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sobre Objetivo de óxido
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Objetivo de óxido500+ fábricas verificadas

SUZHOU TECHNO-TEC PHOTOELECTRIC MATERIALS CO., LTD

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In2O3+Cu Objetivo cerámico de óxido de indio + objetivo cerámico de cobre para LCD/panel táctil

In2O3+Cu Objetivo cerámico de óxido de indio + objetivo cerámico de cobre para LCD/panel táctil

US$ 40,00
1 Kg(MOQ)
Nb2O5 Objetivo Nb2Ox Objetivo de Óxido de Niobio Cerámico para Recubrimiento de Película Delgada Óptica Semiconductora

Nb2O5 Objetivo Nb2Ox Objetivo de Óxido de Niobio Cerámico para Recubrimiento de Película Delgada Óptica Semiconductora

US$ 100,00-130,00
1 Kg(MOQ)
In2O3 Objetivo de cerámica de óxido de indio para sputtering para LCD/panel táctil

In2O3 Objetivo de cerámica de óxido de indio para sputtering para LCD/panel táctil

US$ 650,00
1 Kg(MOQ)
Objetivo de BaSnO Óxido de Bario y Estaño Cerámico para Recubrimiento de Película Óptica Fina

Objetivo de BaSnO Óxido de Bario y Estaño Cerámico para Recubrimiento de Película Óptica Fina

US$ 340,00
1 Kg(MOQ)
1/4

Changsha Xinkang Advanced Materials Co., Ltd.

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Wo3 Material de recubrimiento cerámico de óxido de tungsteno objetivo

Wo3 Material de recubrimiento cerámico de óxido de tungsteno objetivo

US$ 100,00-500,00
1 Pieza(MOQ)
In2o3 Objetivo de Sputtering de Óxido de Indio Cerámico para LCD/Pantalla Táctil

In2o3 Objetivo de Sputtering de Óxido de Indio Cerámico para LCD/Pantalla Táctil

US$ 35,00-150,00
1 Pieza(MOQ)
Objetivo de Cerámica de Óxido Férrico Xinkang 99.9% Fe2o3 para Recubrimiento al Vacío

Objetivo de Cerámica de Óxido Férrico Xinkang 99.9% Fe2o3 para Recubrimiento al Vacío

US$ 110,00-120,00
1 Pieza(MOQ)
99.99% Vo2 Objetivos de Sputtering Objetivo de Óxido de Vanadio para Recubrimiento Avanzado

99.99% Vo2 Objetivos de Sputtering Objetivo de Óxido de Vanadio para Recubrimiento Avanzado

US$ 150,00-1.200,00
1 Kg(MOQ)
1/4

Lonwin Industry Group Limited

5.0
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Objetivo de Sputtering de Óxido de Indio y Estaño (ITO) de Alta Pureza 99.99% para Recubrimiento PVD

Objetivo de Sputtering de Óxido de Indio y Estaño (ITO) de Alta Pureza 99.99% para Recubrimiento PVD

US$ 17,00-55,00
1 Kg(MOQ)
Al2O3-MGO Objetivos Cerámicos Óxido de Aluminio - Óxido de Magnesio para Sputtering

Al2O3-MGO Objetivos Cerámicos Óxido de Aluminio - Óxido de Magnesio para Sputtering

US$ 17,00-55,00
1 Kg(MOQ)
Objetivo de Sputtering de Dióxido de Titanio Óxido de Titanio Cerámico de Aleación Tiox

Objetivo de Sputtering de Dióxido de Titanio Óxido de Titanio Cerámico de Aleación Tiox

US$ 17,00-55,00
1 Kg(MOQ)
99.99% Objetivo de Sputtering de Óxido de Plomo de Cerámica Pura Pbo

99.99% Objetivo de Sputtering de Óxido de Plomo de Cerámica Pura Pbo

US$ 17,00-55,00
1 Kg(MOQ)
1/4

Inner Mongolia Rongtai Rhenium New Materials Co., Ltd.

