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blancos de sputtering de óxidos80+ fábricas verificadas

SUZHOU TECHNO-TEC PHOTOELECTRIC MATERIALS CO., LTD

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In2O3+Cu Objetivo cerámico de óxido de indio + objetivo cerámico de cobre para LCD/panel táctil

In2O3+Cu Objetivo cerámico de óxido de indio + objetivo cerámico de cobre para LCD/panel táctil

US$ 40,00
1 Kg(MOQ)
Objetivo de sputtering de óxido de cobre de alta pureza para semiconductores

Objetivo de sputtering de óxido de cobre de alta pureza para semiconductores

US$ 10,00
1 Kg(MOQ)
Objetivo de Sputtering TeO, objetivo cerámico de telururo óxido para semiconductores

Objetivo de Sputtering TeO, objetivo cerámico de telururo óxido para semiconductores

US$ 500,00
1 Kg(MOQ)
SiO2 Objetivo Cerámico de Sputtering Óxido de Silicio Objetivo Cerámico de Sputtering para Recubrimiento de Película PVD

SiO2 Objetivo Cerámico de Sputtering Óxido de Silicio Objetivo Cerámico de Sputtering para Recubrimiento de Película PVD

US$ 25,00-100,00
1 Kg(MOQ)
1/4

Changsha Xinkang Advanced Materials Co., Ltd.

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Objetivo de sputtering de óxido de cromo de tamaño personalizado para recubrimiento de deposición de película delgada

Objetivo de sputtering de óxido de cromo de tamaño personalizado para recubrimiento de deposición de película delgada

US$ 110,00-120,00
1 Pieza(MOQ)
Objetivo PVD Color Blanco o Negro TiO2 Objetivo de Sputtering de Óxido de Titanio

Objetivo PVD Color Blanco o Negro TiO2 Objetivo de Sputtering de Óxido de Titanio

US$ 50,00
1 Pieza(MOQ)
99.99 Óxido de Ytrio Puro Y2o3 Proveedor de Objetivos de Sputtering para Recubrimiento PVD

99.99 Óxido de Ytrio Puro Y2o3 Proveedor de Objetivos de Sputtering para Recubrimiento PVD

US$ 100,00-1.000,00
1 Pieza(MOQ)
99.99 Óxido de Niobio Puro Nb2o5 Proveedor de Objetivos de Sputtering para Recubrimiento PVD

99.99 Óxido de Niobio Puro Nb2o5 Proveedor de Objetivos de Sputtering para Recubrimiento PVD

US$ 500,00-1.500,00
1 Kg(MOQ)
1/4

Lonwin Industry Group Limited

5.0
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Objetivo de Sputtering de Óxido de Indio y Estaño (ITO) de Alta Pureza 99.99% para Recubrimiento PVD

Objetivo de Sputtering de Óxido de Indio y Estaño (ITO) de Alta Pureza 99.99% para Recubrimiento PVD

US$ 17,00-55,00
1 Kg(MOQ)
Cuo-In2o3 Objetivos Cerámicos Óxido de Cobre - Objetivo de Sputtering Óxido de Indio

Cuo-In2o3 Objetivos Cerámicos Óxido de Cobre - Objetivo de Sputtering Óxido de Indio

US$ 17,00-55,00
1 Kg(MOQ)
99.99 % Alta Pureza Gd2o3 Objetivo Cerámico Óxido de Gadolinio Objetivo de Sputtering

99.99 % Alta Pureza Gd2o3 Objetivo Cerámico Óxido de Gadolinio Objetivo de Sputtering

US$ 17,00-55,00
1 Kg(MOQ)
Objetivos de Sputtering de Cerámica de Óxido de Niobio de Alta Pureza Nb2o5

Objetivos de Sputtering de Cerámica de Óxido de Niobio de Alta Pureza Nb2o5

US$ 17,00-55,00
1 Kg(MOQ)
1/4

Inner Mongolia Rongtai Rhenium New Materials Co., Ltd.

