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sobre objetivos de pulverización de plata
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objetivos de pulverización de plata60+ fábricas verificadas

Changsha Xinkang Advanced Materials Co., Ltd.

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Objetivo de Sputtering de Placa de Plata para Recubrimiento Magnetrón

Objetivo de Sputtering de Placa de Plata para Recubrimiento Magnetrón

US$ 99,00-6.999,00
1 Pieza(MOQ)
Material de objetivo de pulverización de plata para deposición de vapor de plasma para recubrimiento de película delgada

Material de objetivo de pulverización de plata para deposición de vapor de plasma para recubrimiento de película delgada

US$ 60,00-10.000,00
1 Pieza(MOQ)
99.9% Objetivo de Sputtering de Aluminio de Titanio Tial para Recubrimiento

99.9% Objetivo de Sputtering de Aluminio de Titanio Tial para Recubrimiento

US$ 50,00-900,00
1 Pieza(MOQ)
99.95% Blanco de Sputtering de Niobio Nb para Blanco de Magnetrón

99.95% Blanco de Sputtering de Niobio Nb para Blanco de Magnetrón

US$ 30,00-2.000,00
1 Pieza(MOQ)
1/4

Rheniumet Ltd.

17 años
·Empresa Comercial
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Objetivo de Sputtering de Metal de Plata Pura, 99.99 Personalización de Objetivos de Metales Preciosos Plata AG

Objetivo de Sputtering de Metal de Plata Pura, 99.99 Personalización de Objetivos de Metales Preciosos Plata AG

US$ 630,00-1.000,00
1 Pieza(MOQ)
Fábrica 99.95% Blanco de Sputtering de Rutenio Puro con Mejor Precio, Fabricante de Materiales de Metales Preciosos Ru IR Rh PT

Fábrica 99.95% Blanco de Sputtering de Rutenio Puro con Mejor Precio, Fabricante de Materiales de Metales Preciosos Ru IR Rh PT

US$ 1.000,00-5.000,00
1 Pieza(MOQ)
Precio de fábrica de objetivo de sputtering de rutenio

Precio de fábrica de objetivo de sputtering de rutenio

US$ 1.000,00-5.000,00
1 Pieza(MOQ)
3mm Blanco grueso de rutenio, blanco de sputtering de Ru

3mm Blanco grueso de rutenio, blanco de sputtering de Ru

Negociable
1 Pieza(MOQ)
1/4

Xiamen Tmax Battery Equipments Limited

5.0
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Objetivo de Sputtering de la Marca TMAXCN Plata (AG)

Objetivo de Sputtering de la Marca TMAXCN Plata (AG)

US$ 78,00-90,00
1 Pieza(MOQ)
Máquina de recubrimiento por pulverización de plasma rotativo TMAXCN Marca VTC-16-3HD-LD 3 incluyendo 3 objetivos

Máquina de recubrimiento por pulverización de plasma rotativo TMAXCN Marca VTC-16-3HD-LD 3 incluyendo 3 objetivos

US$ 8.000,00
1 Pieza(MOQ)
Sistema de máquina de recubrimiento de carbono por pulverización iónica de mini DC

Sistema de máquina de recubrimiento de carbono por pulverización iónica de mini DC

US$ 6.000,00
1 Pieza(MOQ)
Recubridor de Sputtering Magnetrón de Banco para Deposición de Películas Delgadas Conductoras

Recubridor de Sputtering Magnetrón de Banco para Deposición de Películas Delgadas Conductoras

US$ 5.000,00
1 Pieza(MOQ)
1/4

Lonwin Industry Group Limited

5.0
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Objetivo de aleación de agal de plata para sputtering de aluminio para recubrimientos reflectantes

Objetivo de aleación de agal de plata para sputtering de aluminio para recubrimientos reflectantes

US$ 17,00-55,00
1 Kg(MOQ)
Pellets de Titanio de Alta Pureza 99.99% Gránulos de Titanio para Recubrimiento por Evaporación

