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sobre Objetivos de PVD
  • Innovación tecnológica
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  • Capacidades de fabricación sustanciales

Objetivos de PVD100+ fábricas verificadas

Changsha Xinkang Advanced Materials Co., Ltd.

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99.95% Objetivo de Sputtering de Cromo Puro, Objetivo de Cromo de Alta Pureza para Recubrimiento PVD

99.95% Objetivo de Sputtering de Cromo Puro, Objetivo de Cromo de Alta Pureza para Recubrimiento PVD

US$ 30,00-1.000,00
1 Pieza(MOQ)
Objetivo de arco de aluminio de tamaño personalizado para recubrimiento PVD

Objetivo de arco de aluminio de tamaño personalizado para recubrimiento PVD

US$ 70,00-80,00
1 Pieza(MOQ)
99.99% Objetivo de Óxido de Cromo Puro para Deposición de Películas Delgadas por PVD

99.99% Objetivo de Óxido de Cromo Puro para Deposición de Películas Delgadas por PVD

US$ 110,00-120,00
1 Pieza(MOQ)
Objetivo de Sputtering de Manganeso Puro Metal Manganeso Mn Objetivo de Sputtering para Proceso PVD

Objetivo de Sputtering de Manganeso Puro Metal Manganeso Mn Objetivo de Sputtering para Proceso PVD

US$ 130,00-2.000,00
1 Pieza(MOQ)
1/4

Sid Metal Co., Ltd

13 años
·Fabricante/Fábrica & Empresa Comercial
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Hoja de objetivo de sputtering de zirconio de alta calidad Zr702 Zr705 para recubrimiento PVD disco de zirconio

Hoja de objetivo de sputtering de zirconio de alta calidad Zr702 Zr705 para recubrimiento PVD disco de zirconio

US$ 1,00-3.000,00
1 Pieza(MOQ)
Hoja de objetivo de zirconio Zr702 Zr705 para recubrimiento PVD disco de zirconio

Hoja de objetivo de zirconio Zr702 Zr705 para recubrimiento PVD disco de zirconio

US$ 1,00-3.000,00
1 Pieza(MOQ)
Tubo de objetivo de circonio Zr702 Objetivo de circonio para recubrimiento PVD

Tubo de objetivo de circonio Zr702 Objetivo de circonio para recubrimiento PVD

US$ 1,00-3.000,00
1 Pieza(MOQ)
Objetivo de hoja de sputtering de circonio Zr702 Zr705 para recubrimiento PVD disco de circonio

Objetivo de hoja de sputtering de circonio Zr702 Zr705 para recubrimiento PVD disco de circonio

US$ 1,00-3.000,00
1 Pieza(MOQ)
1/4

Beenine Shanke Technology Co., Ltd.

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Objetivo de sputtering tubular plano de cromo Cr para recubrimiento PVD a precio competitivo

Objetivo de sputtering tubular plano de cromo Cr para recubrimiento PVD a precio competitivo

US$ 50,00-300,00
1 Pieza(MOQ)
Objetivo de Sputtering de Níquel Multi-PCS 99.99% Recubrimiento PVD de China Puro

Objetivo de Sputtering de Níquel Multi-PCS 99.99% Recubrimiento PVD de China Puro

US$ 300,00-1.000,00
1 Pieza(MOQ)
4n 99.99% Objetivo de Sputtering de Bismuto Bi de Alta Pureza para Recubrimiento PVD

4n 99.99% Objetivo de Sputtering de Bismuto Bi de Alta Pureza para Recubrimiento PVD

US$ 80,00-500,00
1 Pieza(MOQ)
4n Blanco de Sputtering de Aleación de Titanio y Aluminio de Alta Pureza para Recubrimiento PVD

4n Blanco de Sputtering de Aleación de Titanio y Aluminio de Alta Pureza para Recubrimiento PVD

US$ 80,00-500,00
1 Pieza(MOQ)
1/4

Zhonghe Steel (Tianjin) Co., Ltd.

