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sobre Objetivo de óxido
  • Innovación tecnológica
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Objetivo de óxido500+ fábricas verificadas

SUZHOU TECHNO-TEC PHOTOELECTRIC MATERIALS CO., LTD

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In2O3+Cu Objetivo cerámico de óxido de indio + objetivo cerámico de cobre para LCD/panel táctil

In2O3+Cu Objetivo cerámico de óxido de indio + objetivo cerámico de cobre para LCD/panel táctil

US$ 40,00
1 Kg(MOQ)
Nb2O5 Objetivo Nb2Ox Objetivo de Óxido de Niobio Cerámico para Recubrimiento de Película Delgada Óptica Semiconductora

Nb2O5 Objetivo Nb2Ox Objetivo de Óxido de Niobio Cerámico para Recubrimiento de Película Delgada Óptica Semiconductora

US$ 100,00-130,00
1 Kg(MOQ)
Objetivo de BaSnO Óxido de Bario y Estaño Cerámico para Recubrimiento de Película Óptica Fina

Objetivo de BaSnO Óxido de Bario y Estaño Cerámico para Recubrimiento de Película Óptica Fina

US$ 340,00
1 Kg(MOQ)
Al2O3 Objetivo de óxido de aluminio cerámico para circuitos integrados

Al2O3 Objetivo de óxido de aluminio cerámico para circuitos integrados

US$ 135,00
1 Kg(MOQ)
1/4

Changsha Xinkang Advanced Materials Co., Ltd.

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Objetivo de sputtering de óxido de cromo de tamaño personalizado para recubrimiento de deposición de película delgada

Objetivo de sputtering de óxido de cromo de tamaño personalizado para recubrimiento de deposición de película delgada

US$ 110,00-120,00
1 Pieza(MOQ)
99.99% Objetivo de Sputtering de Óxido de Aluminio Puro de Alta Densidad Al2O3 Objetivo Cerámico

99.99% Objetivo de Sputtering de Óxido de Aluminio Puro de Alta Densidad Al2O3 Objetivo Cerámico

US$ 35,00-85,00
1 Pieza(MOQ)
99.99% Objetivos de Óxido de Indio y Estaño Objetivo ITO para Recubrimiento PVD

99.99% Objetivos de Óxido de Indio y Estaño Objetivo ITO para Recubrimiento PVD

US$ 20,00-30,00
10 Piezas(MOQ)
Clasificación Superior 99.9% Pureza Fe2o3 Blanco Cerámico de Óxido Férrico para Recubrimiento al Vacío

Clasificación Superior 99.9% Pureza Fe2o3 Blanco Cerámico de Óxido Férrico para Recubrimiento al Vacío

US$ 35,00-150,00
1 Pieza(MOQ)
1/4

Lonwin Industry Group Limited

5.0
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Al2O3-MGO Objetivos Cerámicos Óxido de Aluminio - Óxido de Magnesio para Sputtering

Al2O3-MGO Objetivos Cerámicos Óxido de Aluminio - Óxido de Magnesio para Sputtering

US$ 17,00-55,00
1 Kg(MOQ)
Zro2-Sio2 Objetivos de Sputtering de Óxido de Circonio - Dióxido de Silicio - Silicato de Circonio

Zro2-Sio2 Objetivos de Sputtering de Óxido de Circonio - Dióxido de Silicio - Silicato de Circonio

US$ 17,00-55,00
1 Kg(MOQ)
Objetivos cerámicos ATO de óxido de estaño dopado con antimonio para pulverización

Objetivos cerámicos ATO de óxido de estaño dopado con antimonio para pulverización

US$ 17,00-55,00
1 Kg(MOQ)
Cuo-In2o3 Objetivos Cerámicos Óxido de Cobre - Objetivo de Sputtering Óxido de Indio

Cuo-In2o3 Objetivos Cerámicos Óxido de Cobre - Objetivo de Sputtering Óxido de Indio

US$ 17,00-55,00
1 Kg(MOQ)
1/4

Inner Mongolia Rongtai Rhenium New Materials Co., Ltd.