Pellets de Titanio de Alta Pureza 99.99% Gránulos de Titanio para Recubrimiento por Evaporación

US$ 50,00-200,00
1 Kg(MOQ)
Ingot de Aluminio Puro Premium 99.99% para Uso Industrial

Ingot de Aluminio Puro Premium 99.99% para Uso Industrial

US$ 30,00-50,00
1 Kg(MOQ)
Fabricación de gránulos de aleación de titanio y cromo, gris plateado, aleación metálica, adecuada para las industrias aeroespacial, biomédica y química

Fabricación de gránulos de aleación de titanio y cromo, gris plateado, aleación metálica, adecuada para las industrias aeroespacial, biomédica y química

US$ 25,00-80,00
1 Kg(MOQ)
1/4

SUZHOU TECHNO-TEC PHOTOELECTRIC MATERIALS CO., LTD

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Objetivo de aleación de AlSc, objetivo de sputtering de aleación de aluminio y escandio para semiconductores

Objetivo de aleación de AlSc, objetivo de sputtering de aleación de aluminio y escandio para semiconductores

US$ 9.400,00
1 Kg(MOQ)
En objetivo de indio para sputtering para panel LCD/táctil

En objetivo de indio para sputtering para panel LCD/táctil

US$ 340,00
1 Kg(MOQ)
Al Target de aluminio de esputo de objetivo / aluminio de objetivo rotatorio para circuitos integrados / LCD

Al Target de aluminio de esputo de objetivo / aluminio de objetivo rotatorio para circuitos integrados / LCD

US$ 1,00-10,00
1 Kg(MOQ)
Objetivo de Tantalum de Tantalum de Tantalum de destino rotatorio para semiconductores

Objetivo de Tantalum de Tantalum de Tantalum de destino rotatorio para semiconductores

US$ 400,00-600,00
1 Kg(MOQ)
1/4

Beenine Shanke Technology Co., Ltd.

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Objetivo de sputtering de aleación de titanio y aluminio Ti/Al de construcción multi-PCS 99.99% puro

Objetivo de sputtering de aleación de titanio y aluminio Ti/Al de construcción multi-PCS 99.99% puro

US$ 80,00-500,00
1 Pieza(MOQ)
Objetivo de sputtering de plomo Pb de alta calidad para recubrimiento PVD

Objetivo de sputtering de plomo Pb de alta calidad para recubrimiento PVD

US$ 80,00-150,00
1 Pieza(MOQ)
Objetivo de Sputtering de Recubrimiento PVD Planar Redondo de Molibdeno Mo Fábrica

Objetivo de Sputtering de Recubrimiento PVD Planar Redondo de Molibdeno Mo Fábrica

US$ 80,00-500,00
1 Kg(MOQ)
Objetivo de Sputtering de Construcción Multi-PCS de Cromo Cr 99.99% Recubrimiento PVD de China Puro

Objetivo de Sputtering de Construcción Multi-PCS de Cromo Cr 99.99% Recubrimiento PVD de China Puro

US$ 50,00-300,00
1 Pieza(MOQ)
1/4

Shaanxi Mingsheng Guangpu Metal Materials Co., Ltd.

3 años·5.0
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Objetivos de sputtering de níquel resistente al desgaste para recubrimiento de sensores electrónicos automotrices

Objetivos de sputtering de níquel resistente al desgaste para recubrimiento de sensores electrónicos automotrices

US$ 120,00-140,00
50 kilograms(MOQ)
Objetivos de Sputtering de Níquel de Alta Densidad Msgp - Perfectamente Adecuados para Aplicaciones de Recubrimiento de Dispositivos Médicos

Objetivos de Sputtering de Níquel de Alta Densidad Msgp - Perfectamente Adecuados para Aplicaciones de Recubrimiento de Dispositivos Médicos

US$ 260,00-280,00
50 kilograms(MOQ)
Objetivos de sputtering de níquel de alta pureza en forma tubular - Personalizables para células solares fotovoltaicas