5.0
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Objetivo de Sputtering de Óxido de Ytrio de Alta Pureza Y2o3 para Recubrimientos Avanzados

Objetivo de Sputtering de Óxido de Ytrio de Alta Pureza Y2o3 para Recubrimientos Avanzados

US$ 115,00-130,00
1 Pieza(MOQ)
Objetivo de Sputtering de Óxido de Ytterbio de Alta Pureza para Electrónica

Objetivo de Sputtering de Óxido de Ytterbio de Alta Pureza para Electrónica

US$ 190,00-199,00
1 Pieza(MOQ)
Disco de objetivo de pulverización de óxido de cobre, bario y itrio de alta calidad para electrónica

Disco de objetivo de pulverización de óxido de cobre, bario y itrio de alta calidad para electrónica

US$ 190,00-199,00
1 Pieza(MOQ)
Alta Calidad Objetivo de Metal de Lantano Personalizado para Aplicaciones de Precisión

Alta Calidad Objetivo de Metal de Lantano Personalizado para Aplicaciones de Precisión

US$ 150,00-350,00
1 Pieza(MOQ)
1/4

Zhengzhou CY Scientific Instrument Co., Ltd.

13 años
·Fabricante/Fábrica & Empresa Comercial
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Depósito por Sputtering de Magnetrón de Doble Objetivo de CC y RF para Películas Delgadas de Metal y Óxido

Depósito por Sputtering de Magnetrón de Doble Objetivo de CC y RF para Películas Delgadas de Metal y Óxido

US$ 21.000,00-26.000,00
1 Pieza(MOQ)
Tres instrumentos de recubrimiento por sputtering de magnetrón de tres objetivos para películas semiconductoras

Tres instrumentos de recubrimiento por sputtering de magnetrón de tres objetivos para películas semiconductoras

US$ 37.300,00-126.870,00
1 Pieza(MOQ)
3 Recubridor de Sputtering Magnetrón de Tres Pulgadas

3 Recubridor de Sputtering Magnetrón de Tres Pulgadas

US$ 28.500,00-40.100,00
1 Pieza(MOQ)
Revestidor de Sputtering Magnetrón RF de Un Solo Rotor para Investigación de Celdas Solares

Revestidor de Sputtering Magnetrón RF de Un Solo Rotor para Investigación de Celdas Solares

US$ 30.000,00-39.000,00
1 Pieza(MOQ)
1/4

Xiamen HiuGong Machinery Co., Ltd.

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99.99% Objetivo de Sputtering de Óxido de Galio Objetivo Plano Ga2o3 Objetivo

99.99% Objetivo de Sputtering de Óxido de Galio Objetivo Plano Ga2o3 Objetivo

US$ 300,00
1 Pieza(MOQ)
Equipo de recubrimiento por pulverización de plasma, antiadherente, resistente al desgaste, silicio, aluminio, alúmina, circonio

Equipo de recubrimiento por pulverización de plasma, antiadherente, resistente al desgaste, silicio, aluminio, alúmina, circonio

US$ 35.000,00
1 Pieza(MOQ)
1/4

Dongguan Gravel Industries and Enterprise Company Limited

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Objetivo de Óxido de Indio y Estaño ITO para Sputtering al Vacío PVD Objetivo Creen

Objetivo de Óxido de Indio y Estaño ITO para Sputtering al Vacío PVD Objetivo Creen

US$ 4.600,00
1 Pieza(MOQ)
Objetivo de óxido de indio y estaño

Objetivo de óxido de indio y estaño

US$ 7.800,00
1 Pieza(MOQ)
1/4

Junsion Precision Hardware Co., Ltd.

7 años
·Fabricante/Fábrica & Empresa Comercial
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Objetivo de pulverización de titanio, aluminio, cobre, cromo, níquel, tubo de magnetrón, recubrimiento PVD rotativo

Objetivo de pulverización de titanio, aluminio, cobre, cromo, níquel, tubo de magnetrón, recubrimiento PVD rotativo

US$ 0,50-10,00
10 Piezas(MOQ)
Piezas de torneado de aluminio anodizado de maquinaria de precisión

Piezas de torneado de aluminio anodizado de maquinaria de precisión

US$ 0,50-10,00
10 Piezas(MOQ)
1/4

Jiangxi CNP New Chemical Materials Co., Ltd.