5.0
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Disco de objetivo de pulverización de óxido de cobre, bario y itrio de alta calidad para electrónica

Disco de objetivo de pulverización de óxido de cobre, bario y itrio de alta calidad para electrónica

US$ 190,00-199,00
1 Pieza(MOQ)
Objetivo de Sputtering de Óxido de Ytterbio de Alta Pureza para Electrónica

Objetivo de Sputtering de Óxido de Ytterbio de Alta Pureza para Electrónica

US$ 190,00-199,00
1 Pieza(MOQ)
Objetivo de Sputtering de Óxido de Ytrio de Alta Pureza Y2o3 para Recubrimientos Avanzados

Objetivo de Sputtering de Óxido de Ytrio de Alta Pureza Y2o3 para Recubrimientos Avanzados

US$ 115,00-130,00
1 Pieza(MOQ)
Objetivo de Cerio de Alta Calidad Cuadrado para Soluciones de Recubrimiento de Precisión

Objetivo de Cerio de Alta Calidad Cuadrado para Soluciones de Recubrimiento de Precisión

US$ 55,00-85,00
1 Pieza(MOQ)
1/4

Zhengzhou CY Scientific Instrument Co., Ltd.

13 años
·Fabricante/Fábrica & Empresa Comercial
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Depósito por Sputtering de Magnetrón de Doble Objetivo de CC y RF para Películas Delgadas de Metal y Óxido

Depósito por Sputtering de Magnetrón de Doble Objetivo de CC y RF para Películas Delgadas de Metal y Óxido

US$ 21.000,00-26.000,00
1 Pieza(MOQ)
Cuatro máquinas de recubrimiento por sputtering magnetrón de objetivo para semiconductores

Cuatro máquinas de recubrimiento por sputtering magnetrón de objetivo para semiconductores

US$ 8.730,00-8.900,00
1 Pieza(MOQ)
Recubridor de Sputtering Magnetrón de Tres Objetivos de Corriente Continua para Película de PTFE

Recubridor de Sputtering Magnetrón de Tres Objetivos de Corriente Continua para Película de PTFE

US$ 28.500,00-40.100,00
1 Pieza(MOQ)
Revestidor de Sputtering Magnetrón Personalizado con 3 Objetivos para la Preparación de Metal

Revestidor de Sputtering Magnetrón Personalizado con 3 Objetivos para la Preparación de Metal

US$ 28.500,00-40.100,00
1 Pieza(MOQ)
1/4

Xiamen HiuGong Machinery Co., Ltd.

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99.99% Objetivo de Sputtering de Óxido de Galio Objetivo Plano Ga2o3 Objetivo

99.99% Objetivo de Sputtering de Óxido de Galio Objetivo Plano Ga2o3 Objetivo

US$ 300,00
1 Pieza(MOQ)
Equipo de recubrimiento por pulverización de plasma, antiadherente, resistente al desgaste, silicio, aluminio, alúmina, circonio

Equipo de recubrimiento por pulverización de plasma, antiadherente, resistente al desgaste, silicio, aluminio, alúmina, circonio

US$ 35.000,00
1 Pieza(MOQ)
1/4

Dongguan Gravel Industries and Enterprise Company Limited

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Objetivo de Óxido de Indio y Estaño ITO para Sputtering al Vacío PVD Objetivo Creen

Objetivo de Óxido de Indio y Estaño ITO para Sputtering al Vacío PVD Objetivo Creen

US$ 4.600,00
1 Pieza(MOQ)
Objetivo de óxido de indio y estaño

Objetivo de óxido de indio y estaño

US$ 7.800,00
1 Pieza(MOQ)
1/4

Junsion Precision Hardware Co., Ltd.

7 años
·Fabricante/Fábrica & Empresa Comercial
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Objetivo de pulverización de titanio, aluminio, cobre, cromo, níquel, tubo de magnetrón, recubrimiento PVD rotativo

Objetivo de pulverización de titanio, aluminio, cobre, cromo, níquel, tubo de magnetrón, recubrimiento PVD rotativo

US$ 0,50-10,00
10 Piezas(MOQ)
Piezas de torneado de aluminio anodizado de maquinaria de precisión

Piezas de torneado de aluminio anodizado de maquinaria de precisión

US$ 0,50-10,00
10 Piezas(MOQ)
1/4

Jiangxi CNP New Chemical Materials Co., Ltd.