Objetivos de sputtering de níquel de alta pureza en forma tubular - Personalizables para células solares fotovoltaicas

US$ 200,00-220,00
50 kilograms(MOQ)
Objetivos de Sputtering de Níquel de Precisión para Películas Conductivas de Instrumentos de Precisión

Objetivos de Sputtering de Níquel de Precisión para Películas Conductivas de Instrumentos de Precisión

US$ 110,00-130,00
50 kilograms(MOQ)
1/4

Shenzhen Silver Technologies Ltd

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Objetivo de Sputtering de Oro Puro Premium 99.99% para Aplicaciones Avanzadas

Objetivo de Sputtering de Oro Puro Premium 99.99% para Aplicaciones Avanzadas

US$ 200,00
10 g(MOQ)
99.99% Objetivo de Sputtering de Oro de Alta Pureza, Objetivo de Au

99.99% Objetivo de Sputtering de Oro de Alta Pureza, Objetivo de Au

US$ 200,00
100 g(MOQ)
Objetivo de Sputtering de Oro 99.99% Objetivo de Alta Calidad Au Objetivo de Oro Puro

Objetivo de Sputtering de Oro 99.99% Objetivo de Alta Calidad Au Objetivo de Oro Puro

US$ 200,00
100 g(MOQ)
Material de objetivo de pulverización de oro de alta pureza procesamiento personalizado

Material de objetivo de pulverización de oro de alta pureza procesamiento personalizado

US$ 200,00
100 g(MOQ)
1/4

Sid Metal Co., Ltd

13 años
·Fabricante/Fábrica & Empresa Comercial
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Objetivo de sputtering de titanio de alta pureza, planar para la industria de semiconductores, circuitos integrados, vidrio para construcción y automóviles

Objetivo de sputtering de titanio de alta pureza, planar para la industria de semiconductores, circuitos integrados, vidrio para construcción y automóviles

US$ 1,00-100,00
1 Pieza(MOQ)
Objetivo de Sputtering de Titanio Ti / Objetivo Rotatorio de Titanio para Semiconductores / Sputtering de Recubrimiento al Vacío

Objetivo de Sputtering de Titanio Ti / Objetivo Rotatorio de Titanio para Semiconductores / Sputtering de Recubrimiento al Vacío

US$ 1,00-100,00
1 Pieza(MOQ)
Precio de fábrica 99.95% Metal Tántalo puro objetivo de sputtering Ta objetivos planos de tantalio

Precio de fábrica 99.95% Metal Tántalo puro objetivo de sputtering Ta objetivos planos de tantalio

US$ 1,00-100,00
1 Pieza(MOQ)
Zr702 Zr705 Conductividad Térmica de Tubo de Circonio Alta Pureza Objetivo de Sputtering

Zr702 Zr705 Conductividad Térmica de Tubo de Circonio Alta Pureza Objetivo de Sputtering

US$ 1,00-3.000,00
1 Pieza(MOQ)
1/4

Baoji Taizehui Metal Technology Co., Ltd.

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Objetivo de Sputtering de Circonio 705 para Soluciones Metálicas Personalizadas de Alta Calidad

Objetivo de Sputtering de Circonio 705 para Soluciones Metálicas Personalizadas de Alta Calidad

Negociable
10 Kg(MOQ)
Objetivo de Sputtering de Zirconio de Alta Calidad 705 para Soluciones Personalizadas Hoy

Objetivo de Sputtering de Zirconio de Alta Calidad 705 para Soluciones Personalizadas Hoy

Negociable
10 Kg(MOQ)
Alta resistencia a la corrosión, alta planitud, OEM, ODM, placa de zirconio puro personalizada

Alta resistencia a la corrosión, alta planitud, OEM, ODM, placa de zirconio puro personalizada

Negociable
10 Kg(MOQ)
Placa de zirconio pulido de alta calidad para aplicaciones personalizadas versátiles

Placa de zirconio pulido de alta calidad para aplicaciones personalizadas versátiles

