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blancos de sputtering de óxidos70+ fábricas verificadas

SUZHOU TECHNO-TEC PHOTOELECTRIC MATERIALS CO., LTD

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In2O3+Cu Objetivo cerámico de óxido de indio + objetivo cerámico de cobre para LCD/panel táctil

In2O3+Cu Objetivo cerámico de óxido de indio + objetivo cerámico de cobre para LCD/panel táctil

US$ 40,00
1 Kg(MOQ)
SiO2 Objetivo Cerámico de Sputtering Óxido de Silicio Objetivo Cerámico de Sputtering para Recubrimiento de Película PVD

SiO2 Objetivo Cerámico de Sputtering Óxido de Silicio Objetivo Cerámico de Sputtering para Recubrimiento de Película PVD

US$ 25,00-100,00
1 Kg(MOQ)
Objetivo de Sputtering TeSeO Tellururo Óxido Cerámico para Semiconductores

Objetivo de Sputtering TeSeO Tellururo Óxido Cerámico para Semiconductores

US$ 500,00
1 Kg(MOQ)
In2O3 Objetivo de cerámica de óxido de indio para sputtering para LCD/panel táctil

In2O3 Objetivo de cerámica de óxido de indio para sputtering para LCD/panel táctil

US$ 650,00
1 Kg(MOQ)
1/4

Changsha Xinkang Advanced Materials Co., Ltd.

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Objetivo de sputtering de cerámica ITO de alta pureza para aplicaciones de recubrimiento de óxido conductor transparente

Objetivo de sputtering de cerámica ITO de alta pureza para aplicaciones de recubrimiento de óxido conductor transparente

US$ 110,00-120,00
1 Pieza(MOQ)
Objetivo de sputtering de óxido de indio de alta pureza

Objetivo de sputtering de óxido de indio de alta pureza

US$ 35,00-150,00
1 Pieza(MOQ)
Objetivo de Cerámica de Óxido de Aluminio 99.99% Disco Redondo Al2O3 Objetivo de Sputtering Tamaño Personalizado

Objetivo de Cerámica de Óxido de Aluminio 99.99% Disco Redondo Al2O3 Objetivo de Sputtering Tamaño Personalizado

US$ 35,00-65,00
1 Pieza(MOQ)
99.9% Objetivo de cerámica de óxido de níquel de Nio para recubrimiento PVD

99.9% Objetivo de cerámica de óxido de níquel de Nio para recubrimiento PVD

US$ 100,00-400,00
1 Pieza(MOQ)
1/4

Lonwin Industry Group Limited

5.0
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Zro2-Sio2 Objetivos de Sputtering de Óxido de Circonio - Dióxido de Silicio - Silicato de Circonio

Zro2-Sio2 Objetivos de Sputtering de Óxido de Circonio - Dióxido de Silicio - Silicato de Circonio

US$ 17,00-55,00
1 Kg(MOQ)
Óxidos de Zirconio de Alta Pureza 99.99% Objetivos de Cerámica de Dióxido de Zirconio Zro2 Objetivos de Sputtering de Dióxido de Zirconio

Óxidos de Zirconio de Alta Pureza 99.99% Objetivos de Cerámica de Dióxido de Zirconio Zro2 Objetivos de Sputtering de Dióxido de Zirconio

US$ 17,00-55,00
1 Kg(MOQ)
Al2O3-MGO Objetivos Cerámicos Óxido de Aluminio - Óxido de Magnesio para Sputtering

Al2O3-MGO Objetivos Cerámicos Óxido de Aluminio - Óxido de Magnesio para Sputtering

US$ 17,00-55,00
1 Kg(MOQ)
99.99% Objetivo de Sputtering de Óxido de Plomo de Cerámica Pura Pbo

99.99% Objetivo de Sputtering de Óxido de Plomo de Cerámica Pura Pbo

US$ 17,00-55,00
1 Kg(MOQ)
1/4

Inner Mongolia Rongtai Rhenium New Materials Co., Ltd.