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Óxido de estaño (SnO2) Material de evaporación en forma de pellet 1-10mm Pureza 99.99% Objetivo de pulverización

Óxido de estaño (SnO2) Material de evaporación en forma de pellet 1-10mm Pureza 99.99% Objetivo de pulverización

US$ 200,00
1 Kg(MOQ)
1/4

CHANGSHA EASCHEM CO., LIMITED

5 años
·Empresa Comercial
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Varilla de metal de terbio objetivo granular CAS No 7440-27-9 Tb 3n 4n

Varilla de metal de terbio objetivo granular CAS No 7440-27-9 Tb 3n 4n

Negociable
1 Piece(MOQ)
Varilla de metal de itrio objetivo granular CAS No 7440-65-5 Y 3n 4n 5n

Varilla de metal de itrio objetivo granular CAS No 7440-65-5 Y 3n 4n 5n

Negociable
1 Piece(MOQ)
Varilla de metal de tulio objetivo granular CAS No 7440-30-4 TM 2n 3n 3n5

Varilla de metal de tulio objetivo granular CAS No 7440-30-4 TM 2n 3n 3n5

Negociable
1 Piece(MOQ)
Varilla de metal de lutecio granular con número CAS 7439-94-3 Lu 3n 4n

Varilla de metal de lutecio granular con número CAS 7439-94-3 Lu 3n 4n

Negociable
1 Piece(MOQ)
1/4

Shenzhen Hongchen New Materials Co., Ltd

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Fábrica de Guangdong placa de cobre de óxido de estaño indio ITO Sputtering Objetivos

Fábrica de Guangdong placa de cobre de óxido de estaño indio ITO Sputtering Objetivos

US$ 10,00-15,00
1 Kg(MOQ)
Fábrica de Guangdong puro mayorista del 99,95% de la placa de lámina de cobre de Sputtering Meta Fabricación

Fábrica de Guangdong puro mayorista del 99,95% de la placa de lámina de cobre de Sputtering Meta Fabricación

US$ 10,00-15,00
1 Kg(MOQ)
Cobre objetivo de pulverización de múltiples arcos de placas de cobre de revestimiento PVD de fábrica Semiconductor rotativo

Cobre objetivo de pulverización de múltiples arcos de placas de cobre de revestimiento PVD de fábrica Semiconductor rotativo

US$ 10,00-15,00
1 Kg(MOQ)
Rotación de cobre de destino de pulverización de cobre de fábrica para conductor semiconductor recubierto de metal

Rotación de cobre de destino de pulverización de cobre de fábrica para conductor semiconductor recubierto de metal

US$ 10,00-15,00
1 Kg(MOQ)

Zhengzhou Tainuo Film Materials Co., Ltd.

9 años
·Fabricante/Fábrica
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500W DC 300W RF Doble Objetivo Magnetrón Sputtering Coater para Sputtering Metales y Óxidos

500W DC 300W RF Doble Objetivo Magnetrón Sputtering Coater para Sputtering Metales y Óxidos

US$ 31.000,00-32.500,00
1 set(MOQ)
4-Inch Recubridor de Sputtering de Magnetrón de Objetivo Único de Corriente Continua para Película de Óxido

4-Inch Recubridor de Sputtering de Magnetrón de Objetivo Único de Corriente Continua para Película de Óxido

US$ 32.000,00-34.000,00
1 set(MOQ)
Recubridor de magnetrón de sputtering de doble objetivo RF de cerámica, dieléctrico, óptico, óxido, película dura, película de PTFE

Recubridor de magnetrón de sputtering de doble objetivo RF de cerámica, dieléctrico, óptico, óxido, película dura, película de PTFE

US$ 26.500,00
1 Pieza(MOQ)
Máquina de recubrimiento PVD por magnetrón de sputtering de vacío de doble objetivo para películas semiconductoras

Máquina de recubrimiento PVD por magnetrón de sputtering de vacío de doble objetivo para películas semiconductoras

US$ 26.500,00
1 Pieza(MOQ)
1/4

Rheniumet Ltd.