5 años
·Empresa Comercial
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Objetivo de Sputtering de Titanio de Alta Pureza Gr1 Gr2 para PVD

Objetivo de Sputtering de Titanio de Alta Pureza Gr1 Gr2 para PVD

US$ 10,00-25,00
1 Pieza(MOQ)
Objetivo de Titanio de Alta Pureza para Máquina de Recubrimiento PVD

Objetivo de Titanio de Alta Pureza para Máquina de Recubrimiento PVD

US$ 10,00-25,00
1 Pieza(MOQ)
Precio del objetivo de sputtering de titanio PVD personalizado

Precio del objetivo de sputtering de titanio PVD personalizado

US$ 10,00-25,00
1 Pieza(MOQ)
Objetivo de Titanio de Alta Pureza 99.99% para Máquina de Recubrimiento por Vacío / PVD

Objetivo de Titanio de Alta Pureza 99.99% para Máquina de Recubrimiento por Vacío / PVD

US$ 10,00-25,00
1 Pieza(MOQ)
1/4

Dongguan Gravel Industries and Enterprise Company Limited

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Objetivo de Silicio de Alta Pureza para Recubrimiento por Vacío/PVD

Objetivo de Silicio de Alta Pureza para Recubrimiento por Vacío/PVD

US$ 6.200,00
1 Pieza(MOQ)
Objetivo de cromo de alta pureza para recubrimiento en vacío/PVD

Objetivo de cromo de alta pureza para recubrimiento en vacío/PVD

US$ 1.000,00
1 Pieza(MOQ)
Objetivo de cobre para pulverización catódica en vacío

Objetivo de cobre para pulverización catódica en vacío

US$ 35.000,00
1 Pieza(MOQ)
99.99% Blanco de Sputtering de Aleación de Estaño de Oro de Alta Pureza

99.99% Blanco de Sputtering de Aleación de Estaño de Oro de Alta Pureza

US$ 265.000,00
10 Piezas(MOQ)
1/4

Xiamen Tmax Battery Equipments Limited

5.0
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Marca TMAXCN Alta Pureza 99.95% Cromo Cromo/Cr Objetivo de Sputtering Magnetrón PVD para Recubrimiento al Vacío

Marca TMAXCN Alta Pureza 99.95% Cromo Cromo/Cr Objetivo de Sputtering Magnetrón PVD para Recubrimiento al Vacío

US$ 78,00-90,00
1 Pieza(MOQ)
Objetivo de sputtering de magnetrón de alta pureza de hafnio/Hf de la marca TMAXCN para recubrimiento al vacío

Objetivo de sputtering de magnetrón de alta pureza de hafnio/Hf de la marca TMAXCN para recubrimiento al vacío

US$ 78,00-90,00
1 Pieza(MOQ)
Marca TMAXCN Alta Pureza 3n5 Blanco de Cromo/Cr Objetivo de Sputtering para Recubrimiento PVD

Marca TMAXCN Alta Pureza 3n5 Blanco de Cromo/Cr Objetivo de Sputtering para Recubrimiento PVD

US$ 78,00-90,00
1 Pieza(MOQ)
Marca TMAXCN 3n/4n/4n5 Materiales de recubrimiento PVD Wti Aleación de tungsteno y titanio Objetivo de sputtering

Marca TMAXCN 3n/4n/4n5 Materiales de recubrimiento PVD Wti Aleación de tungsteno y titanio Objetivo de sputtering

US$ 78,00-90,00
1 Pieza(MOQ)
1/4

Lonwin Industry Group Limited

5.0
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Objetivo de metal de rutenio de alta pureza 99.99% para recubrimiento PVD

Objetivo de metal de rutenio de alta pureza 99.99% para recubrimiento PVD

US$ 17,00-55,00
1 Kg(MOQ)
Objetivo de aleación de níquel y titanio para pulverización para recubrimiento PVD

Objetivo de aleación de níquel y titanio para pulverización para recubrimiento PVD

US$ 17,00-55,00
1 Kg(MOQ)
99.99% Blanco de aleación de níquel y cobre Nicu para recubrimiento PVD

99.99% Blanco de aleación de níquel y cobre Nicu para recubrimiento PVD

US$ 17,00-55,00
1 Kg(MOQ)
Objetivo de Sputtering de Hf Hafnio de Alta Pureza 99.95% para Recubrimiento PVD