5.0
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Objetivo de Sputtering de Óxido de Ytterbio de Alta Pureza para Aplicaciones Electrónicas

Objetivo de Sputtering de Óxido de Ytterbio de Alta Pureza para Aplicaciones Electrónicas

US$ 190,00-199,00
1 Pieza(MOQ)
Disco de objetivo de pulverización de óxido de cobre, bario y itrio de alta calidad para electrónica

Disco de objetivo de pulverización de óxido de cobre, bario y itrio de alta calidad para electrónica

US$ 190,00-199,00
1 Pieza(MOQ)
Objetivo de Sputtering de Óxido de Ytrio de Alta Pureza para Aplicaciones de Recubrimiento

Objetivo de Sputtering de Óxido de Ytrio de Alta Pureza para Aplicaciones de Recubrimiento

US$ 115,00-130,00
1 Pieza(MOQ)
Objetivo redondo de cerio de alta pureza para células solares eficientes

Objetivo redondo de cerio de alta pureza para células solares eficientes

US$ 55,00-85,00
1 Pieza(MOQ)
1/4

Dongguan Gravel Industries and Enterprise Company Limited

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Objetivo de Óxido de Indio y Estaño ITO para Sputtering al Vacío PVD Objetivo Creen

Objetivo de Óxido de Indio y Estaño ITO para Sputtering al Vacío PVD Objetivo Creen

US$ 4.600,00
1 Pieza(MOQ)
Objetivo de Sputtering de Óxido de Aluminio Al2O3 Objetivo

Objetivo de Sputtering de Óxido de Aluminio Al2O3 Objetivo

US$ 6.000,00
1 Pieza(MOQ)
Objetivo de Sputtering de Óxido de Magnesio MGO2 Objetivo

Objetivo de Sputtering de Óxido de Magnesio MGO2 Objetivo

US$ 6.500,00
1 Pieza(MOQ)
Objetivo de Óxido de Ytrio Y2o3 Objetivo

Objetivo de Óxido de Ytrio Y2o3 Objetivo

US$ 6.500,00
1 Pieza(MOQ)
1/4

Zhengzhou CY Scientific Instrument Co., Ltd.

13 años
·Fabricante/Fábrica & Empresa Comercial
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Depósito por Sputtering de Magnetrón de Doble Objetivo de CC y RF para Películas Delgadas de Metal y Óxido

Depósito por Sputtering de Magnetrón de Doble Objetivo de CC y RF para Películas Delgadas de Metal y Óxido

US$ 21.000,00-26.000,00
1 Pieza(MOQ)
Cuatro máquinas de recubrimiento por sputtering magnetrón de objetivo para semiconductores

Cuatro máquinas de recubrimiento por sputtering magnetrón de objetivo para semiconductores

US$ 8.730,00-8.900,00
1 Pieza(MOQ)
Máquina de recubrimiento por pulverización magnetrón de polvo para equipo de recubrimiento ideal

Máquina de recubrimiento por pulverización magnetrón de polvo para equipo de recubrimiento ideal

US$ 28.500,00-40.100,00
1 Pieza(MOQ)
Recubridor de Sputtering Magnetrón de Tres Objetivos de Corriente Continua para Película de PTFE

Recubridor de Sputtering Magnetrón de Tres Objetivos de Corriente Continua para Película de PTFE

US$ 28.500,00-40.100,00
1 Pieza(MOQ)
1/4

Xiamen HiuGong Machinery Co., Ltd.

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99.99% Objetivo de Sputtering de Óxido de Galio Objetivo Plano Ga2o3 Objetivo

99.99% Objetivo de Sputtering de Óxido de Galio Objetivo Plano Ga2o3 Objetivo

US$ 300,00
1 Pieza(MOQ)
Equipo de recubrimiento por pulverización de plasma, antiadherente, resistente al desgaste, silicio, aluminio, alúmina, circonio

Equipo de recubrimiento por pulverización de plasma, antiadherente, resistente al desgaste, silicio, aluminio, alúmina, circonio

US$ 35.000,00
1 Pieza(MOQ)
1/4

Junsion Precision Hardware Co., Ltd.