Negociable
10 Kg(MOQ)
1/4

Dongguan Gravel Industries and Enterprise Company Limited

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99.99% Blanco de Sputtering de Aleación de Estaño de Oro de Alta Pureza

99.99% Blanco de Sputtering de Aleación de Estaño de Oro de Alta Pureza

US$ 265.000,00
10 Piezas(MOQ)
Objetivo de recubrimiento PVD de plata y cobre, objetivo plano redondo

Objetivo de recubrimiento PVD de plata y cobre, objetivo plano redondo

US$ 8.000,00
1 Pieza(MOQ)
Estaño Plata Cobre Objetivo Sac Objetivo

Estaño Plata Cobre Objetivo Sac Objetivo

US$ 6.500,00
1 Pieza(MOQ)
Material de aleación de alta pureza de estaño, plata y cobre

Material de aleación de alta pureza de estaño, plata y cobre

US$ 25.500,00
1 Pieza(MOQ)
1/4

Shandong Quansheng Material Technology Group Co., LTD

3 años
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Objetivos de tungsteno premium para procesos de recubrimiento al vacío

Objetivos de tungsteno premium para procesos de recubrimiento al vacío

US$ 56,00-61,00
5 Kg(MOQ)
Placa de Sputtering de Molybdeno de Ultra Alta Pureza 99.95% para Aplicaciones de Precisión

Placa de Sputtering de Molybdeno de Ultra Alta Pureza 99.95% para Aplicaciones de Precisión

US$ 61,00-69,00
1 Kg(MOQ)
Hojas de molibdeno de alta calidad disponibles en múltiples opciones de grosor

Hojas de molibdeno de alta calidad disponibles en múltiples opciones de grosor

US$ 78,00-88,00
100 Kg(MOQ)
Placas de Molybdeno Premium Mo1 en múltiples opciones de grosor

Placas de Molybdeno Premium Mo1 en múltiples opciones de grosor

US$ 78,00-88,00
100 Kg(MOQ)
1/4

Jinan Hengcheng Aluminum Co., Ltd.

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Objetivo de sputtering de aluminio y titanio, objetivo de sputtering de titanio y aluminio

Objetivo de sputtering de aluminio y titanio, objetivo de sputtering de titanio y aluminio

US$ 3.380,00
1 Tonelada(MOQ)
Objetivo de Sputtering de Aluminio Titanio Alloy/50 para Máquina de Recubrimiento PVD

Objetivo de Sputtering de Aluminio Titanio Alloy/50 para Máquina de Recubrimiento PVD

US$ 3.380,00
1 Tonelada(MOQ)
1/4

BIOTIO SHANGHAI CORP CO., LTD.

5.0
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Pellets de Aluminio API-625 Objetivo de Sputtering de Alta Pureza 99.999% en Stock

Pellets de Aluminio API-625 Objetivo de Sputtering de Alta Pureza 99.999% en Stock

US$ 3.180,00-8.500,00
1 Tonelada(MOQ)
Pellets de Aluminio APP-512 Objetivo de Sputtering de Alta Pureza 99.999% en Stock

Pellets de Aluminio APP-512 Objetivo de Sputtering de Alta Pureza 99.999% en Stock

US$ 3.180,00-8.500,00
1 Tonelada(MOQ)
1/4

Inner Mongolia Pusheng Iron &Steel Co., Ltd.

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Materiales Primos Alta Pureza 99.7% Lingotes de Silicio Metálicos Objetivos de Silicio Puro Objetivos de Sputtering

Materiales Primos Alta Pureza 99.7% Lingotes de Silicio Metálicos Objetivos de Silicio Puro Objetivos de Sputtering

US$ 2.000,00-2.500,00
22 Montones(MOQ)
Silicio policristalino de alta pureza 99.999% objetivo de pulverización de polisilicio

Silicio policristalino de alta pureza 99.999% objetivo de pulverización de polisilicio

US$ 2.769,00-3.100,00
22 Montones(MOQ)
1/4

Uv Tech Material Ltd

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Se puede girar Tiox Sial Plata Sputtering meta el tubo de cátodos de alta calidad de pureza para la PVD Nano material de película delgada