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Óxido de estaño (SnO2) Material de evaporación en forma de pellet 1-10mm Pureza 99.99% Objetivo de pulverización

Óxido de estaño (SnO2) Material de evaporación en forma de pellet 1-10mm Pureza 99.99% Objetivo de pulverización

US$ 200,00
1 Kg(MOQ)
1/4

CHANGSHA EASCHEM CO., LIMITED

5 años
·Empresa Comercial
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Varilla de metal de samario granular CAS No 7440-19-9 Sm 3n 4n

Varilla de metal de samario granular CAS No 7440-19-9 Sm 3n 4n

Negociable
1 Piece(MOQ)
Varilla de metal de holmio objetivo granular CAS No 7440-60-0 Ho 3n 4n

Varilla de metal de holmio objetivo granular CAS No 7440-60-0 Ho 3n 4n

Negociable
1 Piece(MOQ)
Varilla de metal de itrio objetivo granular CAS No 7440-65-5 Y 3n 4n 5n

Varilla de metal de itrio objetivo granular CAS No 7440-65-5 Y 3n 4n 5n

Negociable
1 Piece(MOQ)
Precio de fábrica para vender objetivo de aleación de aluminio y itrio Y de Easchem

Precio de fábrica para vender objetivo de aleación de aluminio y itrio Y de Easchem

Negociable
1 Piece(MOQ)
1/4

Shenzhen Hongchen New Materials Co., Ltd

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Fábrica de Guangdong placa de cobre de óxido de estaño indio ITO Sputtering Objetivos

Fábrica de Guangdong placa de cobre de óxido de estaño indio ITO Sputtering Objetivos

US$ 10,00-15,00
1 Kg(MOQ)
Rotación de cobre de destino de pulverización de cobre de fábrica para conductor semiconductor recubierto de metal

Rotación de cobre de destino de pulverización de cobre de fábrica para conductor semiconductor recubierto de metal

US$ 10,00-15,00
1 Kg(MOQ)
Fábrica de Guangdong puro mayorista del 99,95% de la placa de lámina de cobre de Sputtering Meta Fabricación

Fábrica de Guangdong puro mayorista del 99,95% de la placa de lámina de cobre de Sputtering Meta Fabricación

US$ 10,00-15,00
1 Kg(MOQ)
Cobre objetivo de pulverización de múltiples arcos de placas de cobre de revestimiento PVD de fábrica Semiconductor rotativo

Cobre objetivo de pulverización de múltiples arcos de placas de cobre de revestimiento PVD de fábrica Semiconductor rotativo

US$ 10,00-15,00
1 Kg(MOQ)

Zhengzhou Tainuo Film Materials Co., Ltd.

9 años
·Fabricante/Fábrica
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Recubridor de magnetrón de sputtering de doble objetivo RF de cerámica, dieléctrico, óptico, óxido, película dura, película de PTFE

Recubridor de magnetrón de sputtering de doble objetivo RF de cerámica, dieléctrico, óptico, óxido, película dura, película de PTFE

US$ 26.500,00
1 Pieza(MOQ)
4-Inch Recubridor de Sputtering de Magnetrón de Objetivo Único de Corriente Continua para Película de Óxido

4-Inch Recubridor de Sputtering de Magnetrón de Objetivo Único de Corriente Continua para Película de Óxido

US$ 32.000,00-34.000,00
1 set(MOQ)
500W DC 300W RF Doble Objetivo Magnetrón Sputtering Coater para Sputtering Metales y Óxidos

500W DC 300W RF Doble Objetivo Magnetrón Sputtering Coater para Sputtering Metales y Óxidos

US$ 31.000,00-32.500,00
1 set(MOQ)
Máquina de recubrimiento PVD por magnetrón de sputtering de vacío de doble objetivo para películas semiconductoras

Máquina de recubrimiento PVD por magnetrón de sputtering de vacío de doble objetivo para películas semiconductoras

US$ 26.500,00
1 Pieza(MOQ)
1/4

Rheniumet Ltd.