7 años
·Fabricante/Fábrica & Empresa Comercial
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Objetivo de pulverización de titanio, aluminio, cobre, cromo, níquel, tubo de magnetrón, recubrimiento PVD rotativo

Objetivo de pulverización de titanio, aluminio, cobre, cromo, níquel, tubo de magnetrón, recubrimiento PVD rotativo

US$ 0,50-10,00
10 Piezas(MOQ)
1/4

Jiangxi CNP New Chemical Materials Co., Ltd.

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Óxido de estaño (SnO2) Material de evaporación en forma de pellet 1-10mm Pureza 99.99% Objetivo de pulverización

Óxido de estaño (SnO2) Material de evaporación en forma de pellet 1-10mm Pureza 99.99% Objetivo de pulverización

US$ 200,00
1 Kg(MOQ)
1/4

CHANGSHA EASCHEM CO., LIMITED

5 años
·Empresa Comercial
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Precio de fábrica Vender alta calidad objetivo de sputtering ITO 4n In2o3 y Sno2

Precio de fábrica Vender alta calidad objetivo de sputtering ITO 4n In2o3 y Sno2

Negociable
1 Piece(MOQ)
Varilla de metal de samario granular CAS No 7440-19-9 Sm 3n 4n

Varilla de metal de samario granular CAS No 7440-19-9 Sm 3n 4n

Negociable
1 Piece(MOQ)
Objetivo de sputtering de niobio de alta calidad con número CAS 7440-03-1

Objetivo de sputtering de niobio de alta calidad con número CAS 7440-03-1

Negociable
1 Piece(MOQ)
Precio de fábrica Vender bajo densidad 4n objetivo redondo pequeño ITO

Precio de fábrica Vender bajo densidad 4n objetivo redondo pequeño ITO

Negociable
1 Piece(MOQ)
1/4

Shenzhen Hongchen New Materials Co., Ltd

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Fábrica de Guangdong placa de cobre de óxido de estaño indio ITO Sputtering Objetivos

Fábrica de Guangdong placa de cobre de óxido de estaño indio ITO Sputtering Objetivos

US$ 10,00-15,00
1 Kg(MOQ)
Rotación de cobre de destino de pulverización de cobre de fábrica para conductor semiconductor recubierto de metal

Rotación de cobre de destino de pulverización de cobre de fábrica para conductor semiconductor recubierto de metal

US$ 10,00-15,00
1 Kg(MOQ)
Cobre objetivo de pulverización de múltiples arcos de placas de cobre de revestimiento PVD de fábrica Semiconductor rotativo

Cobre objetivo de pulverización de múltiples arcos de placas de cobre de revestimiento PVD de fábrica Semiconductor rotativo

US$ 10,00-15,00
1 Kg(MOQ)
Fábrica de Guangdong puro mayorista del 99,95% de la placa de lámina de cobre de Sputtering Meta Fabricación

Fábrica de Guangdong puro mayorista del 99,95% de la placa de lámina de cobre de Sputtering Meta Fabricación

US$ 10,00-15,00
1 Kg(MOQ)

Zhengzhou Tainuo Film Materials Co., Ltd.

9 años
·Fabricante/Fábrica
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500W DC 300W RF Doble Objetivo Magnetrón Sputtering Coater para Sputtering Metales y Óxidos

500W DC 300W RF Doble Objetivo Magnetrón Sputtering Coater para Sputtering Metales y Óxidos

US$ 31.000,00-32.500,00
1 set(MOQ)
4-Inch Recubridor de Sputtering de Magnetrón de Objetivo Único de Corriente Continua para Película de Óxido

4-Inch Recubridor de Sputtering de Magnetrón de Objetivo Único de Corriente Continua para Película de Óxido

US$ 32.000,00-34.000,00
1 set(MOQ)
Recubridor de magnetrón de sputtering de doble objetivo RF de cerámica, dieléctrico, óptico, óxido, película dura, película de PTFE

Recubridor de magnetrón de sputtering de doble objetivo RF de cerámica, dieléctrico, óptico, óxido, película dura, película de PTFE

US$ 26.500,00
1 Pieza(MOQ)
Máquina de recubrimiento PVD por magnetrón de sputtering de vacío de doble objetivo para películas semiconductoras

Máquina de recubrimiento PVD por magnetrón de sputtering de vacío de doble objetivo para películas semiconductoras

US$ 26.500,00
1 Pieza(MOQ)
1/4

Shanghai Zenkaah New Materials Technology Co., Ltd.