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Igh Pureza 99.9%Min 1-10inch Ruo2 Óxido de Rutenio Targ

Igh Pureza 99.9%Min 1-10inch Ruo2 Óxido de Rutenio Targ

US$ 2.000,00-4.000,00
1 Pieza(MOQ)
4inch 99.999% Objetivo de tungsteno para recubrimiento por pulverización

4inch 99.999% Objetivo de tungsteno para recubrimiento por pulverización

Negociable
1 Pieza(MOQ)
99.99. % Placa de tungsteno Wolfram Tungsteno para pulverización al vacío al mejor precio

99.99. % Placa de tungsteno Wolfram Tungsteno para pulverización al vacío al mejor precio

Negociable
1 Pieza(MOQ)
99.999% Wti20 Objetivo de Sputtering de Tungsteno y Titanio

99.999% Wti20 Objetivo de Sputtering de Tungsteno y Titanio

Negociable
1 Pieza(MOQ)
1/4

Shanghai Zenkaah New Materials Technology Co., Ltd.

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Material objetivo DE ITO (óxido de estaño de Indium), película conductiva transparente de Indium Tin Oxide Semiconductor, objetivo de espumación de Magnetron, Especificaciones personalizadas

Material objetivo DE ITO (óxido de estaño de Indium), película conductiva transparente de Indium Tin Oxide Semiconductor, objetivo de espumación de Magnetron, Especificaciones personalizadas

Negociable
1 Pieza(MOQ)
Óxido de ytterbio material objetivo Yb2O3, Investigación Científica material experimental, esputtering Coating, evaporación Coating, Semiconductor

Óxido de ytterbio material objetivo Yb2O3, Investigación Científica material experimental, esputtering Coating, evaporación Coating, Semiconductor

Negociable
1 Pieza(MOQ)
Material objetivo de aluminio óxido de zinc de alta pureza (AZO), óxido de zinc (ZnO) dopado con óxido de aluminio (Al2O3), objetivo de óxido de esputo de magnetrón, unión de placa trasera.

Material objetivo de aluminio óxido de zinc de alta pureza (AZO), óxido de zinc (ZnO) dopado con óxido de aluminio (Al2O3), objetivo de óxido de esputo de magnetrón, unión de placa trasera.

Negociable
1 Pieza(MOQ)

Ningbo Galaxy International Trading Co., Ltd.

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Resistencia al calor, resistencia y tenacidad del objetivo redondo de titanio

Resistencia al calor, resistencia y tenacidad del objetivo redondo de titanio

US$ 10,00
5 Piezas(MOQ)
Hoja de ánodo de titanio según el dibujo del cliente

Hoja de ánodo de titanio según el dibujo del cliente

US$ 30,00
1 kg(MOQ)
1/4

Jinan Hengcheng Aluminum Co., Ltd.

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Bloques de aluminio metal para objetivo de sputtering de aluminio para investigación en laboratorio

Bloques de aluminio metal para objetivo de sputtering de aluminio para investigación en laboratorio

US$ 2.960,00
1 Tonelada(MOQ)
1/4

Jiangyin Maideli Advanced Materials Co., Ltd.

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Ybco Yba2Cu3O7 itrio de óxido de cobre de bario de Sputtering meta

Ybco Yba2Cu3O7 itrio de óxido de cobre de bario de Sputtering meta

US$ 250,00-500,00
1 Pieza(MOQ)

Tianjin Jilian Technology Co., Ltd.

3 años·5.0
·Empresa Comercial
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Pólder de objetivo de pulverización de óxido de magnesio (MGO) CAS1309-48-4

Pólder de objetivo de pulverización de óxido de magnesio (MGO) CAS1309-48-4

US$ 550,00-1.500,00
10 Montones(MOQ)
1/4

Baoji Taizehui Metal Technology Co., Ltd.

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Objetivo de tablero de tantalio para aplicaciones avanzadas en ciencia de materiales e investigación

Objetivo de tablero de tantalio para aplicaciones avanzadas en ciencia de materiales e investigación

Negociable
10 Kg(MOQ)
Placa de objetivo de tantalio de alta pureza para aplicaciones aeroespaciales y de defensa

Placa de objetivo de tantalio de alta pureza para aplicaciones aeroespaciales y de defensa

Negociable
10 Kg(MOQ)
Objetivo de Tabla de Tántalo para Investigación y Desarrollo de Materiales Avanzados

Objetivo de Tabla de Tántalo para Investigación y Desarrollo de Materiales Avanzados

Negociable
10 Kg(MOQ)
Objetivo de tablero de tantalio para mecanizado de precisión y aplicaciones avanzadas

Objetivo de tablero de tantalio para mecanizado de precisión y aplicaciones avanzadas

Negociable
10 Kg(MOQ)
1/4

Zhengzhou Shibo Nonferrous Metals Products Co., Ltd.