Se puede girar Tiox Sial Plata Sputtering meta el tubo de cátodos de alta calidad de pureza para la PVD Nano material de película delgada

Negociable
1 Pieza(MOQ)
Rotary indio Blanco en blanco de sputtering

Rotary indio Blanco en blanco de sputtering

Negociable
1 Pieza(MOQ)
PVD de aluminio cilíndrica de destino al destino Sputter giratorio el 99,999% pureza 2n-5n disponible

PVD de aluminio cilíndrica de destino al destino Sputter giratorio el 99,999% pureza 2n-5n disponible

Negociable
1 Pieza(MOQ)
Si se puede girar de forma cilíndrica de cátodos de destino de silicio de alta calidad Monilithic rectas y de forma Dogbone

Si se puede girar de forma cilíndrica de cátodos de destino de silicio de alta calidad Monilithic rectas y de forma Dogbone

Negociable
1 Pieza(MOQ)

Zhengzhou Tainuo Film Materials Co., Ltd.

9 años
·Fabricante/Fábrica
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Revestidor de Sputtering Magnetrón de Laboratorio DC con Objetivo de Sputtering de Plata, Oro y Platino

Revestidor de Sputtering Magnetrón de Laboratorio DC con Objetivo de Sputtering de Plata, Oro y Platino

US$ 18.000,00-19.500,00
1 set(MOQ)
Nuevo sistema de sputtering por magnetrón PVD para recubrimiento de oro, plata y platino

Nuevo sistema de sputtering por magnetrón PVD para recubrimiento de oro, plata y platino

US$ 39.500,00
1 Pieza(MOQ)
Recubridor de plasma de doble objetivo de escritorio para muestras de SEM y cromo

Recubridor de plasma de doble objetivo de escritorio para muestras de SEM y cromo

US$ 7.900,00-8.500,00
1 Pieza(MOQ)
Recubridor de Plasma de Triple Objetivo de Acero Inoxidable en Polvo con 150W Fuente de Alimentación de Alta Tensión de Corriente Continua para Instrumento Quirúrgico

Recubridor de Plasma de Triple Objetivo de Acero Inoxidable en Polvo con 150W Fuente de Alimentación de Alta Tensión de Corriente Continua para Instrumento Quirúrgico

US$ 12.000,00-13.000,00
1 Pieza(MOQ)
1/4

Zhejiang Ruisheng New Materials Co., Ltd.

Empresa Comercial
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Objetivo de sputtering de molibdeno personalizable con alta densidad para aplicaciones de recubrimiento de semiconductores y vidrio

Objetivo de sputtering de molibdeno personalizable con alta densidad para aplicaciones de recubrimiento de semiconductores y vidrio

US$ 30,00-80,00
10 Kg(MOQ)
Objetivo de tungsteno pulido de alta pureza para aplicaciones avanzadas de bombardeo iónico

Objetivo de tungsteno pulido de alta pureza para aplicaciones avanzadas de bombardeo iónico

US$ 50,00-270,00
10 Kg(MOQ)
Objetivo de Sputtering de Tungsteno de Alta Pureza 99.95% Deposición de Películas Finas de Semiconductores Personalizable Estándar ASTM

Objetivo de Sputtering de Tungsteno de Alta Pureza 99.95% Deposición de Películas Finas de Semiconductores Personalizable Estándar ASTM

US$ 60,00-100,00
1 Kg(MOQ)
Objetivo de Molybdeno de Alta Pureza para Aplicaciones Industriales Avanzadas

Objetivo de Molybdeno de Alta Pureza para Aplicaciones Industriales Avanzadas

US$ 30,00-60,00
1 Kg(MOQ)
1/4

CHANGSHA EASCHEM CO., LIMITED

5 años
·Empresa Comercial
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Objetivo de sputtering de niobio de alta calidad con número CAS 7440-03-1