5.0
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Objetivo de Sputtering de Óxido de Ytrio de Alta Pureza para Aplicaciones de Recubrimiento

Objetivo de Sputtering de Óxido de Ytrio de Alta Pureza para Aplicaciones de Recubrimiento

US$ 115,00-130,00
1 Pieza(MOQ)
Objetivo de Sputtering de Óxido de Ytterbio de Alta Pureza para Aplicaciones Electrónicas

Objetivo de Sputtering de Óxido de Ytterbio de Alta Pureza para Aplicaciones Electrónicas

US$ 190,00-199,00
1 Pieza(MOQ)
Disco de objetivo de pulverización de óxido de cobre, bario y itrio de alta calidad para electrónica

Disco de objetivo de pulverización de óxido de cobre, bario y itrio de alta calidad para electrónica

US$ 190,00-199,00
1 Pieza(MOQ)
Objetivos de Sputtering de Ytrio Avanzados para Aplicaciones de Recubrimiento Superiores

Objetivos de Sputtering de Ytrio Avanzados para Aplicaciones de Recubrimiento Superiores

US$ 115,00-130,00
1 Pieza(MOQ)
1/4

Dongguan Gravel Industries and Enterprise Company Limited

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Objetivo de Óxido de Indio y Estaño ITO para Sputtering al Vacío PVD Objetivo Creen

Objetivo de Óxido de Indio y Estaño ITO para Sputtering al Vacío PVD Objetivo Creen

US$ 4.600,00
1 Pieza(MOQ)
Objetivo de Sputtering de Óxido de Aluminio Al2O3 Objetivo

Objetivo de Sputtering de Óxido de Aluminio Al2O3 Objetivo

US$ 6.000,00
1 Pieza(MOQ)
Objetivo de Sputtering de Óxido de Magnesio MGO2 Objetivo

Objetivo de Sputtering de Óxido de Magnesio MGO2 Objetivo

US$ 6.500,00
1 Pieza(MOQ)
Objetivo de Óxido de Ytrio Y2o3 Objetivo

Objetivo de Óxido de Ytrio Y2o3 Objetivo

US$ 6.500,00
1 Pieza(MOQ)
1/4

Ganzhou Zhanhai New Material Technology Co., Ltd.

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Objetivo de Sputtering de Óxido de Ytrio Premium 4n-5n para Catalizadores

Objetivo de Sputtering de Óxido de Ytrio Premium 4n-5n para Catalizadores

US$ 50,00-70,00
1 Kg(MOQ)
Óxido de Ytrio de Alta Pureza Y2o3 en Polvo para Aplicaciones Cerámicas

Óxido de Ytrio de Alta Pureza Y2o3 en Polvo para Aplicaciones Cerámicas

US$ 50,00-70,00
1 Kg(MOQ)
Polvo de Tierras Raras de Alta Pureza 99.995% Y2o3 Gránulo para Objetivo de Sputtering Cerámico

Polvo de Tierras Raras de Alta Pureza 99.995% Y2o3 Gránulo para Objetivo de Sputtering Cerámico

US$ 50,00-65,00
25 Kg(MOQ)
99.999% Óxido de Yttrio de Tierra Rara Y2o3 CAS 1314-36-9, Material de Producto de Circonia Premium

99.999% Óxido de Yttrio de Tierra Rara Y2o3 CAS 1314-36-9, Material de Producto de Circonia Premium

US$ 50,00-65,00
25 Kg(MOQ)
1/4

Zhengzhou CY Scientific Instrument Co., Ltd.

13 años
·Fabricante/Fábrica & Empresa Comercial
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Depósito por Sputtering de Magnetrón de Doble Objetivo de CC y RF para Películas Delgadas de Metal y Óxido

Depósito por Sputtering de Magnetrón de Doble Objetivo de CC y RF para Películas Delgadas de Metal y Óxido

US$ 21.000,00-26.000,00
1 Pieza(MOQ)
Revestidor de Sputtering Magnetrón Personalizado con 3 Objetivos para la Preparación de Metal

Revestidor de Sputtering Magnetrón Personalizado con 3 Objetivos para la Preparación de Metal

US$ 28.500,00-40.100,00
1 Pieza(MOQ)
Máquina de recubrimiento por pulverización magnetrón de polvo para equipo de recubrimiento ideal

Máquina de recubrimiento por pulverización magnetrón de polvo para equipo de recubrimiento ideal

US$ 28.500,00-40.100,00
1 Pieza(MOQ)
Cuatro recubridores de magnetrón por sputtering de Target con cámara de carga y descarga para película delgada de cerámica

Cuatro recubridores de magnetrón por sputtering de Target con cámara de carga y descarga para película delgada de cerámica

US$ 28.500,00-40.100,00
1 Pieza(MOQ)
1/4

Xiamen HiuGong Machinery Co., Ltd.

