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ti objetivo200+ fábricas verificadas

Beenine Shanke Technology Co., Ltd.

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Objetivo de sputtering tubular plano de Ti/W tungsteno para recubrimiento PVD a precio competitivo

Objetivo de sputtering tubular plano de Ti/W tungsteno para recubrimiento PVD a precio competitivo

US$ 300,00-1.000,00
1 Pieza(MOQ)
Objetivo de Sputtering de Titanio Ti de Alta Pureza 99.995%

Objetivo de Sputtering de Titanio Ti de Alta Pureza 99.995%

US$ 65,00-100,00
1 Pieza(MOQ)
Objetivo de Sputtering de Construcción Multi-PCS de Titanio Wolfram Ti/W 99.99% Recubrimiento PVD puro de China

Objetivo de Sputtering de Construcción Multi-PCS de Titanio Wolfram Ti/W 99.99% Recubrimiento PVD puro de China

US$ 300,00-1.000,00
1 Pieza(MOQ)
Objetivo de Sputtering de Recubrimiento PVD Plano Redondo de Titanio Tungsteno Ti/W Fábrica

Objetivo de Sputtering de Recubrimiento PVD Plano Redondo de Titanio Tungsteno Ti/W Fábrica

US$ 300,00-1.000,00
1 Pieza(MOQ)
1/4

Changsha Xinkang Advanced Materials Co., Ltd.

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99.7% Objetivo de Sputtering de Titanio Ti 4n5 Objetivo de Sputtering de Titanio

99.7% Objetivo de Sputtering de Titanio Ti 4n5 Objetivo de Sputtering de Titanio

US$ 30,00-2.000,00
1 Pieza(MOQ)
Cono de Titanio 99.995% Metal Ti Objetivo de Sputtering de Titanio para Fuente de Evaporación

Cono de Titanio 99.995% Metal Ti Objetivo de Sputtering de Titanio para Fuente de Evaporación

US$ 300,00-310,00
1 Kg(MOQ)
Objetivo de Sputtering de Titanio Multi Arco 99.999% Metal Ti Objetivo de Titanio para Proceso PVD

Objetivo de Sputtering de Titanio Multi Arco 99.999% Metal Ti Objetivo de Titanio para Proceso PVD

US$ 70,00-80,00
1 Pieza(MOQ)
Materiales de recubrimiento PVD de titanio metal Ti objetivos rotativos de titanio

Materiales de recubrimiento PVD de titanio metal Ti objetivos rotativos de titanio

US$ 35,00-45,00
1 Pieza(MOQ)
1/4

Rheniumet Ltd.

17 años
·Empresa Comercial
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99.99% -99.9999% Placa de Sputtering de Titanio Ti Objetivo de Titanio para Recubrimiento al Vacío

99.99% -99.9999% Placa de Sputtering de Titanio Ti Objetivo de Titanio para Recubrimiento al Vacío

US$ 100,00-200,00
10 Piezas(MOQ)
Objetivo de Titanio de Alta Pureza, 99.99% Objetivo de Sputtering de Titanio Ti

Objetivo de Titanio de Alta Pureza, 99.99% Objetivo de Sputtering de Titanio Ti

US$ 500,00
1 pieces(MOQ)
99.99% Objetivo de Titanio de Alta Pureza, Objetivo Redondo de Ti para Deposición por Sputtering

99.99% Objetivo de Titanio de Alta Pureza, Objetivo Redondo de Ti para Deposición por Sputtering

US$ 35,00
1 pieces(MOQ)
99.99% Objetivo de Titanio Puro Redondo para Deposición por Sputtering

99.99% Objetivo de Titanio Puro Redondo para Deposición por Sputtering

US$ 50,00-1.000,00
3 kilograms(MOQ)
1/4

Lonwin Industry Group Limited

5.0
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99.9% Alianzas de Ti-Cr Objetivo de Titanio Cromo Objetivo de Sputtering para Recubrimiento