Objetivo de sputtering de niobio de alta calidad con número CAS 7440-03-1

Negociable
1 Piece(MOQ)
Varilla de metal de samario granular CAS No 7440-19-9 Sm 3n 4n

Varilla de metal de samario granular CAS No 7440-19-9 Sm 3n 4n

Negociable
1 Piece(MOQ)
Precio de fábrica Vender alta calidad objetivo de sputtering ITO 4n In2o3 y Sno2

Precio de fábrica Vender alta calidad objetivo de sputtering ITO 4n In2o3 y Sno2

Negociable
1 Piece(MOQ)
Precio de fábrica Vender bajo densidad 4n objetivo redondo pequeño ITO

Precio de fábrica Vender bajo densidad 4n objetivo redondo pequeño ITO

Negociable
1 Piece(MOQ)
1/4

Ningbo Galaxy International Trading Co., Ltd.

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Hoja de tántalo de alta pureza, gris, con ductilidad para recubrimiento al vacío

Hoja de tántalo de alta pureza, gris, con ductilidad para recubrimiento al vacío

US$ 73,00
1 Pieza(MOQ)
Superficie pulida de alta dureza y objetivo de tubo de níquel de mayor pureza

Superficie pulida de alta dureza y objetivo de tubo de níquel de mayor pureza

US$ 30,00
10 Piezas(MOQ)
1/4

Jiyuan Yujin Target Material Technology Co., Ltd

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Esputo de plata objetivo para vidrio de baja E

Esputo de plata objetivo para vidrio de baja E

Negociable
1 Kg(MOQ)
Sputtering Silver Target para componentes electrónicos

Sputtering Silver Target para componentes electrónicos

Negociable
1 Kg(MOQ)

Suzhou Zhongzhina Semiconductor Technology Co., Ltd.

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Dianas de recubrimiento de plata de alta pureza (AG), tubos de aleación de plata, cables, partículas, placas de plata, Materiales de revestimiento PVD.

Dianas de recubrimiento de plata de alta pureza (AG), tubos de aleación de plata, cables, partículas, placas de plata, Materiales de revestimiento PVD.

Negociable
1 Pieza(MOQ)

Xiangtan Hondson Coating Technology Co., Ltd.

6 años
·Fabricante/Fábrica & Empresa Comercial
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5-200kw Fuente de Sputtering Típica para la Industria de Recubrimiento de Películas Delgadas Cátodo de Sputter Magnetrón Rotatorio Objetivo de Sputtering Rotatorio

5-200kw Fuente de Sputtering Típica para la Industria de Recubrimiento de Películas Delgadas Cátodo de Sputter Magnetrón Rotatorio Objetivo de Sputtering Rotatorio

US$ 6.900,00-7.000,00
2 sets(MOQ)
Línea de recubrimiento por sputtering de vidrio al vacío horizontal para espejo de aluminio plateado, máquina de espejo de color al vacío, máquina de vidrio reflectante

Línea de recubrimiento por sputtering de vidrio al vacío horizontal para espejo de aluminio plateado, máquina de espejo de color al vacío, máquina de vidrio reflectante

US$ 600.000,00-1.200.000,00
1 Pieza(MOQ)
Línea de producción de espejos de vidrio plano con recubrimiento de sputtering de plata al vacío

Línea de producción de espejos de vidrio plano con recubrimiento de sputtering de plata al vacío

US$ 560.000,00-1.200.000,00
1 Pieza(MOQ)
Máquina de recubrimiento por sputtering de magnetrón de vacío para la fabricación de espejos de plata

Máquina de recubrimiento por sputtering de magnetrón de vacío para la fabricación de espejos de plata

US$ 500.000,00-800.000,00
1 Pieza(MOQ)
1/4

UV Tech Material Co., Ltd.