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99.99% Objetivo de Sputtering de Óxido de Galio Objetivo Plano Ga2o3 Objetivo

99.99% Objetivo de Sputtering de Óxido de Galio Objetivo Plano Ga2o3 Objetivo

US$ 300,00
1 Pieza(MOQ)
Equipo de recubrimiento por pulverización de plasma, antiadherente, resistente al desgaste, silicio, aluminio, alúmina, circonio

Equipo de recubrimiento por pulverización de plasma, antiadherente, resistente al desgaste, silicio, aluminio, alúmina, circonio

US$ 35.000,00
1 Pieza(MOQ)
1/4

Junsion Precision Hardware Co., Ltd.

7 años
·Fabricante/Fábrica & Empresa Comercial
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Objetivo de pulverización de titanio, aluminio, cobre, cromo, níquel, tubo de magnetrón, recubrimiento PVD rotativo

Objetivo de pulverización de titanio, aluminio, cobre, cromo, níquel, tubo de magnetrón, recubrimiento PVD rotativo

US$ 0,50-10,00
10 Piezas(MOQ)
1/4

Jiangxi CNP New Chemical Materials Co., Ltd.

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Óxido de estaño (SnO2) Material de evaporación en forma de pellet 1-10mm Pureza 99.99% Objetivo de pulverización

Óxido de estaño (SnO2) Material de evaporación en forma de pellet 1-10mm Pureza 99.99% Objetivo de pulverización

US$ 200,00
1 Kg(MOQ)
1/4

Shenzhen Hongchen New Materials Co., Ltd

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Fábrica de Guangdong placa de cobre de óxido de estaño indio ITO Sputtering Objetivos

Fábrica de Guangdong placa de cobre de óxido de estaño indio ITO Sputtering Objetivos

US$ 10,00-15,00
1 Kg(MOQ)
Fábrica de Guangdong puro mayorista del 99,95% de la placa de lámina de cobre de Sputtering Meta Fabricación

Fábrica de Guangdong puro mayorista del 99,95% de la placa de lámina de cobre de Sputtering Meta Fabricación

US$ 10,00-15,00
1 Kg(MOQ)
Rotación de cobre de destino de pulverización de cobre de fábrica para conductor semiconductor recubierto de metal

Rotación de cobre de destino de pulverización de cobre de fábrica para conductor semiconductor recubierto de metal

US$ 10,00-15,00
1 Kg(MOQ)
Cobre objetivo de pulverización de múltiples arcos de placas de cobre de revestimiento PVD de fábrica Semiconductor rotativo

Cobre objetivo de pulverización de múltiples arcos de placas de cobre de revestimiento PVD de fábrica Semiconductor rotativo

US$ 10,00-15,00
1 Kg(MOQ)

CHANGSHA EASCHEM CO., LIMITED

5 años
·Empresa Comercial
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Precio de fábrica Vender alta calidad objetivo de sputtering ITO 4n In2o3 y Sno2

Precio de fábrica Vender alta calidad objetivo de sputtering ITO 4n In2o3 y Sno2

Negociable
1 Piece(MOQ)
Varilla de metal de samario granular CAS No 7440-19-9 Sm 3n 4n

Varilla de metal de samario granular CAS No 7440-19-9 Sm 3n 4n

Negociable
1 Piece(MOQ)
Objetivo de sputtering de niobio de alta calidad con número CAS 7440-03-1

Objetivo de sputtering de niobio de alta calidad con número CAS 7440-03-1

Negociable
1 Piece(MOQ)
Precio de fábrica Vender alta pureza objetivo ITO para Rpd 4n

Precio de fábrica Vender alta pureza objetivo ITO para Rpd 4n

Negociable
1 Piece(MOQ)
1/4

Zhengzhou Tainuo Film Materials Co., Ltd.

