetivo de Sputtering de Titanio Ti

US$ 500,00
1 pieces(MOQ)
99.99%-99.999% Blanco de Titanio de Alta Pureza

99.99%-99.999% Blanco de Titanio de Alta Pureza

Negociable
3 Piezas(MOQ)
1/4

Lonwin Industry Group Limited

5.0
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99.99% Objetivo de Sputtering de Titanio, Cátodo de Titanio para Recubrimiento

99.99% Objetivo de Sputtering de Titanio, Cátodo de Titanio para Recubrimiento

US$ 17,00-55,00
1 Kg(MOQ)
Objetivo de Sputtering de Aleación de Titanio Silicio Ti-Si de Alta Pureza 3n para Recubrimiento PVD

Objetivo de Sputtering de Aleación de Titanio Silicio Ti-Si de Alta Pureza 3n para Recubrimiento PVD

US$ 17,00-55,00
1 Kg(MOQ)
99.9% Alianzas de Ti-Cr Objetivo de Titanio Cromo Objetivo de Sputtering para Recubrimiento

99.9% Alianzas de Ti-Cr Objetivo de Titanio Cromo Objetivo de Sputtering para Recubrimiento

US$ 17,00-55,00
1 Kg(MOQ)
Objetivos de Sputtering de Silicuro de Titanio de Alta Pureza Tisi2 Recubrimiento por Sputtering

Objetivos de Sputtering de Silicuro de Titanio de Alta Pureza Tisi2 Recubrimiento por Sputtering

US$ 17,00-55,00
1 Kg(MOQ)
1/4

Jiangsu Cicel Vacuum Technology Co., Ltd.

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Objetivo de titanio por sputtering, objetivo de sputtering de titanio, recubrimiento al vacío, objetivo de titanio

Objetivo de titanio por sputtering, objetivo de sputtering de titanio, recubrimiento al vacío, objetivo de titanio

US$ 100,00-300,00
1 Pieza(MOQ)
Precio de objetivos de titanio de alta pureza para recubrimiento PVD/objetivo de titanio por pulverización, objetivo redondo de titanio en venta

Precio de objetivos de titanio de alta pureza para recubrimiento PVD/objetivo de titanio por pulverización, objetivo redondo de titanio en venta

US$ 80,00-300,00
1 Pieza(MOQ)
Proveedores de objetivos de titanio para deposición por sputtering de alta pureza Fabricantes de objetivos de titanio

Proveedores de objetivos de titanio para deposición por sputtering de alta pureza Fabricantes de objetivos de titanio

US$ 100,00-300,00
1 Pieza(MOQ)
Objetivo de titanio por sputtering, objetivo de sputtering de titanio, recubrimiento al vacío, objetivo de titanio para máquina de recubrimiento al vacío por arco múltiple

Objetivo de titanio por sputtering, objetivo de sputtering de titanio, recubrimiento al vacío, objetivo de titanio para máquina de recubrimiento al vacío por arco múltiple

US$ 35,00-50,00
1 Pieza(MOQ)
1/4

Sid Metal Co., Ltd

13 años
·Fabricante/Fábrica & Empresa Comercial
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Objetivo de Sputtering de Titanio Ti / Objetivo Rotatorio de Titanio para Semiconductores / Sputtering de Recubrimiento al Vacío

Objetivo de Sputtering de Titanio Ti / Objetivo Rotatorio de Titanio para Semiconductores / Sputtering de Recubrimiento al Vacío

US$ 1,00-100,00
1 Pieza(MOQ)
Objetivo de sputtering de titanio de alta pureza, planar para la industria de semiconductores, circuitos integrados, vidrio para construcción y automóviles

Objetivo de sputtering de titanio de alta pureza, planar para la industria de semiconductores, circuitos integrados, vidrio para construcción y automóviles

US$ 1,00-100,00
1 Pieza(MOQ)
Zr702 Zr705 Conductividad Térmica de Tubo de Circonio Alta Pureza Objetivo de Sputtering

Zr702 Zr705 Conductividad Térmica de Tubo de Circonio Alta Pureza Objetivo de Sputtering

US$ 1,00-3.000,00
1 Pieza(MOQ)
Hoja de objetivo de zirconio Zr702 Zr705 para recubrimiento PVD disco de zirconio

Hoja de objetivo de zirconio Zr702 Zr705 para recubrimiento PVD disco de zirconio