Objetivo de Sputtering de Hf Hafnio de Alta Pureza 99.95% para Recubrimiento PVD

US$ 17,00-55,00
1 Kg(MOQ)
1/4

SUZHOU TECHNO-TEC PHOTOELECTRIC MATERIALS CO., LTD

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Objetivo cerámico de pulverización de estaño para película óptica fina revestimiento/PVD Revestimiento

Objetivo cerámico de pulverización de estaño para película óptica fina revestimiento/PVD Revestimiento

US$ 25,00-100,00
1 Kg(MOQ)
SiO2 Objetivo Cerámico de Sputtering Óxido de Silicio Objetivo Cerámico de Sputtering para Recubrimiento de Película PVD

SiO2 Objetivo Cerámico de Sputtering Óxido de Silicio Objetivo Cerámico de Sputtering para Recubrimiento de Película PVD

US$ 25,00-100,00
1 Kg(MOQ)
MN Target espumante de manganeso Target para revestimiento de película fina óptica/PVD Revestimiento de película

MN Target espumante de manganeso Target para revestimiento de película fina óptica/PVD Revestimiento de película

US$ 500,00
1 Kg(MOQ)
Esputo de metal/esputo de aleación/esputo serámico objetivo

Esputo de metal/esputo de aleación/esputo serámico objetivo

US$ 35,00
1 Kg(MOQ)
1/4

Rheniumet Ltd.

17 años
·Empresa Comercial
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Objetivo de rutenio de alta pureza en forma cuadrada para recubrimiento PVD, suministro de fabricante en China

Objetivo de rutenio de alta pureza en forma cuadrada para recubrimiento PVD, suministro de fabricante en China

US$ 2.000,00-30.000,00
1 Pieza(MOQ)
Objetivo de aleación de tungsteno y renio para deposición física de vapor

Objetivo de aleación de tungsteno y renio para deposición física de vapor

US$ 2.000,00-3.000,00
1 kilograms(MOQ)
Objetivo de Ru de alta pureza para pulverización para recubrimiento PVD suministro de fabricante en China

Objetivo de Ru de alta pureza para pulverización para recubrimiento PVD suministro de fabricante en China

US$ 700,00
1 Pieza(MOQ)
Objetivo de Sputtering de Rhenio de Alta Pureza 99.99%, Objetivo Redondo de Metal Re

Objetivo de Sputtering de Rhenio de Alta Pureza 99.99%, Objetivo Redondo de Metal Re

US$ 1.000,00-4.000,00
1 Pieza(MOQ)
1/4

Shanghai Tankii Alloy Material Co., Ltd.

5.0
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Fabricante personalizado de bajo precio, metal de cromo puro de alta pureza, objetivo de sputtering de Cr para recubrimiento PVD

Fabricante personalizado de bajo precio, metal de cromo puro de alta pureza, objetivo de sputtering de Cr para recubrimiento PVD

US$ 60,00-150,00
1 Pieza(MOQ)
Tipo de recubrimiento PVD más popular, uso de objetivo de sputtering de cromo tipo placa

Tipo de recubrimiento PVD más popular, uso de objetivo de sputtering de cromo tipo placa

US$ 60,00-150,00
1 Pieza(MOQ)
Precio de fábrica Vender 99.999% Objetivo de sputtering de cromo

Precio de fábrica Vender 99.999% Objetivo de sputtering de cromo

US$ 60,00-150,00
1 Pieza(MOQ)
Precio de fábrica 99.999% objetivo de sputtering de cromo

Precio de fábrica 99.999% objetivo de sputtering de cromo

US$ 60,00-150,00
1 Pieza(MOQ)
1/4

Xiangtan Hondson Coating Technology Co., Ltd.