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Material objetivo DE ITO (óxido de estaño de Indium), película conductiva transparente de Indium Tin Oxide Semiconductor, objetivo de espumación de Magnetron, Especificaciones personalizadas

Material objetivo DE ITO (óxido de estaño de Indium), película conductiva transparente de Indium Tin Oxide Semiconductor, objetivo de espumación de Magnetron, Especificaciones personalizadas

Negociable
1 Pieza(MOQ)
Óxido de ytterbio material objetivo Yb2O3, Investigación Científica material experimental, esputtering Coating, evaporación Coating, Semiconductor

Óxido de ytterbio material objetivo Yb2O3, Investigación Científica material experimental, esputtering Coating, evaporación Coating, Semiconductor

Negociable
1 Pieza(MOQ)
Material objetivo de aluminio óxido de zinc de alta pureza (AZO), óxido de zinc (ZnO) dopado con óxido de aluminio (Al2O3), objetivo de óxido de esputo de magnetrón, unión de placa trasera.

Material objetivo de aluminio óxido de zinc de alta pureza (AZO), óxido de zinc (ZnO) dopado con óxido de aluminio (Al2O3), objetivo de óxido de esputo de magnetrón, unión de placa trasera.

Negociable
1 Pieza(MOQ)

Ningbo Galaxy International Trading Co., Ltd.

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Resistencia al calor, resistencia y tenacidad del objetivo redondo de titanio

Resistencia al calor, resistencia y tenacidad del objetivo redondo de titanio

US$ 10,00
5 Piezas(MOQ)
1/4

Jinan Hengcheng Aluminum Co., Ltd.

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Bloques de aluminio metal para objetivo de sputtering de aluminio para investigación en laboratorio

Bloques de aluminio metal para objetivo de sputtering de aluminio para investigación en laboratorio

US$ 2.960,00
1 Tonelada(MOQ)
1/4

Jiangyin Maideli Advanced Materials Co., Ltd.

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Ybco Yba2Cu3O7 itrio de óxido de cobre de bario de Sputtering meta

Ybco Yba2Cu3O7 itrio de óxido de cobre de bario de Sputtering meta

US$ 250,00-500,00
1 Pieza(MOQ)

Tianjin Jilian Technology Co., Ltd.

3 años·5.0
·Empresa Comercial
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Pólder de objetivo de pulverización de óxido de magnesio (MGO) CAS1309-48-4

Pólder de objetivo de pulverización de óxido de magnesio (MGO) CAS1309-48-4

US$ 550,00-1.500,00
10 Montones(MOQ)
1/4

Rheniumet Ltd.

17 años
·Empresa Comercial
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99.99. % Placa de tungsteno Wolfram Tungsteno para pulverización al vacío al mejor precio

99.99. % Placa de tungsteno Wolfram Tungsteno para pulverización al vacío al mejor precio

Negociable
1 Pieza(MOQ)
Objetivo de Sputtering de Tungsteno de Alta Pureza 99.99% & 99.999% para Recubrimiento de Película Delgada, Wolfram

Objetivo de Sputtering de Tungsteno de Alta Pureza 99.99% & 99.999% para Recubrimiento de Película Delgada, Wolfram

US$ 100,00-300,00
1 kilograms(MOQ)
Objetivo de Sputtering de Titanio Tungsteno Wti10 99.99%

Objetivo de Sputtering de Titanio Tungsteno Wti10 99.99%

US$ 200,00-1.000,00
1 Pieza(MOQ)
99.98%~99.998% Objetivo de Aluminio Al para Condensadores Electrolíticos

99.98%~99.998% Objetivo de Aluminio Al para Condensadores Electrolíticos

Negociable
1 Pieza(MOQ)
1/4

Zhengzhou Shibo Nonferrous Metals Products Co., Ltd.