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Igh Pureza 99.9%Min 1-10inch Ruo2 Óxido de Rutenio Targ

Igh Pureza 99.9%Min 1-10inch Ruo2 Óxido de Rutenio Targ

US$ 2.000,00-4.000,00
1 Pieza(MOQ)
4inch 99.999% Objetivo de tungsteno para recubrimiento por pulverización

4inch 99.999% Objetivo de tungsteno para recubrimiento por pulverización

Negociable
1 Pieza(MOQ)
Personalización de objetivo de tungsteno en forma de media luna de alta pureza 99.999%

Personalización de objetivo de tungsteno en forma de media luna de alta pureza 99.999%

US$ 2.000,00-3.000,00
5 Piezas(MOQ)
99.99% Objetivo de Sputtering de Tungsteno de Alta Pureza, 5n Objetivo de Tungsteno

99.99% Objetivo de Sputtering de Tungsteno de Alta Pureza, 5n Objetivo de Tungsteno

Negociable
1 Pieza(MOQ)
1/4

Shanghai Zenkaah New Materials Technology Co., Ltd.

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Material objetivo DE ITO (óxido de estaño de Indium), película conductiva transparente de Indium Tin Oxide Semiconductor, objetivo de espumación de Magnetron, Especificaciones personalizadas

Material objetivo DE ITO (óxido de estaño de Indium), película conductiva transparente de Indium Tin Oxide Semiconductor, objetivo de espumación de Magnetron, Especificaciones personalizadas

Negociable
1 Pieza(MOQ)
Material objetivo de aluminio óxido de zinc de alta pureza (AZO), óxido de zinc (ZnO) dopado con óxido de aluminio (Al2O3), objetivo de óxido de esputo de magnetrón, unión de placa trasera.

Material objetivo de aluminio óxido de zinc de alta pureza (AZO), óxido de zinc (ZnO) dopado con óxido de aluminio (Al2O3), objetivo de óxido de esputo de magnetrón, unión de placa trasera.

Negociable
1 Pieza(MOQ)
Óxido de ytterbio material objetivo Yb2O3, Investigación Científica material experimental, esputtering Coating, evaporación Coating, Semiconductor

Óxido de ytterbio material objetivo Yb2O3, Investigación Científica material experimental, esputtering Coating, evaporación Coating, Semiconductor

Negociable
1 Pieza(MOQ)

Ningbo Galaxy International Trading Co., Ltd.

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Resistencia al calor, resistencia y tenacidad del objetivo redondo de titanio

Resistencia al calor, resistencia y tenacidad del objetivo redondo de titanio

US$ 10,00
5 Piezas(MOQ)
Hoja de ánodo de titanio según el dibujo del cliente

Hoja de ánodo de titanio según el dibujo del cliente

US$ 30,00
1 kg(MOQ)
1/4

Jinan Hengcheng Aluminum Co., Ltd.

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Bloques de aluminio metal para objetivo de sputtering de aluminio para investigación en laboratorio

Bloques de aluminio metal para objetivo de sputtering de aluminio para investigación en laboratorio

US$ 2.960,00
1 Tonelada(MOQ)
1/4

Jiangyin Maideli Advanced Materials Co., Ltd.

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Ybco Yba2Cu3O7 itrio de óxido de cobre de bario de Sputtering meta

Ybco Yba2Cu3O7 itrio de óxido de cobre de bario de Sputtering meta

US$ 250,00-500,00
1 Pieza(MOQ)

Tianjin Jilian Technology Co., Ltd.

3 años·5.0
·Empresa Comercial
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Pólder de objetivo de pulverización de óxido de magnesio (MGO) CAS1309-48-4

Pólder de objetivo de pulverización de óxido de magnesio (MGO) CAS1309-48-4

US$ 550,00-1.500,00
10 Montones(MOQ)
1/4

Baoji Taizehui Metal Technology Co., Ltd.

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Objetivo de Tabla de Tántalo para Investigación y Desarrollo de Materiales Avanzados

Objetivo de Tabla de Tántalo para Investigación y Desarrollo de Materiales Avanzados

Negociable
10 Kg(MOQ)
Objetivo de la Junta de Tántalo para Proyectos Innovadores de Investigación y Desarrollo

Objetivo de la Junta de Tántalo para Proyectos Innovadores de Investigación y Desarrollo

Negociable
10 Kg(MOQ)
Objetivo de tablero de tantalio para aplicaciones aeroespaciales y necesidades de alta precisión

Objetivo de tablero de tantalio para aplicaciones aeroespaciales y necesidades de alta precisión

Negociable
10 Kg(MOQ)
Objetivo de tablero de tantalio para aplicaciones avanzadas en ciencia de materiales e investigación

Objetivo de tablero de tantalio para aplicaciones avanzadas en ciencia de materiales e investigación

Negociable
10 Kg(MOQ)
1/4

Zhengzhou Shibo Nonferrous Metals Products Co., Ltd.