6 años
·Fabricante/Fábrica & Empresa Comercial
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Objetivo de magnetrón cilíndrico para recubrimiento PVD en vacío de tubos de titanio, materiales en bruto para recubrimiento, cátodos

Objetivo de magnetrón cilíndrico para recubrimiento PVD en vacío de tubos de titanio, materiales en bruto para recubrimiento, cátodos

US$ 800,00-1.500,00
1 Pieza(MOQ)
Bloque de titanio de alta pureza personalizado, material de titanio, material de recubrimiento por ionización multi-arco, objetivo metálico

Bloque de titanio de alta pureza personalizado, material de titanio, material de recubrimiento por ionización multi-arco, objetivo metálico

US$ 500,00-1.000,00
1 Pieza(MOQ)
Depósito de arco, pistola de recubrimiento por arco catódico, objetivo

Depósito de arco, pistola de recubrimiento por arco catódico, objetivo

US$ 2.500,00-2.600,00
3 sets(MOQ)
Objetivo planar circular de magnetrón para recubrimiento en vacío PVD

Objetivo planar circular de magnetrón para recubrimiento en vacío PVD

US$ 11.900,00-12.000,00
2 sets(MOQ)
1/4

Zhengzhou Tainuo Film Materials Co., Ltd.

9 años
·Fabricante/Fábrica
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Fuente de Sputtering Magnetrón de Alto Vacío para el Proceso de Recubrimiento PVD

Fuente de Sputtering Magnetrón de Alto Vacío para el Proceso de Recubrimiento PVD

US$ 1.800,00-2.000,00
1 set(MOQ)
Máquina de recubrimiento por pulverización catódica magnetrón PVD con objetivo de triple pulverización y alimentación de corriente continua

Máquina de recubrimiento por pulverización catódica magnetrón PVD con objetivo de triple pulverización y alimentación de corriente continua

US$ 38.000,00-39.500,00
1 set(MOQ)
Recubridor de Plasma de Triple Objetivo de Acero Inoxidable en Polvo con 150W Fuente de Alimentación de Alta Tensión de Corriente Continua para Instrumento Quirúrgico

Recubridor de Plasma de Triple Objetivo de Acero Inoxidable en Polvo con 150W Fuente de Alimentación de Alta Tensión de Corriente Continua para Instrumento Quirúrgico

US$ 12.000,00-13.000,00
1 Pieza(MOQ)
Recubridor de plasma de doble objetivo de escritorio para muestras de SEM y cromo

Recubridor de plasma de doble objetivo de escritorio para muestras de SEM y cromo

US$ 7.900,00-8.500,00
1 Pieza(MOQ)
1/4

Ningbo Galaxy International Trading Co., Ltd.

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99.9% Objetivo de recubrimiento al vacío de níquel, cromo y aluminio para el proceso PVD, objetivo de cromo y tantalio

99.9% Objetivo de recubrimiento al vacío de níquel, cromo y aluminio para el proceso PVD, objetivo de cromo y tantalio

US$ 55,00
1 Pieza(MOQ)
Objetivo Redondo de Zirconio con Ductilidad Colorida y Resistencia al Calor

Objetivo Redondo de Zirconio con Ductilidad Colorida y Resistencia al Calor

US$ 15,00
5 Piezas(MOQ)
Objetivo Redondo de Titanio Puro 99.9% Hecho a Medida para Recubrimiento al Vacío

Objetivo Redondo de Titanio Puro 99.9% Hecho a Medida para Recubrimiento al Vacío

US$ 30,00
1 Pieza(MOQ)
Objetivo de sputtering redondo de aluminio de titanio de alta calidad

Objetivo de sputtering redondo de aluminio de titanio de alta calidad

US$ 20,00
50 Piezas(MOQ)
1/4

Jiangsu Cicel Vacuum Technology Co., Ltd.

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Objetivos de PVD de aleación de aluminio y titanio, objetivos de sputtering de titanio, objetivo de aleación de Tial para recubrimiento

Objetivos de PVD de aleación de aluminio y titanio, objetivos de sputtering de titanio, objetivo de aleación de Tial para recubrimiento

US$ 80,00-300,00
1 Pieza(MOQ)
Objetivo de Sputtering de Cromo PVD Objetivo de Cromo/Objetivo de Sputtering de Cr

Objetivo de Sputtering de Cromo PVD Objetivo de Cromo/Objetivo de Sputtering de Cr

US$ 130,00-300,00
1 Pieza(MOQ)
Precio de objetivos de titanio de alta pureza para recubrimiento PVD/objetivo de titanio por pulverización, objetivo redondo de titanio en venta