US$ 1,00-3.000,00
1 Pieza(MOQ)
1/4

Xiamen Tmax Battery Equipments Limited

5.0
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Objetivo de sputtering de titanio Ti de alta pureza de la marca TMAXCN 99.995% (4N5)

Objetivo de sputtering de titanio Ti de alta pureza de la marca TMAXCN 99.995% (4N5)

US$ 78,00-90,00
1 Pieza(MOQ)
Máquina de recubrimiento por pulverización de plasma rotativo TMAXCN Marca VTC-16-3HD-LD 3 incluyendo 3 objetivos

Máquina de recubrimiento por pulverización de plasma rotativo TMAXCN Marca VTC-16-3HD-LD 3 incluyendo 3 objetivos

US$ 8.000,00
1 Pieza(MOQ)
Marca TMAXCN - VTC-600-3HD-LD Máquina de recubrimiento por pulverización de alta vacuidad DC/RF 3 Cabezal 2 Recubridor por pulverización de plasma magnetrón

Marca TMAXCN - VTC-600-3HD-LD Máquina de recubrimiento por pulverización de alta vacuidad DC/RF 3 Cabezal 2 Recubridor por pulverización de plasma magnetrón

US$ 18.000,00
1 Pieza(MOQ)
Máquina de recubrimiento por pulverización catódica híbrida PVD / CVD de laboratorio de la marca TMAXCN VTC-150-H para recubrimiento de películas multicapa

Máquina de recubrimiento por pulverización catódica híbrida PVD / CVD de laboratorio de la marca TMAXCN VTC-150-H para recubrimiento de películas multicapa

US$ 7.000,00
1 Pieza(MOQ)
1/4

Zhonghe Steel (Tianjin) Co., Ltd.

5 años
·Empresa Comercial
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Alta Pureza 99.6% PVD M86 Objetivo de Titanio Od 98X40mm Objetivo de Titanio

Alta Pureza 99.6% PVD M86 Objetivo de Titanio Od 98X40mm Objetivo de Titanio

US$ 10,00-25,00
1 Pieza(MOQ)
Precio del objetivo de sputtering de titanio PVD personalizado

Precio del objetivo de sputtering de titanio PVD personalizado

US$ 10,00-25,00
1 Pieza(MOQ)
Objetivos de PVD de aleación de aluminio y titanio, objetivos de sputtering de titanio, objetivo de aleación de Tial para recubrimiento

Objetivos de PVD de aleación de aluminio y titanio, objetivos de sputtering de titanio, objetivo de aleación de Tial para recubrimiento

US$ 10,00-25,00
1 Pieza(MOQ)
Personalización de objetivo de sputtering de titanio para necesidades de recubrimiento especializadas

Personalización de objetivo de sputtering de titanio para necesidades de recubrimiento especializadas

US$ 10,00-25,00
1 Pieza(MOQ)
1/4

Ningbo Galaxy International Trading Co., Ltd.

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Objetivo redondo de titanio de mayor pureza para recubrimiento al vacío 99.95%

Objetivo redondo de titanio de mayor pureza para recubrimiento al vacío 99.95%

US$ 58,00
1 Pieza(MOQ)
Objetivo de Sputtering de Tubo de Acero Inoxidable 99.9% de Titanio para Recubrimiento al Vacío

Objetivo de Sputtering de Tubo de Acero Inoxidable 99.9% de Titanio para Recubrimiento al Vacío

US$ 10,00
10 pcs(MOQ)
99.99% Placa de objetivo de titanio de alta pureza ASTM B265 Gr1 para recubrimiento al vacío

99.99% Placa de objetivo de titanio de alta pureza ASTM B265 Gr1 para recubrimiento al vacío

US$ 10,00
3 pcs(MOQ)
Tubo de titanio y aluminio de alta calidad sin costuras para ingeniería petroquímica

Tubo de titanio y aluminio de alta calidad sin costuras para ingeniería petroquímica

US$ 50,00
3 Piezas(MOQ)
1/4

Shaanxi Mingsheng Guangpu Metal Materials Co., Ltd.