99.9% Alianzas de Ti-Cr Objetivo de Titanio Cromo Objetivo de Sputtering para Recubrimiento

US$ 17,00-55,00
1 Kg(MOQ)
99.99% Objetivo de Sputtering de Titanio, Cátodo de Titanio para Recubrimiento

99.99% Objetivo de Sputtering de Titanio, Cátodo de Titanio para Recubrimiento

US$ 17,00-55,00
1 Kg(MOQ)
Objetivo de Sputtering de Aleación de Titanio Silicio Ti-Si de Alta Pureza 3n para Recubrimiento PVD

Objetivo de Sputtering de Aleación de Titanio Silicio Ti-Si de Alta Pureza 3n para Recubrimiento PVD

US$ 17,00-55,00
1 Kg(MOQ)
Objetivo de sputtering de aleación de titanio, aluminio y silicio Tialsi para recubrimiento por magnetrón

Objetivo de sputtering de aleación de titanio, aluminio y silicio Tialsi para recubrimiento por magnetrón

US$ 17,00-55,00
1 Kg(MOQ)
1/4

Jiangsu Cicel Vacuum Technology Co., Ltd.

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Objetivo de titanio por sputtering, objetivo de sputtering de titanio, recubrimiento al vacío, objetivo de titanio

Objetivo de titanio por sputtering, objetivo de sputtering de titanio, recubrimiento al vacío, objetivo de titanio

US$ 100,00-300,00
1 Pieza(MOQ)
Proveedores de objetivos de titanio para deposición por sputtering de alta pureza Fabricantes de objetivos de titanio

Proveedores de objetivos de titanio para deposición por sputtering de alta pureza Fabricantes de objetivos de titanio

US$ 100,00-300,00
1 Pieza(MOQ)
Precio de objetivos de titanio de alta pureza para recubrimiento PVD/objetivo de titanio por pulverización, objetivo redondo de titanio en venta

Precio de objetivos de titanio de alta pureza para recubrimiento PVD/objetivo de titanio por pulverización, objetivo redondo de titanio en venta

US$ 80,00-300,00
1 Pieza(MOQ)
Objetivo de titanio por sputtering, objetivo de sputtering de titanio, recubrimiento al vacío, objetivo de titanio para máquina de recubrimiento al vacío por arco múltiple

Objetivo de titanio por sputtering, objetivo de sputtering de titanio, recubrimiento al vacío, objetivo de titanio para máquina de recubrimiento al vacío por arco múltiple

US$ 35,00-50,00
1 Pieza(MOQ)
1/4

Sid Metal Co., Ltd

13 años
·Fabricante/Fábrica & Empresa Comercial
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Objetivo de Sputtering de Titanio Ti / Objetivo Rotatorio de Titanio para Semiconductores / Sputtering de Recubrimiento al Vacío

Objetivo de Sputtering de Titanio Ti / Objetivo Rotatorio de Titanio para Semiconductores / Sputtering de Recubrimiento al Vacío

US$ 1,00-100,00
1 Pieza(MOQ)
Objetivo de sputtering de titanio de alta pureza, planar para la industria de semiconductores, circuitos integrados, vidrio para construcción y automóviles

Objetivo de sputtering de titanio de alta pureza, planar para la industria de semiconductores, circuitos integrados, vidrio para construcción y automóviles

US$ 1,00-100,00
1 Pieza(MOQ)
Zr702 Zr705 Conductividad Térmica de Tubo de Circonio Alta Pureza Objetivo de Sputtering

Zr702 Zr705 Conductividad Térmica de Tubo de Circonio Alta Pureza Objetivo de Sputtering

US$ 1,00-3.000,00
1 Pieza(MOQ)
Tubo de objetivo de circonio Zr702 Objetivo de circonio para recubrimiento PVD

Tubo de objetivo de circonio Zr702 Objetivo de circonio para recubrimiento PVD

US$ 1,00-3.000,00
1 Pieza(MOQ)
1/4

Zhonghe Steel (Tianjin) Co., Ltd.