Precio de objetivos de titanio de alta pureza para recubrimiento PVD/objetivo de titanio por pulverización, objetivo redondo de titanio en venta

US$ 80,00-300,00
1 Pieza(MOQ)
Objetivo de titanio por sputtering, objetivo de sputtering de titanio, recubrimiento al vacío, objetivo de titanio para máquina de recubrimiento al vacío por arco múltiple

Objetivo de titanio por sputtering, objetivo de sputtering de titanio, recubrimiento al vacío, objetivo de titanio para máquina de recubrimiento al vacío por arco múltiple

US$ 35,00-50,00
1 Pieza(MOQ)
1/4

Shenzhen Silver Technologies Ltd

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Ventas Directas de Fábrica de 99.99% - 99.999% Material de Objetivo de Sputtering de Oro

Ventas Directas de Fábrica de 99.99% - 99.999% Material de Objetivo de Sputtering de Oro

US$ 200,00
100 g(MOQ)
99.99% Objetivo de Sputtering de Oro de Alta Calidad Au

99.99% Objetivo de Sputtering de Oro de Alta Calidad Au

US$ 200,00
10 g(MOQ)
99.99% Objetivo de Sputtering de Oro de Alta Pureza, Objetivo de Au

99.99% Objetivo de Sputtering de Oro de Alta Pureza, Objetivo de Au

US$ 200,00
100 g(MOQ)
Objetivo de Sputtering de Oro Puro Premium 99.99% para Aplicaciones Avanzadas

Objetivo de Sputtering de Oro Puro Premium 99.99% para Aplicaciones Avanzadas

US$ 200,00
10 g(MOQ)
1/4

Shaanxi Mingsheng Guangpu Metal Materials Co., Ltd.

3 años·5.0
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Objetivo de Sputtering de Cromo para Electrónica de Precisión y Moldes

Objetivo de Sputtering de Cromo para Electrónica de Precisión y Moldes

US$ 90,00-110,00
2 Piezas(MOQ)
Objetivo de zirconio de alta pureza directo de fábrica para aplicaciones ópticas

Objetivo de zirconio de alta pureza directo de fábrica para aplicaciones ópticas

US$ 90,00-99,00
10 Kg(MOQ)
Foil de Molybdeno de Alta Pureza para Sputtering de Semiconductores (PVD) Foil de Mo Grosor Personalizable 0.01mm-0.2mm

Foil de Molybdeno de Alta Pureza para Sputtering de Semiconductores (PVD) Foil de Mo Grosor Personalizable 0.01mm-0.2mm

US$ 200,00-450,00
50 Kg(MOQ)
Bote de Níquel de Alta Pureza 99.6% Crisol de Níquel Resistente al Calor para Fundición de Metales Semiconductores en Laboratorio

Bote de Níquel de Alta Pureza 99.6% Crisol de Níquel Resistente al Calor para Fundición de Metales Semiconductores en Laboratorio

US$ 22,00-26,00
50 Kg(MOQ)
1/4

Junsion Precision Hardware Co., Ltd.

7 años
·Fabricante/Fábrica & Empresa Comercial
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Objetivo de pulverización de titanio, aluminio, cobre, cromo, níquel, tubo de magnetrón, recubrimiento PVD rotativo

Objetivo de pulverización de titanio, aluminio, cobre, cromo, níquel, tubo de magnetrón, recubrimiento PVD rotativo

US$ 0,50-10,00
10 Piezas(MOQ)
Piezas de torneado de aluminio anodizado de maquinaria de precisión

Piezas de torneado de aluminio anodizado de maquinaria de precisión

US$ 0,50-10,00
10 Piezas(MOQ)
1/4

Inner Mongolia Rongtai Rhenium New Materials Co., Ltd.

5.0
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Objetivo de Sputtering de Metal de Gadolinio de Alta Pureza para Aplicaciones de PVD

Objetivo de Sputtering de Metal de Gadolinio de Alta Pureza para Aplicaciones de PVD

US$ 55,00-85,00
1 Pieza(MOQ)
1/4

Jinan Hengcheng Aluminum Co., Ltd.