21 años·5.0
·Fabricante/Fábrica & Empresa Comercial
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Objetivo de molibdeno para recubrimiento por pulverización al vacío

Objetivo de molibdeno para recubrimiento por pulverización al vacío

US$ 45,00
1 kg(MOQ)
Placa Redonda de Mo Experimentada 99.95%, Placa Redonda de Molibdeno

Placa Redonda de Mo Experimentada 99.95%, Placa Redonda de Molibdeno

US$ 30,00
1 kg(MOQ)
Hoja de tungsteno pulida 99.95% para escudo térmico

Hoja de tungsteno pulida 99.95% para escudo térmico

US$ 45,00
1 Kg(MOQ)
Metalurgia de Polvo de Metal Placa de Tungsteno

Metalurgia de Polvo de Metal Placa de Tungsteno

US$ 45,00
1 Kg(MOQ)
1/2

Taizhou ATS Optical Material Co., Ltd.

26 años
·Fabricante/Fábrica & Empresa Comercial
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Objetivo de silicio, oblea de silicio, pieza de silicio monocristalino

Objetivo de silicio, oblea de silicio, pieza de silicio monocristalino

US$ 4,00-5,00
1 piece(MOQ)
Objetivo de silicio pieza de polisilicio

Objetivo de silicio pieza de polisilicio

US$ 26,00-28,00
1 piece(MOQ)
Corte de silicio policristalino, oblea de silicio

Corte de silicio policristalino, oblea de silicio

US$ 26,00-28,00
1 piece(MOQ)
1-3mm Si Partículas de Silicio Intrínseco Granulares

1-3mm Si Partículas de Silicio Intrínseco Granulares

US$ 97,50-100,00
1 Kg(MOQ)
1/4

Fuzhou Nuoxin Advanced Material Co. Ltd.

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Itrio Óxido de Zirconio Ysz(ZRO2/S2o3 99,99% de Sputtering Meta Objetivo de cerámica

Itrio Óxido de Zirconio Ysz(ZRO2/S2o3 99,99% de Sputtering Meta Objetivo de cerámica

Negociable
1 Pieza(MOQ)
Óxido ferroso Feo 4n Sputtering Target para recubrimiento PVD

Óxido ferroso Feo 4n Sputtering Target para recubrimiento PVD

Negociable
1 Pieza(MOQ)
Óxido de galio Sputtering Meta Ga2o3 la pureza del 99,99% de 4n

Óxido de galio Sputtering Meta Ga2o3 la pureza del 99,99% de 4n

Negociable
1 Pieza(MOQ)
Esputo Target ITO Indium Tin Oxide 4n 99,99% para Optico Revestimiento

Esputo Target ITO Indium Tin Oxide 4n 99,99% para Optico Revestimiento

Negociable
1 Pieza(MOQ)

Shenzhen Canyuan Metal Material Co., Ltd.

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4n TiO2 Objetivos de Óxido de Titanio Objetivos Rotativos Objetivos Planos

4n TiO2 Objetivos de Óxido de Titanio Objetivos Rotativos Objetivos Planos

US$ 200,00-10.000,00
1 Pieza(MOQ)
4n Nbo2 Objetivos de óxido de niobio Objetivos planos

4n Nbo2 Objetivos de óxido de niobio Objetivos planos

US$ 200,00-10.000,00
1 Pieza(MOQ)
4n Nbo2 Objetivos de Óxido de Niobio Rotativos para Recubrimiento al Vacío

4n Nbo2 Objetivos de Óxido de Niobio Rotativos para Recubrimiento al Vacío

US$ 200,00-10.000,00
1 Pieza(MOQ)
99.99% Redondo Nbo2 Objetivos de Cerámica Sputtering para Recubrimiento al Vacío

99.99% Redondo Nbo2 Objetivos de Cerámica Sputtering para Recubrimiento al Vacío

US$ 200,00-10.000,00
1 Pieza(MOQ)

UV Tech Material Co., Ltd.