3 años·5.0
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Objetivo redondo de titanio pasivado para aplicaciones médicas electrónicas

Objetivo redondo de titanio pasivado para aplicaciones médicas electrónicas

US$ 190,00-198,00
10 Kg(MOQ)
Objetivo de Titanio de Alta Pureza Gr1 para Industrias de Alta Tecnología

Objetivo de Titanio de Alta Pureza Gr1 para Industrias de Alta Tecnología

US$ 190,00-198,00
10 Kg(MOQ)
Placa de objetivo de titanio de alta pureza para una resistencia y durabilidad superiores

Placa de objetivo de titanio de alta pureza para una resistencia y durabilidad superiores

US$ 190,00-198,00
10 Kg(MOQ)
Objetivos redondos de titanio de alta pureza biocompatibles para necesidades industriales

Objetivos redondos de titanio de alta pureza biocompatibles para necesidades industriales

US$ 190,00-198,00
10 Kg(MOQ)
1/4

Xiangtan Hondson Coating Technology Co., Ltd.

6 años
·Fabricante/Fábrica & Empresa Comercial
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Objetivo de magnetrón cilíndrico para recubrimiento PVD en vacío de tubos de titanio, materiales en bruto para recubrimiento, cátodos

Objetivo de magnetrón cilíndrico para recubrimiento PVD en vacío de tubos de titanio, materiales en bruto para recubrimiento, cátodos

US$ 800,00-1.500,00
1 Pieza(MOQ)
Bloque de titanio de alta pureza personalizado, material de titanio, material de recubrimiento por ionización multi-arco, objetivo metálico

Bloque de titanio de alta pureza personalizado, material de titanio, material de recubrimiento por ionización multi-arco, objetivo metálico

US$ 500,00-1.000,00
1 Pieza(MOQ)
Sistema de Sputtering Magnetrón de Recubrimiento por Plasma

Sistema de Sputtering Magnetrón de Recubrimiento por Plasma

US$ 78.900,00
1 sets(MOQ)
Sistema de rociado de tecnología de plasma innovadora en cámara de vacío

Sistema de rociado de tecnología de plasma innovadora en cámara de vacío

US$ 78.900,00
1 sets(MOQ)
1/4

SUZHOU TECHNO-TEC PHOTOELECTRIC MATERIALS CO., LTD

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Objetivo de Sputtering de Titanio Ti / Objetivo Rotatorio de Titanio para Semiconductores / Sputtering de Recubrimiento al Vacío

Objetivo de Sputtering de Titanio Ti / Objetivo Rotatorio de Titanio para Semiconductores / Sputtering de Recubrimiento al Vacío

US$ 20,00-100,00
1 Kg(MOQ)
1/4

Shenzhen Hongchen New Materials Co., Ltd

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99,999% Titanium Target TI Target para máquina de revestimiento PVD

99,999% Titanium Target TI Target para máquina de revestimiento PVD

US$ 10,00-15,00
1 Kg(MOQ)
99,999% Titanium Target TI Target para máquina de revestimiento PVD utilizada para óptica, electrónica, decoración

99,999% Titanium Target TI Target para máquina de revestimiento PVD utilizada para óptica, electrónica, decoración

US$ 10,00-15,00
1 Kg(MOQ)
Suministro de la fábrica de Guangdong el 99,95% puro titanio Ti Sputtering Meta Semiconductor

Suministro de la fábrica de Guangdong el 99,95% puro titanio Ti Sputtering Meta Semiconductor

US$ 10,00-15,00
1 Kg(MOQ)
El 99,99% de Ti Al Cu High-Purity cromo oro ni etc Sputtering Objetivos Los objetivos de aleación de metal

El 99,99% de Ti Al Cu High-Purity cromo oro ni etc Sputtering Objetivos Los objetivos de aleación de metal

US$ 10,00-15,00
1 Kg(MOQ)

Hunan Ultra Minor Metals Ltd

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La pureza del blanco de titanio, un 99,995% de titanio Ti Sputtering meta para el revestimiento de vacío

La pureza del blanco de titanio, un 99,995% de titanio Ti Sputtering meta para el revestimiento de vacío

US$ 1.000,00-3.000,00
1 Pieza(MOQ)

Suzhou Zhongzhina Semiconductor Technology Co., Ltd.

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Objetivos de esputo de PVD (deposición física de vapor) de alta pureza: Objetivo de titanio (TI), objetivo de dióxido de titanio (TiO2), objetivo de nitruro de titanio (TIN),

Objetivos de esputo de PVD (deposición física de vapor) de alta pureza: Objetivo de titanio (TI), objetivo de dióxido de titanio (TiO2), objetivo de nitruro de titanio (TIN),

Negociable
1 Pieza(MOQ)

Shanghai Zenkaah New Materials Technology Co., Ltd.