21 años·5.0
·Fabricante/Fábrica & Empresa Comercial
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Objetivo de molibdeno para recubrimiento por pulverización al vacío

Objetivo de molibdeno para recubrimiento por pulverización al vacío

US$ 45,00
1 kg(MOQ)
Placa de tungsteno (W) pura y delgada

Placa de tungsteno (W) pura y delgada

US$ 50,00
10 Kg(MOQ)
99.95% Hojas y Placas de Tungsteno Pulido Puro

99.95% Hojas y Placas de Tungsteno Pulido Puro

US$ 45,00
1 Kg(MOQ)
Placa de tungsteno de alta pureza para horno de vacío

Placa de tungsteno de alta pureza para horno de vacío

US$ 45,00
1 Kg(MOQ)
1/2

Fuzhou Nuoxin Advanced Material Co. Ltd.

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Itrio Óxido de Zirconio Ysz(ZRO2/S2o3 99,99% de Sputtering Meta Objetivo de cerámica

Itrio Óxido de Zirconio Ysz(ZRO2/S2o3 99,99% de Sputtering Meta Objetivo de cerámica

Negociable
1 Pieza(MOQ)
Objetivo de aleación de alta pureza del 99,99% de 4n nio de óxido de níquel para Thin-Film recubrimiento óptico PVD EVAPORACIÓN

Objetivo de aleación de alta pureza del 99,99% de 4n nio de óxido de níquel para Thin-Film recubrimiento óptico PVD EVAPORACIÓN

Negociable
1 Pieza(MOQ)
Óxido ferroso Feo 4n Sputtering Target para recubrimiento PVD

Óxido ferroso Feo 4n Sputtering Target para recubrimiento PVD

Negociable
1 Pieza(MOQ)
Esputo Target ITO Indium Tin Oxide 4n 99,99% para Optico Revestimiento

Esputo Target ITO Indium Tin Oxide 4n 99,99% para Optico Revestimiento

Negociable
1 Pieza(MOQ)

UV Tech Material Co., Ltd.

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Rotary Tiox destino, principalmente para la aplicación de recubrimiento de vidrio Low-E, el magnetrón Sputtering Meta, meta de óxido de titanio

Rotary Tiox destino, principalmente para la aplicación de recubrimiento de vidrio Low-E, el magnetrón Sputtering Meta, meta de óxido de titanio

Negociable
1 Pieza(MOQ)
Unión ITO placa de destino Indio Tin Oxide esputtering Target 99,99% 4n Ceramic Target.

Unión ITO placa de destino Indio Tin Oxide esputtering Target 99,99% 4n Ceramic Target.

Negociable
1 Pieza(MOQ)
99,99% ITO objetivo 97: 3 95: 5 90: 10 Indium Tin Oxide esputtering objetivo para película conductiva

99,99% ITO objetivo 97: 3 95: 5 90: 10 Indium Tin Oxide esputtering objetivo para película conductiva

Negociable
1 Pieza(MOQ)
En trióxido de óxido de indio2o3 en polvo, de alta pureza del 99,99% de polvo de trióxido de indio, en2o3 Precio de polvo de óxido de indio

En trióxido de óxido de indio2o3 en polvo, de alta pureza del 99,99% de polvo de trióxido de indio, en2o3 Precio de polvo de óxido de indio

Negociable
50 Kg(MOQ)

Xiamen Tmax Battery Equipments Limited

5.0
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Equipo de recubrimiento por pulverización PVD de doble objetivo RF&DC&MF para películas multicapa conductoras

Equipo de recubrimiento por pulverización PVD de doble objetivo RF&DC&MF para películas multicapa conductoras