21 años·5.0
·Fabricante/Fábrica & Empresa Comercial
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Objetivo de molibdeno para recubrimiento por pulverización al vacío

Objetivo de molibdeno para recubrimiento por pulverización al vacío

US$ 45,00
1 kg(MOQ)
Hoja de tungsteno de alta pureza, placa de tungsteno, lámina de W

Hoja de tungsteno de alta pureza, placa de tungsteno, lámina de W

US$ 40,00
1 Pieza(MOQ)
Precio de hoja de tungsteno puro

Precio de hoja de tungsteno puro

US$ 50,00
10 Kg(MOQ)
W1 ASTM B760 y GB 3875 Placas de Tungsteno

W1 ASTM B760 y GB 3875 Placas de Tungsteno

US$ 40,00
1 Pieza(MOQ)
1/2

Taizhou ATS Optical Material Co., Ltd.

26 años
·Fabricante/Fábrica & Empresa Comercial
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Objetivo de silicio pieza de polisilicio

Objetivo de silicio pieza de polisilicio

US$ 26,00-28,00
1 piece(MOQ)
Objetivo de silicio, oblea de silicio, pieza de silicio monocristalino

Objetivo de silicio, oblea de silicio, pieza de silicio monocristalino

US$ 4,00-5,00
1 piece(MOQ)
99.9999% Gránulos de Silicio Puro Polisilicio

99.9999% Gránulos de Silicio Puro Polisilicio

US$ 26,00-28,00
1 piece(MOQ)
Partículas de silicio policristalino de silicio monocrystalline gránulo de Si

Partículas de silicio policristalino de silicio monocrystalline gránulo de Si

US$ 97,50-100,00
1 Kg(MOQ)
1/4

Fuzhou Nuoxin Advanced Material Co. Ltd.

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Itrio Óxido de Zirconio Ysz(ZRO2/S2o3 99,99% de Sputtering Meta Objetivo de cerámica

Itrio Óxido de Zirconio Ysz(ZRO2/S2o3 99,99% de Sputtering Meta Objetivo de cerámica

Negociable
1 Pieza(MOQ)
Esputo Target ITO Indium Tin Oxide 4n 99,99% para Optico Revestimiento

Esputo Target ITO Indium Tin Oxide 4n 99,99% para Optico Revestimiento

Negociable
1 Pieza(MOQ)
Óxido ferroso Feo 4n Sputtering Target para recubrimiento PVD

Óxido ferroso Feo 4n Sputtering Target para recubrimiento PVD

Negociable
1 Pieza(MOQ)
Objetivo de aleación de alta pureza del 99,99% de 4n nio de óxido de níquel para Thin-Film recubrimiento óptico PVD EVAPORACIÓN

Objetivo de aleación de alta pureza del 99,99% de 4n nio de óxido de níquel para Thin-Film recubrimiento óptico PVD EVAPORACIÓN

Negociable
1 Pieza(MOQ)

Shenzhen Canyuan Metal Material Co., Ltd.

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4n TiO2 Objetivos de Óxido de Titanio Objetivos Rotativos Objetivos Planos

4n TiO2 Objetivos de Óxido de Titanio Objetivos Rotativos Objetivos Planos

US$ 200,00-10.000,00
1 Pieza(MOQ)
4n Nbo2 Objetivos de óxido de niobio Objetivos planos

4n Nbo2 Objetivos de óxido de niobio Objetivos planos

US$ 200,00-10.000,00
1 Pieza(MOQ)
Objetivos rotativos de óxido de titanio con 99.99% pureza

Objetivos rotativos de óxido de titanio con 99.99% pureza

US$ 200,00-10.000,00
1 Pieza(MOQ)
4n Nbo2 Objetivos de óxido de niobio planos para recubrimiento al vacío

4n Nbo2 Objetivos de óxido de niobio planos para recubrimiento al vacío

US$ 200,00-10.000,00
1 Pieza(MOQ)

UV Tech Material Co., Ltd.