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Objetivo de Sputtering de Aluminio Titanio Alloy/50 para Máquina de Recubrimiento PVD

Objetivo de Sputtering de Aluminio Titanio Alloy/50 para Máquina de Recubrimiento PVD

US$ 3.380,00
1 Tonelada(MOQ)
1/4

Xiamen Wintrustek Advanced Materials Co., Ltd.

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Objetivo de Sputtering de Cerámica de Hexaburó de Lantano Lab6 para Recubrimiento de Película Delgada PVD

Objetivo de Sputtering de Cerámica de Hexaburó de Lantano Lab6 para Recubrimiento de Película Delgada PVD

US$ 50,00-200,00
1 Pieza(MOQ)
1/4

Ningbo Danko Vacuum Technology Co., Ltd.

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Metalización al vacío de aleación de titanio y aluminio

Metalización al vacío de aleación de titanio y aluminio

US$ 30,00-100,00
1 Pieza(MOQ)
Recubrimiento al vacío de objetivo de titanio

Recubrimiento al vacío de objetivo de titanio

US$ 30,00-100,00
1 Pieza(MOQ)
Planta de recubrimiento al vacío PVD de múltiples arcos grande de China

Planta de recubrimiento al vacío PVD de múltiples arcos grande de China

US$ 85.000,00-140.000,00
1 Pieza(MOQ)
Fabricante de máquina de recubrimiento PVD para grifos de acero inoxidable

Fabricante de máquina de recubrimiento PVD para grifos de acero inoxidable

US$ 15.000,00-150.000,00
1 Pieza(MOQ)
1/4

Zhejiang Ruisheng New Materials Co., Ltd.

Empresa Comercial
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Objetivo de Molybdeno de Alta Pureza para Aplicaciones Industriales Avanzadas

Objetivo de Molybdeno de Alta Pureza para Aplicaciones Industriales Avanzadas

US$ 30,00-60,00
1 Kg(MOQ)
Objetivo de tungsteno rotativo premium para aplicaciones de sputtering eficientes

Objetivo de tungsteno rotativo premium para aplicaciones de sputtering eficientes

US$ 50,00-270,00
10 Kg(MOQ)
Objetivo de molibdeno forjado de nanogrado para recubrimiento PVD uniforme

Objetivo de molibdeno forjado de nanogrado para recubrimiento PVD uniforme

US$ 30,00-60,00
1 Kg(MOQ)
Objetivo de sputtering de molibdeno personalizable con alta densidad para aplicaciones de recubrimiento de semiconductores y vidrio

Objetivo de sputtering de molibdeno personalizable con alta densidad para aplicaciones de recubrimiento de semiconductores y vidrio

US$ 30,00-80,00
10 Kg(MOQ)
1/4

Sino Resources Import & Export (Liao Ning) Co., Ltd.

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Cromo de la cadera de Sputtering meta para el revestimiento PVD decorativos

Cromo de la cadera de Sputtering meta para el revestimiento PVD decorativos

US$ 70,00-100,00
1 Pieza(MOQ)
Cromo de la cadera de Sputtering meta para el recubrimiento PVD 99.5 Destino Cr

Cromo de la cadera de Sputtering meta para el recubrimiento PVD 99.5 Destino Cr

US$ 60,00-90,00
1 Pieza(MOQ)
Chrome Sputtering Meta Hip 99,5 Cr objetivo para la PVD

Chrome Sputtering Meta Hip 99,5 Cr objetivo para la PVD

Negociable
1 Pieza(MOQ)
Cromo de alta pureza Sputtering Meta 99.5 Ronda Cr objetivo para la PVD

Cromo de alta pureza Sputtering Meta 99.5 Ronda Cr objetivo para la PVD

US$ 80,00-100,00
1 Pieza(MOQ)

Uv Tech Material Ltd

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Se puede girar Tiox Sial Plata Sputtering meta el tubo de cátodos de alta calidad de pureza para la PVD Nano material de película delgada

Se puede girar Tiox Sial Plata Sputtering meta el tubo de cátodos de alta calidad de pureza para la PVD Nano material de película delgada

Negociable
1 Pieza(MOQ)
Cromo Cr PVD Planar destino pegado en la Cooper la placa de apoyo o metro.