5 años
·Empresa Comercial
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Alta Pureza 99.6% PVD M86 Objetivo de Titanio Od 98X40mm Objetivo de Titanio

Alta Pureza 99.6% PVD M86 Objetivo de Titanio Od 98X40mm Objetivo de Titanio

US$ 10,00-25,00
1 Pieza(MOQ)
Objetivo de Sputtering de Titanio de Alta Pureza Gr1 Gr2 para PVD

Objetivo de Sputtering de Titanio de Alta Pureza Gr1 Gr2 para PVD

US$ 10,00-25,00
1 Pieza(MOQ)
Precio del objetivo de sputtering de titanio PVD personalizado

Precio del objetivo de sputtering de titanio PVD personalizado

US$ 10,00-25,00
1 Pieza(MOQ)
Objetivo de Titanio de Alta Pureza 99.99% para Máquina de Recubrimiento por Vacío / PVD

Objetivo de Titanio de Alta Pureza 99.99% para Máquina de Recubrimiento por Vacío / PVD

US$ 10,00-25,00
1 Pieza(MOQ)
1/4

Xiamen Tmax Battery Equipments Limited

5.0
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Objetivo de sputtering de titanio Ti de alta pureza de la marca TMAXCN 99.995% (4N5)

Objetivo de sputtering de titanio Ti de alta pureza de la marca TMAXCN 99.995% (4N5)

US$ 78,00-90,00
1 Pieza(MOQ)
Máquina de recubrimiento por pulverización de plasma rotativo TMAXCN Marca VTC-16-3HD-LD 3 incluyendo 3 objetivos

Máquina de recubrimiento por pulverización de plasma rotativo TMAXCN Marca VTC-16-3HD-LD 3 incluyendo 3 objetivos

US$ 8.000,00
1 Pieza(MOQ)
Marca TMAXCN- VTC-600-3HD-GB 3 Cabezas de sputtering y fuentes de alimentación RF/DC Máquina de recubrimiento por sputtering en caja de guantes

Marca TMAXCN- VTC-600-3HD-GB 3 Cabezas de sputtering y fuentes de alimentación RF/DC Máquina de recubrimiento por sputtering en caja de guantes

US$ 16.000,00
1 Pieza(MOQ)
Máquina de recubrimiento de alta potencia TMAXCN VTC-16-SM con coater de magnetrón de corriente continua, etapa rotativa y enfriador de agua

Máquina de recubrimiento de alta potencia TMAXCN VTC-16-SM con coater de magnetrón de corriente continua, etapa rotativa y enfriador de agua

US$ 6.000,00
1 Pieza(MOQ)
1/4

Shaanxi Mingsheng Guangpu Metal Materials Co., Ltd.

3 años·5.0
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Objetivo de Titanio de Alta Pureza Gr1 para Industrias de Alta Tecnología

Objetivo de Titanio de Alta Pureza Gr1 para Industrias de Alta Tecnología

US$ 190,00-198,00
10 Kg(MOQ)
Objetivos redondos de titanio de alta pureza biocompatibles para necesidades industriales

Objetivos redondos de titanio de alta pureza biocompatibles para necesidades industriales

US$ 190,00-198,00
10 Kg(MOQ)
Placa de objetivo de titanio de alta pureza para una resistencia y durabilidad superiores

Placa de objetivo de titanio de alta pureza para una resistencia y durabilidad superiores

US$ 190,00-198,00
10 Kg(MOQ)
Placa de objetivo de titanio puro y aleación de titanio para recubrimientos ópticos y biomédicos

Placa de objetivo de titanio puro y aleación de titanio para recubrimientos ópticos y biomédicos

US$ 190,00-198,00
10 Kg(MOQ)
1/4

Ningbo Galaxy International Trading Co., Ltd.