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Rotary Tiox destino, principalmente para la aplicación de recubrimiento de vidrio Low-E, el magnetrón Sputtering Meta, meta de óxido de titanio

Rotary Tiox destino, principalmente para la aplicación de recubrimiento de vidrio Low-E, el magnetrón Sputtering Meta, meta de óxido de titanio

Negociable
1 Pieza(MOQ)
Unión ITO placa de destino Indio Tin Oxide esputtering Target 99,99% 4n Ceramic Target.

Unión ITO placa de destino Indio Tin Oxide esputtering Target 99,99% 4n Ceramic Target.

Negociable
1 Pieza(MOQ)
99,99% ITO objetivo 97: 3 95: 5 90: 10 Indium Tin Oxide esputtering objetivo para película conductiva

99,99% ITO objetivo 97: 3 95: 5 90: 10 Indium Tin Oxide esputtering objetivo para película conductiva

Negociable
1 Pieza(MOQ)
En trióxido de óxido de indio2o3 en polvo, de alta pureza del 99,99% de polvo de trióxido de indio, en2o3 Precio de polvo de óxido de indio

En trióxido de óxido de indio2o3 en polvo, de alta pureza del 99,99% de polvo de trióxido de indio, en2o3 Precio de polvo de óxido de indio

Negociable
50 Kg(MOQ)

Xiamen Tmax Battery Equipments Limited

5.0
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Equipo de recubrimiento por pulverización PVD de doble objetivo RF&DC&MF para películas multicapa conductoras

Equipo de recubrimiento por pulverización PVD de doble objetivo RF&DC&MF para películas multicapa conductoras

US$ 45.000,00
1 Pieza(MOQ)
Sistema de Sputtering Magnetrón de Alto Vacío Versátil con Múltiples Objetivos para la Deposición de Películas Multicapa Compuestas

Sistema de Sputtering Magnetrón de Alto Vacío Versátil con Múltiples Objetivos para la Deposición de Películas Multicapa Compuestas

US$ 50.000,00
1 Pieza(MOQ)
Recubridor de Sputtering Magnetrón Automático de Laboratorio para Películas Delgadas de Metal, Óxido y Semiconductores en SEM, Materiales Energéticos

Recubridor de Sputtering Magnetrón Automático de Laboratorio para Películas Delgadas de Metal, Óxido y Semiconductores en SEM, Materiales Energéticos

US$ 50.000,00
1 Pieza(MOQ)
Materiales de recubrimiento PVD de alta pureza de la marca TMAXCN Óxido de tungsteno Wo3 Objetivo de sputtering

Materiales de recubrimiento PVD de alta pureza de la marca TMAXCN Óxido de tungsteno Wo3 Objetivo de sputtering

US$ 78,00-90,00
1 Pieza(MOQ)
1/4

Beijing Loyaltarget Technology Co, Limited

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Al2O3 blanco de Sputtering cerámica

Al2O3 blanco de Sputtering cerámica

Negociable
1 Pieza(MOQ)
Azo de aluminio blanco de Sputtering meta de óxido de zinc

Azo de aluminio blanco de Sputtering meta de óxido de zinc

Negociable
1 Pieza(MOQ)
De ITO Target / In2O3: SnO2 = 90: 10% en peso / de ITO planar Blanco de sputtering

De ITO Target / In2O3: SnO2 = 90: 10% en peso / de ITO planar Blanco de sputtering

Negociable
1 Pieza(MOQ)
Bi2O3 blanco de Sputtering cerámica

Bi2O3 blanco de Sputtering cerámica

Negociable
1 Pieza(MOQ)

Ningbo Sen Ao Electronic Technology Co., Ltd

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El 99,95% de ahorro de energía de ZnO Producting cristal Low-E inteligente de Vidrio Cristal de óxido de zinc de Sputtering ZnO placas de hoja de destino

El 99,95% de ahorro de energía de ZnO Producting cristal Low-E inteligente de Vidrio Cristal de óxido de zinc de Sputtering ZnO placas de hoja de destino

Negociable
1 Pieza(MOQ)
El 99,9% de óxido de titanio Tiox Sputtering PVD Objetivo Objetivo giratorio de Recubrimiento de óxido de titanio Tiox vacío Sputtering meta