9 años
·Fabricante/Fábrica
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Recubridor de magnetrón de sputtering de doble objetivo RF de cerámica, dieléctrico, óptico, óxido, película dura, película de PTFE

Recubridor de magnetrón de sputtering de doble objetivo RF de cerámica, dieléctrico, óptico, óxido, película dura, película de PTFE

US$ 26.500,00
1 Pieza(MOQ)
4-Inch Recubridor de Sputtering de Magnetrón de Objetivo Único de Corriente Continua para Película de Óxido

4-Inch Recubridor de Sputtering de Magnetrón de Objetivo Único de Corriente Continua para Película de Óxido

US$ 32.000,00-34.000,00
1 set(MOQ)
500W DC 300W RF Doble Objetivo Magnetrón Sputtering Coater para Sputtering Metales y Óxidos

500W DC 300W RF Doble Objetivo Magnetrón Sputtering Coater para Sputtering Metales y Óxidos

US$ 31.000,00-32.500,00
1 set(MOQ)
Máquina de recubrimiento PVD por magnetrón de sputtering de vacío de doble objetivo para películas semiconductoras

Máquina de recubrimiento PVD por magnetrón de sputtering de vacío de doble objetivo para películas semiconductoras

US$ 26.500,00
1 Pieza(MOQ)
1/4

Shanghai Zenkaah New Materials Technology Co., Ltd.

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Material objetivo DE ITO (óxido de estaño de Indium), película conductiva transparente de Indium Tin Oxide Semiconductor, objetivo de espumación de Magnetron, Especificaciones personalizadas

Material objetivo DE ITO (óxido de estaño de Indium), película conductiva transparente de Indium Tin Oxide Semiconductor, objetivo de espumación de Magnetron, Especificaciones personalizadas

Negociable
1 Pieza(MOQ)
Material objetivo de aluminio óxido de zinc de alta pureza (AZO), óxido de zinc (ZnO) dopado con óxido de aluminio (Al2O3), objetivo de óxido de esputo de magnetrón, unión de placa trasera.

Material objetivo de aluminio óxido de zinc de alta pureza (AZO), óxido de zinc (ZnO) dopado con óxido de aluminio (Al2O3), objetivo de óxido de esputo de magnetrón, unión de placa trasera.

Negociable
1 Pieza(MOQ)
Óxido de ytterbio material objetivo Yb2O3, Investigación Científica material experimental, esputtering Coating, evaporación Coating, Semiconductor

Óxido de ytterbio material objetivo Yb2O3, Investigación Científica material experimental, esputtering Coating, evaporación Coating, Semiconductor

Negociable
1 Pieza(MOQ)

Ningbo Galaxy International Trading Co., Ltd.

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Resistencia al calor, resistencia y tenacidad del objetivo redondo de titanio

Resistencia al calor, resistencia y tenacidad del objetivo redondo de titanio

US$ 10,00
5 Piezas(MOQ)
1/4

Jinan Hengcheng Aluminum Co., Ltd.

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Bloques de aluminio metal para objetivo de sputtering de aluminio para investigación en laboratorio

Bloques de aluminio metal para objetivo de sputtering de aluminio para investigación en laboratorio

US$ 2.960,00
1 Tonelada(MOQ)
1/4

Jiangyin Maideli Advanced Materials Co., Ltd.

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Ybco Yba2Cu3O7 itrio de óxido de cobre de bario de Sputtering meta

Ybco Yba2Cu3O7 itrio de óxido de cobre de bario de Sputtering meta

US$ 250,00-500,00
1 Pieza(MOQ)

Tianjin Jilian Technology Co., Ltd.

3 años·5.0
·Empresa Comercial
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Pólder de objetivo de pulverización de óxido de magnesio (MGO) CAS1309-48-4

Pólder de objetivo de pulverización de óxido de magnesio (MGO) CAS1309-48-4

US$ 550,00-1.500,00
10 Montones(MOQ)
1/4

Rheniumet Ltd.