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Rotary Tiox destino, principalmente para la aplicación de recubrimiento de vidrio Low-E, el magnetrón Sputtering Meta, meta de óxido de titanio

Rotary Tiox destino, principalmente para la aplicación de recubrimiento de vidrio Low-E, el magnetrón Sputtering Meta, meta de óxido de titanio

Negociable
1 Pieza(MOQ)
Unión ITO placa de destino Indio Tin Oxide esputtering Target 99,99% 4n Ceramic Target.

Unión ITO placa de destino Indio Tin Oxide esputtering Target 99,99% 4n Ceramic Target.

Negociable
1 Pieza(MOQ)
99,99% ITO objetivo 97: 3 95: 5 90: 10 Indium Tin Oxide esputtering objetivo para película conductiva

99,99% ITO objetivo 97: 3 95: 5 90: 10 Indium Tin Oxide esputtering objetivo para película conductiva

Negociable
1 Pieza(MOQ)
El proveedor, el objetivo de ZRO2 ZRO2 Sputtering meta, de alta pureza ZRO2 precio objetivo para el recubrimiento PVD

El proveedor, el objetivo de ZRO2 ZRO2 Sputtering meta, de alta pureza ZRO2 precio objetivo para el recubrimiento PVD

Negociable
1 Pieza(MOQ)

Xiamen Tmax Battery Equipments Limited

5.0
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Equipo de recubrimiento por pulverización PVD de doble objetivo RF&DC&MF para películas multicapa conductoras

Equipo de recubrimiento por pulverización PVD de doble objetivo RF&DC&MF para películas multicapa conductoras

US$ 45.000,00
1 Pieza(MOQ)
Sistema de Sputtering Magnetrón de Alto Vacío Versátil con Múltiples Objetivos para la Deposición de Películas Multicapa Compuestas

Sistema de Sputtering Magnetrón de Alto Vacío Versátil con Múltiples Objetivos para la Deposición de Películas Multicapa Compuestas

US$ 50.000,00
1 Pieza(MOQ)
Recubridor de Sputtering Magnetrón Automático de Laboratorio para Películas Delgadas de Metal, Óxido y Semiconductores en SEM, Materiales Energéticos

Recubridor de Sputtering Magnetrón Automático de Laboratorio para Películas Delgadas de Metal, Óxido y Semiconductores en SEM, Materiales Energéticos

US$ 30.000,00
1 Pieza(MOQ)
Recubridor de Sputtering Magnetrón Automático de Laboratorio para Películas Delgadas de Metal, Óxido y Semiconductores en SEM, Materiales Energéticos

Recubridor de Sputtering Magnetrón Automático de Laboratorio para Películas Delgadas de Metal, Óxido y Semiconductores en SEM, Materiales Energéticos

US$ 50.000,00
1 Pieza(MOQ)
1/4

Able Target Limited

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Sputtering Meta, Al2O3/Óxido de aluminio, Al2O3/ZnO/Azo de óxido de zinc aluminio

Sputtering Meta, Al2O3/Óxido de aluminio, Al2O3/ZnO/Azo de óxido de zinc aluminio

Negociable
1 Pieza(MOQ)
Los objetivos de sputtering

Los objetivos de sputtering

Negociable
1 Pieza(MOQ)
Blancos de la farfulla de Gdbacuox y blancos de la farfulla de Ybacuox, Gdba1.8cu3ox, Gdba1.9cu3ox, Yba2cu3o7, Y1ba2cu3o7, Ybacuox

Blancos de la farfulla de Gdbacuox y blancos de la farfulla de Ybacuox, Gdba1.8cu3ox, Gdba1.9cu3ox, Yba2cu3o7, Y1ba2cu3o7, Ybacuox

Negociable
1 Pieza(MOQ)
Blanco de la farfulla de la tierra rara

Blanco de la farfulla de la tierra rara

Negociable
1 Pieza(MOQ)