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Objetivos de esputo de PVD (deposición física de vapor) de alta pureza: Objetivo de titanio (TI), objetivo de dióxido de titanio (TiO2), objetivo de nitruro de titanio (TIN) y Titaniu

Objetivos de esputo de PVD (deposición física de vapor) de alta pureza: Objetivo de titanio (TI), objetivo de dióxido de titanio (TiO2), objetivo de nitruro de titanio (TIN) y Titaniu

Negociable
1 Pieza(MOQ)

Ningbo Danko Vacuum Technology Co., Ltd.

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Metalización al vacío de objetivo de circonio

Metalización al vacío de objetivo de circonio

US$ 30,00-100,00
1 Pieza(MOQ)
Recubrimiento al vacío de objetivo de titanio

Recubrimiento al vacío de objetivo de titanio

US$ 30,00-100,00
1 Pieza(MOQ)
Depósito por sputtering de Ti de alta pureza

Depósito por sputtering de Ti de alta pureza

US$ 30,00-100,00
1 Pieza(MOQ)
Metalización al vacío de aleación de titanio y aluminio

Metalización al vacío de aleación de titanio y aluminio

US$ 30,00-100,00
1 Pieza(MOQ)
1/4

Inner Mongolia Rongtai Rhenium New Materials Co., Ltd.

5.0
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Objetivo de Gadolinio de Alto Rendimiento para Soluciones Innovadoras de Almacenamiento de Datos

Objetivo de Gadolinio de Alto Rendimiento para Soluciones Innovadoras de Almacenamiento de Datos

US$ 55,00-85,00
1 Pieza(MOQ)
Material de objetivo de gadolinio avanzado para soluciones de recubrimiento mejoradas

Material de objetivo de gadolinio avanzado para soluciones de recubrimiento mejoradas

US$ 55,00-85,00
1 Pieza(MOQ)
Varilla de metal de gadolinio con alta calidad de objetivo de metal raro

Varilla de metal de gadolinio con alta calidad de objetivo de metal raro

US$ 55,00-85,00
1 Pieza(MOQ)
Objetivo de Sputtering de Gadolinio Premium para la Fabricación de Electrónica Avanzada

Objetivo de Sputtering de Gadolinio Premium para la Fabricación de Electrónica Avanzada

US$ 55,00-85,00
1 Pieza(MOQ)
1/4

Shenzhen Silver Technologies Ltd

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4n Objetivo de Sputtering de Oro de Alta Pureza

4n Objetivo de Sputtering de Oro de Alta Pureza

US$ 200,00
10 g(MOQ)
Objetivo de sputtering de oro de alta pureza, adecuado para 5g materiales

Objetivo de sputtering de oro de alta pureza, adecuado para 5g materiales

US$ 200,00
100 g(MOQ)
Objetivo de Plata, por favor consúltenos para precios detallados

Objetivo de Plata, por favor consúltenos para precios detallados

US$ 10.000,00
1 Pieza(MOQ)
Objetivo de Sputtering de Oro Puro Premium 99.99% para Aplicaciones Avanzadas

Objetivo de Sputtering de Oro Puro Premium 99.99% para Aplicaciones Avanzadas

US$ 200,00
10 g(MOQ)
1/4

ATM Material Co., Ltd.

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Objetivo de pulverización

Objetivo de pulverización

US$ 0,10-100,00
1.000 Piezas(MOQ)
Objetivo Wti / Objetivos de Sputtering / Alta Calidad Wti

Objetivo Wti / Objetivos de Sputtering / Alta Calidad Wti

US$ 1,00-100,00
1 Pieza(MOQ)
Productos de Prensado Isostático en Caliente / Piezas de Prensado Isostático en Caliente / Equipos HIP de Alta Calidad / Alta Temperatura Alta Presión

Productos de Prensado Isostático en Caliente / Piezas de Prensado Isostático en Caliente / Equipos HIP de Alta Calidad / Alta Temperatura Alta Presión

US$ 100,00
1 Pieza(MOQ)
Servicio de Prensado Isostático en Calor / Alta Temperatura Alta Presión / Servicios de Reprocesamiento de Piezas Hip / Consolidación de Polvo por Difusión de Densificación

Servicio de Prensado Isostático en Calor / Alta Temperatura Alta Presión / Servicios de Reprocesamiento de Piezas Hip / Consolidación de Polvo por Difusión de Densificación

US$ 100,00
1 Set(MOQ)
1/4

Taizhou ATS Optical Material Co., Ltd.