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Tubo de titanio y aluminio de alta calidad sin costuras para ingeniería petroquímica

Tubo de titanio y aluminio de alta calidad sin costuras para ingeniería petroquímica

US$ 50,00
3 Piezas(MOQ)
Objetivo de Sputtering de Tubo de Acero Inoxidable 99.9% de Titanio para Recubrimiento al Vacío

Objetivo de Sputtering de Tubo de Acero Inoxidable 99.9% de Titanio para Recubrimiento al Vacío

US$ 10,00
10 pcs(MOQ)
Objetivo redondo de titanio de mayor pureza para recubrimiento al vacío 99.95%

Objetivo redondo de titanio de mayor pureza para recubrimiento al vacío 99.95%

US$ 58,00
1 Pieza(MOQ)
99.99% Placa de objetivo de titanio de alta pureza ASTM B265 Gr1 para recubrimiento al vacío

99.99% Placa de objetivo de titanio de alta pureza ASTM B265 Gr1 para recubrimiento al vacío

US$ 10,00
3 pcs(MOQ)
1/4

Xiangtan Hondson Coating Technology Co., Ltd.

6 años
·Fabricante/Fábrica & Empresa Comercial
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Objetivo de magnetrón cilíndrico para recubrimiento PVD en vacío de tubos de titanio, materiales en bruto para recubrimiento, cátodos

Objetivo de magnetrón cilíndrico para recubrimiento PVD en vacío de tubos de titanio, materiales en bruto para recubrimiento, cátodos

US$ 800,00-1.500,00
1 Pieza(MOQ)
Bloque de titanio de alta pureza personalizado, material de titanio, material de recubrimiento por ionización multi-arco, objetivo metálico

Bloque de titanio de alta pureza personalizado, material de titanio, material de recubrimiento por ionización multi-arco, objetivo metálico

US$ 500,00-1.000,00
1 Pieza(MOQ)
Sistema de Sputtering Magnetrón de Recubrimiento por Plasma

Sistema de Sputtering Magnetrón de Recubrimiento por Plasma

US$ 78.900,00
1 sets(MOQ)
Máquina de recubrimiento PVD por vacío, maquinaria de recubrimiento metálico por sputtering magnetrón

Máquina de recubrimiento PVD por vacío, maquinaria de recubrimiento metálico por sputtering magnetrón

US$ 50.000,00-51.000,00
1 Pieza(MOQ)
1/4

SUZHOU TECHNO-TEC PHOTOELECTRIC MATERIALS CO., LTD

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Objetivo de Sputtering de Titanio Ti / Objetivo Rotatorio de Titanio para Semiconductores / Sputtering de Recubrimiento al Vacío

Objetivo de Sputtering de Titanio Ti / Objetivo Rotatorio de Titanio para Semiconductores / Sputtering de Recubrimiento al Vacío

US$ 20,00-100,00
1 Kg(MOQ)
1/4

Shenzhen Hongchen New Materials Co., Ltd

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99,999% Titanium Target TI Target para máquina de revestimiento PVD

99,999% Titanium Target TI Target para máquina de revestimiento PVD

US$ 10,00-15,00
1 Kg(MOQ)
Suministro de la fábrica de Guangdong el 99,95% puro titanio Ti Sputtering Meta Semiconductor

Suministro de la fábrica de Guangdong el 99,95% puro titanio Ti Sputtering Meta Semiconductor

US$ 10,00-15,00
1 Kg(MOQ)
99,999% Titanium Target TI Target para máquina de revestimiento PVD utilizada para óptica, electrónica, decoración

99,999% Titanium Target TI Target para máquina de revestimiento PVD utilizada para óptica, electrónica, decoración

US$ 10,00-15,00
1 Kg(MOQ)
Suministro de fábrica puro 99,95% Titanio TI esputtering objetivo

Suministro de fábrica puro 99,95% Titanio TI esputtering objetivo

US$ 10,00-15,00
1 Kg(MOQ)

Hunan Ultra Minor Metals Ltd

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La pureza del blanco de titanio, un 99,995% de titanio Ti Sputtering meta para el revestimiento de vacío

La pureza del blanco de titanio, un 99,995% de titanio Ti Sputtering meta para el revestimiento de vacío

US$ 1.000,00-3.000,00
1 Pieza(MOQ)

Shanghai Zenkaah New Materials Technology Co., Ltd.