Ningbo Sen Ao Electronic Technology Co., Ltd

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El 99,95% Zro Óxido de zirconio de Sputtering Zro Placas de hoja de destino Zro óxidos Meta Puttering zirconio

El 99,95% Zro Óxido de zirconio de Sputtering Zro Placas de hoja de destino Zro óxidos Meta Puttering zirconio

Negociable
1 Pieza(MOQ)
La pureza del 99,99% de óxido de niobio Nbox objetivo giratorio Ouch Material de recubrimiento Panel giratorios giratorios de Sputtering meta

La pureza del 99,99% de óxido de niobio Nbox objetivo giratorio Ouch Material de recubrimiento Panel giratorios giratorios de Sputtering meta

Negociable
1 Pieza(MOQ)
ITO Tamaño personalizable el 99,99% de óxido de estaño indio gira ITO blanco de Sputtering cerámica

ITO Tamaño personalizable el 99,99% de óxido de estaño indio gira ITO blanco de Sputtering cerámica

Negociable
1 Pieza(MOQ)
El 99,95% Gzo galio óxido Zin Sputtering Hoja de destino Gzo Gzo Placas de Sputtering meta

El 99,95% Gzo galio óxido Zin Sputtering Hoja de destino Gzo Gzo Placas de Sputtering meta

Negociable
1 Pieza(MOQ)

Enam Optoelectronic Material Co., Ltd

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ATO, Destino, ventana de infrarrojos Film ATO, el antimonio de óxido de estaño blanco

ATO, Destino, ventana de infrarrojos Film ATO, el antimonio de óxido de estaño blanco

Negociable
1 Pieza(MOQ)
Objetivo de ITO, Ito, Tp objetivo giratorio TFT-LCD STN Tn ITO blanco

Objetivo de ITO, Ito, Tp objetivo giratorio TFT-LCD STN Tn ITO blanco

Negociable
1 Pieza(MOQ)
Objetivo de óxido de indio, en2o3 blanco

Objetivo de óxido de indio, en2o3 blanco

Negociable
1 Pieza(MOQ)
Iwo Objetivo, células solares Hit Iwo Destino, destino de óxido Indium-Tungsten

Iwo Objetivo, células solares Hit Iwo Destino, destino de óxido Indium-Tungsten

Negociable
1 Pieza(MOQ)

Beijing Loyaltarget Technology Co, Limited

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Bi2O3 blanco de Sputtering cerámica

Bi2O3 blanco de Sputtering cerámica

Negociable
1 Pieza(MOQ)
Al2O3 blanco de Sputtering cerámica

Al2O3 blanco de Sputtering cerámica

Negociable
1 Pieza(MOQ)
Azo de aluminio blanco de Sputtering meta de óxido de zinc

Azo de aluminio blanco de Sputtering meta de óxido de zinc

Negociable
1 Pieza(MOQ)
De ITO Target / In2O3: SnO2 = 90: 10% en peso / de ITO planar Blanco de sputtering

De ITO Target / In2O3: SnO2 = 90: 10% en peso / de ITO planar Blanco de sputtering

Negociable
1 Pieza(MOQ)

Weihai Chenyu Vacuum Technology Co., Ltd

4 años
·Fabricante/Fábrica & Empresa Comercial
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Máquina de recubrimiento por pulverización catódica a gran escala con múltiples objetivos de cátodo para recubrimiento de argón

Máquina de recubrimiento por pulverización catódica a gran escala con múltiples objetivos de cátodo para recubrimiento de argón

Negociable
1 Pieza(MOQ)
Máquina de recubrimiento de película conductora transparente de alto rendimiento con objetivo de ITO y recubrimiento de argón

Máquina de recubrimiento de película conductora transparente de alto rendimiento con objetivo de ITO y recubrimiento de argón

Negociable
1 Pieza(MOQ)
Sistema de revestimiento de próxima generación con máquina de revestimiento de manipulación de la Web

Sistema de revestimiento de próxima generación con máquina de revestimiento de manipulación de la Web

Negociable
1 Pieza(MOQ)
Recubridor de película óptica de alta precisión con máquina de recubrimiento de plasma avanzado Ar

Recubridor de película óptica de alta precisión con máquina de recubrimiento de plasma avanzado Ar

Negociable
1 Pieza(MOQ)
1/4
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