26 años
·Fabricante/Fábrica & Empresa Comercial
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Objetivo de silicio pieza de polisilicio

Objetivo de silicio pieza de polisilicio

US$ 26,00-28,00
1 piece(MOQ)
Objetivo de silicio, oblea de silicio, pieza de silicio monocristalino

Objetivo de silicio, oblea de silicio, pieza de silicio monocristalino

US$ 4,00-5,00
1 piece(MOQ)
Partículas de silicio policristalino de silicio monocrystalline gránulo de Si

Partículas de silicio policristalino de silicio monocrystalline gránulo de Si

US$ 97,50-100,00
1 Kg(MOQ)
1-3mm Si Partículas de Silicio Intrínseco Granulares

1-3mm Si Partículas de Silicio Intrínseco Granulares

US$ 97,50-100,00
1 Kg(MOQ)
1/4

CHANGSHA EASCHEM CO., LIMITED

5 años
·Empresa Comercial
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Varilla de metal de gadolinio objetivo granular CAS No 7440-54-2 Gd 3n 4n

Varilla de metal de gadolinio objetivo granular CAS No 7440-54-2 Gd 3n 4n

Negociable
1 Piece(MOQ)
Varilla de metal de europio granular CAS No 7440-53-1 UE 3n 4n

Varilla de metal de europio granular CAS No 7440-53-1 UE 3n 4n

Negociable
1 Piece(MOQ)
Varilla de metal de samario granular CAS No 7440-19-9 Sm 3n 4n

Varilla de metal de samario granular CAS No 7440-19-9 Sm 3n 4n

Negociable
1 Piece(MOQ)
Varilla de metal de itrio objetivo granular CAS No 7440-65-5 Y 3n 4n 5n

Varilla de metal de itrio objetivo granular CAS No 7440-65-5 Y 3n 4n 5n

Negociable
1 Piece(MOQ)
1/4

Zhongzheng Yejin Technology Co., Ltd.

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Gr1, Gr2, Gr5 Objetivo de Titanio/Ti Objetivo para Máquina de Recubrimiento PVD

Gr1, Gr2, Gr5 Objetivo de Titanio/Ti Objetivo para Máquina de Recubrimiento PVD

Negociable
1 Pieza(MOQ)
Objetivo de recubrimiento de sputtering de titanio de alta pureza 99.95%

Objetivo de recubrimiento de sputtering de titanio de alta pureza 99.95%

Negociable
1 Pieza(MOQ)
Objetivo de sputtering de titanio puro para la industria óptica y de energía solar

Objetivo de sputtering de titanio puro para la industria óptica y de energía solar

Negociable
1 Pieza(MOQ)
Objetivo de Titanio Aluminio Tial / Cr/Zr/Ti para sistema de equipo de planta de máquina de recubrimiento PVD

Objetivo de Titanio Aluminio Tial / Cr/Zr/Ti para sistema de equipo de planta de máquina de recubrimiento PVD

Negociable
1 Pieza(MOQ)
1/2

Jiangyin Entret Coating Technology Co., Ltd.

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Ti-Al aluminio blanco de titanio El titanio aluminio blanco de sputtering

Ti-Al aluminio blanco de titanio El titanio aluminio blanco de sputtering

US$ 30,00-50,00
1 Pieza(MOQ)
Sputtering Meta: Titanium Sputtering Meta, meta de ti

Sputtering Meta: Titanium Sputtering Meta, meta de ti

US$ 100,00
10 Piezas(MOQ)
Blanco Titanium para la capa de la farfulla del vacío, blanco del Ti

Blanco Titanium para la capa de la farfulla del vacío, blanco del Ti

Negociable
1 Pieza(MOQ)
El titanio de Sputtering meta en la Pureza

El titanio de Sputtering meta en la Pureza

US$ 30,00-50,00
1 Pieza(MOQ)

UV Tech Material Co., Ltd.