17 años
·Empresa Comercial
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Dia301.625mm Gran objetivo de tungsteno, 99.999% objetivo de metal wolframio W para sputtering

Dia301.625mm Gran objetivo de tungsteno, 99.999% objetivo de metal wolframio W para sputtering

US$ 2.800,00-3.000,00
1 pieces(MOQ)
99.99. % Placa de tungsteno Wolfram Tungsteno para pulverización al vacío al mejor precio

99.99. % Placa de tungsteno Wolfram Tungsteno para pulverización al vacío al mejor precio

Negociable
1 Pieza(MOQ)
5n Objetivo de Sputtering de Wolframio

5n Objetivo de Sputtering de Wolframio

Negociable
1 Pieza(MOQ)
5n Polvo de tungsteno, polvo de wolframio para objetivo de pulverización

5n Polvo de tungsteno, polvo de wolframio para objetivo de pulverización

US$ 80,00-100,00
10 Kg(MOQ)
1/4

Zhengzhou Shibo Nonferrous Metals Products Co., Ltd.

21 años·5.0
·Fabricante/Fábrica & Empresa Comercial
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Objetivo de molibdeno para recubrimiento por pulverización al vacío

Objetivo de molibdeno para recubrimiento por pulverización al vacío

US$ 45,00
1 kg(MOQ)
Buena resistencia al desgaste placa de tungsteno

Buena resistencia al desgaste placa de tungsteno

US$ 45,00
1 Kg(MOQ)
Placa de tungsteno de alta pureza para horno de vacío

Placa de tungsteno de alta pureza para horno de vacío

US$ 45,00
1 Kg(MOQ)
Buena dureza de hoja de tungsteno/placa para horno de alta temperatura

Buena dureza de hoja de tungsteno/placa para horno de alta temperatura

US$ 45,00
1 Kg(MOQ)
1/2

Fuzhou Nuoxin Advanced Material Co. Ltd.

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Itrio Óxido de Zirconio Ysz(ZRO2/S2o3 99,99% de Sputtering Meta Objetivo de cerámica

Itrio Óxido de Zirconio Ysz(ZRO2/S2o3 99,99% de Sputtering Meta Objetivo de cerámica

Negociable
1 Pieza(MOQ)
Esputo Target ITO Indium Tin Oxide 4n 99,99% para Optico Revestimiento

Esputo Target ITO Indium Tin Oxide 4n 99,99% para Optico Revestimiento

Negociable
1 Pieza(MOQ)
Óxido ferroso Feo 4n Sputtering Target para recubrimiento PVD

Óxido ferroso Feo 4n Sputtering Target para recubrimiento PVD

Negociable
1 Pieza(MOQ)
Óxido de galio Sputtering Meta Ga2o3 la pureza del 99,99% de 4n

Óxido de galio Sputtering Meta Ga2o3 la pureza del 99,99% de 4n

Negociable
1 Pieza(MOQ)

UV Tech Material Co., Ltd.

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Rotary Tiox destino, principalmente para la aplicación de recubrimiento de vidrio Low-E, el magnetrón Sputtering Meta, meta de óxido de titanio

Rotary Tiox destino, principalmente para la aplicación de recubrimiento de vidrio Low-E, el magnetrón Sputtering Meta, meta de óxido de titanio

Negociable
1 Pieza(MOQ)
Unión ITO placa de destino Indio Tin Oxide esputtering Target 99,99% 4n Ceramic Target.

Unión ITO placa de destino Indio Tin Oxide esputtering Target 99,99% 4n Ceramic Target.

Negociable
1 Pieza(MOQ)
99,99% ITO objetivo 97: 3 95: 5 90: 10 Indium Tin Oxide esputtering objetivo para película conductiva

99,99% ITO objetivo 97: 3 95: 5 90: 10 Indium Tin Oxide esputtering objetivo para película conductiva

Negociable
1 Pieza(MOQ)
Objetivo de Rotary Nbox personalizar los objetivos de Sputtering de óxido de niobio Nb2O5 Nb2ox Objetivos

Objetivo de Rotary Nbox personalizar los objetivos de Sputtering de óxido de niobio Nb2O5 Nb2ox Objetivos

Negociable
2 Piezas(MOQ)