El 99,9% de óxido de titanio Tiox Sputtering PVD Objetivo Objetivo giratorio de Recubrimiento de óxido de titanio Tiox vacío Sputtering meta

Negociable
1 Pieza(MOQ)
El 99,95% Gzo galio óxido Zin Sputtering Hoja de destino Gzo Gzo Placas de Sputtering meta

El 99,95% Gzo galio óxido Zin Sputtering Hoja de destino Gzo Gzo Placas de Sputtering meta

Negociable
1 Pieza(MOQ)
La pureza del 99,99% de óxido de niobio Nbox objetivo giratorio Ouch Material de recubrimiento Panel giratorios giratorios de Sputtering meta

La pureza del 99,99% de óxido de niobio Nbox objetivo giratorio Ouch Material de recubrimiento Panel giratorios giratorios de Sputtering meta

Negociable
1 Pieza(MOQ)

Able Target Limited

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Los objetivos de sputtering

Los objetivos de sputtering

Negociable
1 Pieza(MOQ)
Blancos de la farfulla de Gdbacuox y blancos de la farfulla de Ybacuox, Gdba1.8cu3ox, Gdba1.9cu3ox, Yba2cu3o7, Y1ba2cu3o7, Ybacuox

Blancos de la farfulla de Gdbacuox y blancos de la farfulla de Ybacuox, Gdba1.8cu3ox, Gdba1.9cu3ox, Yba2cu3o7, Y1ba2cu3o7, Ybacuox

Negociable
1 Pieza(MOQ)
Sputtering Meta, Al2O3/Óxido de aluminio, Al2O3/ZnO/Azo de óxido de zinc aluminio

Sputtering Meta, Al2O3/Óxido de aluminio, Al2O3/ZnO/Azo de óxido de zinc aluminio

Negociable
1 Pieza(MOQ)
Blanco de la farfulla de la tierra rara

Blanco de la farfulla de la tierra rara

Negociable
1 Pieza(MOQ)

Enam Optoelectronic Material Co., Ltd

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Objetivo de ITO, OLED / LED / Tp destino ITO, Ito de semiconductores LED Slug

Objetivo de ITO, OLED / LED / Tp destino ITO, Ito de semiconductores LED Slug

Negociable
1 Pieza(MOQ)
Objetivo de óxido de indio, en2o3 blanco

Objetivo de óxido de indio, en2o3 blanco

Negociable
1 Pieza(MOQ)
ITO, ITO blanco de Sputtering Planar película de vidrio, Tp/tn/STN/TFT-LCD Meta ITO

ITO, ITO blanco de Sputtering Planar película de vidrio, Tp/tn/STN/TFT-LCD Meta ITO

Negociable
1 Pieza(MOQ)
Iwo Objetivo, células solares Hit Iwo Destino, destino de óxido Indium-Tungsten

Iwo Objetivo, células solares Hit Iwo Destino, destino de óxido Indium-Tungsten

Negociable
1 Pieza(MOQ)

Weihai Chenyu Vacuum Technology Co., Ltd

4 años
·Fabricante/Fábrica & Empresa Comercial
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Máquina de recubrimiento de película conductora transparente de alto rendimiento con objetivo de ITO y recubrimiento de argón

Máquina de recubrimiento de película conductora transparente de alto rendimiento con objetivo de ITO y recubrimiento de argón

Negociable
1 Pieza(MOQ)
Máquina de recubrimiento por pulverización catódica a gran escala con múltiples objetivos de cátodo para recubrimiento de argón

Máquina de recubrimiento por pulverización catódica a gran escala con múltiples objetivos de cátodo para recubrimiento de argón

Negociable
1 Pieza(MOQ)
Máquina avanzada de recubrimiento de Ar para recubrimiento de lentes ópticas de precisión

Máquina avanzada de recubrimiento de Ar para recubrimiento de lentes ópticas de precisión

Negociable
1 Pieza(MOQ)
Producción de recubrimiento antirreflectante para la industria de la óptica máquina de recubrimiento Ar

Producción de recubrimiento antirreflectante para la industria de la óptica máquina de recubrimiento Ar

Negociable
1 Pieza(MOQ)
1/4
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