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Objetivos de esputo de PVD (deposición física de vapor) de alta pureza: Objetivo de titanio (TI), objetivo de dióxido de titanio (TiO2), objetivo de nitruro de titanio (TIN) y Titaniu

Objetivos de esputo de PVD (deposición física de vapor) de alta pureza: Objetivo de titanio (TI), objetivo de dióxido de titanio (TiO2), objetivo de nitruro de titanio (TIN) y Titaniu

Negociable
1 Pieza(MOQ)

Suzhou Zhongzhina Semiconductor Technology Co., Ltd.

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Objetivos de esputo de PVD (deposición física de vapor) de alta pureza: Objetivo de titanio (TI), objetivo de dióxido de titanio (TiO2), objetivo de nitruro de titanio (TIN),

Objetivos de esputo de PVD (deposición física de vapor) de alta pureza: Objetivo de titanio (TI), objetivo de dióxido de titanio (TiO2), objetivo de nitruro de titanio (TIN),

Negociable
1 Pieza(MOQ)

Ningbo Danko Vacuum Technology Co., Ltd.

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Metalización al vacío de aleación de titanio y aluminio

Metalización al vacío de aleación de titanio y aluminio

US$ 30,00-100,00
1 Pieza(MOQ)
Material objetivo cromo para máquina de recubrimiento al vacío

Material objetivo cromo para máquina de recubrimiento al vacío

US$ 30,00-100,00
1 Pieza(MOQ)
Metalización al vacío de objetivo de circonio

Metalización al vacío de objetivo de circonio

US$ 30,00-100,00
1 Pieza(MOQ)
Depósito por sputtering de Ti de alta pureza

Depósito por sputtering de Ti de alta pureza

US$ 30,00-100,00
1 Pieza(MOQ)
1/4

Inner Mongolia Rongtai Rhenium New Materials Co., Ltd.

5.0
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Objetivo de Gadolinio de Alta Pureza para la Fabricación de Electrónica Avanzada

Objetivo de Gadolinio de Alta Pureza para la Fabricación de Electrónica Avanzada

US$ 55,00-85,00
1 Pieza(MOQ)
Objetivo de Sputtering de Gadolinio Premium para la Fabricación de Electrónica Avanzada

Objetivo de Sputtering de Gadolinio Premium para la Fabricación de Electrónica Avanzada

US$ 55,00-85,00
1 Pieza(MOQ)
Objetivo de Sputtering de Gadolinium de Alta Pureza 99.9% para Aplicaciones Personalizadas

Objetivo de Sputtering de Gadolinium de Alta Pureza 99.9% para Aplicaciones Personalizadas

US$ 55,00-85,00
1 Pieza(MOQ)
99.9% Placa de metal de gadolinio puro Gd objetivo de pulverización para uso magnético de tierras raras

99.9% Placa de metal de gadolinio puro Gd objetivo de pulverización para uso magnético de tierras raras

US$ 55,00-85,00
1 Pieza(MOQ)
1/4

Shenzhen Silver Technologies Ltd

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Material de metal de alta pureza, objetivo de partículas de oro, resistencia a la corrosión para semiconductores

Material de metal de alta pureza, objetivo de partículas de oro, resistencia a la corrosión para semiconductores

US$ 200,00
100 g(MOQ)
Objetivo de Plata, por favor consúltenos para precios detallados

Objetivo de Plata, por favor consúltenos para precios detallados

US$ 10.000,00
1 Pieza(MOQ)
Objetivo de sputtering de oro de alta pureza, adecuado para 5g materiales

Objetivo de sputtering de oro de alta pureza, adecuado para 5g materiales

US$ 200,00
100 g(MOQ)
4n Objetivo de Sputtering de Oro de Alta Pureza

4n Objetivo de Sputtering de Oro de Alta Pureza

US$ 200,00
10 g(MOQ)
1/4

ATM Material Co., Ltd.