Cromo Cr PVD Planar destino pegado en la Cooper la placa de apoyo o metro.

Negociable
1 Pieza(MOQ)
Fábrica Uvtm Sputtering Meta fabricante en China de 18 años para Msvd Experiece y PVD continua vacío recubrimiento sputter Vicky 13249153016 la línea de producción

Fábrica Uvtm Sputtering Meta fabricante en China de 18 años para Msvd Experiece y PVD continua vacío recubrimiento sputter Vicky 13249153016 la línea de producción

Negociable
1 Pieza(MOQ)
PVD de aluminio cilíndrica de destino al destino Sputter giratorio el 99,999% pureza 2n-5n disponible

PVD de aluminio cilíndrica de destino al destino Sputter giratorio el 99,999% pureza 2n-5n disponible

Negociable
1 Pieza(MOQ)

Shenzhen Hongchen New Materials Co., Ltd

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Cobre objetivo de pulverización de múltiples arcos de placas de cobre de revestimiento PVD de fábrica Semiconductor rotativo

Cobre objetivo de pulverización de múltiples arcos de placas de cobre de revestimiento PVD de fábrica Semiconductor rotativo

US$ 10,00-15,00
1 Kg(MOQ)
La personalización de cromo cromo arco múltiple Material Objetivo magnetrón Sputtering para revestimiento PVD

La personalización de cromo cromo arco múltiple Material Objetivo magnetrón Sputtering para revestimiento PVD

US$ 10,00-15,00
1 Kg(MOQ)
99,999% Titanium Target TI Target para máquina de revestimiento PVD

99,999% Titanium Target TI Target para máquina de revestimiento PVD

US$ 10,00-15,00
1 Kg(MOQ)
Comercio al por mayor de la PVD High-Purity Fábrica de materiales de destino cobre plano

Comercio al por mayor de la PVD High-Purity Fábrica de materiales de destino cobre plano

US$ 10,00-15,00
1 Kg(MOQ)

Zhengzhou CY Scientific Instrument Co., Ltd.

13 años
·Fabricante/Fábrica & Empresa Comercial
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Aparato de recubrimiento por sputtering de magnetrón de un solo objetivo de acero inoxidable de escritorio

Aparato de recubrimiento por sputtering de magnetrón de un solo objetivo de acero inoxidable de escritorio

US$ 8.730,00-8.900,00
1 Pieza(MOQ)
Depósito por Sputtering de Magnetrón de Doble Objetivo de CC y RF para Películas Delgadas de Metal y Óxido

Depósito por Sputtering de Magnetrón de Doble Objetivo de CC y RF para Películas Delgadas de Metal y Óxido

US$ 21.000,00-26.000,00
1 Pieza(MOQ)
Máquina de recubrimiento por pulverización magnetrón de polvo para equipo de recubrimiento ideal

Máquina de recubrimiento por pulverización magnetrón de polvo para equipo de recubrimiento ideal

US$ 28.500,00-40.100,00
1 Pieza(MOQ)
Revestidor de Sputtering Magnetrón Personalizado con 3 Objetivos para la Preparación de Metal

Revestidor de Sputtering Magnetrón Personalizado con 3 Objetivos para la Preparación de Metal

US$ 28.500,00-40.100,00
1 Pieza(MOQ)
1/4

Suzhou Zhongzhina Semiconductor Technology Co., Ltd.

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Nitruro de boro (BN) Ceramic nitruro PVD esputtering Target, Titanium Diboride, Titanium Boride, Customized Size, Afizing Plate

Nitruro de boro (BN) Ceramic nitruro PVD esputtering Target, Titanium Diboride, Titanium Boride, Customized Size, Afizing Plate

Negociable
1 Pieza(MOQ)
Titanato de bario BaTiO3 Target, Titanato de estroncio de bario Target Basrtio3, PVD Magnetron sputtering Target, Laboratory Consumibles

Titanato de bario BaTiO3 Target, Titanato de estroncio de bario Target Basrtio3, PVD Magnetron sputtering Target, Laboratory Consumibles