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Placa de plata de Sputtering meta para el magnetrón recubrimiento, metales preciosos de plata AG Sputtering meta para el revestimiento magnetrón

Placa de plata de Sputtering meta para el magnetrón recubrimiento, metales preciosos de plata AG Sputtering meta para el revestimiento magnetrón

Negociable
2 Piezas(MOQ)
Objetivo de plata planar para película de vidrio Low-E, electrodo de células solares de película

Objetivo de plata planar para película de vidrio Low-E, electrodo de células solares de película

Negociable
2 Piezas(MOQ)
Objetivo de AG de giratorio de plasma frío Spray, magnetrón Sputtering meta, la plata de Sputtering meta

Objetivo de AG de giratorio de plasma frío Spray, magnetrón Sputtering meta, la plata de Sputtering meta

Negociable
1 Pieza(MOQ)
AG giratorio de alta calidad de destino de Sputtering meta

AG giratorio de alta calidad de destino de Sputtering meta

Negociable
2 Piezas(MOQ)

Hubei Fotma Machinery Co., Ltd.

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99.95% Tubo de Molienda Objetivo de Sputtering Objetivo de Molibdeno

99.95% Tubo de Molienda Objetivo de Sputtering Objetivo de Molibdeno

US$ 5,00-200,00
1 Kilogram(MOQ)
Producto personalizado de tungsteno, blanco de sputtering de tungsteno puro

Producto personalizado de tungsteno, blanco de sputtering de tungsteno puro

US$ 40,00-50,00
1 Kg(MOQ)
99.95% Placas de tungsteno negro mecanizadas y rectificadas en puro tungsteno

99.95% Placas de tungsteno negro mecanizadas y rectificadas en puro tungsteno

US$ 1,00-20,00
1 Pieza(MOQ)
1/4

Tengzhou Fast Silver Trading Co., Limited.

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La pureza del oro blanco Au Sputtering meta para la Deposición de película delgada de semiconductores

La pureza del oro blanco Au Sputtering meta para la Deposición de película delgada de semiconductores

Negociable
1 Pieza(MOQ)
La pureza del blanco de Sputtering Plata AG Las piezas de metal puro de Deposición de película fina

La pureza del blanco de Sputtering Plata AG Las piezas de metal puro de Deposición de película fina

US$ 200,00
1 Pieza(MOQ)
99,99% pureza material Metal Titanio esputtering Target Round TI Titanium Objetivo

99,99% pureza material Metal Titanio esputtering Target Round TI Titanium Objetivo

Negociable
1 Pieza(MOQ)

Tianjin Rui Yuan Electric Material Co., Ltd.

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99.9999% 6n Placas de respaldo de objetivos de sputtering de cobre de alta pureza

99.9999% 6n Placas de respaldo de objetivos de sputtering de cobre de alta pureza

US$ 335,00-350,00
100 Kg(MOQ)
Personalizado 2mm/3mm/5mm Alta Pureza 6n Pellets de Cobre Materiales de Evaporación

Personalizado 2mm/3mm/5mm Alta Pureza 6n Pellets de Cobre Materiales de Evaporación

US$ 35,00-67,00
100 kilograms(MOQ)
99.9999% Pellets de Cobre Puro 6n 3mm Cu-Ofe/C10100 para Deposición al Vacío &3D Impresión

99.9999% Pellets de Cobre Puro 6n 3mm Cu-Ofe/C10100 para Deposición al Vacío &3D Impresión

US$ 45,99-59,99
100 kilograms(MOQ)
1/4

Luoyang Modi Tungsten & Molybdenum Material Co., Ltd.

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Tzm Molybdenum Alloy Plate Sputtering Targets Price

Tzm Molybdenum Alloy Plate Sputtering Targets Price

US$ 75,00-95,00
1 Kg(MOQ)
1/4

Fuzhou Nuoxin Advanced Material Co. Ltd.

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Sputtering meta para el vidrio Low-E80-20Nicr wt revestimiento PVD

Sputtering meta para el vidrio Low-E80-20Nicr wt revestimiento PVD

Negociable
1 Pieza(MOQ)

Changsha Xinkang Advanced Materials Co, Ltd

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Blanco de plata de la farfulla

Blanco de plata de la farfulla

Negociable
1 Pieza(MOQ)
13
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