Xiamen Tmax Battery Equipments Limited

5.0
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Equipo de recubrimiento por pulverización PVD de doble objetivo RF&DC&MF para películas multicapa conductoras

Equipo de recubrimiento por pulverización PVD de doble objetivo RF&DC&MF para películas multicapa conductoras

US$ 45.000,00
1 Pieza(MOQ)
Sistema de Sputtering Magnetrón de Alto Vacío Versátil con Múltiples Objetivos para la Deposición de Películas Multicapa Compuestas

Sistema de Sputtering Magnetrón de Alto Vacío Versátil con Múltiples Objetivos para la Deposición de Películas Multicapa Compuestas

US$ 50.000,00
1 Pieza(MOQ)
Recubridor de Sputtering Magnetrón Automático de Laboratorio para Películas Delgadas de Metal, Óxido y Semiconductores en SEM, Materiales Energéticos

Recubridor de Sputtering Magnetrón Automático de Laboratorio para Películas Delgadas de Metal, Óxido y Semiconductores en SEM, Materiales Energéticos

US$ 30.000,00
1 Pieza(MOQ)
Materiales de recubrimiento PVD de alta pureza de la marca TMAXCN Óxido de tungsteno Wo3 Objetivo de sputtering

Materiales de recubrimiento PVD de alta pureza de la marca TMAXCN Óxido de tungsteno Wo3 Objetivo de sputtering

US$ 78,00-90,00
1 Pieza(MOQ)
1/4

Enam Optoelectronic Material Co., Ltd

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ATO, Destino, ventana de infrarrojos Film ATO, el antimonio de óxido de estaño blanco

ATO, Destino, ventana de infrarrojos Film ATO, el antimonio de óxido de estaño blanco

Negociable
1 Pieza(MOQ)
ITO, ITO blanco de Sputtering Planar película de vidrio, Tp/tn/STN/TFT-LCD Meta ITO

ITO, ITO blanco de Sputtering Planar película de vidrio, Tp/tn/STN/TFT-LCD Meta ITO

Negociable
1 Pieza(MOQ)
Objetivo de ITO, OLED / LED / Tp destino ITO, Ito de semiconductores LED Slug

Objetivo de ITO, OLED / LED / Tp destino ITO, Ito de semiconductores LED Slug

Negociable
1 Pieza(MOQ)
Objetivo de ITO, Ito, Tp objetivo giratorio TFT-LCD STN Tn ITO blanco

Objetivo de ITO, Ito, Tp objetivo giratorio TFT-LCD STN Tn ITO blanco

Negociable
1 Pieza(MOQ)

Ningbo Sen Ao Electronic Technology Co., Ltd

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El 99,9% de óxido de titanio Tiox Sputtering PVD Objetivo Objetivo giratorio de Recubrimiento de óxido de titanio Tiox vacío Sputtering meta

El 99,9% de óxido de titanio Tiox Sputtering PVD Objetivo Objetivo giratorio de Recubrimiento de óxido de titanio Tiox vacío Sputtering meta

Negociable
1 Pieza(MOQ)
El 99,95% Zro Óxido de zirconio de Sputtering Zro Placas de hoja de destino Zro óxidos Meta Puttering zirconio

El 99,95% Zro Óxido de zirconio de Sputtering Zro Placas de hoja de destino Zro óxidos Meta Puttering zirconio

Negociable
1 Pieza(MOQ)
El 99,95% de ahorro de energía de ZnO Producting cristal Low-E inteligente de Vidrio Cristal de óxido de zinc de Sputtering ZnO placas de hoja de destino

El 99,95% de ahorro de energía de ZnO Producting cristal Low-E inteligente de Vidrio Cristal de óxido de zinc de Sputtering ZnO placas de hoja de destino

Negociable
1 Pieza(MOQ)
ITO Tamaño personalizable el 99,99% de óxido de estaño indio gira ITO blanco de Sputtering cerámica

ITO Tamaño personalizable el 99,99% de óxido de estaño indio gira ITO blanco de Sputtering cerámica

Negociable
1 Pieza(MOQ)