US$ 45.000,00
1 Pieza(MOQ)
Sistema de Sputtering Magnetrón de Alto Vacío Versátil con Múltiples Objetivos para la Deposición de Películas Multicapa Compuestas

Sistema de Sputtering Magnetrón de Alto Vacío Versátil con Múltiples Objetivos para la Deposición de Películas Multicapa Compuestas

US$ 50.000,00
1 Pieza(MOQ)
Coater de Sputtering Magnetrón DC/RF de banco para metales, óxidos, cerámicas y semiconductores

Coater de Sputtering Magnetrón DC/RF de banco para metales, óxidos, cerámicas y semiconductores

US$ 15.000,00
1 Pieza(MOQ)
Materiales de recubrimiento PVD de alta pureza de la marca TMAXCN Óxido de tungsteno Wo3 Objetivo de sputtering

Materiales de recubrimiento PVD de alta pureza de la marca TMAXCN Óxido de tungsteno Wo3 Objetivo de sputtering

US$ 78,00-90,00
1 Pieza(MOQ)
1/4

Beijing Loyaltarget Technology Co, Limited

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Bi2O3 blanco de Sputtering cerámica

Bi2O3 blanco de Sputtering cerámica

Negociable
1 Pieza(MOQ)
Al2O3 blanco de Sputtering cerámica

Al2O3 blanco de Sputtering cerámica

Negociable
1 Pieza(MOQ)
De ITO Target / In2O3: SnO2 = 90: 10% en peso / de ITO planar Blanco de sputtering

De ITO Target / In2O3: SnO2 = 90: 10% en peso / de ITO planar Blanco de sputtering

Negociable
1 Pieza(MOQ)
Azo de aluminio blanco de Sputtering meta de óxido de zinc

Azo de aluminio blanco de Sputtering meta de óxido de zinc

Negociable
1 Pieza(MOQ)

Able Target Limited

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Sputtering Meta, Al2O3/Óxido de aluminio, Al2O3/ZnO/Azo de óxido de zinc aluminio

Sputtering Meta, Al2O3/Óxido de aluminio, Al2O3/ZnO/Azo de óxido de zinc aluminio

Negociable
1 Pieza(MOQ)
Blancos de la farfulla de Gdbacuox y blancos de la farfulla de Ybacuox, Gdba1.8cu3ox, Gdba1.9cu3ox, Yba2cu3o7, Y1ba2cu3o7, Ybacuox

Blancos de la farfulla de Gdbacuox y blancos de la farfulla de Ybacuox, Gdba1.8cu3ox, Gdba1.9cu3ox, Yba2cu3o7, Y1ba2cu3o7, Ybacuox

Negociable
1 Pieza(MOQ)
Los objetivos de sputtering

Los objetivos de sputtering

Negociable
1 Pieza(MOQ)
Blanco de la farfulla de la tierra rara

Blanco de la farfulla de la tierra rara

Negociable
1 Pieza(MOQ)

Ningbo Sen Ao Electronic Technology Co., Ltd

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El 99,95% de ahorro de energía de ZnO Producting cristal Low-E inteligente de Vidrio Cristal de óxido de zinc de Sputtering ZnO placas de hoja de destino

El 99,95% de ahorro de energía de ZnO Producting cristal Low-E inteligente de Vidrio Cristal de óxido de zinc de Sputtering ZnO placas de hoja de destino

Negociable
1 Pieza(MOQ)
El 99,95% Zro Óxido de zirconio de Sputtering Zro Placas de hoja de destino Zro óxidos Meta Puttering zirconio

El 99,95% Zro Óxido de zirconio de Sputtering Zro Placas de hoja de destino Zro óxidos Meta Puttering zirconio

Negociable
1 Pieza(MOQ)
ITO Tamaño personalizable el 99,99% de óxido de estaño indio gira ITO blanco de Sputtering cerámica

ITO Tamaño personalizable el 99,99% de óxido de estaño indio gira ITO blanco de Sputtering cerámica