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Objetivo Wti / Objetivos de Sputtering / Alta Calidad Wti

Objetivo Wti / Objetivos de Sputtering / Alta Calidad Wti

US$ 1,00-100,00
1 Pieza(MOQ)
Objetivo de pulverización

Objetivo de pulverización

US$ 0,10-100,00
1.000 Piezas(MOQ)
Servicio de Prensado Isostático en Calor / Alta Temperatura Alta Presión / Servicios de Reprocesamiento de Piezas Hip / Consolidación de Polvo por Difusión de Densificación

Servicio de Prensado Isostático en Calor / Alta Temperatura Alta Presión / Servicios de Reprocesamiento de Piezas Hip / Consolidación de Polvo por Difusión de Densificación

US$ 100,00
1 Set(MOQ)
Productos de Prensado Isostático en Caliente / Piezas de Prensado Isostático en Caliente / Equipos HIP de Alta Calidad / Alta Temperatura Alta Presión

Productos de Prensado Isostático en Caliente / Piezas de Prensado Isostático en Caliente / Equipos HIP de Alta Calidad / Alta Temperatura Alta Presión

US$ 100,00
1 Pieza(MOQ)
1/4

CHANGSHA EASCHEM CO., LIMITED

5 años
·Empresa Comercial
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Varilla de metal de tulio objetivo granular CAS No 7440-30-4 TM 2n 3n 3n5

Varilla de metal de tulio objetivo granular CAS No 7440-30-4 TM 2n 3n 3n5

Negociable
1 Piece(MOQ)
Varilla de metal de iterbio objetivo granular CAS No 7440-64-4 Yb 3n 4n

Varilla de metal de iterbio objetivo granular CAS No 7440-64-4 Yb 3n 4n

Negociable
1 Piece(MOQ)
Varilla de metal de gadolinio objetivo granular CAS No 7440-54-2 Gd 3n 4n

Varilla de metal de gadolinio objetivo granular CAS No 7440-54-2 Gd 3n 4n

Negociable
1 Piece(MOQ)
Varilla de metal de samario granular CAS No 7440-19-9 Sm 3n 4n

Varilla de metal de samario granular CAS No 7440-19-9 Sm 3n 4n

Negociable
1 Piece(MOQ)
1/4

Taizhou ATS Optical Material Co., Ltd.

26 años
·Fabricante/Fábrica & Empresa Comercial
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Objetivo de silicio pieza de polisilicio

Objetivo de silicio pieza de polisilicio

US$ 26,00-28,00
1 piece(MOQ)
Objetivo de silicio, oblea de silicio, pieza de silicio monocristalino

Objetivo de silicio, oblea de silicio, pieza de silicio monocristalino

US$ 4,00-5,00
1 piece(MOQ)
Material de recubrimiento óptico al vacío granulado de silicio Si

Material de recubrimiento óptico al vacío granulado de silicio Si

US$ 97,50-100,00
1 Kg(MOQ)
Partículas de silicio de cristal único gránulo Si

Partículas de silicio de cristal único gránulo Si

US$ 97,50-100,00
1 Kg(MOQ)
1/4

Jiangyin Entret Coating Technology Co., Ltd.