Able Target Limited

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Los objetivos de sputtering

Los objetivos de sputtering

Negociable
1 Pieza(MOQ)
Sputtering Meta, Al2O3/Óxido de aluminio, Al2O3/ZnO/Azo de óxido de zinc aluminio

Sputtering Meta, Al2O3/Óxido de aluminio, Al2O3/ZnO/Azo de óxido de zinc aluminio

Negociable
1 Pieza(MOQ)
Blancos de la farfulla de Gdbacuox y blancos de la farfulla de Ybacuox, Gdba1.8cu3ox, Gdba1.9cu3ox, Yba2cu3o7, Y1ba2cu3o7, Ybacuox

Blancos de la farfulla de Gdbacuox y blancos de la farfulla de Ybacuox, Gdba1.8cu3ox, Gdba1.9cu3ox, Yba2cu3o7, Y1ba2cu3o7, Ybacuox

Negociable
1 Pieza(MOQ)
Blanco de la farfulla de la tierra rara

Blanco de la farfulla de la tierra rara

Negociable
1 Pieza(MOQ)

Beijing Loyaltarget Technology Co, Limited

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Al2O3 blanco de Sputtering cerámica

Al2O3 blanco de Sputtering cerámica

Negociable
1 Pieza(MOQ)
De ITO Target / In2O3: SnO2 = 90: 10% en peso / de ITO planar Blanco de sputtering

De ITO Target / In2O3: SnO2 = 90: 10% en peso / de ITO planar Blanco de sputtering

Negociable
1 Pieza(MOQ)
Azo de aluminio blanco de Sputtering meta de óxido de zinc

Azo de aluminio blanco de Sputtering meta de óxido de zinc

Negociable
1 Pieza(MOQ)
Bi2O3 blanco de Sputtering cerámica

Bi2O3 blanco de Sputtering cerámica

Negociable
1 Pieza(MOQ)

Weihai Chenyu Vacuum Technology Co., Ltd

4 años
·Fabricante/Fábrica & Empresa Comercial
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Máquina de recubrimiento por pulverización catódica a gran escala con múltiples objetivos de cátodo para recubrimiento de argón

Máquina de recubrimiento por pulverización catódica a gran escala con múltiples objetivos de cátodo para recubrimiento de argón

Negociable
1 Pieza(MOQ)
Máquina de recubrimiento de película conductora transparente de alto rendimiento con objetivo de ITO y recubrimiento de argón

Máquina de recubrimiento de película conductora transparente de alto rendimiento con objetivo de ITO y recubrimiento de argón

Negociable
1 Pieza(MOQ)
Producción de recubrimiento de alta transparencia con máquina de recubrimiento de Ar para una transmisión de luz mejorada

Producción de recubrimiento de alta transparencia con máquina de recubrimiento de Ar para una transmisión de luz mejorada

Negociable
1 Pieza(MOQ)
Solución de recubrimiento llave en mano con soporte de capacitación en instalación para máquina de recubrimiento Ar

Solución de recubrimiento llave en mano con soporte de capacitación en instalación para máquina de recubrimiento Ar

Negociable
1 Pieza(MOQ)
1/4

China Leadmat Advanced Materials Co., Ltd.

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Objetivo de Sputtering de Aluminio

Objetivo de Sputtering de Aluminio

US$ 15,00
1 Pieza(MOQ)
Objetivo de Sputtering de cerámica

Objetivo de Sputtering de cerámica

US$ 45,00
1 Pieza(MOQ)
Los objetivos de sputtering

Los objetivos de sputtering

US$ 60,00
1 Pieza(MOQ)

Xi'an Kefeng Powder Metallurgy Co., Ltd.

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Foil de tungsteno de alta calidad Kefeng con un grosor de 0.001inches (0.025mm) a 0.08 pulgadas (2 mm)

Foil de tungsteno de alta calidad Kefeng con un grosor de 0.001inches (0.025mm) a 0.08 pulgadas (2 mm)

US$ 50,00-500,00
10 Kg(MOQ)
Aleación de molibdeno Tzm en la industria comercial de tratamiento térmico

Aleación de molibdeno Tzm en la industria comercial de tratamiento térmico

US$ 100,00-500,00
10 Kg(MOQ)
1/4
13
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