Negociable
1 Pieza(MOQ)
El 99,9% de óxido de titanio Tiox Sputtering PVD Objetivo Objetivo giratorio de Recubrimiento de óxido de titanio Tiox vacío Sputtering meta

El 99,9% de óxido de titanio Tiox Sputtering PVD Objetivo Objetivo giratorio de Recubrimiento de óxido de titanio Tiox vacío Sputtering meta

Negociable
1 Pieza(MOQ)

Enam Optoelectronic Material Co., Ltd

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ITO, ITO blanco de Sputtering Planar película de vidrio, Tp/tn/STN/TFT-LCD Meta ITO

ITO, ITO blanco de Sputtering Planar película de vidrio, Tp/tn/STN/TFT-LCD Meta ITO

Negociable
1 Pieza(MOQ)
Iwo Objetivo, células solares Hit Iwo Destino, destino de óxido Indium-Tungsten

Iwo Objetivo, células solares Hit Iwo Destino, destino de óxido Indium-Tungsten

Negociable
1 Pieza(MOQ)
Objetivo de ITO, Ito, Tp objetivo giratorio TFT-LCD STN Tn ITO blanco

Objetivo de ITO, Ito, Tp objetivo giratorio TFT-LCD STN Tn ITO blanco

Negociable
1 Pieza(MOQ)
Objetivo de óxido de indio, en2o3 blanco

Objetivo de óxido de indio, en2o3 blanco

Negociable
1 Pieza(MOQ)

Weihai Chenyu Vacuum Technology Co., Ltd

4 años
·Fabricante/Fábrica & Empresa Comercial
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Máquina de recubrimiento de película conductora transparente de alto rendimiento con objetivo de ITO y recubrimiento de argón

Máquina de recubrimiento de película conductora transparente de alto rendimiento con objetivo de ITO y recubrimiento de argón

Negociable
1 Pieza(MOQ)
Máquina de recubrimiento por pulverización catódica a gran escala con múltiples objetivos de cátodo para recubrimiento de argón

Máquina de recubrimiento por pulverización catódica a gran escala con múltiples objetivos de cátodo para recubrimiento de argón

Negociable
1 Pieza(MOQ)
Revestidor de película al vacío de alta estabilidad con estructura mecánica robusta máquina de recubrimiento de Ar

Revestidor de película al vacío de alta estabilidad con estructura mecánica robusta máquina de recubrimiento de Ar

Negociable
1 Pieza(MOQ)
Tecnología de recubrimiento ecológico y limpio con máquina de recubrimiento Ar de baja emisión de contaminación

Tecnología de recubrimiento ecológico y limpio con máquina de recubrimiento Ar de baja emisión de contaminación

Negociable
1 Pieza(MOQ)
1/4

China Leadmat Advanced Materials Co., Ltd.

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Objetivo de Sputtering de Aluminio

Objetivo de Sputtering de Aluminio

US$ 15,00
1 Pieza(MOQ)
Los objetivos de sputtering

Los objetivos de sputtering

US$ 60,00
1 Pieza(MOQ)
Objetivo de Sputtering de cerámica

Objetivo de Sputtering de cerámica

US$ 45,00
1 Pieza(MOQ)

Xi'an Kefeng Powder Metallurgy Co., Ltd.

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Foil de tungsteno de alta calidad Kefeng con un grosor de 0.001inches (0.025mm) a 0.08 pulgadas (2 mm)

Foil de tungsteno de alta calidad Kefeng con un grosor de 0.001inches (0.025mm) a 0.08 pulgadas (2 mm)

US$ 50,00-500,00
10 Kg(MOQ)
Aleación de molibdeno Tzm en la industria comercial de tratamiento térmico

Aleación de molibdeno Tzm en la industria comercial de tratamiento térmico

US$ 100,00-500,00
10 Kg(MOQ)
1/4

ATM Material Co., Ltd.

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Objetivo de pulverización

Objetivo de pulverización

US$ 0,10-100,00
1.000 Piezas(MOQ)
1/4
13
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