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Sputtering Meta: Titanium Sputtering Meta, meta de ti

Sputtering Meta: Titanium Sputtering Meta, meta de ti

US$ 100,00
10 Piezas(MOQ)
Ti-Al aluminio blanco de titanio El titanio aluminio blanco de sputtering

Ti-Al aluminio blanco de titanio El titanio aluminio blanco de sputtering

US$ 30,00-50,00
1 Pieza(MOQ)
Blanco Titanium para la capa de la farfulla del vacío, blanco del Ti

Blanco Titanium para la capa de la farfulla del vacío, blanco del Ti

Negociable
1 Pieza(MOQ)
Planar de titanio de alta pureza Sputtering meta de 2n6 a 4n, 4n5, 5n

Planar de titanio de alta pureza Sputtering meta de 2n6 a 4n, 4n5, 5n

US$ 30,00-50,00
1 Pieza(MOQ)

Zhongzheng Yejin Technology Co., Ltd.

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Objetivo de sputtering de titanio puro para la industria óptica y de energía solar

Objetivo de sputtering de titanio puro para la industria óptica y de energía solar

Negociable
1 Pieza(MOQ)
Objetivo de recubrimiento de sputtering de titanio de alta pureza 99.95%

Objetivo de recubrimiento de sputtering de titanio de alta pureza 99.95%

Negociable
1 Pieza(MOQ)
Gr1, Gr2, Gr5 Objetivo de Titanio/Ti Objetivo para Máquina de Recubrimiento PVD

Gr1, Gr2, Gr5 Objetivo de Titanio/Ti Objetivo para Máquina de Recubrimiento PVD

Negociable
1 Pieza(MOQ)
Ti-6al-4V Barra Redonda de Titanio, Gr5 Precio por Barra de Titanio, Folio de Titanio

Ti-6al-4V Barra Redonda de Titanio, Gr5 Precio por Barra de Titanio, Folio de Titanio

Negociable
1 Pieza(MOQ)
1/2

UV Tech Material Co., Ltd.

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El recubrimiento PVD Ti Sputtering meta

El recubrimiento PVD Ti Sputtering meta

Negociable
2 Piezas(MOQ)
Objetivo Objetivo de titanio Ti giratorio para la industria del vidrio revestimiento vacío película de vidrio Low-E

Objetivo Objetivo de titanio Ti giratorio para la industria del vidrio revestimiento vacío película de vidrio Low-E

Negociable
2 Piezas(MOQ)
El 99,99% de titanio de Sputtering Meta, titanio puro de Sputtering meta para el recubrimiento PVD, Titanio Sputtering Precio

El 99,99% de titanio de Sputtering Meta, titanio puro de Sputtering meta para el recubrimiento PVD, Titanio Sputtering Precio

Negociable
1 Pieza(MOQ)
ITO de cerámica de Sputtering Meta con ti pegado, Planar ITO objetivo, en2o3: Destino Sno2

ITO de cerámica de Sputtering Meta con ti pegado, Planar ITO objetivo, en2o3: Destino Sno2

Negociable
1 Pieza(MOQ)

Aerospace Long March Arimt Technology Co., Ltd.

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ARIMT 2N8 D105% objetivos de pulverización planar tial (15*99,8) para vacío Recubrimiento/recubrimiento PVD en películas decorativas/funcionales Precio barato Fabricación

ARIMT 2N8 D105% objetivos de pulverización planar tial (15*99,8) para vacío Recubrimiento/recubrimiento PVD en películas decorativas/funcionales Precio barato Fabricación

US$ 99,00-99.999,00
1 Pieza(MOQ)
ARIMT 2N8 de 99,8% Tubo TiAl Sputtering objetivos (D56*1050) para el Vacío Recubrimiento/revestimiento PVD/funcional películas decorativas precio barato fabricar

ARIMT 2N8 de 99,8% Tubo TiAl Sputtering objetivos (D56*1050) para el Vacío Recubrimiento/revestimiento PVD/funcional películas decorativas precio barato fabricar