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El recubrimiento PVD Ti Sputtering meta

El recubrimiento PVD Ti Sputtering meta

Negociable
2 Piezas(MOQ)
Objetivo Objetivo de titanio Ti giratorio para la industria del vidrio revestimiento vacío película de vidrio Low-E

Objetivo Objetivo de titanio Ti giratorio para la industria del vidrio revestimiento vacío película de vidrio Low-E

Negociable
2 Piezas(MOQ)
El 99,99% de titanio de Sputtering Meta, titanio puro de Sputtering meta para el recubrimiento PVD, Titanio Sputtering Precio

El 99,99% de titanio de Sputtering Meta, titanio puro de Sputtering meta para el recubrimiento PVD, Titanio Sputtering Precio

Negociable
1 Pieza(MOQ)
ITO de cerámica de Sputtering Meta con ti pegado, Planar ITO objetivo, en2o3: Destino Sno2

ITO de cerámica de Sputtering Meta con ti pegado, Planar ITO objetivo, en2o3: Destino Sno2

Negociable
1 Pieza(MOQ)

Shenzhen Canyuan Metal Material Co., Ltd.

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99.99% Objetivos de Sputtering de Titanio de Alta Pureza para Recubrimiento por Vacío/PVD

99.99% Objetivos de Sputtering de Titanio de Alta Pureza para Recubrimiento por Vacío/PVD

US$ 200,00-10.000,00
1 Pieza(MOQ)
Fabricación y Caracterización de 4n Pureza de Titanio para Objetivos de Sputtering Rotatorio

Fabricación y Caracterización de 4n Pureza de Titanio para Objetivos de Sputtering Rotatorio

US$ 200,00-10.000,00
1 Pieza(MOQ)
Objetivo de Sputtering de Titanio Puro – Ideal para Soluciones de Recubrimiento de Alta Gama

Objetivo de Sputtering de Titanio Puro – Ideal para Soluciones de Recubrimiento de Alta Gama

US$ 200,00-10.000,00
1 Pieza(MOQ)
Innovaciones en 4n Tecnología de Objetivos Rotativos de Titanio para la Fabricación Avanzada de Semiconductores

Innovaciones en 4n Tecnología de Objetivos Rotativos de Titanio para la Fabricación Avanzada de Semiconductores

US$ 200,00-10.000,00
1 Pieza(MOQ)

Luoyang Modi Tungsten & Molybdenum Material Co., Ltd.

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Tzm Molybdenum Alloy Plate Sputtering Targets Price

Tzm Molybdenum Alloy Plate Sputtering Targets Price

US$ 75,00-95,00
1 Kg(MOQ)
Tantalum Rods, Tantalum Sheet, Tantalum Thermocouple Protection Tube

Tantalum Rods, Tantalum Sheet, Tantalum Thermocouple Protection Tube

US$ 510,00-550,00
1 Pieza(MOQ)
99.95% R05200 Tantalum Round Bars Tantalum Rods

99.95% R05200 Tantalum Round Bars Tantalum Rods

Negociable
1 Pieza(MOQ)
1/4

Dongguan Jinyuyang International Co., Ltd

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Objetivo de Titanio de Alta Pureza 99.99% para Máquina de Recubrimiento por Vacío / PVD

Objetivo de Titanio de Alta Pureza 99.99% para Máquina de Recubrimiento por Vacío / PVD

US$ 22,00-100,00
50 Piezas(MOQ)
Máquina de recubrimiento PVD de titanio de personalización no estándar

Máquina de recubrimiento PVD de titanio de personalización no estándar

US$ 75.000,00-135.000,00
1 Set(MOQ)
Equipo de recubrimiento de oro PVD de titanio para productos de hardware

Equipo de recubrimiento de oro PVD de titanio para productos de hardware

US$ 75.000,00-135.000,00
1 Set(MOQ)
1/4

Xiamen HiuGong Machinery Co., Ltd.

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Objetivo de Sputtering Magnetrón Zrox Si Cr Nb Cu Cr AG

Objetivo de Sputtering Magnetrón Zrox Si Cr Nb Cu Cr AG

US$ 500,00
1 Pieza(MOQ)
99.99% Objetivo de Sputtering de Óxido de Galio Objetivo Plano Ga2o3 Objetivo

99.99% Objetivo de Sputtering de Óxido de Galio Objetivo Plano Ga2o3 Objetivo

US$ 300,00
1 Pieza(MOQ)
1/4

Xiamen U-Spring Technology Co., Ltd

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Objetivo planar U-Spring Ti / objetivo de pulverización para pulverización magnetrónica y recubrimiento al vacío

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US$ 2.000,00
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