Negociable
1 Pieza(MOQ)
Objetivo de Hafnio HF de alta pureza, objetivo de dióxido de Hafnio Hfo2, objetivo Hfzro2, objetivo de recubrimiento de vacío de magnetrón PVD

Objetivo de Hafnio HF de alta pureza, objetivo de dióxido de Hafnio Hfo2, objetivo Hfzro2, objetivo de recubrimiento de vacío de magnetrón PVD

Negociable
1 Pieza(MOQ)
Cromo (cromo) Metal de alta pureza objetivo para PVD Magnetron esputtering recubrimiento de vacío, tamaño de partículas personalizable, con servicio de unión de placas de apoyo

Cromo (cromo) Metal de alta pureza objetivo para PVD Magnetron esputtering recubrimiento de vacío, tamaño de partículas personalizable, con servicio de unión de placas de apoyo

Negociable
1 Pieza(MOQ)

Shanghai Zenkaah New Materials Technology Co., Ltd.

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Aluminio de alta pureza al objetivo, material objetivo de alúmina, PVD (deposición física de vapor) material de revestimiento, Magnetron esputtering aluminio objetivo, y soldadura

Aluminio de alta pureza al objetivo, material objetivo de alúmina, PVD (deposición física de vapor) material de revestimiento, Magnetron esputtering aluminio objetivo, y soldadura

Negociable
1 Pieza(MOQ)
Nitruro de boro (BN) Ceramic nitruro PVD esputtering Target, Titanium Diboride, Titanium Boride, Customized Size, Afizing Plate

Nitruro de boro (BN) Ceramic nitruro PVD esputtering Target, Titanium Diboride, Titanium Boride, Customized Size, Afizing Plate

Negociable
1 Pieza(MOQ)
Material de blanco de silicio de PVD (deposición física de vapor) de alta pureza para revestimiento de espumación de magnetrón, objetivo de dióxido de silicio (SiO2)

Material de blanco de silicio de PVD (deposición física de vapor) de alta pureza para revestimiento de espumación de magnetrón, objetivo de dióxido de silicio (SiO2)

Negociable
1 Pieza(MOQ)
Objetivo de Hafnio HF de alta pureza, objetivo de dióxido de Hafnio Hfo2, objetivo Hfzro2, objetivo de recubrimiento de vacío de magnetrón PVD, Tamaño personalizable

Objetivo de Hafnio HF de alta pureza, objetivo de dióxido de Hafnio Hfo2, objetivo Hfzro2, objetivo de recubrimiento de vacío de magnetrón PVD, Tamaño personalizable

Negociable
1 Pieza(MOQ)

Guangdong Huicheng Vacuum Technology Co., Ltd.

20 años
·Fabricante/Fábrica & Empresa Comercial
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Máquina de recubrimiento al vacío PVD, filtro de tubo de medidor de objetivo, tubo de objetivo de zirconio

Máquina de recubrimiento al vacío PVD, filtro de tubo de medidor de objetivo, tubo de objetivo de zirconio

US$ 50,00
1 Pieza(MOQ)
Máquina de recubrimiento PVD de oro por magnetrón para joyería de acero inoxidable

Máquina de recubrimiento PVD de oro por magnetrón para joyería de acero inoxidable

US$ 60.000,00-300.000,00
1 Set(MOQ)
Grifos/Mezcladores/Duchas Soportes Manijas de Puerta Recubrimiento de Metal PVD Máquina

Grifos/Mezcladores/Duchas Soportes Manijas de Puerta Recubrimiento de Metal PVD Máquina

US$ 80.000,00
1 Set(MOQ)
Máquina de recubrimiento por evaporación PVD en vacío de plástico y aluminio Hcvac

Máquina de recubrimiento por evaporación PVD en vacío de plástico y aluminio Hcvac

US$ 60.000,00-300.000,00
1 Set(MOQ)
1/4

Hunan Radiance Material Co., Ltd

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Objetivos de tungsteno de alta pureza para el esputo de PVD

Objetivos de tungsteno de alta pureza para el esputo de PVD

Negociable
1 Pieza(MOQ)
Blancos de alta pureza para el espumamiento de PVD

Blancos de alta pureza para el espumamiento de PVD

Negociable
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15
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