US$ 99,00-99.999,00
1 Pieza(MOQ)
ARIMT 2N8 de 99,8% de los objetivos de Sputtering Planar TiSi (D105*15) para el Vacío Recubrimiento/PVD Revestimiento decorativo y funcional la fabricación de precios baratos de películas

ARIMT 2N8 de 99,8% de los objetivos de Sputtering Planar TiSi (D105*15) para el Vacío Recubrimiento/PVD Revestimiento decorativo y funcional la fabricación de precios baratos de películas

US$ 99,00-99.999,00
1 Pieza(MOQ)
ARIMT 2N8 de 99,8% Tubo TiAl Sputtering objetivos (D56*1050) revestimiento PVD/funcional películas decorativas precio barato fabricar

ARIMT 2N8 de 99,8% Tubo TiAl Sputtering objetivos (D56*1050) revestimiento PVD/funcional películas decorativas precio barato fabricar

US$ 99,00-99.999,00
1 Pieza(MOQ)

Shenzhen Canyuan Metal Material Co., Ltd.

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99.99% Objetivos de Sputtering de Titanio de Alta Pureza para Recubrimiento por Vacío/PVD

99.99% Objetivos de Sputtering de Titanio de Alta Pureza para Recubrimiento por Vacío/PVD

US$ 200,00-10.000,00
1 Pieza(MOQ)
Objetivo de sputtering de titanio con excelente resistencia a la corrosión

Objetivo de sputtering de titanio con excelente resistencia a la corrosión

US$ 200,00-10.000,00
1 Pieza(MOQ)
Estrategias de Producción Sostenible y Reciclaje para 4n Objetivos de Sputtering de Titanio

Estrategias de Producción Sostenible y Reciclaje para 4n Objetivos de Sputtering de Titanio

US$ 200,00-10.000,00
1 Pieza(MOQ)
Objetivo de titanio de grado industrial para sistemas de recubrimiento al vacío

Objetivo de titanio de grado industrial para sistemas de recubrimiento al vacío

US$ 200,00-10.000,00
1 Pieza(MOQ)

Luoyang Modi Tungsten & Molybdenum Material Co., Ltd.

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Tzm Molybdenum Alloy Plate Sputtering Targets Price

Tzm Molybdenum Alloy Plate Sputtering Targets Price

US$ 75,00-95,00
1 Kg(MOQ)
99.95% R05200 Tantalum Round Bars Tantalum Rods

99.95% R05200 Tantalum Round Bars Tantalum Rods

Negociable
1 Pieza(MOQ)
Tantalum Rods, Tantalum Sheet, Tantalum Thermocouple Protection Tube

Tantalum Rods, Tantalum Sheet, Tantalum Thermocouple Protection Tube

US$ 510,00-550,00
1 Pieza(MOQ)
1/4

Dongguan Jinyuyang International Co., Ltd

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Objetivo de Titanio de Alta Pureza 99.99% para Máquina de Recubrimiento por Vacío / PVD

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US$ 22,00-100,00
50 Piezas(MOQ)
Equipo de recubrimiento de oro PVD de titanio para productos de hardware

Equipo de recubrimiento de oro PVD de titanio para productos de hardware

US$ 75.000,00-135.000,00
1 Set(MOQ)
Máquina de recubrimiento PVD de titanio de personalización no estándar

Máquina de recubrimiento PVD de titanio de personalización no estándar

US$ 75.000,00-135.000,00
1 Set(MOQ)
1/4

Xiamen HiuGong Machinery Co., Ltd.

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Objetivo de Sputtering Magnetrón Zrox Si Cr Nb Cu Cr AG

Objetivo de Sputtering Magnetrón Zrox Si Cr Nb Cu Cr AG

US$ 500,00
1 Pieza(MOQ)
99.99% Objetivo de Sputtering de Óxido de Galio Objetivo Plano Ga2o3 Objetivo

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US$ 300,00
1 Pieza(MOQ)
1/4
110
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